JP2021174901A - Component crimping device and cleaning method of component crimping device - Google Patents

Component crimping device and cleaning method of component crimping device Download PDF

Info

Publication number
JP2021174901A
JP2021174901A JP2020078470A JP2020078470A JP2021174901A JP 2021174901 A JP2021174901 A JP 2021174901A JP 2020078470 A JP2020078470 A JP 2020078470A JP 2020078470 A JP2020078470 A JP 2020078470A JP 2021174901 A JP2021174901 A JP 2021174901A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
foreign matter
crimping
cleaning tool
tool
cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020078470A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7432869B2 (en
Inventor
正樹 岸本
Masaki Kishimoto
明 亀田
Akira Kameda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd filed Critical Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority to JP2020078470A priority Critical patent/JP7432869B2/en
Priority to CN202110427490.3A priority patent/CN114114726A/en
Publication of JP2021174901A publication Critical patent/JP2021174901A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7432869B2 publication Critical patent/JP7432869B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/10Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
    • B08B1/12Brushes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/10Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
    • B08B1/14Wipes; Absorbent members, e.g. swabs or sponges
    • B08B1/143Wipes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/30Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
    • B08B1/32Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

To provide a component crimping device capable of improving productivity.SOLUTION: A component crimping device 100 includes: a bottom-receiving part 36 that supports a crimping target part of a circuit board 3 from below; a crimping tool 34 that crimps a component 5 to the crimping target part supported by the bottom-receiving part 36; a cleaning tool 71 that cleans the bottom-receiving part 36; a foreign matter removing unit 73 that removes foreign matters adhering to the cleaning tool 71; and a tool moving mechanism 72 that moves the cleaning tool 71. The foreign matter removing unit 73 is arranged below a support face 36a of the bottom-receiving part 36. The tool moving mechanism 72 is configured to perform alternately a cleaning operation to move the cleaning tool 71 along a longitudinal direction of the bottom-receiving part 36 while sliding over the support face 36a of the bottom-receiving part 36 and an evacuation operation to evacuate the cleaning tool 71 to an evacuation position below the support face 36a of the bottom-receiving part 36 where foreign matter is removed by the foreign matter removing unit 73.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本開示は、基板に部品を圧着する部品圧着装置などに関する。 The present disclosure relates to a component crimping device for crimping components to a substrate and the like.

従来、液晶パネルなどのパネルに電子部品(以下、単に「部品」と呼称する)を圧着する部品圧着装置が提供されている(特許文献1および2参照)。この部品圧着装置は、液晶パネルの端部に、異方性導電部材であるACF(Anisotropic Conductive Film)を介して部品を圧着する。つまり、その液晶パネルの端部には、接着部材としてACFが貼着されている。部品圧着装置は、液晶パネルのそのACFが貼着された部分に部品を搭載して、液晶パネルに圧着する。 Conventionally, a component crimping device for crimping an electronic component (hereinafter, simply referred to as a “component”) to a panel such as a liquid crystal panel has been provided (see Patent Documents 1 and 2). This component crimping device crimps components to the edges of a liquid crystal panel via an ACF (Anisotropic Conductive Film), which is an anisotropic conductive member. That is, ACF is attached to the end of the liquid crystal panel as an adhesive member. The component crimping device mounts the component on the portion of the liquid crystal panel to which the ACF is attached and crimps the component to the liquid crystal panel.

特許第4773209号公報Japanese Patent No. 4773209 特開2008−85147号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-85147

しかしながら、上記特許文献1および2の部品圧着装置では、生産性が低下する可能性があるという課題がある。 However, the component crimping devices of Patent Documents 1 and 2 have a problem that productivity may decrease.

そこで、本開示では、生産性の向上を図ることができる部品圧着装置などを提供する。 Therefore, in the present disclosure, a component crimping device and the like capable of improving productivity are provided.

本開示の第1の態様に係る部品圧着装置は、基板における予め定められた部位である圧着対象部位を下方から支持する長尺状の下受け部と、前記下受け部によって支持されている前記圧着対象部位に部品を圧着する圧着ツールと、前記下受け部を清掃するための清掃ツールと、前記清掃ツールに付着した異物を除去するための異物除去部と、前記清掃ツールを移動させるツール移動機構とを備え、前記異物除去部は、前記下受け部における前記圧着対象部位を支持する支持面よりも下方に配置され、前記ツール移動機構は、前記清掃ツールを前記下受け部の前記支持面に擦らしながら、前記下受け部の長手方向に沿って移動させる清掃動作と、前記下受け部の前記支持面よりも下方の位置であって、前記異物除去部によって前記異物の除去が行われる位置である退避位置に前記清掃ツールを退避させる退避動作とを交互に行う。 The component crimping device according to the first aspect of the present disclosure includes a long lower receiving portion that supports a crimping target portion, which is a predetermined portion of the substrate, from below, and the lower receiving portion that is supported by the lower receiving portion. A crimping tool for crimping a part to a crimping target portion, a cleaning tool for cleaning the lower receiving portion, a foreign matter removing portion for removing foreign matter adhering to the cleaning tool, and a tool moving for moving the cleaning tool. The foreign matter removing portion includes a mechanism, and the foreign matter removing portion is arranged below the support surface that supports the crimping target portion in the lower receiving portion, and the tool moving mechanism makes the cleaning tool the supporting surface of the lower receiving portion. The cleaning operation of moving the lower receiving portion along the longitudinal direction while rubbing against the surface, and the removal of the foreign matter by the foreign matter removing portion at a position below the supporting surface of the lower receiving portion. The evacuation operation of retracting the cleaning tool to the evacuation position, which is the position, is alternately performed.

なお、これらの包括的または具体的な態様は、システム、方法、集積回路、コンピュータプログラムまたはコンピュータ読み取り可能なCD−ROMなどの記録媒体で実現されてもよく、システム、方法、集積回路、コンピュータプログラムおよび記録媒体の任意な組み合わせで実現されてもよい。また、記録媒体は、非一時的な記録媒体であってもよい。 It should be noted that these comprehensive or specific embodiments may be realized in a recording medium such as a system, method, integrated circuit, computer program or computer-readable CD-ROM, and the system, method, integrated circuit, computer program. And may be realized by any combination of recording media. Further, the recording medium may be a non-temporary recording medium.

本開示の部品圧着装置は、生産性の向上を図ることができる。 The component crimping device of the present disclosure can improve productivity.

本開示の一態様における更なる利点および効果は、明細書および図面から明らかにされる。かかる利点および/または効果は、いくつかの実施の形態並びに明細書および図面に記載された特徴によってそれぞれ提供されるが、1つまたはそれ以上の同一の特徴を得るために必ずしも全てが提供される必要はない。 Further advantages and effects in one aspect of the present disclosure will be apparent from the specification and drawings. Such advantages and / or effects are provided by some embodiments and features described herein and drawings, respectively, but not all are provided to obtain one or more identical features. No need.

図1は、実施の形態における部品実装ラインの概略構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a component mounting line according to an embodiment. 図2は、実施の形態における部品実装ラインの平面図である。FIG. 2 is a plan view of the component mounting line according to the embodiment. 図3は、実施の形態における部品実装ラインに備えらえている、コンピュータと、そのコンピュータによって制御される各構成要素とを示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a computer and each component controlled by the computer provided in the component mounting line according to the embodiment. 図4は、実施の形態における部品圧着装置の機能構成を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing a functional configuration of the component crimping device according to the embodiment. 図5は、実施の形態における清掃機構を具体的に示す図である。FIG. 5 is a diagram specifically showing a cleaning mechanism according to the embodiment. 図6は、実施の形態における第1異物除去部の構成を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a first foreign matter removing portion according to the embodiment. 図7は、実施の形態における清掃ツールが退避しているときに部品の圧着が行われている状態を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a state in which parts are crimped when the cleaning tool according to the embodiment is retracted. 図8は、実施の形態における部品圧着装置の処理動作を示すフローチャートである。FIG. 8 is a flowchart showing a processing operation of the component crimping device according to the embodiment. 図9Aは、実施の形態における清掃機構による下受け部の清掃の一例を時系列に沿って示す図である。FIG. 9A is a diagram showing an example of cleaning the lower receiving portion by the cleaning mechanism in the embodiment in chronological order. 図9Bは、実施の形態における清掃機構による下受け部の清掃の他の例を時系列に沿って示す図である。FIG. 9B is a diagram showing another example of cleaning the lower receiving portion by the cleaning mechanism in the embodiment in chronological order. 図10は、実施の形態における第1異物除去部による異物の除去を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the removal of foreign matter by the first foreign matter removing portion in the embodiment. 図11は、実施の形態における清掃ツールの形状の例を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing an example of the shape of the cleaning tool according to the embodiment. 図12は、実施の形態の変形例に係る部品実装ラインの平面図である。FIG. 12 is a plan view of a component mounting line according to a modified example of the embodiment.

(本開示の基礎となった知見)
本発明者は、「背景技術」の欄において記載した特許文献1および2の部品圧着装置に関し、以下の問題が生じることを見出した。
(Knowledge on which this disclosure was based)
The present inventor has found that the following problems occur with respect to the component crimping apparatus of Patent Documents 1 and 2 described in the column of "Background Art".

上記特許文献1の部品圧着装置のように、液晶パネルまたは有機EL(electro-luminescence)パネルなどのパネルへの部品の圧着には、バックアップユニットと、圧着子とが用いられる。バックアップユニットは、バックアップステージとも呼ばれ、パネルの端部を下側から支持する。圧着子は、圧着ツールとも呼ばれ、バックアップステージに支持されているパネルの端部に、ACFを介して部品を圧着する。 A backup unit and a crimping element are used for crimping parts to a panel such as a liquid crystal panel or an organic EL (electro-luminescence) panel as in the part crimping device of Patent Document 1. The backup unit, also called the backup stage, supports the edge of the panel from below. The crimping tool, also called a crimping tool, crimps the part to the edge of the panel supported by the backup stage via the ACF.

ここで、バックアップステージには、各部材のパーティクルなどが異物として付着することがある。異物には、例えば、液晶パネルのガラス破片またはACFの断片などがあげられる。このような異物の付着は、部品をパネルに圧着することによって生産される製品の品質に大きく影響する。 Here, particles of each member may adhere to the backup stage as foreign matter. Examples of the foreign matter include glass fragments of liquid crystal panels or fragments of ACF. The adhesion of such foreign matter greatly affects the quality of the product produced by crimping the component to the panel.

そこで、上記特許文献1の部品圧着装置は、クリーニング用のブラシを備え、バックアップステージの長手方向に沿ってそのブラシを移動させる。これにより、そのバックアップステージに付着した異物が除去される。また、その部品圧着装置は、ブラシにより吐き出された異物を吸引する吸引部を備えている。しかし、この部品圧着装置の吸引部は、ブラシと離れた位置にあるため、ブラシにより吐き出された異物を吸引しても、そのブラシに付着した異物を十分に除去できることは難しい。 Therefore, the component crimping device of Patent Document 1 includes a brush for cleaning, and moves the brush along the longitudinal direction of the backup stage. As a result, foreign matter adhering to the backup stage is removed. In addition, the component crimping device includes a suction unit that sucks foreign matter discharged by the brush. However, since the suction portion of this component crimping device is located at a position away from the brush, it is difficult to sufficiently remove the foreign matter adhering to the brush even if the foreign matter discharged by the brush is sucked.

上記特許文献2の部品圧着装置(具体的には、電子部品圧着装置)は、回転ブラシを備え、バックアップステージをその回転ブラシによって清掃する。これにより、そのバックアップステージに付着した異物が掻き出される。また、その部品圧着装置は、回転ブラシによって掻き出された異物を吸引する吸引部を備えている。しかし、この部品圧着装置の吸引部も、上記特許文献1と同様、回転ブラシと離れた位置にあるため、回転ブラシにより掻き出された異物を吸引しても、その回転ブラシに付着した異物を十分に除去できることは難しい。 The component crimping device (specifically, an electronic component crimping device) of Patent Document 2 includes a rotating brush, and cleans the backup stage with the rotating brush. As a result, foreign matter adhering to the backup stage is scraped out. Further, the component crimping device includes a suction portion for sucking foreign matter scraped by a rotating brush. However, since the suction portion of this component crimping device is also located at a position away from the rotating brush as in Patent Document 1, even if the foreign matter scraped by the rotating brush is sucked, the foreign matter adhering to the rotating brush is removed. It is difficult to remove it sufficiently.

したがって、上記特許文献1および2の部品圧着装置では、ブラシまたは回転ブラシに付着した異物を十分に除去することが難しく、例えば、その異物がバックアップステージに再び付着する可能性がある。その結果、上記特許文献1および2の部品圧着装置では、異物を除去することができず、製品の品質を十分に高めることが難しい。つまり、歩留りを向上させることが難しい。その結果、生産性が低下する可能性がある。 Therefore, in the component crimping devices of Patent Documents 1 and 2, it is difficult to sufficiently remove the foreign matter adhering to the brush or the rotating brush, and for example, the foreign matter may reattach to the backup stage. As a result, the component crimping devices of Patent Documents 1 and 2 cannot remove foreign substances, and it is difficult to sufficiently improve the quality of the product. That is, it is difficult to improve the yield. As a result, productivity may decrease.

