JP2021195619A - 気体の分配装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】底吹き転炉又は上底吹き転炉に設置され、気体又は固気二相流体を転炉の底部の複数の羽口に均分することが可能で、粉体の滞留を生じない、気体の分配装置を提供すること。【解決手段】外筒4及び内筒6が上部に配置され、転炉2の羽口3ごとに区画された複数の隔室7が下部に配置された、気体の分配装置1であって、内筒6は、上端が外筒4内に開口し、下端が複数の隔室7に接続され、外筒4は、下端に底板43を有し、気体を供給する導入管5が接続される外筒開口部41が側壁に設けられ、外筒開口部41の下端と底板43との高さ方向の距離である接続高さaが、外筒4の内側の気体が旋回する旋回室8の高さbの1/10以下である。【選択図】図4

Description

本発明は、底吹き転炉もしくは上底吹き転炉に設置され、気体又は固気二相流体を転炉の底に設置された複数の羽口に均等分配することが可能な気体の分配装置に関する。
製鉄所の製鋼工場では、溶鋼の成分調整を行うため、たとえば図1に示すような転炉2が設置されている。一般的に、転炉には、転炉底吹きガスFによる溶鉄Mの攪拌が良好であること、炉体振動が小さくスロッシングが起きにくいこと、スピッティングが発生しないこと等の性能を満たすよう、底部に羽口3が複数設けてられている。そして、転炉2の底部の下方には、底部の限られたスペースで羽口3に転炉底吹きガスの分配を行うため、転炉底吹きガスの分配装置が設置されている。
このような転炉底吹きガスの分配装置が付帯されている転炉2における精錬では、脱炭を行い、冶金特性を向上させるため、純酸素、不活性ガス又は両者を混合したガスなどの気体又は固気二相流体(以下、底吹きガスとも称する)が分配装置1を経て複数の羽口3から吹き込まれる。なお、気体とともに複数の羽口3から吹き込む固体は、生石灰などフラックスとして作用する粉体である。
底吹きガスを複数の羽口3から吹き込む場合、羽口3間で、粉体や気体の分配に偏りが大きいと、期待される吹錬性能が得られなくなるばかりでなく、転炉底吹きガスFの流量の多い羽口3において、火点反応量や粉体摩耗量が増大するなどして、羽口3の損耗が早く進行する。粉体による羽口3の損耗が早く進行すると、当該羽口3のみならず、転炉底全体の補修が必要となる。このため、固気二相流体を転炉底の複数の羽口3から吹き込む場合、羽口3間で、単にガスの分配が等しいだけではなく、粉体の分配も等しいことが望まれる。
ここで、転炉2の底部の下方に設置される転炉底吹きガスの分配装置1の構造について、図2及び図3に示す。図2及び図3に示すように、分配装置1では、外筒4に接続された導入管5から複数の羽口3に底吹きガスを導入する。また図2及び図3中の矢印は、Iが不図示の供給装置から導入管5を通じて供給される底吹きガスの流れ(流入流)を示し、Rが導入管5から外筒開口部41を通じて外筒4内部の旋回室8に流入する流入流Iによって生じる旋回流を示す。
この旋回流Rが生じる旋回室8は、外筒開口部41が形成された蓋付きの外筒4と、内筒6とを備え、内筒6の下端が複数の隔室7に接続されている。また、外筒4には導入管5が接続される。符号7は羽口3ごとに区画された隔室を示す。各隔室7には、分配装置1で分配後の底吹きガスを、羽口3へ気流輸送する連絡配管(不図示)が接続される。
このような構造を有する転炉底吹きガスの分配装置1では、底吹きガスを導入管5へ供給すると、図3に示すように、外筒開口部41から旋回室8内へ流入する流入流Iによって、旋回室8内で旋回しながら上昇する旋回流Rが生じる。旋回室8内で発生した旋回流Rは、その後、内筒6上端を旋回しながら内筒6内に流入した後、内筒6内を旋回しながら下降し、次いで複数の隔室7に流入し、隔室7に接続された連絡配管を経て羽口3から転炉2内に転炉底吹きガスFとして噴出される。
したがって、底吹きガスを複数の羽口3から吹き込む場合、転炉底吹きガスの分配装置1の隔室7ごとの、底吹きガスの配分に偏りが大きいと、転炉精錬や転炉2の底部寿命に問題を生じることとなる。また、旋回室8に固体を滞留させることなく操業をすることが求められる。
