JP2021504906A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2021504906A5
JP2021504906A5 JP2020529216A JP2020529216A JP2021504906A5 JP 2021504906 A5 JP2021504906 A5 JP 2021504906A5 JP 2020529216 A JP2020529216 A JP 2020529216A JP 2020529216 A JP2020529216 A JP 2020529216A JP 2021504906 A5 JP2021504906 A5 JP 2021504906A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid target
electron beam
collision portion
ray source
target
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020529216A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2021504906A (ja
JP7195648B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from EP17204949.6A external-priority patent/EP3493239A1/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2021504906A publication Critical patent/JP2021504906A/ja
Publication of JP2021504906A5 publication Critical patent/JP2021504906A5/ja
Priority to JP2022195465A priority Critical patent/JP7488600B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7195648B2 publication Critical patent/JP7195648B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (15)

  1. Ｘ線源であって、
    自由伝播液体ジェットの形をなし、流れ軸に沿って移動する液体ターゲットを提供するように構成されている液体ターゲット源と、
    電子ビームを提供するように構成されている電子源と、
    前記流れ軸に対して非円形断面を含むように前記液体ターゲットを成形するように構成されている液体ターゲット成形器であって、前記非円形断面は、第１の軸に沿った第１の幅と、第２の軸に沿った第２の幅とを有し、前記第１の幅は、前記第２の幅よりも短く、前記液体ターゲットは、前記第１の軸と交差する衝突部分を含む、液体ターゲット成形器と、を備え、
    前記Ｘ線源は、前記電子ビームが前記衝突部分内の前記液体ターゲットと相互作用してＸ線放射を発生するように、前記電子ビームを前記衝突部分に向けるように構成され、
    前記Ｘ線源は、前記衝突部分内で、前記電子ビームが前記液体ターゲットと相互作用するロケーションを移動するように構成されているアレンジメントをさらに備える、Ｘ線源。
  2. 前記アレンジメントは、前記衝突部分内で、前記電子ビームが前記液体ターゲットと相互作用するロケーションを移動するように、前記液体ターゲット成形器と協働するように構成されている、請求項１に記載のＸ線源。
  3. 前記アレンジメントは、前記ターゲット成形器を前記流れ軸の周りで回転するように構成されている、請求項２に記載のＸ線源。
  4. 前記アレンジメントは、前記ターゲット成形器を前記流れ軸に直交する方向に移動するように構成されている、請求項２に記載のＸ線源。
  5. 前記アレンジメントは、前記ターゲット成形器を前記流れ軸に対して傾斜するように構成されている、請求項２に記載のＸ線源。
  6. 前記液体ターゲット成形器は、前記液体ターゲットを、前記非円形断面を含むように成形するために、非円形開口を有するノズルを含む、請求項１から５のいずれか一項に記載のＸ線源。
  7. 前記アレンジメントは、前記電子ビームに対する前記衝突部分のロケーション及び／又は方向を調節するために、前記流れ軸に沿って前記ノズルを移動するように構成されている、請求項６に記載のＸ線源。
  8. 前記液体ターゲット成形器は、前記非円形断面を含むように前記液体ターゲットを成形するための磁界を発生するように構成された磁界発生器を含む、請求項１に記載のＸ線源。
  9. 前記磁界発生器は、前記電子ビームに対する前記衝突部分のロケーション及び／又は方向を調節するために、前記磁界を調節するように構成されている、請求項８に記載のＸ線源。
  10. 前記電子源は、前記衝突部分内で前記液体ターゲットと相互作用する複数の電子ビームを発生するように構成されている、請求項１から９のいずれか一項に記載のＸ線源。
  11. 前記液体ターゲットは金属である、請求項１から１０のいずれか一項に記載のＸ線源。
  12. Ｘ線放射を発生する方法であって、
    電子ビームを提供することと、
    自由伝播液体ジェットの形をなし、流れ軸に沿って移動する液体ターゲットを提供することと、前記液体ターゲットは、前記流れ軸に対して非円形断面を備え、前記非円形断面は、第１の軸に沿った第１の幅と、第２の軸に沿った第２の幅とを有し、前記第１の幅は、前記第２の幅よりも短く、前記液体ターゲットは、前記第１の軸と交差する衝突部分を含み、
    前記電子ビームが前記衝突部分内の前記液体ターゲットと相互作用してＸ線放射を発生するように、前記電子ビームを前記衝突部分に向けることと、
    前記衝突部分内で、前記電子ビームが前記液体ターゲットと相互作用するロケーションを移動することとを含む、方法。
  13. 前記液体ターゲットと、前記液体ターゲットによって少なくとも部分的に遮蔽されるように配置されたセンサエリアの非遮蔽部分との間で前記電子ビームをスキャンすることと、
    前記センサエリアからの信号に基づいて、前記液体ターゲットの幅を決定することと、
    前記決定した幅に基づいて、前記電子ビームと前記衝突部分の表面との間の入射角を調節することをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
  14. 前記液体ターゲットと、前記液体ターゲットによって少なくとも部分的に遮蔽されるように配置されたセンサエリアの非遮蔽部分との間で前記電子ビームをスキャンすることと、
    前記センサエリアからの信号に基づいて、前記液体ターゲットの幅を決定することと、
    前記決定した幅に基づいて、
    前記流れ軸の周りで前記衝突部分を回転すること、及び、
    前記電子ビームが前記液体ターゲットと相互作用する前記ロケーションを移動すること、のうちの少なくとも１つを実行することとをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
  15. Ｘ線出力を測定することと、
    前記測定したＸ線出力に基づいて、
    前記流れ軸の周りで前記衝突部分を回転すること、
    前記電子ビームが前記液体ターゲットと相互作用する前記ロケーションを移動すること、及び、
    前記電子ビームと前記衝突部分の表面との間の入射角を調節すること、のうちの少なくとも１つを実行することとをさらに含み、
    前記Ｘ線出力は、Ｘ線束及びＸ線輝度から選択される、請求項１２に記載の方法。
JP2020529216A 2017-12-01 2018-11-30 Ｘ線源及びｘ線放射を発生する方法 Active JP7195648B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022195465A JP7488600B2 (ja) 2017-12-01 2022-12-07 Ｘ線源及びｘ線放射を発生する方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP17204949.6A EP3493239A1 (en) 2017-12-01 2017-12-01 X-ray source and method for generating x-ray radiation
EP17204949.6 2017-12-01
PCT/EP2018/083138 WO2019106145A1 (en) 2017-12-01 2018-11-30 X-ray source and method for generating x-ray radiation