このような課題を解決するために、本開示の一態様に係る部品圧着装置は、基板における予め定められた部位である圧着対象部位を下方から支持する長尺状の下受け部と、前記下受け部によって支持されている前記圧着対象部位に部品を圧着する圧着ツールと、前記下受け部を清掃するための清掃ツールと、前記清掃ツールに付着した異物を除去するための異物除去部と、前記清掃ツールを移動させるツール移動機構とを備え、前記異物除去部は、前記下受け部における前記圧着対象部位を支持する支持面よりも下方に配置され、前記ツール移動機構は、前記清掃ツールを前記下受け部の前記支持面に擦らしながら、前記下受け部の長手方向に沿って移動させる清掃動作と、前記下受け部の前記支持面よりも下方の位置であって、前記異物除去部によって前記異物の除去が行われる位置である退避位置に前記清掃ツールを退避させる退避動作とを交互に行う。 In order to solve such a problem, the component crimping device according to one aspect of the present disclosure includes a long lower receiving portion that supports a crimping target portion, which is a predetermined portion of the substrate, from below, and the lower portion. A crimping tool for crimping a part to the crimping target portion supported by the receiving portion, a cleaning tool for cleaning the lower receiving portion, and a foreign matter removing portion for removing foreign matter adhering to the cleaning tool. The cleaning tool is provided with a tool moving mechanism for moving the cleaning tool, the foreign matter removing portion is arranged below the support surface supporting the crimping target portion in the lower receiving portion, and the tool moving mechanism moves the cleaning tool. A cleaning operation of moving the lower receiving portion along the longitudinal direction while rubbing against the supporting surface of the lower receiving portion, and a position below the supporting surface of the lower receiving portion of the foreign matter removing portion. The cleaning tool is retracted to the retracted position, which is the position where the foreign matter is removed.

これにより、清掃動作と退避動作とが別々に行われるため、退避動作のときには、清掃ツールを異物除去部に近い退避位置に退避させて、その清掃ツールに付着した異物を異物除去部によって十分に除去することができる。その結果、清掃ツールに付着した異物が下受け部に再び付着することを抑えることができる。したがって、下受け部の清掃と、清掃ツールに付着した異物の除去とを効果的に行うことができる。その結果、液晶パネルなどの基板に部品を圧着することによって生産される製品の品質の低下を十分に抑えることができる。つまり、歩留まりを向上することができ、生産性を向上することができる。また、異物除去部が下受け部の支持面よりも下方に配置されているため、その下受け部に支持される基板と異物除去部との干渉を抑えることができる。 As a result, the cleaning operation and the evacuation operation are performed separately. Therefore, during the evacuation operation, the cleaning tool is retracted to a retracted position close to the foreign matter removing portion, and the foreign matter adhering to the cleaning tool is sufficiently removed by the foreign matter removing portion. Can be removed. As a result, it is possible to prevent foreign matter adhering to the cleaning tool from adhering to the lower receiving portion again. Therefore, it is possible to effectively clean the lower receiving portion and remove the foreign matter adhering to the cleaning tool. As a result, deterioration of the quality of the product produced by crimping the component to the substrate such as the liquid crystal panel can be sufficiently suppressed. That is, the yield can be improved and the productivity can be improved. Further, since the foreign matter removing portion is arranged below the support surface of the lower receiving portion, interference between the substrate supported by the lower receiving portion and the foreign matter removing portion can be suppressed.

また、前記ツール移動機構は、前記退避動作では、前記清掃ツールを前記退避位置に退避させることによって、前記下受け部に支持されている前記基板と、前記退避位置に退避している前記清掃ツールとを離間させてもよい。例えば、基板と清掃ツールとは、上下方向、すなわち支持面に対して垂直な方向に離間される。 Further, in the retracting operation, the tool moving mechanism retracts the cleaning tool to the retracted position to support the substrate supported by the lower receiving portion and the cleaning tool retracted to the retracted position. May be separated from each other. For example, the substrate and the cleaning tool are separated in the vertical direction, that is, in the direction perpendicular to the support surface.

これにより、退避した清掃ツールと基板との干渉を抑えることができ、その干渉による作業の中断および上述の製品の品質の低下を抑制することができる。 As a result, it is possible to suppress the interference between the retracted cleaning tool and the substrate, and it is possible to suppress the interruption of work and the deterioration of the quality of the above-mentioned product due to the interference.

また、前記圧着ツールは、前記清掃ツールが前記退避位置に退避しているときに、前記下受け部に支持されている前記基板の前記圧着対象部位に前記部品を圧着してもよい。 Further, the crimping tool may crimp the component to the crimping target portion of the substrate supported by the lower receiving portion when the cleaning tool is retracted to the retracted position.

これにより、部品の基板への圧着と、清掃ツールの異物の除去とを並行して行うことができる。その結果、部品の圧着作業の効率化を図ることができ、生産性をより向上することができる。 As a result, the crimping of the component to the substrate and the removal of the foreign matter of the cleaning tool can be performed in parallel. As a result, the efficiency of crimping work of parts can be improved, and the productivity can be further improved.

また、前記異物除去部は、それぞれ前記清掃ツールに付着した異物を除去するための第1異物除去部と第2異物除去部とからなり、前記第1異物除去部および前記第2異物除去部は、前記下受け部の長手方向の両端側にそれぞれ配置されてもよい。 Further, the foreign matter removing portion includes a first foreign matter removing portion and a second foreign matter removing portion for removing foreign matter adhering to the cleaning tool, respectively, and the first foreign matter removing portion and the second foreign matter removing portion are , The lower receiving portion may be arranged on both ends in the longitudinal direction.

これにより、清掃動作において、清掃ツールが下受け部の長手方向の一端側から他端側に移動したときには、その他端側には、第1異物除去部および第2異物除去部のうちの何れか一方が配置されているため、清掃ツールを一端側に戻すことなく、その清掃ツールの異物の除去を行うことができる。逆に、清掃ツールが上述の他端側から一端側に移動するときも、上述と同様に、清掃ツールを他端側に戻すことなく、その清掃ツールの異物の除去を行うことができる。つまり、清掃ツールを下受け部の長手方向に沿って往復させることなく、その清掃ツールに付着した異物を除去することができる。その結果、スループットの向上を図ることができる。 As a result, when the cleaning tool moves from one end side to the other end side in the longitudinal direction of the lower receiving portion in the cleaning operation, either the first foreign matter removing portion or the second foreign matter removing portion is placed on the other end side. Since one of them is arranged, it is possible to remove the foreign matter of the cleaning tool without returning the cleaning tool to one end side. On the contrary, when the cleaning tool moves from the other end side to the one end side as described above, the foreign matter of the cleaning tool can be removed without returning the cleaning tool to the other end side as described above. That is, it is possible to remove the foreign matter adhering to the cleaning tool without reciprocating the cleaning tool along the longitudinal direction of the lower receiving portion. As a result, the throughput can be improved.

以下、実施の形態について、図面を参照しながら具体的に説明する。 Hereinafter, embodiments will be specifically described with reference to the drawings.

なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも包括的または具体的な例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、ステップ、ステップの順序などは、一例であり、本開示を限定する主旨ではない。また、以下の実施の形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。また、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、同じ構成部材については同じ符号を付している。 It should be noted that all of the embodiments described below show comprehensive or specific examples. Numerical values, shapes, materials, components, arrangement positions and connection forms of components, steps, order of steps, etc. shown in the following embodiments are examples, and are not intended to limit the present disclosure. Further, among the components in the following embodiments, the components not described in the independent claims indicating the highest level concept are described as arbitrary components. Further, each figure is a schematic view and is not necessarily exactly illustrated. Further, in each figure, the same components are designated by the same reference numerals.

(実施の形態)
[部品実装ラインの概略構成]
図1は、本実施の形態における部品実装ラインの概略構成を示す図である。
(Embodiment)
[Outline configuration of component mounting line]
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a component mounting line according to the present embodiment.

本実施の形態における部品実装ライン1は、液晶パネルなどの基板3に部品5を実装することによって液晶ディスプレイなどの製品を生産するシステムである。なお、部品5は、例えば駆動回路などの電子部品である。具体的には、部品実装ライン1は、図1に示すように、基板搬入部10と、貼着部20と、仮圧着部30と、本圧着部40、基板搬出部50とを有する。基板搬入部10、貼着部20、仮圧着部30、本圧着部40、および基板搬出部50は、この順で連結されている。 The component mounting line 1 in the present embodiment is a system for producing a product such as a liquid crystal display by mounting the component 5 on a substrate 3 such as a liquid crystal panel. The component 5 is an electronic component such as a drive circuit. Specifically, as shown in FIG. 1, the component mounting line 1 includes a substrate carry-in portion 10, a sticking portion 20, a temporary crimping portion 30, a main crimping portion 40, and a substrate carry-out portion 50. The substrate carry-in portion 10, the sticking portion 20, the temporary crimping portion 30, the main crimping portion 40, and the substrate carry-out portion 50 are connected in this order.

基板搬入部10は、作業者または上流側の他の装置から搬入される矩形の基板3を受け取る。そして、その基板3は下流側の貼着部20に搬出される。 The board loading unit 10 receives the rectangular board 3 carried in from the operator or another device on the upstream side. Then, the substrate 3 is carried out to the attachment portion 20 on the downstream side.

貼着部20は、基板搬入部10から搬出された基板3を受け取り、その基板3の周縁にある複数の電極部4のそれぞれに接着部材を貼着する。そして、その接着部材が貼着された基板3は仮圧着部30に搬出される。なお、複数の電極部4のそれぞれは、例えば、複数の電極により構成されている。 The attachment portion 20 receives the substrate 3 carried out from the substrate carry-in portion 10, and attaches an adhesive member to each of the plurality of electrode portions 4 on the peripheral edge of the substrate 3. Then, the substrate 3 to which the adhesive member is attached is carried out to the temporary crimping portion 30. Each of the plurality of electrode portions 4 is composed of, for example, a plurality of electrodes.

仮圧着部30は、貼着部20から搬出された基板3を受け取り、その基板3の接着部材が貼着されている部位に部品5を搭載して仮圧着する。そして、その部品5が仮圧着された基板3は本圧着部40に搬出される。 The temporary crimping portion 30 receives the substrate 3 carried out from the sticking portion 20, and mounts the component 5 on the portion where the adhesive member of the substrate 3 is attached and temporarily crimps the substrate 3. Then, the substrate 3 on which the component 5 is temporarily crimped is carried out to the main crimping portion 40.

本圧着部40は、仮圧着部30から搬出された基板3を受け取り、その基板3に仮圧着された部品5に対して本圧着(熱圧着ともいう)を行う。そして、その本圧着が行われた基板3は基板搬出部50に搬出される。 The main crimping portion 40 receives the substrate 3 carried out from the temporary crimping portion 30, and performs main crimping (also referred to as thermocompression bonding) on the component 5 temporarily crimped to the substrate 3. Then, the substrate 3 to which the main crimping has been performed is carried out to the board carrying-out portion 50.

基板搬出部50は、本圧着部40から搬出された基板3を受け取る。基板搬出部50に受け取られた基板3は下流側に搬出される。 The substrate carry-out portion 50 receives the substrate 3 carried out from the main crimping portion 40. The substrate 3 received by the substrate carry-out unit 50 is carried out to the downstream side.

このように、部品実装ライン1は、搬入された基板3の周縁に設けられた複数の電極部4のそれぞれに部品5を実装する部品実装作業を実行し、部品5が実装された基板3を基板搬出部50から搬出する。 In this way, the component mounting line 1 executes the component mounting work of mounting the component 5 on each of the plurality of electrode portions 4 provided on the peripheral edge of the carried-in substrate 3, and mounts the substrate 3 on which the component 5 is mounted. It is carried out from the board carry-out unit 50.

[部品実装ラインの詳細構成]
図2は、本実施の形態における部品実装ライン1の平面図である。具体的には、図1は、部品実装ライン1を上方から見た構成を示す。なお、本実施の形態において、基板の搬送方向をX軸方向と称し、鉛直方向をZ軸方向と称し、X軸方向およびZ軸方向に垂直な方向、すなわち奥行き方向をY軸方向と称す。また、X軸方向の負側および正側は、基板の搬送方向の上流側および下流側にそれぞれ相当し、Z軸方向の負側および正側は、鉛直方向の下側および上側にそれぞれ相当し、Y軸方向の負側および正側は、奥行き方向の手前側および奥側、または、前側および後側にそれぞれ相当する。
[Detailed configuration of component mounting line]
FIG. 2 is a plan view of the component mounting line 1 according to the present embodiment. Specifically, FIG. 1 shows a configuration in which the component mounting line 1 is viewed from above. In the present embodiment, the transport direction of the substrate is referred to as the X-axis direction, the vertical direction is referred to as the Z-axis direction, and the direction perpendicular to the X-axis direction and the Z-axis direction, that is, the depth direction is referred to as the Y-axis direction. Further, the negative side and the positive side in the X-axis direction correspond to the upstream side and the downstream side in the transport direction of the substrate, respectively, and the negative side and the positive side in the Z-axis direction correspond to the lower side and the upper side in the vertical direction, respectively. , The negative side and the positive side in the Y-axis direction correspond to the front side and the back side in the depth direction, or the front side and the rear side, respectively.

基板搬入部10は、搬入される基板3を載置するための基台1aを備える。基板搬入部10の基台1aには、基板3が載置されるステージ11が設けられている。ステージ11は、基台1aに対してZ軸方向に昇降する。また、ステージ11の上面には、複数の吸着孔11aが設けられている。このようなステージ11は、作業者または上流側の他の装置から搬入されてステージ11上に載置された基板3を、図示しないポンプ等の吸引器によって吸着孔11aから真空吸着して保持する。 The board loading section 10 includes a base 1a on which the board 3 to be loaded is placed. A stage 11 on which the substrate 3 is placed is provided on the base 1a of the substrate loading portion 10. The stage 11 moves up and down in the Z-axis direction with respect to the base 1a. Further, a plurality of suction holes 11a are provided on the upper surface of the stage 11. Such a stage 11 holds the substrate 3 carried in from an operator or another device on the upstream side and placed on the stage 11 by vacuum suction from the suction hole 11a by a suction device such as a pump (not shown). ..

貼着部20は、基板3の電極部4に接着部材であるACFを貼着する貼着作業(言い換えると、貼着工程)を行う機能を備える。貼着部20は、基板移動機構21と、貼着機構22とを備える。 The sticking portion 20 has a function of performing a sticking operation (in other words, a sticking step) of sticking ACF, which is an adhesive member, to the electrode portion 4 of the substrate 3. The sticking portion 20 includes a substrate moving mechanism 21 and a sticking mechanism 22.