例えば、特許文献1には、固気二相流体を均分することが可能な分配装置として、分配器又は分配器下流の配管の途中に、粉体磨耗に十分耐久性がある材質のオリフィスを、羽口ごとに取付けた粉体供給装置が開示されている。また、特許文献2,3には、固気二相流体を均分することが可能な分配装置として、軸対称形状の気流輸送粉粒体の分配装置が開示されている。さらに、特許文献4には、固気二相流体を均分することが可能な分配装置として、旋回室内に発生する旋回流と導入管からの流入流との干渉を低減することにより、下部の複数の隔室に固気二相流体を均分する転炉底吹きガスの分配装置が開示されている。
特開2001−304773号公報 特開昭58−69620号公報 特開昭58−216829号公報 特開2009−68033号公報
特許文献1には、オリフィスを羽口ごとに取付けた構造が示されているが、固気二相流体を転炉底の複数の羽口に均分することが可能な転炉底吹きガスの分配装置自体の構造は示されていない。
また、特許文献2,3に記載の気流輸送分配装置は、高炉の羽口部に微粉炭やコ−クス粉を気流輸送するのに好適な装置であり、図2や図3で説明したような転炉底吹きガスの分配装置に適用するのは困難である。また、気流と共に転炉に吹き込む粉体には、粉体製造工程に伴い混入した異物、特に粉砕ミルなどで不可避的に混入する異物が含まれる。一般には搬送経路に磁石を設置する、篩を設置するなどして異物を除去することが行われている。しかしながら、これらの方策を講じてもなお、異物を完全に除去することが不可能である。
さらに、特許文献4に開示の分配器内では、遠心分離により、比重が大きく粒度の粗い粉体が濃縮、滞留し、固気2相流の均等分配を妨げることがある。さらに、粉体滞留の防止のための方策について特許文献4では考えられていない。実操業においては、定期的に残留粉体を排出することになるが、転炉の稼働率が下がるため、生産性を阻害する。
本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みたものであり、底吹き転炉又は上底吹き転炉に設置され、気体又は固気二相流体を転炉の底部の複数の羽口に均分することが可能で、粉体の滞留を生じない、気体の分配装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様によれば、外筒及び内筒が上部に配置され、転炉の羽口ごとに区画された複数の隔室が下部に配置された、気体の分配装置であって、上記内筒は、上端が上記外筒内に開口し、下端が複数の隔室に接続され、上記外筒は、下端に底板を有し、気体を供給する導入管が接続される外筒開口部が側壁に設けられ、上記外筒開口部の下端と上記底板との高さ方向の距離である接続高さaが、上記外筒の内側の上記気体が旋回する旋回室の高さbの1/10以下である、気体の分配装置が提供される。
本発明の一態様によれば、外筒及び内筒が上部に配置され、転炉の羽口ごとに区画された複数の隔室が下部に配置された、気体の分配装置であって、上記内筒は、上端が上記外筒内に開口し、下端が複数の隔室に接続され、上記外筒は、下端に底板を有し、気体を供給する導入管が接続される外筒開口部が側壁に設けられ、上記旋回室の下側に、邪魔板が設置される、気体の分配装置が提供される。
本発明の一態様によれば、外筒及び内筒が上部に配置され、転炉の羽口ごとに区画された複数の隔室が下部に配置された、気体の分配装置であって、上記内筒は、上端が上記外筒内に開口し、下端が複数の隔室に接続され、上記外筒は、下端に底板を有し、気体を供給する導入管が接続される外筒開口部が側壁に設けられ、上記外筒開口部の下端と上記底板との高さ方向の距離である接続高さaが、上記外筒の内側の上記気体が旋回する旋回室の高さbの1/10以下であり、上記旋回室の下側に、邪魔板が設置される、気体の分配装置が提供される。
本発明の一態様によれば、底吹き転炉又は上底吹き転炉に設置され、気体又は固気二相流体を転炉の底部の複数の羽口に均分することが可能で、粉体の滞留を生じない、気体の分配装置が提供される。