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022195465A Division JP7488600B2 (ja) 2017-12-01 2022-12-07 Ｘ線源及びｘ線放射を発生する方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2021504906A JP2021504906A (ja) 2021-02-15
JP2021504906A5 true JP2021504906A5 (ja) 2022-01-06
JP7195648B2 JP7195648B2 (ja) 2022-12-26

Family

ID=60569730

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020529216A Active JP7195648B2 (ja) 2017-12-01 2018-11-30 Ｘ線源及びｘ線放射を発生する方法
JP2022195465A Active JP7488600B2 (ja) 2017-12-01 2022-12-07 Ｘ線源及びｘ線放射を発生する方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022195465A Active JP7488600B2 (ja) 2017-12-01 2022-12-07 Ｘ線源及びｘ線放射を発生する方法

Country Status (8)

Country Link
US (2) US11342154B2 (ja)
EP (2) EP3493239A1 (ja)
JP (2) JP7195648B2 (ja)
KR (1) KR20200090885A (ja)
CN (2) CN111542906B (ja)
AU (1) AU2018374514B2 (ja)
TW (1) TWI687959B (ja)
WO (1) WO2019106145A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3493239A1 (en) 2017-12-01 2019-06-05 Excillum AB X-ray source and method for generating x-ray radiation
EP3579664A1 (en) * 2018-06-08 2019-12-11 Excillum AB Method for controlling an x-ray source
EP3648135A1 (en) 2018-11-05 2020-05-06 Excillum AB Mechanical alignment of x-ray sources
EP4075474A1 (en) * 2021-04-15 2022-10-19 Excillum AB Liquid jet target x-ray source