基板移動機構21は、基板3を移動させる機構である。基板移動機構21は、例えば、X軸方向に可動なX軸テーブルと、Y軸方向に可動なY軸テーブルと、Z軸方向に可動なZ軸テーブルと、ステージ23とを備える。基板移動機構21には、基台1b上に下方から順に、X軸テーブルと、Y軸テーブルと、Z軸テーブルと、ステージ23とが重ねて設けられている。 The board moving mechanism 21 is a mechanism for moving the board 3. The substrate moving mechanism 21 includes, for example, an X-axis table movable in the X-axis direction, a Y-axis table movable in the Y-axis direction, a Z-axis table movable in the Z-axis direction, and a stage 23. The substrate moving mechanism 21 is provided with an X-axis table, a Y-axis table, a Z-axis table, and a stage 23 stacked on the base 1b in this order from the bottom.

Y軸テーブルは、Y軸方向に延びて設けられ、X軸テーブル上をX軸方向に自在に移動する。Z軸テーブルは、Y軸テーブル上をY軸方向に自在に移動し、上部に設けられたステージ23をZ軸方向に昇降するとともにZ軸回りに回転させる。 The Y-axis table is provided so as to extend in the Y-axis direction, and freely moves on the X-axis table in the X-axis direction. The Z-axis table freely moves on the Y-axis table in the Y-axis direction, and the stage 23 provided on the upper part is moved up and down in the Z-axis direction and rotated around the Z-axis.

また、ステージ23の上面には、複数の吸着孔23aが設けられており、ステージ23は、その上面に載置された基板3を真空吸着して保持する。このように、基板移動機構21は、基板3を吸着保持して水平面内(具体的には、X軸方向およびY軸方向)で移動させ、上下方向(具体的には、Z軸方向)に昇降させるとともにZ軸回りに回転させる。 Further, a plurality of suction holes 23a are provided on the upper surface of the stage 23, and the stage 23 vacuum sucks and holds the substrate 3 placed on the upper surface thereof. In this way, the substrate moving mechanism 21 attracts and holds the substrate 3 and moves the substrate 3 in the horizontal plane (specifically, the X-axis direction and the Y-axis direction) in the vertical direction (specifically, the Z-axis direction). Raise and lower and rotate around the Z axis.

貼着機構22は、基台1bの上方に、X軸方向に並んだ例えば2つの貼着ヘッドを備えている。各貼着ヘッドは、それぞれACFを供給する供給部と、ACFを基板3に貼着するための貼着ツールとを備えている。2つの貼着ヘッドのそれぞれは、基板3上の複数の電極部4に対応する位置にACFを貼着する。また、2つの貼着ヘッドのそれぞれに対応する下方の位置には、貼着支持台が備えられている。 The sticking mechanism 22 includes, for example, two sticking heads arranged in the X-axis direction above the base 1b. Each sticking head includes a supply unit for supplying ACF and a sticking tool for sticking ACF to the substrate 3. ACF is attached to each of the two attachment heads at positions corresponding to the plurality of electrode portions 4 on the substrate 3. Further, a sticking support base is provided at a lower position corresponding to each of the two sticking heads.

仮圧着部30は、基板3のACFが貼着された領域(すなわち圧着対象部位)に部品5を搭載して仮圧着する仮圧着工程を実行する。仮圧着部30は、基板移動機構31と、部品搭載機構32と、部品供給部33と、部品移送部35aと、清掃機構70とを備える。 The temporary crimping portion 30 executes a temporary crimping step in which the component 5 is mounted on the region where the ACF of the substrate 3 is attached (that is, the crimping target portion) and temporarily crimped. The temporary crimping portion 30 includes a substrate moving mechanism 31, a component mounting mechanism 32, a component supply unit 33, a component transfer unit 35a, and a cleaning mechanism 70.

基板移動機構31は、貼着部20の基板移動機構21と同様の構造を有する。具体的には、基板移動機構31は、基板3を保持するステージ37を有する。ステージ37の上面には、複数の吸着孔37aが設けられている。基板移動機構31は、そのステージ37上に載置された基板3をその複数の吸着孔37aによって真空吸着して保持する。また、基板移動機構31は、基板3を吸着保持するステージ37を水平面内で移動させ、上下方向に昇降させるとともにZ軸回りに回転させる機能を備える。基板移動機構31は、そのステージ37の移動および回転によって、吸着保持されている基板3のACFが貼着された領域を、部品搭載機構32のバックアップステージである下受け部36の上方に位置させる。 The substrate moving mechanism 31 has the same structure as the substrate moving mechanism 21 of the sticking portion 20. Specifically, the substrate moving mechanism 31 has a stage 37 that holds the substrate 3. A plurality of suction holes 37a are provided on the upper surface of the stage 37. The substrate moving mechanism 31 vacuum-sucks and holds the substrate 3 mounted on the stage 37 by the plurality of suction holes 37a. Further, the substrate moving mechanism 31 has a function of moving the stage 37 that attracts and holds the substrate 3 in a horizontal plane, raises and lowers it in the vertical direction, and rotates it around the Z axis. The substrate moving mechanism 31 positions the region to which the ACF of the substrate 3 attracted and held is attached above the lower receiving portion 36 which is the backup stage of the component mounting mechanism 32 by the movement and rotation of the stage 37. ..

部品供給部33は、部品搭載機構32の奥側(すなわちY軸方向正側)に基台1bの後部から張り出して設けられている。例えば、部品供給部33は、TCP(Tape carrier package)などの帯状部品収納体が巻き付けられた供給リール33aと、打ち抜き部33bと、可動ステージ33cと、レール33dとを備える。このような部品供給部33は、それらの構成要素の動きによって帯状部品収納体から部品5を順次供給する。 The component supply unit 33 is provided on the back side (that is, the positive side in the Y-axis direction) of the component mounting mechanism 32 so as to project from the rear portion of the base 1b. For example, the component supply unit 33 includes a supply reel 33a around which a strip-shaped component storage body such as TCP (Tape carrier package) is wound, a punching unit 33b, a movable stage 33c, and a rail 33d. Such a component supply unit 33 sequentially supplies the component 5 from the strip-shaped component accommodating body by the movement of those components.

部品移送部35aは、部品供給部33から供給される部品5を、部品搭載機構32に含まれる圧着ツール34側に移動させる。 The component transfer unit 35a moves the component 5 supplied from the component supply unit 33 to the crimping tool 34 side included in the component mounting mechanism 32.

部品搭載機構32は、基台1b上に設けられ、圧着ツール34と下受け部36とを備える。 The component mounting mechanism 32 is provided on the base 1b and includes a crimping tool 34 and a lower receiving portion 36.

下受け部36は、長尺状に形成された部材であって、ステージ37に保持されている基板3における予め定められた部位である圧着対象部位を下方から支持する。なお、この圧着対象部位は、基板3においてACFが貼着されている部位である。 The lower receiving portion 36 is a member formed in a long shape, and supports a crimping target portion, which is a predetermined portion of the substrate 3 held on the stage 37, from below. The crimping target portion is a portion on the substrate 3 to which the ACF is attached.

圧着ツール34は、部品5を保持し、下受け部36によって支持されている圧着対象部位に部品5を圧着する。具体的には、圧着ツール34は、Z軸方向に昇降し、部品移送部35aによって移動された部品5を上方から吸着(つまり、ピックアップ)する。そして、圧着ツール34は、吸着した部品5をACF上に搭載して基板3ごと下受け部36に押し付けることで、基板3に部品5を仮圧着する。なお、仮圧着部30は、基板移動機構31によって保持されている基板3の方向を90度回転させる機構を備えてもよい。 The crimping tool 34 holds the component 5 and crimps the component 5 to the crimp target portion supported by the lower receiving portion 36. Specifically, the crimping tool 34 moves up and down in the Z-axis direction, and sucks (that is, picks up) the component 5 moved by the component transfer unit 35a from above. Then, the crimping tool 34 temporarily crimps the component 5 to the substrate 3 by mounting the adsorbed component 5 on the ACF and pressing the component 5 together with the substrate 3 against the lower receiving portion 36. The temporary crimping portion 30 may include a mechanism for rotating the direction of the substrate 3 held by the substrate moving mechanism 31 by 90 degrees.

清掃機構70は、部品搭載機構32を清掃する。具体的には、クリーニング部70は、部品搭載機構32に含まれる下受け部36を清掃する。 The cleaning mechanism 70 cleans the component mounting mechanism 32. Specifically, the cleaning unit 70 cleans the lower receiving unit 36 included in the component mounting mechanism 32.

本圧着部40は、仮圧着部30によって基板3に仮圧着された部品5を基板3に本圧着(つまり、熱圧着)する本圧着工程(つまり、熱圧着工程)を実行する。こうすることで、基板3に形成された電極部4と部品5とはACFを介して電気的に接続される。このような本圧着部40は、基板移動機構41と、圧着機構42とを備える。 The main crimping portion 40 executes a main crimping step (that is, a thermocompression bonding step) of main crimping (that is, thermocompression bonding) the component 5 temporarily crimped to the substrate 3 by the temporary crimping portion 30 to the substrate 3. By doing so, the electrode portion 4 formed on the substrate 3 and the component 5 are electrically connected via the ACF. Such a crimping portion 40 includes a substrate moving mechanism 41 and a crimping mechanism 42.

基板移動機構41は、貼着部20の基板移動機構21と同様の構造を有する。具体的には、基板移動機構41は、ステージ49を有する。ステージ49の上面には、複数の吸着孔49aが設けられている。基板移動機構41は、そのステージ49上に載置された基板3をその複数の吸着孔49aによって真空吸着して保持する。また、基板移動機構41は、基板3を吸着保持するステージ49を水平面内で移動させ、上下方向に昇降させるとともにZ軸回りに回転させる機能を備える。基板移動機構41は、そのステージ49の移動および回転によって、吸着保持されている基板3の部品5が仮圧着された領域を、圧着機構42の圧着支持部の上方に位置させる。 The substrate moving mechanism 41 has the same structure as the substrate moving mechanism 21 of the sticking portion 20. Specifically, the substrate moving mechanism 41 has a stage 49. A plurality of suction holes 49a are provided on the upper surface of the stage 49. The substrate moving mechanism 41 vacuum-sucks and holds the substrate 3 mounted on the stage 49 by its plurality of suction holes 49a. Further, the substrate moving mechanism 41 has a function of moving the stage 49 that attracts and holds the substrate 3 in a horizontal plane, raises and lowers it in the vertical direction, and rotates it around the Z axis. The substrate moving mechanism 41 positions the region where the component 5 of the substrate 3 which is attracted and held is temporarily crimped by the movement and rotation of the stage 49 above the crimping support portion of the crimping mechanism 42.

圧着機構42は、加熱されたヘッドで基板3の部品5を圧着支持部側に押圧する。これにより、部品5は本圧着され、基板3に形成された電極部4と部品5とはACFを介して電気的に接続される。 The crimping mechanism 42 presses the component 5 of the substrate 3 toward the crimping support portion side with the heated head. As a result, the component 5 is finally crimped, and the electrode portion 4 formed on the substrate 3 and the component 5 are electrically connected via the ACF.

基板搬出部50は、本圧着部40から搬送された基板3をステージ51上に真空吸着して保持する機能を備える。基板搬出部50において保持された基板3は、下流側の他の装置に搬出されるか、作業者によってステージ51から取り出される。 The substrate carry-out portion 50 has a function of vacuum-sucking and holding the substrate 3 conveyed from the main crimping portion 40 on the stage 51. The substrate 3 held by the substrate carry-out unit 50 is carried out to another device on the downstream side, or is taken out from the stage 51 by an operator.

ステージ51は、基台1cに対してZ軸方向に昇降する。また、ステージ51の上面には、複数の吸着孔51aが設けられており、ステージ51は、本圧着部40から移送された基板3をその上面で真空吸着して保持する。 The stage 51 moves up and down in the Z-axis direction with respect to the base 1c. Further, a plurality of suction holes 51a are provided on the upper surface of the stage 51, and the stage 51 vacuum sucks and holds the substrate 3 transferred from the main crimping portion 40 on the upper surface thereof.

搬送部60は、基板3を搬送する装置である。具体的には、搬送部60は、基板搬入部10に搬入された基板3を、貼着部20、仮圧着部30、本圧着部40、および、基板搬出部50へこの順に受け渡す(移送する)機能を備える。搬送部60は、貼着部20、仮圧着部30、および本圧着部40の前方領域(すなわちY軸方向負側)に配置されている。 The transport unit 60 is a device that transports the substrate 3. Specifically, the transport unit 60 delivers the substrate 3 carried into the substrate carry-in portion 10 to the sticking portion 20, the temporary crimping portion 30, the main crimping portion 40, and the substrate carry-out portion 50 in this order (transfer). It has a function. The transport portion 60 is arranged in the front region (that is, the negative side in the Y-axis direction) of the sticking portion 20, the temporary crimping portion 30, and the main crimping portion 40.

搬送部60は、基台1a、基台1b、および、基台1cにわたってX軸方向に延びた移動ベース61上に、上流側から順に配置されている、基板搬送機構62A、基板搬送機構62B、基板搬送機構62C、および、基板搬送機構62Dを備えている。 The transfer unit 60 is arranged in order from the upstream side on the base 1a, the base 1b, and the moving base 61 extending in the X-axis direction over the base 1c. It includes a substrate transfer mechanism 62C and a substrate transfer mechanism 62D.

基板搬送機構62A〜62Dは、それぞれ基部63および1以上のアームユニット64を備える。本実施の形態では、基板搬送機構62A〜62Dがそれぞれ2基のアームユニット64を備える場合を例示している。 The substrate transport mechanisms 62A to 62D include a base 63 and one or more arm units 64, respectively. In this embodiment, the case where the substrate transport mechanisms 62A to 62D each include two arm units 64 is illustrated.

基部63は、移動ベース61上に設けられ、X軸方向に自在に移動する。基部63上には、2基のアームユニット64がX軸方向に並んで設けられている。アームユニット64は、基板3を上方から真空吸着する。 The base 63 is provided on the moving base 61 and freely moves in the X-axis direction. Two arm units 64 are provided side by side in the X-axis direction on the base portion 63. The arm unit 64 vacuum-sucks the substrate 3 from above.