底吹き転炉の構造を示す概略図である。 気体の分配装置を示す斜視図である。 気体の分配装置を示す模式図である。 本発明の第1の実施形態に係る気体の分配装置を示す断面図である。 通気時間と粉体の残留しるとの関係を示すグラフである。 接続高さa/旋回室の高さbと粉体の残留率との関係を示すグラフである。 本発明の第2及び第3の実施形態に係る気体の分配装置を示す断面図である。 邪魔板の形状を示す模式図であり、(A)は方形状の邪魔板を示し、(B)はフラップ形状の邪魔板を示し、(C)は円柱状の邪魔板を示す。 邪魔板の設置位置を示す模式図である。 邪魔板の高さH/旋回室の高さbと粉体の残留率との関係を示すグラフである。 邪魔板の幅W/旋回室の幅wと粉体の残留率との関係を示すグラフである。
以下の詳細な説明では、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付し、重複する説明を省略する。各図面は模式的なものであり、現実のものとは異なる場合が含まれる。また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成部品の材質、構造、配置等を下記のものに特定するものでない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において種々の変更を加えることができる。
本発明者らは、上述の問題を解決するために、分配装置1自体の各部の寸法を変えて実験を重ねた。実験では、内筒内径、内筒高さ、外筒径、外筒高さ、導入部断面寸法を一定として、導入部の接続高さaを変更した分配装置1を用いた。分配装置1は、図2及び図3に示すものと同様なものである。つまり、分配装置1は、図1に示す転炉2に設けられ、転炉2の底部に設けられる複数の羽口3に、気体である底吹きガスを供給する装置である。底吹きガスは、純酸素、不活性ガス又は両者を混合したガスである。また、分配装置1は、この底吹きガスに粉体を含ませた固気二相流体を複数の羽口3に供給する装置であってもよい。分配装置1は、図2〜図4に示すように、外筒4と、導入管5と、内筒6と、複数の隔室7とを備える。外筒4は、円筒状の形状を有し、周面に導入管5が接続される外筒開口部41が形成される。また、外筒4は、上端の開口を覆うように蓋42が設けられ、下端には後述する内筒6を除いた開口面を覆う底板43が設けられる。なお、本実施形態では、上下方向とは鉛直方向である。また、内筒6を除いた外筒4内の空間(外筒4内の内筒6よりも外側の空間)を旋回室8ともいう。導入管5は、外筒開口部41に接続され、不図示の供給装置から供給される底吹きガスを旋回室8に供給する。内筒6は、円筒状の部材であり、外筒4と円筒状の軸心が同一となるように外筒4の内側に設けられる。内筒6の下端は、複数の隔室7へと接続される。このような分配装置1において、底吹きガスが旋回室8に導入される箇所であり、外筒開口部41が形成される箇所を導入部といい、導入管5の延在方向から視た導入部の断面寸法を導入部断面寸法という。また、導入部の接続高さaとは、図4に示すように、底板43の上面から、外筒開口部41の下端までの距離である。
本実験では、酸素ガスと、質量分率にして1%の鉄粉を混合した石灰粉とを、導入管5から供給した。酸素ガスの供給速度は500Nm/minとし、石灰粉の供給速度は500kg/minとした。そして、所定時間通気した後に、酸素ガスと石灰分の供給を停止し、分配装置1を開放し、残存した粉体の体積及び残留粉体中の鉄の質量濃度を測定した。また、本実験では、石灰粉と鉄粉として、200μm以下となるように篩ったものを用いた。さらに、転炉2の吹錬はおおよそ10〜20分の間に行われることから、実験時間は最大で20分とした。さらに、別途流量偏差や固気の均等分配性を検討した結果、残留率を5%以下、望ましくは1%以下、濃縮率を50倍以下とすることが求められることを確認した。
旋回室8の高さbに対する接続高さaの比であるa/bが0.26である分配装置1を用いた時の粉体の残留率を通気時間ごとに測定結果を図5に示す。なお、旋回室8の高さbとは、図4に示すように、底板43の上面から外筒4の高さ(外筒4の円筒部の上端までの高さ)である。また、粉体の残留率とは、分配装置1内に滞留した粉体の体積を外筒4の内容積で除した値の百分率で示したものである。