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4608543A (en) 1984-12-17 1986-08-26 Advanced Micro Devices, Inc. Controllable effective resistance and phase lock loop with controllable filter
US4953191A (en) * 1989-07-24 1990-08-28 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy High intensity x-ray source using liquid gallium target
US5052034A (en) * 1989-10-30 1991-09-24 Siemens Aktiengesellschaft X-ray generator
JPH05258692A (ja) 1992-03-10 1993-10-08 Nikon Corp Ｘ線発生方法およびｘ線発生装置
US6324255B1 (en) * 1998-08-13 2001-11-27 Nikon Technologies, Inc. X-ray irradiation apparatus and x-ray exposure apparatus
DE60033374T2 (de) * 1999-12-20 2007-11-29 Koninklijke Philips Electronics N.V. Röntgenmikroskop mit einer röntgenstrahlungsquelle für weiche röntgenstrahlungen
DE60143527D1 (de) * 2000-07-28 2011-01-05 Jettec Ab Verfahren und vorrichtung zur erzeugung von röntgenstrahlung
US7436931B2 (en) * 2002-12-11 2008-10-14 Koninklijke Philips Electronics N.V. X-ray source for generating monochromatic x-rays
DE10326279A1 (de) * 2003-06-11 2005-01-05 MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Plasma-basierte Erzeugung von Röntgenstrahlung mit einem schichtförmigen Targetmaterial
DE102004013620B4 (de) * 2004-03-19 2008-12-04 GE Homeland Protection, Inc., Newark Elektronenfenster für eine Flüssigmetallanode, Flüssigmetallanode, Röntgenstrahler und Verfahren zum Betrieb eines solchen Röntgenstrahlers
US7208746B2 (en) * 2004-07-14 2007-04-24 Asml Netherlands B.V. Radiation generating device, lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
WO2009019791A1 (ja) * 2007-08-09 2009-02-12 Shimadzu Corporation Ｘ線管装置
DE102008026938A1 (de) * 2008-06-05 2009-12-17 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Strahlungsquelle und Verfahren zum Erzeugen von Röntgenstrahlung
EP2389789B1 (en) * 2009-01-26 2015-04-22 Excillum AB X-ray window
EP2415065A1 (en) * 2009-04-03 2012-02-08 Excillum AB Supply of a liquid-metal target in x-ray generation
HUP1000635A2 (en) * 2010-11-26 2012-05-29 Ge Hungary Kft Liquid anode x-ray source
JP5694558B2 (ja) * 2010-12-22 2015-04-01 エクシルム・エービーＥｘｃｉｌｌｕｍ ＡＢ Ｘ線源での電子ビームの整列および合焦
US9330879B2 (en) 2011-08-04 2016-05-03 John Lewellen Bremstrahlung target for intensity modulated X-ray radiation therapy and stereotactic X-ray therapy
NL2009359A (en) * 2011-09-23 2013-03-26 Asml Netherlands Bv Radiation source.
CN104541332B (zh) * 2012-06-14 2017-03-29 伊克斯拉姆公司 限制靶材的迁移
CN104364876B (zh) 2012-06-15 2017-05-17 西门子公司 X射线辐射源及其应用和用于产生x射线辐射的方法
CN103543298B (zh) 2012-07-13 2016-03-23 旺矽科技股份有限公司 探针固持结构及其光学检测装置
US20140161233A1 (en) 2012-12-06 2014-06-12 Bruker Axs Gmbh X-ray apparatus with deflectable electron beam
US20140219424A1 (en) * 2013-02-04 2014-08-07 Moxtek, Inc. Electron Beam Focusing and Centering
US9232623B2 (en) * 2014-01-22 2016-01-05 Asml Netherlands B.V. Extreme ultraviolet light source
EP3493239A1 (en) 2017-12-01 2019-06-05 Excillum AB X-ray source and method for generating x-ray radiation

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2021504906A5 (ja)
US10792865B2 (en) Device and method for calibrating a device for generatively manufacturing a three-dimensional object
JP5771632B2 (ja) 円筒体の輪郭形状を測定するための方法及び装置
US20190118286A1 (en) Three-dimensional laminating and shaping apparatus and laminating and shaping method
JP2018059943A5 (ja)
FI126900B (en) Method and system for analyzing the properties of a weld
JP2006526268A5 (ja)
JP2018528586A (ja) 行間適応電磁ｘ線走査を用いた後方散乱特性評価
JP2014518116A (ja) Ｘ線ビーム透過プロファイル整形器
JPWO2016075140A5 (ja)
JP7488600B2 (ja) Ｘ線源及びｘ線放射を発生する方法
US9347974B2 (en) Method for determining beam parameters of a charge carrier beam, measuring device, and charge carrier beam device
WO2017113831A1 (zh) 手持式背散射成像仪及其成像方法
JP2021507121A (ja) 部材の付加製造のための方法及び装置並びに部材
JP2014522705A5 (ja)
EP3038130A3 (en) Exposure apparatus and exposure method
JP2013119098A (ja) レーザ肉盛装置とレーザ肉盛方法
JP2019132599A (ja) 搬送物の応力測定装置
JP2008241301A (ja) 飛行時間分析型後方散乱による非破壊３次元ナノメートル分析装置及び飛行時間分析型後方散乱による非破壊３次元ナノメートル分析方法
JP6927842B2 (ja) 三次元的な物体を付加的に製造するための装置用の露光装置
JP2018536870A (ja) 移動可能な対象物を測定するための方法および測定システム
JP2012007935A (ja) Ｘ線回折装置
CN114585498A (zh) 运行装置以增材制造三维对象的方法和创建用于实施上述方法的工艺窗口的方法
JP6412761B2 (ja) 溶接ビードの検査装置、溶接ビードの検査方法
JP2004125737A (ja) パターン幅測長装置、パターン幅測長方法、及び電子ビーム露光装置