基板搬送機構62A〜62Dのそれぞれは、ステージ11、23、37、49、51が保持する基板3を上方から真空吸着する基板受け渡し位置に移動して、昇降するステージ11、23、37、49、51から基板3の受け取り又は受け渡しを行う。例えば、基板搬送機構62Aは、基板搬入部10のステージ11に載置された基板3を受け取り、貼着部20のステージ23に受け渡す。また、例えば、基板搬送機構62Bは、貼着部20のステージ23から基板3を受け取り、仮圧着部30のステージ37に受け渡す。また、例えば、基板搬送機構62Cは、仮圧着部30のステージ37から基板3を受け取り、本圧着部40のステージ49に受け渡す。また、例えば、基板搬送機構62Dは、本圧着部40のステージ49から基板3を受け取り、基板搬出部50のステージ51に受け渡す。 Each of the substrate transport mechanisms 62A to 62D moves the substrate 3 held by the stages 11, 23, 37, 49, 51 to the substrate transfer position where the substrate 3 is vacuum-sucked from above, and moves up and down the stages 11, 23, 37, 49, respectively. Receive or deliver the substrate 3 from 51. For example, the substrate transfer mechanism 62A receives the substrate 3 mounted on the stage 11 of the substrate carry-in portion 10 and delivers it to the stage 23 of the attachment portion 20. Further, for example, the substrate transport mechanism 62B receives the substrate 3 from the stage 23 of the sticking portion 20 and delivers it to the stage 37 of the temporary crimping portion 30. Further, for example, the substrate transfer mechanism 62C receives the substrate 3 from the stage 37 of the temporary crimping portion 30 and delivers it to the stage 49 of the main crimping portion 40. Further, for example, the substrate transfer mechanism 62D receives the substrate 3 from the stage 49 of the main crimping portion 40 and delivers it to the stage 51 of the substrate carry-out portion 50.

図3は、部品実装ライン1に備えらえている、コンピュータと、そのコンピュータによって制御される各構成要素とを示す図である。 FIG. 3 is a diagram showing a computer provided in the component mounting line 1 and each component controlled by the computer.

部品実装ライン1は、図3に示すようにコンピュータ2を備える。このコンピュータ2は、例えば、貼着部20、仮圧着部30、本圧着部40、および搬送部60などと例えば制御線によって通信可能に接続され、これらの各部を制御する。コンピュータ2は、制御部2aと、記憶部2bとを備える。 The component mounting line 1 includes a computer 2 as shown in FIG. The computer 2 is communicably connected to, for example, a sticking portion 20, a temporary crimping portion 30, a main crimping portion 40, a transport portion 60, and the like by, for example, a control line, and controls each of these portions. The computer 2 includes a control unit 2a and a storage unit 2b.

記憶部2bは、基板3のサイズ、基板3に実装される部品5の種類、実装位置、実装方向、および、基板3を移送するタイミング等の部品実装作業に必要な各種データと、制御部2aが実行する制御プログラム等とを記憶する。記憶部2bは、ROM(Read Only Memory)またはRAM(Random Access Memory)等により実現される。 The storage unit 2b contains various data necessary for component mounting work such as the size of the board 3, the type of the component 5 mounted on the board 3, the mounting position, the mounting direction, and the timing of transferring the board 3, and the control unit 2a. Stores the control program etc. executed by. The storage unit 2b is realized by a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), or the like.

制御部2aは、貼着部20の基板移動機構21、仮圧着部30の基板移動機構31、本圧着部40の基板移動機構41、および搬送部60を制御して、基板3を各部間で次の工程へ移送する基板移送作業を実行する。基板移送作業における上流側から下流側への基板3の移送は、各部間で同期して行われる。 The control unit 2a controls the substrate moving mechanism 21 of the sticking portion 20, the substrate moving mechanism 31 of the temporary crimping portion 30, the substrate moving mechanism 41 of the main crimping portion 40, and the transporting portion 60, and transfers the substrate 3 between the respective parts. Execute the substrate transfer work to transfer to the next process. The transfer of the substrate 3 from the upstream side to the downstream side in the substrate transfer work is performed synchronously between the respective parts.

例えば、制御部2aは、貼着部20を制御することで、基板移動機構21によって保持される基板3の向きおよび位置を変更し、ヘッド移動モータによって複数の貼着ヘッドの間隔を変更し、貼着機構22によって基板3にACFを貼着する貼着作業を貼着部20に実行させる。 For example, the control unit 2a changes the orientation and position of the substrate 3 held by the substrate moving mechanism 21 by controlling the sticking unit 20, and changes the spacing between the plurality of sticking heads by the head moving motor. The sticking unit 20 is made to perform the sticking operation of sticking the ACF to the substrate 3 by the sticking mechanism 22.

また、例えば、制御部2aは、仮圧着部30を制御することで、基板移動機構31によって保持される基板3の向きおよび位置を変更し、部品5の基板3への仮圧着を部品搭載機構32に実行させる。また、制御部2aは、部品供給部33および部品移送部35aを制御することによって、基板3に仮圧着される部品5を部品搭載機構32側に移動させる。さらに、制御部2aは、清掃機構70を制御することによって、その清掃機構70に部品搭載機構32の下受け部36を清掃させる。 Further, for example, the control unit 2a changes the orientation and position of the substrate 3 held by the substrate moving mechanism 31 by controlling the temporary crimping portion 30, and temporarily crimps the component 5 to the substrate 3 by the component mounting mechanism. Let 32 execute. Further, the control unit 2a moves the component 5 temporarily crimped to the substrate 3 to the component mounting mechanism 32 side by controlling the component supply unit 33 and the component transfer unit 35a. Further, the control unit 2a controls the cleaning mechanism 70 to cause the cleaning mechanism 70 to clean the lower receiving portion 36 of the component mounting mechanism 32.

また、例えば、制御部2aは、本圧着部40を制御することで、基板移動機構41によって保持する基板3の向きおよび位置を変更し、基板3に仮圧着された部品5を圧着機構42に本圧着させる。 Further, for example, the control unit 2a changes the orientation and position of the substrate 3 held by the substrate moving mechanism 41 by controlling the main crimping portion 40, and the component 5 temporarily crimped to the substrate 3 is transferred to the crimping mechanism 42. This is crimped.

このような制御部2aは、例えば、部品実装ライン1が有する各部および各機構を制御するための、記憶部2bに記憶されている制御プログラムと、その制御プログラムを実行するCPU(Central Processing Unit)などのプロセッサとにより実現される。 Such a control unit 2a is, for example, a control program stored in the storage unit 2b for controlling each unit and each mechanism of the component mounting line 1, and a CPU (Central Processing Unit) that executes the control program. It is realized by such a processor.

[部品圧着装置の構成]
図4は、本実施の形態における部品圧着装置100の機能構成を示すブロック図である。
[Structure of parts crimping device]
FIG. 4 is a block diagram showing a functional configuration of the component crimping device 100 according to the present embodiment.

部品圧着装置100は、部品実装ライン1における仮圧着部30と、コンピュータ2の制御部2aとからなる。 The component crimping device 100 includes a temporary crimping portion 30 in the component mounting line 1 and a control unit 2a of the computer 2.

具体的には、部品圧着装置100は、制御部2aと、部品供給部33と、部品移送部35aと、清掃機構70と、圧着ツール34と、下受け部36と、ステージ37と、カメラ39とを備える。 Specifically, the component crimping device 100 includes a control unit 2a, a component supply unit 33, a component transfer unit 35a, a cleaning mechanism 70, a crimping tool 34, a lower receiving unit 36, a stage 37, and a camera 39. And.

制御部2aは、部品供給部33と、部品移送部35aと、清掃機構70と、圧着ツール34と、ステージ37と、カメラ39とを制御する。 The control unit 2a controls the component supply unit 33, the component transfer unit 35a, the cleaning mechanism 70, the crimping tool 34, the stage 37, and the camera 39.

カメラ39は、例えば制御部2aによる制御に基づいて、圧着ツール34に保持されている部品5を下側(すなわちZ軸方向負側)から撮影する。制御部2aは、このように撮影された部品5の画像に基づいて、その部品5が不良品か否かを判定する。 The camera 39 photographs the component 5 held by the crimping tool 34 from the lower side (that is, the negative side in the Z-axis direction), for example, based on the control by the control unit 2a. The control unit 2a determines whether or not the component 5 is a defective product based on the image of the component 5 photographed in this way.

清掃機構70は、清掃ツール71と、ツール移動機構72と、異物除去部73とを備える。清掃ツール71は、例えばブラシである。ツール移動機構72は、その清掃ツール71を移動させるための機構である。異物除去部73は、その清掃ツール71に付着している異物を除去する。例えば、異物除去部72は、吸引によってその異物を除去する。清掃機構70のツール移動機構72および異物除去部73は、制御部2aによる制御に基づいて、清掃ツール71を移動させて下受け部36を清掃し、その清掃によって清掃ツール71に付着した異物を除去する。例えば、制御部2aは、清掃機構70による清掃を定期的に実行させる。具体的には、制御部2aは、基板3が仮圧着部30に搬入されるごとに、その基板3が下受け部36に支持される前に、その下受け部36の清掃を清掃機構70に実行させる。または、制御部2aは、N枚(Nは2以上の整数)の基板3に対する部品5の仮圧着が完了するたびに、その清掃を清掃機構70に実行させてもよい。これにより、例えば、部品圧着装置100の稼働をわざわざ停止させて、下受け部36を手作業で清掃する手間を省くことができる。つまり、生産中に清掃を行うことができ、部品圧着装置100の連続稼働を可能にすることができる。 The cleaning mechanism 70 includes a cleaning tool 71, a tool moving mechanism 72, and a foreign matter removing unit 73. The cleaning tool 71 is, for example, a brush. The tool moving mechanism 72 is a mechanism for moving the cleaning tool 71. The foreign matter removing unit 73 removes foreign matter adhering to the cleaning tool 71. For example, the foreign matter removing unit 72 removes the foreign matter by suction. The tool moving mechanism 72 and the foreign matter removing unit 73 of the cleaning mechanism 70 move the cleaning tool 71 to clean the lower receiving portion 36 based on the control by the control unit 2a, and remove the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 by the cleaning. Remove. For example, the control unit 2a periodically executes cleaning by the cleaning mechanism 70. Specifically, the control unit 2a cleans the lower receiving portion 36 every time the substrate 3 is carried into the temporary crimping portion 30 before the substrate 3 is supported by the lower receiving portion 36. To execute. Alternatively, the control unit 2a may have the cleaning mechanism 70 perform cleaning of the component 5 each time the temporary crimping of the component 5 to the N sheets (N is an integer of 2 or more) is completed. As a result, for example, it is possible to save the trouble of manually stopping the operation of the component crimping device 100 and manually cleaning the lower receiving portion 36. That is, cleaning can be performed during production, and the component crimping device 100 can be continuously operated.

[清掃機構]
図5は、清掃機構70を具体的に示す図である。なお、図5の(a)は、清掃機構70および下受け部36を上から見た状態を示し、図5の(b)は、清掃機構70および下受け部36を手前側から見た状態を示す。
[Cleaning mechanism]
FIG. 5 is a diagram specifically showing the cleaning mechanism 70. Note that FIG. 5A shows a state in which the cleaning mechanism 70 and the lower receiving portion 36 are viewed from above, and FIG. 5B shows a state in which the cleaning mechanism 70 and the lower receiving portion 36 are viewed from the front side. Is shown.

上述のように、本実施の形態における清掃機構70は、清掃ツール71と、ツール移動機構72と、異物除去部73とを備える。 As described above, the cleaning mechanism 70 in the present embodiment includes a cleaning tool 71, a tool moving mechanism 72, and a foreign matter removing unit 73.

清掃ツール71は、下受け部36を清掃するためのツールであって、例えば図5の(a)および(b)に示すように円筒状のブラシである。 The cleaning tool 71 is a tool for cleaning the lower receiving portion 36, and is, for example, a cylindrical brush as shown in FIGS. 5A and 5B.

異物除去部73は、清掃ツール71に付着した異物を例えば吸引によって除去する。また、本実施の形態における異物除去部73は、それぞれ清掃ツール71に付着した異物を除去するための第1異物除去部73aと第2異物除去部73bとからなる。例えば、第1異物除去部73aと第2異物除去部73bは、それぞれ互いに同一の構成を有する。また、異物除去部73は、図5の(b)に示すように、下受け部36における支持面36a、すなわち、上述の圧着対象部位を支持する面よりも下方に配置されている。さらに、第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73aは、下受け部36の長手方向に沿って、その下受け部36を挟み込むように配置されている。つまり、第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73bは、下受け部36の長手方向の両端側にそれぞれ配置される。なお、本実施の形態では、下受け部36の長手方向はX軸方向である。 The foreign matter removing unit 73 removes foreign matter adhering to the cleaning tool 71 by, for example, suction. Further, the foreign matter removing portion 73 in the present embodiment includes a first foreign matter removing portion 73a and a second foreign matter removing portion 73b for removing foreign matter adhering to the cleaning tool 71, respectively. For example, the first foreign matter removing unit 73a and the second foreign matter removing unit 73b each have the same configuration. Further, as shown in FIG. 5B, the foreign matter removing portion 73 is arranged below the support surface 36a of the lower receiving portion 36, that is, the surface that supports the above-mentioned crimping target portion. Further, the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73a are arranged so as to sandwich the lower receiving portion 36 along the longitudinal direction of the lower receiving portion 36. That is, the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73b are arranged on both ends in the longitudinal direction of the lower receiving portion 36, respectively. In the present embodiment, the longitudinal direction of the lower receiving portion 36 is the X-axis direction.