図5に示すように、粉体の通過量が増加するのに伴い粉体の残留率は上がるが、ある閾値を超えるとそれ以上は残留率が上昇しないことが確認できた。
また、接続高さaと旋回室8の高さbを変更したときの、a/bに対する粉体の残留率を図6に示す。なお、図6に示す実験では、実験時間を20分とした。残留率はa/bが小さくなるほど低減することが確認でき、b=200mm及びb=300mmのどちらの高さの外筒を使用した場合においても、a/bを0.1以下とすることで粉体の残留率が5%以下となることが確認できた。また、分配装置1をアクリルで作製し、内部の粉体挙動を観察したところ、旋回室8内に発生する旋回流の下側に粉体が滞留する傾向があることを見出した。このことから、a/bを小さくし、0.1以下とすることで、旋回流の下側の粉体滞留を防止することができることが知見された。そして、外筒4と内筒6とに挟まれた、旋回室8に邪魔板を設置することで、粉体をより排出できることが発起された。
さらに、本発明者らは、上記の知見から、図7に示すように旋回室8内の底板43に邪魔板9を設置した分配装置1を用いて、邪魔板9による粉体の残留率への影響を調査した。図7に示す分配装置1は、邪魔板9の有無以外の構成については、図4で説明したものと同様とした。本調査では、実験時間は20分とし、邪魔板9の形状を図8(A)に示す方形とした。なお、図8に示す邪魔板9の形状において、旋回室8を旋回する底吹きガスの旋回方向に対して直交する断面形状の、鉛直方向の長さを高さHとし、水平方向の長さを幅Wとする。旋回方向は、底吹きガスの流れ方向について、水平方向に平行な方向である。また、邪魔板9の形状が方形とは、旋回方向に対して直交する断面形状が方形であることをいう。さらに、本調査では、旋回室8の幅をwとし、邪魔板9の幅Wを0.3wとした。旋回室8の幅wとは、図7に示すように、内筒6の外周面から外筒4の内周面までの水平方向の距離であり、「(外筒4の内径−内筒6の外径)/2」で求められる距離である。さらに、本調査では、邪魔板9としては、厚さ20mmの鋼板を、幅W及び高さHが後述の所定のものとなる方形状の切断したものを用いた。また、図9に分配装置1における邪魔板9の設置位置(底板43上の黒丸の位置)を示す平面模式図を示す。本調査では、邪魔板9の設置位置は、図9(A)に示す位置とした。
本調査では、はじめに、邪魔板9の幅Wを0.3wの一定とし、邪魔板9の高さHを変えた複数の条件で粉体の残留率を調査した。図10に、邪魔板9の高さHを変化させた時の旋回室8の高さbに対する邪魔板9の高さHの比(H/b)と、粉体の残留率との関係を示す。図10に示すように、H/bが0.25以上0.8以下で粉体の残留率が5%未満と低くなることが確認できた。
次に、邪魔板9の高さHを0.3aとし、邪魔板9の幅Wを変化させた複数の条件で粉体の残留率を調査した。図11に、邪魔板9の幅Wを変化させた時の旋回室8の幅wに対する邪魔板9の幅Wの比(W/w)と、粉体の残留率との関係を示す。図11に示すように、W/wが0.1以上で粉体の残留率が5%以下と低くなることが確認できた。
これらの結果から、邪魔板9を旋回室8の底板43に設置し、邪魔板9の高さHを0.25b以上0.8b以下とすることで、旋回室8内の粉体の滞留が抑制され、邪魔板9の幅Wを0.1w以上とすることで、旋回室8内の粉体の滞留がさらに抑制されることが知見された。
さらに、本発明者らは、同様の実験を、邪魔板9の断面積を変えず、邪魔板9の形状を図9(B)に示すフラップ形状としたところ、同条件の図9(A)に示す矩形の邪魔板9に比べて、粉体の残留率が20〜40%%程度低減することを確認した。フラップ形状とは、旋回方向の下流側になるほど高さHが徐々に大きくなる形状であり、邪魔板9の幅方向から視た底板94(つまり水平方向)に対する直線状の上面の傾きは30°以上70°以下とすることが好ましい。なお、フラップ形状は、邪魔板9の幅方向から視て、上面がなだらかに傾斜していればよく、直線的な傾斜でもよく曲線的な傾斜であってもよい。
<第1の実施形態>
(気体の分配装置)