ここで、第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73aのそれぞれのZ軸方向正側の面である上面には、吸引孔hが形成されている。このような第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73aのそれぞれは、例えば吸引ポンプと接続され、その吸引ポンプによってその吸引孔hから、その吸引孔hの開口周辺にある空気を吸引する。つまり、第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73aのそれぞれは、その吸引孔hの開口近傍に清掃ツール71が配置されたときには、その清掃ツール71に付着した異物を吸引することによって、その清掃ツール71から異物を除去する。 Here, a suction hole h is formed on the upper surface of each of the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73a on the positive side in the Z-axis direction. Each of the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73a is connected to, for example, a suction pump, and the suction pump sucks air from the suction hole h around the opening of the suction hole h. .. That is, each of the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73a sucks the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 when the cleaning tool 71 is arranged near the opening of the suction hole h. Removes foreign matter from the cleaning tool 71.

ツール移動機構72は、その清掃ツール71を移動させる機構であって、清掃動作と退避動作とを交互に行う。清掃動作は、清掃ツール71を下受け部36の支持面36aに擦らしながら、下受け部36の長手方向に沿って移動させる動作である。また、退避動作は、下受け部36の支持面36aよりも下方の位置であって、異物除去部73によって異物の除去が行われる位置である退避位置に清掃ツール71を退避させる動作である。ここで、退避位置は、第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73aのそれぞれの吸引孔hの開口近傍の位置である。 The tool moving mechanism 72 is a mechanism for moving the cleaning tool 71, and alternately performs a cleaning operation and a retracting operation. The cleaning operation is an operation of moving the cleaning tool 71 along the longitudinal direction of the lower receiving portion 36 while rubbing it against the support surface 36a of the lower receiving portion 36. Further, the retracting operation is an operation of retracting the cleaning tool 71 to a retracting position which is a position below the support surface 36a of the lower receiving portion 36 and is a position where the foreign matter is removed by the foreign matter removing portion 73. Here, the retracted position is a position near the opening of each suction hole h of the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73a.

具体的には、ツール移動機構72は、ツール駆動部72aと、ツール保持部72bとを備える。ツール保持部72bは、図5の(a)に示すように、例えば、Z軸方向正側から見て略L字状に形成されて、清掃ツール71をY軸方向に沿わせた状態で保持する。つまり、ツール保持部72bの一端側に、清掃ツール71の一端が固定されている。また、ツール保持部72bの他端側は、ツール移動機構72に移動自在に取り付けられている。 Specifically, the tool moving mechanism 72 includes a tool driving unit 72a and a tool holding unit 72b. As shown in FIG. 5A, the tool holding portion 72b is formed in a substantially L shape when viewed from the positive side in the Z-axis direction, and holds the cleaning tool 71 in a state of being along the Y-axis direction. do. That is, one end of the cleaning tool 71 is fixed to one end side of the tool holding portion 72b. Further, the other end side of the tool holding portion 72b is movably attached to the tool moving mechanism 72.

ツール駆動部72aは、例えばモータなどのアクチェータを備え、そのツール保持部72bをX軸方向およびZ軸方向に移動させる。つまり、ツール駆動部72aは、ツール保持部72bの上記他端側をX軸方向正側に引き出したり、逆に負側に引き込んだりする。また、ツール駆動部72aは、図5の(b)に示すように、ツール保持部bをZ軸方向正側に移動させてり、逆に負側に移動させたりする。このツール駆動部72aによるツール保持部72bの移動によって、清掃ツール71は、下受け部36の支持面36aに擦れながら、下受け部36の長手方向に沿って移動し、上述の退避位置に退避する。 The tool driving unit 72a includes an actuator such as a motor, and moves the tool holding unit 72b in the X-axis direction and the Z-axis direction. That is, the tool driving unit 72a pulls out the other end side of the tool holding unit 72b to the positive side in the X-axis direction, or conversely pulls it to the negative side. Further, as shown in FIG. 5B, the tool driving unit 72a moves the tool holding unit b to the positive side in the Z-axis direction, or conversely to the negative side. Due to the movement of the tool holding portion 72b by the tool driving portion 72a, the cleaning tool 71 moves along the longitudinal direction of the lower receiving portion 36 while rubbing against the support surface 36a of the lower receiving portion 36, and retracts to the above-mentioned retracted position. do.

図6は、第1異物除去部73aの構成を示す図である。なお、図6の(a)は、第1異物除去部73aを上方から見た状態を示し、図6の(b)は、第1異物除去部73aのXZ面における断面を示す。 FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the first foreign matter removing unit 73a. Note that FIG. 6A shows a state in which the first foreign matter removing portion 73a is viewed from above, and FIG. 6B shows a cross section of the first foreign matter removing portion 73a on the XZ plane.

第1異物除去部73aの上面には、略矩形の開口を有する凹部jが形成され、その凹部jの底面中央に上述の吸引孔hが形成されている。また、吸引孔hのZ軸方向正側の開口は、正側に向かうほど広く形成されている。例えば、清掃ツール71は、ツール移動機構72によって、その吸引孔hの開口近傍の位置である退避位置に配置される。つまり、清掃ツール71はその退避位置に退避する。このとき、退避位置にある清掃ツール71の毛先は、第1異物除去部73aに接触していてもよく、その第1異物除去部73aから離れていてもよい。 A recess j having a substantially rectangular opening is formed on the upper surface of the first foreign matter removing portion 73a, and the suction hole h described above is formed in the center of the bottom surface of the recess j. Further, the opening of the suction hole h on the positive side in the Z-axis direction is formed wider toward the positive side. For example, the cleaning tool 71 is arranged by the tool moving mechanism 72 at a retracted position, which is a position near the opening of the suction hole h. That is, the cleaning tool 71 retracts to the retracted position. At this time, the bristles of the cleaning tool 71 in the retracted position may be in contact with the first foreign matter removing portion 73a or may be separated from the first foreign matter removing portion 73a.

そして、第1異物除去部73aは、清掃ツール71がその退避位置に退避しているときに、その清掃ツール71に付着している異物を吸引によって除去する。 Then, when the cleaning tool 71 is retracted to the retracted position, the first foreign matter removing unit 73a removes the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 by suction.

第2異物除去部73bも、第1異物除去部73aと同様の構成を有する。そして、第2異物除去部73bは、その第2異物除去部73bの吸引孔hの開口近傍にある退避位置に清掃ツール71が退避しているときに、その清掃ツール71に付着している異物を吸引によって除去する。 The second foreign matter removing portion 73b also has the same configuration as the first foreign matter removing portion 73a. Then, when the cleaning tool 71 is retracted to a retracted position near the opening of the suction hole h of the second foreign matter removing portion 73b, the second foreign matter removing portion 73b is attached to the cleaning tool 71. Is removed by suction.

図7は、清掃ツール71が退避しているときに部品5の圧着が行われている状態を示す図である。なお、図7は、基板3、部品5、圧着ツール34、下受け部36、および清掃機構70を手前側から見た状態を示す。 FIG. 7 is a diagram showing a state in which the component 5 is crimped while the cleaning tool 71 is retracted. Note that FIG. 7 shows a state in which the substrate 3, the component 5, the crimping tool 34, the lower receiving portion 36, and the cleaning mechanism 70 are viewed from the front side.

圧着ツール34は、図7に示すように、清掃ツール71が退避位置に退避しているときに、下受け部36に支持されている基板3の圧着対象部位に部品5を圧着する。なお、退避位置は、第1異物除去部73a側の退避位置または第2異物除去部73b側の退避位置である。したがって、本実施の形態における部品圧着装置100では、部品5の基板3への圧着と、清掃ツール71の異物の除去とを並行して行うことができる。その結果、部品5の圧着作業の効率化を図ることができ、生産性をより向上することができる。また、ツール移動機構72は、図7に示すように、退避動作では、清掃ツール71を退避位置に退避させることによって、下受け部36に支持されている基板3と、退避位置に退避している清掃ツール71とを離間させる。例えば、基板3と清掃ツール71とは、上下方向、すなわち支持面36aに対して垂直な方向に離間される。したがって、本実施の形態における部品圧着装置100では、退避した清掃ツール71と基板3との干渉を抑えることができ、その干渉による作業の中断および製品の品質の低下を抑制することができる。 As shown in FIG. 7, the crimping tool 34 crimps the component 5 to the crimping target portion of the substrate 3 supported by the lower receiving portion 36 when the cleaning tool 71 is retracted to the retracted position. The evacuation position is the evacuation position on the first foreign matter removing portion 73a side or the evacuation position on the second foreign matter removing portion 73b side. Therefore, in the component crimping device 100 according to the present embodiment, the crimping of the component 5 to the substrate 3 and the removal of the foreign matter of the cleaning tool 71 can be performed in parallel. As a result, the efficiency of the crimping work of the component 5 can be improved, and the productivity can be further improved. Further, as shown in FIG. 7, in the retracting operation, the tool moving mechanism 72 retracts the cleaning tool 71 to the retracted position, thereby retracting the cleaning tool 71 to the substrate 3 supported by the lower receiving portion 36 and the retracted position. Separate from the cleaning tool 71. For example, the substrate 3 and the cleaning tool 71 are separated from each other in the vertical direction, that is, in the direction perpendicular to the support surface 36a. Therefore, in the component crimping device 100 of the present embodiment, it is possible to suppress the interference between the retracted cleaning tool 71 and the substrate 3, and it is possible to suppress the interruption of work and the deterioration of product quality due to the interference.

また、図7に示すように、本実施の形態では、異物除去部73、すなわち第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73bは、下受け部36の支持面36aよりも下方に配置されている。したがって、その下受け部36に支持される基板3と異物除去部73との干渉を抑えることができる。 Further, as shown in FIG. 7, in the present embodiment, the foreign matter removing portion 73, that is, the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73b are arranged below the support surface 36a of the lower receiving portion 36. ing. Therefore, it is possible to suppress the interference between the substrate 3 supported by the lower receiving portion 36 and the foreign matter removing portion 73.

図8は、本実施の形態における部品圧着装置100の処理動作を示すフローチャートである。 FIG. 8 is a flowchart showing a processing operation of the component crimping device 100 according to the present embodiment.

まず、清掃機構70のツール移動機構72は、清掃ツール71を退避位置から移動させて、その清掃ツール71で下受け部36の支持面36aを清掃する(ステップS11)。つまり、ツール移動機構72は、清掃ツール71を下受け部36の支持面36aに擦らしながら、下受け部36の長手方向に沿って移動させる清掃動作を行う。このような清掃動作が行われる工程は、清掃工程とも呼ばれる。 First, the tool moving mechanism 72 of the cleaning mechanism 70 moves the cleaning tool 71 from the retracted position, and the cleaning tool 71 cleans the support surface 36a of the lower receiving portion 36 (step S11). That is, the tool moving mechanism 72 performs a cleaning operation of moving the cleaning tool 71 along the longitudinal direction of the lower receiving portion 36 while rubbing the cleaning tool 71 against the support surface 36a of the lower receiving portion 36. The process in which such a cleaning operation is performed is also called a cleaning process.

次に、ツール移動機構72は、清掃ツール71を退避位置に移動させる(ステップS14)。つまり、ツール移動機構72は、下受け部36の支持面36aよりも下方の退避位置に清掃ツール71を退避させる退避動作を行う。このような退避動作が行われる工程は、退避工程とも呼ばれる。清掃ツール71が退避位置に退避すると、異物除去部73は、吸引を開始する。これにより、異物除去部73は、清掃ツール71に付着している異物を除去する(ステップS13)。つまり、ステップS13では、退避位置に退避された清掃ツール71に付着した異物を異物除去部73が除去する異物除去工程が行われる。 Next, the tool moving mechanism 72 moves the cleaning tool 71 to the retracted position (step S14). That is, the tool moving mechanism 72 performs a retracting operation of retracting the cleaning tool 71 to a retracted position below the support surface 36a of the lower receiving portion 36. The step in which such a retracting operation is performed is also called a retracting step. When the cleaning tool 71 retracts to the retracted position, the foreign matter removing unit 73 starts suction. As a result, the foreign matter removing unit 73 removes the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 (step S13). That is, in step S13, the foreign matter removing step of removing the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 retracted to the retracted position is performed by the foreign matter removing unit 73.

また、清掃ツール71が退避位置に退避して、異物除去部73によって清掃ツール71の異物が除去されているときには、上述の仮圧着工程が実行される。つまり、部品圧着装置100の制御部2aは、ステージ37を移動させることによって、そのステージ37に保持されている基板3の圧着対象部位を、下受け部36に下方から支持させる(ステップS14)。そして、圧着ツール34は、部品5を保持し、その部品5を基板3の圧着対象部位に圧着する(ステップS15)。部品5の圧着が完了すると、部品圧着装置100の制御部2aは、ステージ37を再び移動させることによって、下受け部36による基板3の支持を解除する(ステップS16)。つまり、その基板3は下受け部36から離れる。 Further, when the cleaning tool 71 is retracted to the retracted position and the foreign matter of the cleaning tool 71 is removed by the foreign matter removing unit 73, the above-mentioned temporary crimping step is executed. That is, the control unit 2a of the component crimping device 100 moves the stage 37 so that the crimp target portion of the substrate 3 held by the stage 37 is supported by the lower receiving portion 36 from below (step S14). Then, the crimping tool 34 holds the component 5 and crimps the component 5 to the crimp target portion of the substrate 3 (step S15). When the crimping of the component 5 is completed, the control unit 2a of the component crimping device 100 releases the support of the substrate 3 by the lower receiving portion 36 by moving the stage 37 again (step S16). That is, the substrate 3 is separated from the lower receiving portion 36.

そして、部品圧着装置100の制御部2aは、部品5を圧着すべき他の基板3があるか否かを判定する(ステップS17)。ここで、制御部2aは、他の基板3があると判定すると(ステップS17のYes)、ステップS11からの処理を繰り返し実行する。一方、制御部2aは、他の基板3がないと判定すると(ステップS17のNo)、部品圧着の処理を終了する。 Then, the control unit 2a of the component crimping device 100 determines whether or not there is another substrate 3 to which the component 5 is to be crimped (step S17). Here, when the control unit 2a determines that there is another substrate 3 (Yes in step S17), the control unit 2a repeatedly executes the process from step S11. On the other hand, when the control unit 2a determines that there is no other substrate 3 (No in step S17), the control unit 2a ends the component crimping process.

このように、本実施の形態における部品圧着装置100のクリーニング方法は、ステップS11の清掃工程と、ステップS12の退避工程と、ステップS13の異物除去工程とを含む。さらに、そのクリーニング方法では、清掃工程と、退避工程および異物除去工程とが交互に行われる。 As described above, the cleaning method of the component crimping device 100 in the present embodiment includes the cleaning step of step S11, the retracting step of step S12, and the foreign matter removing step of step S13. Further, in the cleaning method, the cleaning step, the evacuation step, and the foreign matter removing step are alternately performed.

これにより、清掃工程と、退避工程および異物除去工程とが別々に行われるため、退避工程および異物除去工程のときには、清掃ツール71を異物除去部73に近い退避位置に退避させて、その清掃ツール71に付着した異物を異物除去部73によって十分に除去することができる。 As a result, the cleaning step, the retracting step, and the foreign matter removing step are performed separately. Therefore, during the retracting step and the foreign matter removing step, the cleaning tool 71 is retracted to a retracting position close to the foreign matter removing portion 73, and the cleaning tool is retracted. The foreign matter adhering to the 71 can be sufficiently removed by the foreign matter removing unit 73.

図9Aおよび図9Bは、清掃機構70による下受け部36の清掃の一例を時系列に沿って示す図である。なお、図9Aおよび図9Bは、清掃機構70の清掃ツール71、第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73bと、下受け部36とを手前側から見た状態を示す。 9A and 9B are diagrams showing an example of cleaning the lower receiving portion 36 by the cleaning mechanism 70 in chronological order. 9A and 9B show a state in which the cleaning tool 71 of the cleaning mechanism 70, the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73b, and the lower receiving portion 36 are viewed from the front side.

まず、清掃ツール71は、図9Aの(a)に示すように、ツール移動機構72によって移動し、下受け部36の支持面36aにおけるX軸方向正側の端に配置される。そして、清掃ツール71は、図9Aの(b)に示すように、ツール移動機構72によってX軸方向の負側に向かって移動する。なお、このX軸方向の負側の向きは、以下、第1の向きとも呼ばれる。このとき、清掃ツール71は、清掃ツール71の毛先が支持面36aに擦れながら移動する。そして、清掃ツール71は、図9Aの(c)に示すように、下受け部36の支持面36aにおけるX軸方向負側の端に配置される。これにより、下受け部36の支持面36aの全体が第1の向きに一掃きされ、支持面36a上にある異物が吐き出される。しかし、その異物は清掃ツール71に付着している可能性がある。 First, as shown in FIG. 9A (a), the cleaning tool 71 is moved by the tool moving mechanism 72 and is arranged at the end on the support surface 36a of the lower receiving portion 36 on the positive side in the X-axis direction. Then, as shown in FIG. 9A (b), the cleaning tool 71 is moved toward the negative side in the X-axis direction by the tool moving mechanism 72. The negative direction in the X-axis direction is also hereinafter referred to as a first direction. At this time, the cleaning tool 71 moves while the bristles of the cleaning tool 71 rub against the support surface 36a. Then, as shown in FIG. 9A (c), the cleaning tool 71 is arranged at the end on the support surface 36a of the lower receiving portion 36 on the negative side in the X-axis direction. As a result, the entire support surface 36a of the lower receiving portion 36 is swept in the first direction, and foreign matter on the support surface 36a is discharged. However, the foreign matter may be attached to the cleaning tool 71.

そこで、清掃ツール71は、図9Aの(d)に示すように、ツール移動機構72によってZ軸方向負側(すなわち下側)に移動して、第1異物除去部73aの退避位置に退避する。このとき、第1異物除去部73aは、吸引を行うことによって、その清掃ツール71に付着している異物を除去する。つまり、異物は、清掃ツール71から取り除かれて、第1異物除去部73aの吸引孔hに吸い込まれる。また、清掃ツール71が退避位置に退避し、第1異物除去部73aによる清掃ツール71の異物の除去が行われているときには、基板3の圧着対象部位が下受け部36に支持され、圧着ツール34がその圧着対象部位に部品5を圧着する。 Therefore, as shown in FIG. 9A (d), the cleaning tool 71 is moved to the negative side (that is, the lower side) in the Z-axis direction by the tool moving mechanism 72, and is retracted to the retracted position of the first foreign matter removing portion 73a. .. At this time, the first foreign matter removing unit 73a removes the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 by performing suction. That is, the foreign matter is removed from the cleaning tool 71 and sucked into the suction hole h of the first foreign matter removing portion 73a. Further, when the cleaning tool 71 is retracted to the retracted position and the foreign matter of the cleaning tool 71 is removed by the first foreign matter removing portion 73a, the crimping target portion of the substrate 3 is supported by the lower receiving portion 36, and the crimping tool 34 crimps the component 5 to the crimping target portion.

そして、清掃ツール71の異物の除去が終了し、下受け部36に支持されていた基板3がその下受け部36から離れると、異物が除去された清掃ツール71は、図9Aの(e)に示すように、ツール移動機構72によってZ軸方向正側(すなわち上側)に移動する。 Then, when the removal of the foreign matter of the cleaning tool 71 is completed and the substrate 3 supported by the lower receiving portion 36 is separated from the lower receiving portion 36, the cleaning tool 71 from which the foreign matter has been removed is shown in FIG. 9A (e). As shown in, the tool moving mechanism 72 moves to the positive side (that is, the upper side) in the Z-axis direction.

次に、清掃ツール71は、第1の向きとは逆の向きに移動することによって、下受け部36を清掃する。つまり、清掃ツール71は、まず、図9Bの(a)に示すように、ツール移動機構72によって移動し、下受け部36の支持面36aにおけるX軸方向負側の端に配置される。そして、清掃ツール71は、図9Bの(b)に示すように、ツール移動機構72によってX軸方向の正側に向かって移動する。なお、このX軸方向の正側の向きは、以下、第2の向きとも呼ばれる。このとき、清掃ツール71は、清掃ツール71の毛先が支持面36aに擦れながら移動する。そして、清掃ツール71は、図9Bの(c)に示すように、下受け部36の支持面36aにおけるX軸方向正側の端に配置される。これにより、下受け部36の支持面36aの全体が第2の向きに一掃きされ、支持面36a上にある異物が吐き出される。しかし、その異物は清掃ツール71に付着している可能性がある。 Next, the cleaning tool 71 cleans the lower receiving portion 36 by moving in the direction opposite to the first direction. That is, the cleaning tool 71 is first moved by the tool moving mechanism 72 as shown in FIG. 9B (a), and is arranged at the end on the support surface 36a of the lower receiving portion 36 on the negative side in the X-axis direction. Then, as shown in FIG. 9B (b), the cleaning tool 71 is moved toward the positive side in the X-axis direction by the tool moving mechanism 72. The positive direction in the X-axis direction is also hereinafter referred to as a second direction. At this time, the cleaning tool 71 moves while the bristles of the cleaning tool 71 rub against the support surface 36a. Then, as shown in FIG. 9B (c), the cleaning tool 71 is arranged at the end on the support surface 36a of the lower receiving portion 36 on the positive side in the X-axis direction. As a result, the entire support surface 36a of the lower receiving portion 36 is swept in the second direction, and the foreign matter on the support surface 36a is discharged. However, the foreign matter may be attached to the cleaning tool 71.

そこで、清掃ツール71は、図9Bの(d)に示すように、ツール移動機構72によってZ軸方向負側(すなわち下側)に移動して、第2異物除去部73bの退避位置に退避する。このとき、第2異物除去部73bは、吸引を行うことによって、その清掃ツール71に付着している異物を除去する。つまり、異物は、清掃ツール71から取り除かれて、第2異物除去部73bの吸引孔hに吸い込まれる。また、清掃ツール71が退避位置に退避し、第2異物除去部73bによる清掃ツール71の異物の除去が行われているときには、基板3の圧着対象部位が下受け部36に支持され、圧着ツール34がその圧着対象部位に部品5を圧着する。 Therefore, as shown in FIG. 9B (d), the cleaning tool 71 is moved to the negative side (that is, the lower side) in the Z-axis direction by the tool moving mechanism 72, and is retracted to the retracted position of the second foreign matter removing portion 73b. .. At this time, the second foreign matter removing unit 73b removes the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 by performing suction. That is, the foreign matter is removed from the cleaning tool 71 and sucked into the suction hole h of the second foreign matter removing portion 73b. Further, when the cleaning tool 71 is retracted to the retracted position and the foreign matter of the cleaning tool 71 is removed by the second foreign matter removing portion 73b, the crimping target portion of the substrate 3 is supported by the lower receiving portion 36, and the crimping tool 34 crimps the component 5 to the crimping target portion.

そして、清掃ツール71の異物の除去が終了し、下受け部36に支持されていた基板3がその下受け部36から離れると、異物が除去された清掃ツール71は、図9Bの(e)に示すように、ツール移動機構72によってZ軸方向正側(すなわち上側)に移動する。 Then, when the removal of the foreign matter of the cleaning tool 71 is completed and the substrate 3 supported by the lower receiving portion 36 is separated from the lower receiving portion 36, the cleaning tool 71 from which the foreign matter has been removed is shown in FIG. 9B (e). As shown in, the tool moving mechanism 72 moves to the positive side (that is, the upper side) in the Z-axis direction.

このように、本実施の形態では、第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73bは、下受け部36の長手方向の両端側にそれぞれ配置されている。これにより、清掃動作において、清掃ツール71が下受け部36のX軸方向正側の端から負側の端に移動したときには、その負側の端には、第1異物除去部73aが配置されている。したがって、清掃ツール71を正側の端に戻すことなく、その清掃ツール71の異物の除去を行うことができる。逆に、清掃ツール71が下受け部36のX軸方向負側の端から正側の端に移動するときも、上述と同様に、清掃ツール71を負側の端に戻すことなく、その清掃ツール71の異物の除去を行うことができる。つまり、清掃ツール71を下受け部36の長手方向(すなわちX軸方向)に沿って往復させることなく、その清掃ツール71に付着した異物を除去することができる。その結果、スループットの向上を図ることができる。 As described above, in the present embodiment, the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73b are arranged on both ends in the longitudinal direction of the lower receiving portion 36, respectively. As a result, when the cleaning tool 71 moves from the positive end to the negative end of the lower receiving portion 36 in the X-axis direction in the cleaning operation, the first foreign matter removing portion 73a is arranged at the negative end. ing. Therefore, foreign matter can be removed from the cleaning tool 71 without returning the cleaning tool 71 to the positive end. On the contrary, when the cleaning tool 71 moves from the negative end in the X-axis direction of the lower receiving portion 36 to the positive end, the cleaning tool 71 is cleaned without returning the cleaning tool 71 to the negative end as described above. The foreign matter of the tool 71 can be removed. That is, foreign matter adhering to the cleaning tool 71 can be removed without reciprocating the cleaning tool 71 along the longitudinal direction (that is, the X-axis direction) of the lower receiving portion 36. As a result, the throughput can be improved.

図10は、第1異物除去部73aによる異物の除去を示す図である。なお、図10は、清掃ツール71を手前側から見た状態を示すと共に、第1異物除去部73aのXZ平面における断面を示す。 FIG. 10 is a diagram showing the removal of foreign matter by the first foreign matter removing unit 73a. Note that FIG. 10 shows a state in which the cleaning tool 71 is viewed from the front side, and also shows a cross section of the first foreign matter removing portion 73a in the XZ plane.

例えば、第1異物除去部73aは、図10の(a)に示すように、清掃ツール71に付着している異物を吸引によって除去する。また、このとき、ツール移動機構72は、図10の(b)に示すように、清掃ツール71をX軸方向に振動させてもよい。これにより、清掃ツール71に付着した異物をより効果的に除去することができる。逆に、第1異物除去部73aがX軸方向に移動自在に保持されている場合には、図10の(c)に示すように、第1異物除去部73aがX軸方向に振動してもよい。これにより、図10の(b)に示す例と同様に、清掃ツール71に付着した異物をより効果的に除去することができる。 For example, as shown in FIG. 10A, the first foreign matter removing unit 73a removes the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 by suction. At this time, the tool moving mechanism 72 may vibrate the cleaning tool 71 in the X-axis direction as shown in FIG. 10B. As a result, foreign matter adhering to the cleaning tool 71 can be removed more effectively. On the contrary, when the first foreign matter removing portion 73a is held so as to be movable in the X-axis direction, the first foreign matter removing portion 73a vibrates in the X-axis direction as shown in FIG. 10 (c). May be good. Thereby, as in the example shown in FIG. 10B, the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 can be removed more effectively.

なお、図10に示す例では、清掃ツール71および第1異物除去部73aのうちの何れか一方が振動するが、両方が振動してもよい。また、清掃ツール71および第1異物除去部73aのそれぞれの振動の方向は、X軸方向に限定されず、Y軸方向であってもよく、Z軸方向であってもよい。また、2つ以上の方向に振動が行われてもよい。また、図10の(a)に示す例の場合、清掃ツール71は、Y軸方向に沿う中心軸を回転軸にして回転してもよい。これにより、清掃ツール71に付着した異物をさらに効果的に除去することができる。 In the example shown in FIG. 10, either one of the cleaning tool 71 and the first foreign matter removing portion 73a vibrates, but both may vibrate. Further, the vibration directions of the cleaning tool 71 and the first foreign matter removing portion 73a are not limited to the X-axis direction, and may be the Y-axis direction or the Z-axis direction. Further, vibration may be performed in two or more directions. Further, in the case of the example shown in FIG. 10A, the cleaning tool 71 may rotate with the central axis along the Y-axis direction as the rotation axis. As a result, foreign matter adhering to the cleaning tool 71 can be removed more effectively.

図11は、本実施の形態における清掃ツール71の形状および他の清掃ツールの形状の例を示す図である。なお、図11は、清掃ツール71および他の清掃ツールを手前側から見た状態を示す。 FIG. 11 is a diagram showing an example of the shape of the cleaning tool 71 and the shape of another cleaning tool according to the present embodiment. Note that FIG. 11 shows a state in which the cleaning tool 71 and other cleaning tools are viewed from the front side.