本発明の第1の実施形態に係る気体の分配装置1は、上記の実験・調査の知見に基づくものであり、図4に示すように、外筒4と、導入管5と、内筒6と、複数の隔室7と、を備える。なお、分配装置1が設けられる転炉2は、底吹き転炉又は上底吹き転炉である。
外筒4、導入管5、内筒6及び複数の隔室7は、上記の実験・調査で説明したものと同様である。すなわち、分配装置1は、外筒4内に旋回室8を有し、旋回室8の下に羽口3ごとに分けられた複数の隔室7を有する。また、内筒6の上端が外筒4内に開放しており、内筒6の下端が複数の隔室7に接続される。さらに、外筒4における導入部の接続高さaに対する旋回室8の高さbの比a/bは、1/10以下である。
上記の構成の分配装置1では、導入管5から外筒開口部41を通じて旋回室8へと底吹きガスが流入し、旋回室8内に旋回流Rが発生する。この際、a/bを上記の範囲とすることにより、旋回室8の下側(底板43の近傍で、好ましくは底板43から接続高さaまでの範囲を含む領域)での流体の滞留を低減することができる。このため、粉体を含む固気二相流体を用いる場合において、粉体の滞留が低減され、複数の隔室7へ固気の均等分配を長期間保つことができる。
<第2の実施形態>
(気体の分配装置)
本発明の第2の実施形態に係る気体の分配装置1は、上記の実験・調査の知見に基づくものであり、図7に示すように、外筒4と、導入管5と、内筒6と、複数の隔室7と、邪魔板9とを備える。なお、分配装置1が設けられる転炉2は、底吹き転炉又は上底吹き転炉である。
外筒4、導入管5、内筒6及び複数の隔室7は、上記の実験・調査で説明したものと同様である。すなわち、分配装置1は、外筒4内に旋回室8を有し、旋回室8の下に羽口3ごとに分けられた複数の隔室7を有する。また、内筒6の上端が外筒4内に開放しており、内筒6の下端が複数の隔室7に接続される。
邪魔板9は、旋回室8内の下側に設けられ、底板43の上面に設置されることが好ましい。また、邪魔板9は、旋回する底吹きガスの旋回方向に対して直交する断面形状(つまり、円筒状の旋回室8の周方向に直交する断面形状)について、高さHが0.25b以上0.8以下であることが好ましく、幅Wが0.1w以上であることが好ましい。また、邪魔板9の形状は特に限定されないが、高さH及び幅Wの最大長さが上記の条件となることが好ましい。このため、邪魔板9の形状は、図8(A)に示す方形状であってもよく、図8(B)に示すフラップ形状であってもよい。フラップ形状の場合、幅方向から視た底板94に対する直線状の上面の傾きは30°以上70°以下とすることが好ましい。また、邪魔板9の形状は、図8(C)に示す円柱状であってもよい。さらに、邪魔板9の設置位置は、図8に示すような平面視において、旋回室8内のどの位置(例えば、図8(A)〜図9(E)の全ての位置)に設置されてもよいが、図9(A)〜図9(D)に示す外筒開口部41から視て旋回室8の下流側に設けることが好ましい。
上記の構成の分配装置1では、導入管5から外筒開口部41を通じて旋回室8へと底吹きガスが流入し、旋回室8内に旋回流Rが発生する。この際、邪魔板9を設けることにより、旋回室8の下側での流体の滞留を低減することができる。このため、粉体を含む固気二相流体を用いる場合において、粉体の滞留が低減され、複数の隔室7へ固気の均等分配を長期間保つことができる。
<第3の実施形態>
(気体の分配装置)
本発明の第2の実施形態に係る気体の分配装置1は、上記の実験・調査の知見に基づくものであり、図7に示すように、外筒4と、導入管5と、内筒6と、複数の隔室7と、邪魔板9とを備える。なお、分配装置1が設けられる転炉2は、底吹き転炉又は上底吹き転炉である。
外筒4、導入管5、内筒6及び複数の隔室7は、上記の実験・調査で説明したものと同様である。すなわち、分配装置1は、外筒4内に旋回室8を有し、旋回室8の下に羽口3ごとに分けられた複数の隔室7を有する。また、内筒6の上端が外筒4内に開放しており、内筒6の下端が複数の隔室7に接続される。さらに、外筒4における導入部の接続高さaに対する旋回室8の高さbの比a/bは、1/10以下である。
邪魔板9は、第2の実施形態と同様である。