清掃ツール71は、図11の(a)に示すように、XZ平面において中心から複数の毛が放射状に延びるような形状を有する。しかし、部品圧着装置100は、清掃ツール71の代わりに、図11の(b)に示す清掃ツール71aを備えていてもよい。この清掃ツール71aは、Z軸方向下向きに延びる複数の毛を有し、Z軸方向上向きに延びる毛、およびX軸方向に延びる毛を有していない。また、部品圧着装置100は、清掃ツール71の代わりに、図11の(c)に示す清掃ツール71bを備えていてもよい。この清掃ツール71bは、図11の(a)に示す清掃ツール71のZ軸方向下半分の形状を有する。XZ平面において、X軸方向正側の向きを0°とし、その正側の向きから時計回りに増加する角度を規定する場合、清掃ツール71bは、中心から0°〜180°の範囲の向きに延びる複数の毛を有する。 As shown in FIG. 11A, the cleaning tool 71 has a shape in which a plurality of hairs radiate from the center in the XZ plane. However, the component crimping device 100 may include the cleaning tool 71a shown in FIG. 11B instead of the cleaning tool 71. The cleaning tool 71a has a plurality of hairs extending downward in the Z-axis direction, and does not have hairs extending upward in the Z-axis direction and hairs extending in the X-axis direction. Further, the component crimping device 100 may include the cleaning tool 71b shown in FIG. 11 (c) instead of the cleaning tool 71. The cleaning tool 71b has the shape of the lower half of the cleaning tool 71 shown in FIG. 11 (a) in the Z-axis direction. In the XZ plane, when the positive direction in the X-axis direction is 0 ° and the angle increasing clockwise from the positive direction is specified, the cleaning tool 71b is oriented in the range of 0 ° to 180 ° from the center. Has multiple hairs that extend.

清掃ツール71の代わりに、清掃ツール71aまたは清掃ツール71bを用いても、上述と同様の作用効果を奏することができる。 Even if the cleaning tool 71a or the cleaning tool 71b is used instead of the cleaning tool 71, the same effects as described above can be obtained.

以上のように、本実施の形態における部品圧着装置100は、清掃ツール71と、異物除去部73と、ツール移動機構72とを備える。そして、ツール移動機構72は、清掃ツール71を下受け部36の支持面36aに擦らしながら、下受け部36の長手方向に沿って移動させる清掃動作と、下受け部36の支持面36aよりも下方の位置であって、異物除去部73によって異物の除去が行われる位置である退避位置に清掃ツール71を退避させる退避動作とを交互に行う。 As described above, the component crimping device 100 according to the present embodiment includes a cleaning tool 71, a foreign matter removing portion 73, and a tool moving mechanism 72. Then, the tool moving mechanism 72 moves the cleaning tool 71 along the longitudinal direction of the lower receiving portion 36 while rubbing against the supporting surface 36a of the lower receiving portion 36, and from the supporting surface 36a of the lower receiving portion 36. The cleaning tool 71 is retracted to the retracted position, which is the lower position where the foreign matter is removed by the foreign matter removing unit 73, and the retracting operation is alternately performed.

これにより、清掃動作と退避動作とが別々に行われるため、退避動作のときには、清掃ツール71を異物除去部73に近い退避位置に退避させて、その清掃ツール71に付着した異物を異物除去部73によって十分に除去することができる。その結果、清掃ツール71に付着した異物が下受け部36に再び付着することを抑えることができる。したがって、下受け部36の清掃と、清掃ツール71に付着した異物の除去とを効果的に行うことができる。その結果、液晶パネルなどの基板3に部品5を圧着することによって生産される製品の品質の低下を十分に抑えることができる。つまり、歩留まりを向上することができ、生産性を向上することができる。 As a result, the cleaning operation and the evacuation operation are performed separately. Therefore, during the evacuation operation, the cleaning tool 71 is retracted to a retracting position close to the foreign matter removing unit 73, and the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 is removed from the foreign matter removing unit. It can be sufficiently removed by 73. As a result, it is possible to prevent foreign matter adhering to the cleaning tool 71 from adhering to the lower receiving portion 36 again. Therefore, it is possible to effectively clean the lower receiving portion 36 and remove the foreign matter adhering to the cleaning tool 71. As a result, deterioration of the quality of the product produced by crimping the component 5 to the substrate 3 such as the liquid crystal panel can be sufficiently suppressed. That is, the yield can be improved and the productivity can be improved.

(変形例)
上記実施の形態では、仮圧着部30の部品供給部33は、TCPなどの帯状部品収納体から部品5を打ち抜いて供給するが、トレイに載置されている部品5を供給してもよい。
(Modification example)
In the above embodiment, the component supply section 33 of the temporary crimping section 30 punches and supplies the component 5 from the strip-shaped component housing such as TCP, but the component 5 mounted on the tray may be supplied.

図12は、本変形例に係る部品実装ライン1の平面図である。具体的には、図12は、部品実装ライン1を上方から見た構成を示す。 FIG. 12 is a plan view of the component mounting line 1 according to this modification. Specifically, FIG. 12 shows a configuration in which the component mounting line 1 is viewed from above.

本変形例に係る部品実装ライン1は、上記実施の形態と同様、基板搬入部10、貼着部20、本圧着部40、基板搬出部50、および搬送部60を備え、さらに、仮圧着部30の代わりに仮圧着部30Aを備える。つまり、本変形例に係る部品圧着装置100は、仮圧着部30Aと、コンピュータ2の制御部2aとから構成される。 Similar to the above embodiment, the component mounting line 1 according to this modification includes a board loading section 10, a sticking section 20, a main crimping section 40, a board unloading section 50, and a transport section 60, and further, a temporary crimping section. A temporary crimping portion 30A is provided instead of the 30. That is, the component crimping device 100 according to this modification is composed of a temporary crimping portion 30A and a control portion 2a of the computer 2.

仮圧着部30Aは、上記実施の形態の部品供給部33の代わりに、部品供給部33Hを備える。 The temporary crimping unit 30A includes a component supply unit 33H instead of the component supply unit 33 of the above embodiment.

部品供給部33Hには、2つのトレイセットがX軸方向に沿って配置される。トレイセットは、複数のトレイ7からなり、これらのトレイ7はZ軸方向に沿って段積みされている。また、これらのトレイ7には、複数の部品5が例えばマトリクス状に載置されている。部品供給部33Hは、トレイ7ごと複数の部品5を供給する。 Two tray sets are arranged along the X-axis direction in the component supply unit 33H. The tray set is composed of a plurality of trays 7, and these trays 7 are stacked along the Z-axis direction. Further, a plurality of parts 5 are placed on these trays 7 in a matrix, for example. The component supply unit 33H supplies a plurality of components 5 together with the tray 7.

本変形例における部品移送部35aは、部品供給部33Hから供給される、複数の部品5が載置されているトレイ7をY軸方向負側に移動させる。 The component transfer unit 35a in this modification moves the tray 7 on which the plurality of components 5 are placed, which is supplied from the component supply unit 33H, to the negative side in the Y-axis direction.

また、本変形例における部品搭載機構32は、圧着ツール34と、部品移動機構35と、下受け部36とを備える。部品移動機構35は、圧着ツール34をX軸方向およびY軸方向に移動させる。したがって、圧着ツール34は、部品移動機構35によってX軸方向およびY軸方向に移動し、トレイ7に載置されている圧着対象の部品5の上で停止する。その後、圧着ツール34は、降下してその圧着対象の部品5を吸着して保持しながら上昇する。そして、圧着ツール34は、部品移動機構35によってX軸方向およびY軸方向に移動し、下受け部36の上で停止する。圧着ツール34は、降下して、下受け部36に支持されている基板3の圧着対象部位にその部品5を圧着する。 Further, the component mounting mechanism 32 in this modification includes a crimping tool 34, a component moving mechanism 35, and a lower receiving portion 36. The component moving mechanism 35 moves the crimping tool 34 in the X-axis direction and the Y-axis direction. Therefore, the crimping tool 34 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction by the component moving mechanism 35, and stops on the component 5 to be crimped mounted on the tray 7. After that, the crimping tool 34 descends and rises while sucking and holding the part 5 to be crimped. Then, the crimping tool 34 moves in the X-axis direction and the Y-axis direction by the component moving mechanism 35, and stops on the lower receiving portion 36. The crimping tool 34 descends and crimps the component 5 to the crimping target portion of the substrate 3 supported by the lower receiving portion 36.

このような本変形例に係る部品圧着装置100でも、上記実施の形態と同様の清掃機構70を備える。これにより、上記実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。 The component crimping device 100 according to the present modification also includes a cleaning mechanism 70 similar to that of the above embodiment. Thereby, the same action and effect as those of the above-described embodiment can be obtained.

(その他の変形例)
以上、一つまたは複数の態様に係る部品圧着装置について、上記実施の形態およびその変形例に基づいて説明したが、本開示は、この実施の形態および変形例に限定されるものではない。本開示の趣旨を逸脱しない限り、当業者が思いつく各種変形を上記実施の形態およびその変形例に施したものや、上記実施の形態およびその変形例における構成要素を組み合わせて構築される形態も、本開示の範囲内に含まれてもよい。
(Other variants)
The component crimping device according to one or more aspects has been described above based on the above-described embodiment and its modification, but the present disclosure is not limited to this embodiment and the modification. As long as the gist of the present disclosure is not deviated, various modifications that can be conceived by those skilled in the art are applied to the above-described embodiment and its modified examples, and a form constructed by combining the components of the above-described embodiment and its modified examples is also available. It may be included within the scope of the present disclosure.

例えば、上記実施の形態およびその変形例では、基板3は液晶パネルであって、その液晶パネルに部品5が仮圧着および本圧着されるが、基板3は液晶パネル以外の基板であってもよい。 For example, in the above embodiment and its modification, the substrate 3 is a liquid crystal panel, and the component 5 is temporarily crimped and main crimped to the liquid crystal panel, but the substrate 3 may be a substrate other than the liquid crystal panel. ..

また、上記実施の形態およびその変形例では、清掃機構70の清掃ツール71の移動方向はX軸方向であるが、他の方向であってもよい。 Further, in the above-described embodiment and its modification, the moving direction of the cleaning tool 71 of the cleaning mechanism 70 is the X-axis direction, but it may be in another direction.

また、上記実施の形態およびその変形例では、清掃機構70の清掃ツール71はブラシであるが、布であってもよい。また、清掃ツール71は、回転ブラシであってもよい。すなわち、上記実施の形態およびその変形例では、清掃ツール71は、X軸方向に沿う移動によって下受け部36を清掃するが、回転しながら移動してもよい。例えば、清掃ツール71は、Y軸方向に沿う中心軸を回転軸にして回転する。 Further, in the above-described embodiment and its modification, the cleaning tool 71 of the cleaning mechanism 70 is a brush, but may be a cloth. Further, the cleaning tool 71 may be a rotating brush. That is, in the above-described embodiment and its modification, the cleaning tool 71 cleans the lower receiving portion 36 by moving along the X-axis direction, but may move while rotating. For example, the cleaning tool 71 rotates with the central axis along the Y-axis direction as the rotation axis.

また、上記実施の形態およびその変形例では、基板3の圧着対象部位が下受け部36に支持されていないときに、清掃ツール71がその下受け部36の長手方向に沿って第1の向きまたは第2の向きに移動する。つまり、清掃ツール71は下受け部36の支持面36aを一掃きする。しかし、清掃ツール71は、基板3の圧着対象部位が下受け部36に支持されていないときには、一掃きだけなく、2回以上その支持面36aを掃いてもよい。例えば、下受け部36の支持面36aに付着した異物が取れ難いときには、清掃ツール71は、第1の方向への移動と第2の方向への移動とを繰り返し行ってもよい。この場合には、一掃きごとに、その清掃ツール71に付着した異物が異物除去部73によって除去されてもよい。または、清掃ツール71による2回以上の掃く動作が連続して行われるごとに、その清掃ツール71に付着した異物が異物除去部73によって除去されてもよい。つまり、清掃ツール71が下受け部26の長手方向に沿って1往復するごとに、または2回以上往復するごとに、その清掃ツール71に付着した異物が異物除去部73によって除去されてもよい。また、下受け部36の汚れ度合いなどに応じて、その往復の回数を可変にしてもよい。 Further, in the above-described embodiment and its modification, when the crimping target portion of the substrate 3 is not supported by the lower receiving portion 36, the cleaning tool 71 is oriented in the first direction along the longitudinal direction of the lower receiving portion 36. Or move in the second direction. That is, the cleaning tool 71 wipes out the support surface 36a of the lower receiving portion 36. However, when the crimping target portion of the substrate 3 is not supported by the lower receiving portion 36, the cleaning tool 71 may sweep the support surface 36a twice or more as well as sweeping. For example, when it is difficult to remove the foreign matter adhering to the support surface 36a of the lower receiving portion 36, the cleaning tool 71 may repeatedly move in the first direction and the second direction. In this case, the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 may be removed by the foreign matter removing unit 73 for each sweep. Alternatively, the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 may be removed by the foreign matter removing unit 73 each time the cleaning tool 71 performs two or more sweeping operations in succession. That is, every time the cleaning tool 71 reciprocates once or twice or more along the longitudinal direction of the lower receiving portion 26, the foreign matter adhering to the cleaning tool 71 may be removed by the foreign matter removing portion 73. .. Further, the number of round trips may be changed according to the degree of dirtiness of the lower receiving portion 36 and the like.

また、上記実施の形態および変形例では、圧着対象部位は、ACFが貼着されている部位であるが、ACFが貼着されていない部位であってもよい。 Further, in the above-described embodiment and modification, the crimping target portion is a portion to which the ACF is attached, but may be a portion to which the ACF is not attached.

また、上記実施の形態および変形例では、清掃機構70は、仮圧着部30に備えられているが、本圧着部40に備えられていてもよく、貼着部20に備えられていてもよい。 Further, in the above-described embodiment and modification, the cleaning mechanism 70 is provided in the temporary crimping portion 30, but may be provided in the main crimping portion 40 or in the sticking portion 20. ..

また、上記実施の形態および変形例では、異物除去部73は、第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73bからなるが、第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73bのうちの何れか1つのみから構成されていてもよい。また、第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73bは、下受け部36の長手方向に沿って、その下受け部36を挟むように配置されているが、他の位置に配置されていてもよい。例えば、第1異物除去部73aおよび第2異物除去部73bのうちの少なくとも1つは、下受け部36からY軸方向にずれて配置されていてもよい。 Further, in the above-described embodiment and modification, the foreign matter removing portion 73 includes a first foreign matter removing portion 73a and a second foreign matter removing portion 73b, and is among the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73b. It may be composed of only one of them. Further, the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73b are arranged along the longitudinal direction of the lower receiving portion 36 so as to sandwich the lower receiving portion 36, but are arranged at other positions. You may. For example, at least one of the first foreign matter removing portion 73a and the second foreign matter removing portion 73b may be arranged so as to be displaced from the lower receiving portion 36 in the Y-axis direction.

なお、上記実施の形態および変形例における清掃ツール71に保持される毛は、樹脂成形品であっても、繊維であっても、針金であってもよい。 The hair held by the cleaning tool 71 in the above-described embodiment and modified example may be a resin molded product, a fiber, or a wire.

また、上記実施の形態およびその変形例では、コンピュータ2の構成要素の全部又は一部は、専用のハードウェアで構成されてもよく、或いは、各構成要素に適したソフトウェアプログラムを実行することによって実現されてもよい。各構成要素は、CPU(Central Processing Unit)またはプロセッサ等のプログラム実行部が、HDD(Hard Disk Drive)又は半導体メモリ等の記録媒体に記録されたソフトウェアプログラムを読み出して実行することによって実現されてもよい。例えば、プログラム実行部は、図8に示す各ステップを仮圧着部30に実行させる。 Further, in the above-described embodiment and its modification, all or a part of the components of the computer 2 may be configured by dedicated hardware, or by executing a software program suitable for each component. It may be realized. Each component may be realized by a program execution unit such as a CPU (Central Processing Unit) or a processor reading and executing a software program recorded on a recording medium such as an HDD (Hard Disk Drive) or a semiconductor memory. good. For example, the program execution unit causes the temporary crimping unit 30 to execute each step shown in FIG.

また、コンピュータ2の構成要素は、1つ又は複数の電子回路で構成されてもよい。1つ又は複数の電子回路は、それぞれ、汎用的な回路でもよいし、専用の回路でもよい。1つ又は複数の電子回路には、例えば、半導体装置、IC(Integrated Circuit)又はLSI(Large Scale Integration)等が含まれてもよい。IC又はLSIは、1つのチップに集積されてもよく、複数のチップに集積されてもよい。ここでは、IC又はLSIと呼んでいるが、集積の度合いによって呼び方が変わり、システムLSI、VLSI(Very Large Scale Integration)、又は、ULSI(Ultra Large Scale Integration)と呼ばれるかもしれない。また、LSIの製造後にプログラムされるFPGA(Field Programmable Gate Array)も同じ目的で使うことができる。 Further, the component of the computer 2 may be composed of one or a plurality of electronic circuits. The one or more electronic circuits may be general-purpose circuits or dedicated circuits, respectively. The one or more electronic circuits may include, for example, a semiconductor device, an IC (Integrated Circuit), an LSI (Large Scale Integration), or the like. The IC or LSI may be integrated on one chip or may be integrated on a plurality of chips. Here, it is called IC or LSI, but the name changes depending on the degree of integration, and it may be called system LSI, VLSI (Very Large Scale Integration), or ULSI (Ultra Large Scale Integration). An FPGA (Field Programmable Gate Array) programmed after the LSI is manufactured can also be used for the same purpose.

本開示は、例えば液晶ディスプレイを生産する部品実装ライン等が有する部品圧着装置に利用可能である。 The present disclosure can be used, for example, in a component crimping device included in a component mounting line for producing a liquid crystal display.

1 部品実装ライン
1a、1b、1c 基台
2 コンピュータ
2a 制御部
2b 記憶部
3 基板
4 電極部
5 部品
10 基板搬入部
11、23、37、49、51 ステージ
20 貼着部
21、31、41 基板移動機構
22 貼着機構
30 仮圧着部
32 部品搭載機構
33 部品供給部
34 圧着ツール
35a 部品移送部
36 下受け部
40 本圧着部
42 圧着機構
50 基板搬出部
70 清掃機構
71 清掃ツール
72 ツール移動機構
72a ツール駆動部
72b ツール保持部
73 異物除去部
73a 第1異物除去部
73b 第2異物除去部
100 部品圧着装置
1 Parts mounting line 1a, 1b, 1c Base 2 Computer 2a Control part 2b Storage part 3 Board 4 Electrode part 5 Parts 10 Board carry-in part 11, 23, 37, 49, 51 Stage 20 Adhesion part 21, 31, 41 Board Moving mechanism 22 Adhesive mechanism 30 Temporary crimping part 32 Parts mounting mechanism 33 Parts supply part 34 Crimping tool 35a Parts transfer part 36 Under receiving part 40 Crimping part 42 Crimping mechanism 50 Board carrying part 70 Cleaning mechanism 71 Cleaning tool 72 Tool moving mechanism 72a Tool drive unit 72b Tool holding unit 73 Foreign matter removal unit 73a First foreign matter removal unit 73b Second foreign matter removal unit 100 Parts crimping device

Claims (5)

基板における予め定められた部位である圧着対象部位を下方から支持する長尺状の下受け部と、
前記下受け部によって支持されている前記圧着対象部位に部品を圧着する圧着ツールと、
前記下受け部を清掃するための清掃ツールと、
前記清掃ツールに付着した異物を除去するための異物除去部と、
前記清掃ツールを移動させるツール移動機構とを備え、
前記異物除去部は、前記下受け部における前記圧着対象部位を支持する支持面よりも下方に配置され、
前記ツール移動機構は、
前記清掃ツールを前記下受け部の前記支持面に擦らしながら、前記下受け部の長手方向に沿って移動させる清掃動作と、前記下受け部の前記支持面よりも下方の位置であって、前記異物除去部によって前記異物の除去が行われる位置である退避位置に前記清掃ツールを退避させる退避動作とを交互に行う、
部品圧着装置。
A long underlaying part that supports the crimping target part, which is a predetermined part of the substrate, from below, and
A crimping tool that crimps a part to the crimping target portion supported by the lower receiving portion,
A cleaning tool for cleaning the lower receiving part and
A foreign matter removing part for removing foreign matter adhering to the cleaning tool,
A tool moving mechanism for moving the cleaning tool is provided.
The foreign matter removing portion is arranged below the support surface that supports the crimping target portion in the lower receiving portion.
The tool movement mechanism is
A cleaning operation in which the cleaning tool is moved along the longitudinal direction of the lower receiving portion while rubbing against the supporting surface of the lower receiving portion, and a position below the supporting surface of the lower receiving portion. The evacuation operation of retracting the cleaning tool to the evacuation position, which is the position where the foreign matter is removed by the foreign matter removing unit, is alternately performed.
Parts crimping device.
前記ツール移動機構は、
前記退避動作では、前記清掃ツールを前記退避位置に退避させることによって、前記下受け部に支持されている前記基板と、前記退避位置に退避している前記清掃ツールとを離間させる、
請求項1に記載の部品圧着装置。
The tool movement mechanism is
In the retracting operation, the cleaning tool is retracted to the retracted position, so that the substrate supported by the lower receiving portion and the cleaning tool retracted to the retracted position are separated from each other.
The component crimping device according to claim 1.
前記圧着ツールは、前記清掃ツールが前記退避位置に退避しているときに、前記下受け部に支持されている前記基板の前記圧着対象部位に前記部品を圧着する、
請求項1または2に記載の部品圧着装置。
The crimping tool crimps the component to the crimping target portion of the substrate supported by the lower receiving portion when the cleaning tool is retracted to the retracted position.
The component crimping device according to claim 1 or 2.
前記異物除去部は、それぞれ前記清掃ツールに付着した異物を除去するための第1異物除去部と第2異物除去部とからなり、
前記第1異物除去部および前記第2異物除去部は、前記下受け部の長手方向の両端側にそれぞれ配置される、
請求項1〜3の何れか1項に記載の部品圧着装置。
The foreign matter removing portion includes a first foreign matter removing portion and a second foreign matter removing portion for removing foreign matter adhering to the cleaning tool, respectively.
The first foreign matter removing portion and the second foreign matter removing portion are arranged on both ends in the longitudinal direction of the lower receiving portion, respectively.
The component crimping device according to any one of claims 1 to 3.
部品圧着装置のクリーニング方法であって、
前記部品圧着装置は、
基板における予め定められた部位である圧着対象部位を下方から支持する長尺状の下受け部と、前記下受け部によって支持されている前記圧着対象部位に部品を圧着する圧着ツールと、清掃ツールと、前記下受け部における前記圧着対象部位を支持する支持面よりも下方に配置された異物除去部とを備え、
前記クリーニング方法は、
前記清掃ツールを前記下受け部の前記支持面に擦らしながら、前記下受け部の長手方向に沿って移動させる清掃工程と、
前記下受け部の前記支持面よりも下方の退避位置に前記清掃ツールを退避させる退避工程と、
前記退避位置に退避された前記清掃ツールに付着した異物を前記異物除去部が除去する異物除去工程とを含み、
前記清掃工程と、前記退避工程および前記異物除去工程とを交互に行う、
部品圧着装置のクリーニング方法。
It is a cleaning method for parts crimping equipment.
The component crimping device is
A long underlaying part that supports the crimping target part, which is a predetermined part of the substrate, from below, a crimping tool that crimps a part to the crimping target part supported by the underlaying part, and a cleaning tool. And a foreign matter removing portion arranged below the support surface supporting the crimping target portion in the lower receiving portion.
The cleaning method is
A cleaning step of moving the cleaning tool along the longitudinal direction of the lower receiving portion while rubbing the cleaning tool against the supporting surface of the lower receiving portion.
A retracting step of retracting the cleaning tool to a retracting position below the support surface of the lower receiving portion, and
Including a foreign matter removing step in which the foreign matter removing portion removes foreign matter adhering to the cleaning tool that has been retracted to the retracted position.
The cleaning step, the evacuation step, and the foreign matter removing step are alternately performed.
Cleaning method for parts crimping equipment.
JP2020078470A 2020-04-27 2020-04-27 Component crimping device and cleaning method for component crimping device Active JP7432869B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020078470A JP7432869B2 (en) 2020-04-27 2020-04-27 Component crimping device and cleaning method for component crimping device
CN202110427490.3A CN114114726A (en) 2020-04-27 2021-04-20 Component pressure welding device and cleaning method for component pressure welding device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020078470A JP7432869B2 (en) 2020-04-27 2020-04-27 Component crimping device and cleaning method for component crimping device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021174901A true JP2021174901A (en) 2021-11-01
JP7432869B2 JP7432869B2 (en) 2024-02-19

Family

ID=78279962

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020078470A Active JP7432869B2 (en) 2020-04-27 2020-04-27 Component crimping device and cleaning method for component crimping device

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7432869B2 (en)
CN (1) CN114114726A (en)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4031625B2 (en) 2001-07-02 2008-01-09 芝浦メカトロニクス株式会社 Electronic component mounting apparatus and electronic component mounting method
TWI292350B (en) 2004-02-10 2008-01-11 Sharp Kk Cleaning device of board and cleaning method, flat display panel, mounting equipment of electronic parts and mounting method
JP4773208B2 (en) 2006-01-12 2011-09-14 パナソニック株式会社 Parts crimping method
JP4773210B2 (en) 2006-01-12 2011-09-14 パナソニック株式会社 Parts crimping method
JP2008085147A (en) 2006-09-28 2008-04-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electronic parts crimping device and crimping method
JPWO2010041610A1 (en) 2008-10-07 2012-03-08 芝浦メカトロニクス株式会社 Electronic component mounting apparatus and mounting method
JP2010272754A (en) 2009-05-22 2010-12-02 Panasonic Corp Component-mounting device and method therefor

Also Published As

Publication number Publication date
JP7432869B2 (en) 2024-02-19
CN114114726A (en) 2022-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5947010B2 (en) Splitting device
KR20180108396A (en) Die bonding device and method of manufacturing semiconductor device
KR100709457B1 (en) Semiconductor wafer grinding method
TW201943005A (en) Electronic component mounting apparatus capable of excellently mounting a film type electronic component supplied by punching and chip type electronic component supplied from a tray on a display panel
JP7233079B2 (en) COMPONENT MOUNTING SYSTEM, COMPONENT SUPPLY DEVICE, AND COMPONENT MOUNTING METHOD
JP2003163180A (en) Work conveying apparatus and dicing apparatus
JP2021174901A (en) Component crimping device and cleaning method of component crimping device
JP6848636B2 (en) Substrate peripheral cleaning device, substrate peripheral cleaning method and storage medium
JP2002353169A (en) Work carrier and dicing device
JP2020181939A (en) Component crimping device and method for cleaning component crimping device
JP2017059736A (en) Semiconductor chip mounting device
TWI715727B (en) Disposal method of package substrate
JP2013033882A (en) Package substrate division device
JP6557131B2 (en) Splitting device
JP6403564B2 (en) Cleaning device
JP2004193442A (en) Electronic component mounting apparatus
JP2017084893A (en) Dividing device
JP2023038666A (en) Component crimping device and maintenance method of component crimping device
CN110919881A (en) Cutting device
JP2020021891A (en) Thermal compression bonding device and thermal compression bonding method
JP2004047927A (en) Electronic component mounting apparatus
JP2022167260A (en) Component crimping device and component crimping method
JP2020191428A (en) Component crimp device and component crimp method
JP2023058214A (en) Component compression-bonding device and component compression-bonding method
JP2023155541A (en) Cutting device and manufacturing method of cut product

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230220

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20231228

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240109

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240125

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7432869

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151