上記の構成の分配装置1では、導入管5から外筒開口部41を通じて旋回室8へと底吹きガスが流入し、旋回室8内に旋回流Rが発生する。この際、a/bを上記の範囲とし、邪魔板9を設けることにより、旋回室8の下側での流体の滞留をより低減することができる。このため、粉体を含む固気二相流体を用いる場合において、粉体の滞留が低減され、複数の隔室7へ固気の均等分配を長期間保つことができる。
<変形例>
以上で、特定の実施形態を参照して本発明を説明したが、これら説明によって発明を限定することを意図するものではない。本発明の説明を参照することにより、当業者には、開示された実施形態とともに種々の変形例を含む本発明の別の実施形態も明らかである。従って、特許請求の範囲に記載された発明の実施形態には、本明細書に記載したこれらの変形例を単独または組み合わせて含む実施形態も網羅すると解すべきである。
例えば、上記実施形態では好ましい態様として、邪魔板9が底板43の上面に設けられるとしたが、本発明はかかる例に限定されない。邪魔板9は旋回室8の下側に設けられればよく、例えば、外筒4の内周面に設けられてもよい。
また、上記第2及び第3の実施形態では、邪魔板9を1個設ける構成としたが、本発明はかかる例に限定されない。邪魔板9は、複数個設けられてもよく、好ましくは1個〜3個設けられる。
<実施形態の効果>
(1)本発明の一態様に係る気体の分配装置1は、外筒4及び内筒6が上部に配置され、転炉2の羽口3ごとに区画された複数の隔室7が下部に配置された、気体の分配装置1であって、内筒6は、上端が外筒4内に開口し、下端が複数の隔室7に接続され、外筒4は、下端に底板43を有し、気体を供給する導入管5が接続される外筒開口部41が側壁に設けられ、外筒開口部41の下端と底板43との高さ方向の距離である接続高さaが、外筒4の内側の気体が旋回する旋回室8の高さbの1/10以下である。
上記(1)の構成によれば、旋回室8の高さbに対して接続高さaを十分に小さくすることにより、旋回室8の下側での気体の滞留を抑えることができる。このため、気体に粉体が含まれる場合には、粉体の滞留を抑制することができ、複数の隔室7へ固気の均等分配を長期間保つことができる。また、転炉2の生産量を落とすことなく、分配装置1の長期間の稼働が可能となる。
(2)本発明の一態様に係る気体の分配装置1は、外筒4及び内筒6が上部に配置され、転炉2の羽口3ごとに区画された複数の隔室7が下部に配置された、気体の分配装置1であって、内筒6は、上端が外筒4内に開口し、下端が複数の隔室7に接続され、外筒4は、下端に底板43を有し、気体を供給する導入管5が接続される外筒開口部41が側壁に設けられ、旋回室8の下側に、邪魔板9が設置される。
上記(2)の構成によれば、旋回室8の下側に邪魔板9を設けることにより、旋回室8の下側での気体の滞留を抑えることができる。このため、気体に粉体が含まれる場合には、粉体の滞留を抑制することができ、複数の隔室7へ固気の均等分配を長期間保つことができる。また、転炉2の生産量を落とすことなく、分配装置1の長期間の稼働が可能となる。
(3)本発明の一態様に係る気体の分配装置1は、外筒4及び内筒6が上部に配置され、転炉2の羽口3ごとに区画された複数の隔室7が下部に配置された、気体の分配装置1であって、内筒6は、上端が外筒4内に開口し、下端が複数の隔室7に接続され、外筒4は、下端に底板43を有し、気体を供給する導入管5が接続される外筒開口部41が側壁に設けられ、外筒開口部41の下端と底板43との高さ方向の距離である接続高さaが、外筒4の内側の気体が旋回する旋回室8の高さbの1/10以下であり、旋回室8の下側に、邪魔板9が設置される。
上記(3)の構成によれば、旋回室8の高さbに対して接続高さaを十分に小さくし、旋回室8の下側に邪魔板9を設けることにより、旋回室8の下側での気体の滞留をより抑えることができる。このため、気体に粉体が含まれる場合には、粉体の滞留を抑制することができ、複数の隔室7へ固気の均等分配を長期間保つことができる。また、転炉2の生産量を落とすことなく、分配装置1の長期間の稼働が可能となる。
(4)上記(2)又は(3)の構成において、邪魔板9の形状は、旋回室8のガス流方向に対して、直交する断面形状の高さHが0.25b以上0.8b未満で、断面形状の幅Wが0.1w以上である。
(5)上記(2)〜(4)のいずれか一つの構成において、邪魔板9は、底板43に設置される
(6)上記(2)〜(6)のいずれか一つの構成において、邪魔板9は、旋回室8内の気体が旋回する旋回方向の下流側になるほど、旋回方向に直交する断面形状の高さHが徐々に大きくなるフラップ形状である。
上記(4)〜(6)の構成によれば、気体、粉体の滞留をより低減することができる。
次に、本発明者らが行った実施例1について説明する。実施例1では、第1の実施形態に係る分配装置1を用いて粉体を含んだ底吹きガスである固気二相流体を羽口3に流し、羽口3ごとの粉体の排出量を測定した。分配装置1は、外筒4の内径が900mm、分配装置1の全高さが750mm、内筒6の高さが450mmであるものを用いた。また、分配装置1は、外筒4への導入管5の断面形状を250mm又は300mm四方の正方形とし、接続高さaを0〜80mmの任意の距離とした。さらに、実施例では、旋回室に邪魔板9を設置した。邪魔板9は、図8(A),(B)に示す、方形状、フラップ形状、円柱のいずれかの形状とし、底板43上の図9(A)〜(D)に示す設置位置に設置した。さらに、導入管5から酸素ガスを500Nm/min、CaO−1%Fe粉体を500kg/minを流した。そして、20分間、羽口3ごとのガス流量と粉体の排出量を測定した。
また、比較例として、実施例と同様な条件において、接続高さa、邪魔板9の形状又は邪魔板9の設置位置が異なる条件についても調査を行った。
表1に、実施例及び比較例における条件並びに、測定結果である流量偏差、粉体偏差、分配装置1内の粉体の残留率及びCaO粉中のFe粉の濃縮率を示す。なお、流量偏差は各羽口3で測定されたガス流量の偏差であり、粉体偏差は各羽口3で測定された粉体の排出量の偏差である。
Figure 2021195619
比較例1−1〜1−4から明らかなように、本発明を実施することにより、分配装置1内の粉体の滞留を5%以下に、また可燃性物質であるFe粉の濃縮率を50倍以下にすることが可能であることが確認できた。
次に、本発明者らが行った実施例2について説明する。実施例2では、第2の実施形態に係る分配装置1を用いて粉体を含んだ底吹きガスである固気二相流体を羽口3に流し、羽口3ごとの粉体の排出量を測定した。分配装置1は、外筒4の内径が900mm、分配装置1の全高さが750mm、内筒6の高さが450mmであるものを用いた。また、分配装置1は、外筒4への導入管5の断面形状を300mm四方の正方形とし、接続高さaを0mmとした。さらに、実施例2では、旋回室に邪魔板9を設置した。邪魔板9は、図8(A),(B)に示す、方形状、フラップ形状、円柱のいずれかの形状とし、底板43上の図9(A)〜(D)に示す設置位置に設置した。さらに、導入管5から酸素ガスを500Nm/min、CaO−1%Fe粉体を500kg/minを流した。そして、20分間、羽口3ごとのガス流量と粉体の排出量を測定した。
また、比較例として、実施例と同様な条件において、邪魔板9の形状や設置位置が異なる条件についても調査を行った。
表2に、実施例及び比較例における条件並びに、測定結果である流量偏差、粉体偏差、分配装置1内の粉体の残留率及びCaO粉中のFe粉の濃縮率を示す。なお、流量偏差は各羽口3で測定されたガス流量の偏差であり、粉体偏差は各羽口3で測定された粉体の排出量の偏差である。また、比較例2−3,2−6における邪魔板9の設置位置である壁A及び壁Eとは、図9(A)及び図9(E)に示す位置の外筒4の内壁面に邪魔板9をそれぞれ取り付けたことを示す。なお、邪魔板9の取り付け高さについては、邪魔板9の上端が底板43からbとなるように壁A及び壁Eに邪魔板9を設置した。
Figure 2021195619
比較例1−1,2−2〜2−6から明らかなように、本発明を実施することにより、分配装置1内の粉体の滞留を5%以下に、また可燃性物質であるFe粉の濃縮率を50倍以下にすることが可能であることが確認できた。
次に、本発明者らが行った実施例3について説明する。実施例3では、分配装置1を用いて粉体を含んだ底吹きガスである固気二相流体を羽口3に流し、羽口3ごとの粉体の排出量を測定した。分配装置1は、外筒4の内径が900mm、分配装置1の全高さが750mm、内筒6の高さが450mmであるものを用いた。また、分配装置1は、外筒4への導入管5の断面形状を250mm又は300mm四方の正方形とし、接続高さaを0〜80mmの任意の距離とした。さらに、実施例では、旋回室に邪魔板9を設置した。邪魔板9は、図8(A),(B)に示す、方形状、フラップ形状、円柱のいずれかの形状とし、底板43上の図9(A)〜(D)に示す設置位置に設置した。さらに、導入管5から酸素ガスを500Nm/min、CaO−1%Fe粉体を500kg/minを流した。そして、20分間、羽口3ごとのガス流量と粉体の排出量を測定した。
また、比較例として、実施例と同様な条件において、邪魔板9を設けない条件、接続高さa、邪魔板9の形状又は邪魔板9の設置位置が異なる条件についても調査を行った。
表1に、実施例及び比較例における条件並びに、測定結果である流量偏差、粉体偏差、分配装置1内の粉体の残留率及びCaO粉中のFe粉の濃縮率を示す。なお、表1の邪魔板の設置位置において、底A〜底Eは、図9(A)〜図9(E)にそれぞれ対応した位置である。また、流量偏差は各羽口3で測定されたガス流量の偏差であり、粉体偏差は各羽口3で測定された粉体の排出量の偏差である。
Figure 2021195619
比較例2−2〜2−6,1−1〜1−4から明らかなように、上記実施形態に係る分配装置1を用いることにより、分配装置1内の粉体の滞留率が1%以下となり、さらに可燃性物質であるFe粉の濃縮率を50倍以下にすることが可能であることが確認できた。
1 分配装置
2 転炉
3 羽口
4 外筒
41 外筒開口部
42 蓋
43 底板
44 旋回室
5 導入管
6 内筒
7 隔室
M 溶鉄
F 転炉底吹きガス

Claims (6)

  1. 外筒及び内筒が上部に配置され、転炉の羽口ごとに区画された複数の隔室が下部に配置された、気体の分配装置であって、
    前記内筒は、上端が前記外筒内に開口し、下端が複数の隔室に接続され、
    前記外筒は、下端に底板を有し、気体を供給する導入管が接続される外筒開口部が側壁に設けられ、
    前記外筒開口部の下端と前記底板との高さ方向の距離である接続高さaが、前記外筒の内側の前記気体が旋回する旋回室の高さbの1/10以下である、気体の分配装置。
  2. 外筒及び内筒が上部に配置され、転炉の羽口ごとに区画された複数の隔室が下部に配置された、気体の分配装置であって、
    前記内筒は、上端が前記外筒内に開口し、下端が複数の隔室に接続され、
    前記外筒は、下端に底板を有し、気体を供給する導入管が接続される外筒開口部が側壁に設けられ、
    前記旋回室の下側に、邪魔板が設置される、気体の分配装置。
  3. 外筒及び内筒が上部に配置され、転炉の羽口ごとに区画された複数の隔室が下部に配置された、気体の分配装置であって、
    前記内筒は、上端が前記外筒内に開口し、下端が複数の隔室に接続され、
    前記外筒は、下端に底板を有し、気体を供給する導入管が接続される外筒開口部が側壁に設けられ、
    前記外筒開口部の下端と前記底板との高さ方向の距離である接続高さaが、前記外筒の内側の前記気体が旋回する旋回室の高さbの1/10以下であり、
    前記旋回室の下側に、邪魔板が設置される、気体の分配装置。
  4. 前記邪魔板の形状は、前記旋回室内の前記気体が旋回する旋回方向に対して、直交する断面形状の高さHが0.25b以上0.8b未満で、前記断面形状の幅Wが0.1w以上である、請求項2又は3に記載の気体の分配装置。
  5. 前記邪魔板は、前記底板に設置される、請求項2〜4のいずれか1項に記載の気体の分配装置。
  6. 前記邪魔板は、前記旋回室内の前記気体が旋回する旋回方向の下流側になるほど、前記旋回方向に直交する断面形状の高さHが徐々に大きくなるフラップ形状である、請求項2〜5のいずれか1項に記載の気体の分配装置。
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