JP2021161247A - オルガノポリシロキサン組成物 - Google Patents
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- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 304
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 183
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 83
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 66
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 22
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 59
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 55
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 37
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 37
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 31
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 31
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 24
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 15
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 12
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 6
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 107
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 107
- 229910020485 SiO4/2 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- -1 ethylene glycol monoethylene ether group Chemical group 0.000 description 90
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 239000000047 product Substances 0.000 description 36
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 description 29
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 27
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 26
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 22
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 21
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 19
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 19
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 10
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 10
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 9
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 9
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 9
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- LINXHFKHZLOLEI-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[phenyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]oxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)C1=CC=CC=C1 LINXHFKHZLOLEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 8
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 8
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 8
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 8
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 6
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentane Chemical compound CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 3
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPGYCJUCJYUHTM-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpentan-2-yloxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)CC(C)(C)C DPGYCJUCJYUHTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IFXDUNDBQDXPQZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOC(C)(C)CC IFXDUNDBQDXPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-L 3-(2-carboxylatoethylsulfanyl)propanoate Chemical compound [O-]C(=O)CCSCCC([O-])=O ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000209094 Oryza Species 0.000 description 2
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 2
- 101100271175 Oryza sativa subsp. japonica AT10 gene Proteins 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010009736 Protein Hydrolysates Proteins 0.000 description 2
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N deuterated acetone Substances [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 2
- YMWUJEATGCHHMB-DICFDUPASA-N deuterated dichloromethane Substances [2H]C([2H])(Cl)Cl YMWUJEATGCHHMB-DICFDUPASA-N 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N tridecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCC IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- JXCAHDJDIAQCJO-UHFFFAOYSA-N (1-tert-butylperoxy-2-ethylhexyl) hydrogen carbonate Chemical compound CCCCC(CC)C(OC(O)=O)OOC(C)(C)C JXCAHDJDIAQCJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCXVPNKIBYLBIT-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 3,5,5-trimethylhexaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CC(C)CC(=O)OOOC(C)(C)C HCXVPNKIBYLBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVELOSYXCOVILT-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxy-2-methylpentan-2-yl) 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(O)CC(C)(C)OOC(=O)CCCCCC(C)(C)C MVELOSYXCOVILT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N (5-benzoylperoxy-2,5-dimethylhexan-2-yl) benzenecarboperoxoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLKRGXCGFRXRNQ-SNAWJCMRSA-N (z)-3-carbonoperoxoyl-4,4-dimethylpent-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)/C=C(C(C)(C)C)\C(=O)OO BLKRGXCGFRXRNQ-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- RVHSTXJKKZWWDQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrabromoethane Chemical compound BrCC(Br)(Br)Br RVHSTXJKKZWWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6-pentaoxepane-5,7-dione Chemical compound O=C1OOOOC(=O)O1 BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRJIYMRJTJWVLU-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpentan-2-yl 3-(5,5-dimethylhexyl)dioxirane-3-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)CCCCC1(C(=O)OC(C)(C)CC(C)(C)C)OO1 CRJIYMRJTJWVLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVNHNXXTIIQWBZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2,3-dimethylbutanenitrile Chemical compound CC(C)C(C)(C#N)N=NC(C)(C)C#N JVNHNXXTIIQWBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEMBFTKNPXENSE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpentan-2-ylperoxy)propan-2-yl hydrogen carbonate Chemical compound CCCC(C)(C)OOC(C)(C)OC(O)=O IEMBFTKNPXENSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKBHBVFIWWDGQX-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropent-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(Br)=C XKBHBVFIWWDGQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIDNXYVJSYJXPE-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CCC(C)(C)OOC(=O)CCCCCC(C)(C)C ZIDNXYVJSYJXPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDCMRFUDMYGBFU-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl 7-methyloctaneperoxoate Chemical compound CCC(C)(C)OOC(=O)CCCCCC(C)C HDCMRFUDMYGBFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFSCGDQQLKVJEJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-yl benzenecarboperoxoate Chemical compound CCC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 RFSCGDQQLKVJEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMMLZUQDXYPNOG-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentan-2-yl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CCCC(C)(C)OOC(=O)CCCCCC(C)(C)C YMMLZUQDXYPNOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXDJDZIIPSOZAH-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentan-2-yl benzenecarboperoxoate Chemical compound CCCC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 WXDJDZIIPSOZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKERWIBXKLNXCY-UHFFFAOYSA-N 3,5,5-trimethyl-2-(2-methylbutan-2-ylperoxy)hexanoic acid Chemical compound CCC(C)(C)OOC(C(O)=O)C(C)CC(C)(C)C VKERWIBXKLNXCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYXVDGZUXHFXTO-UHFFFAOYSA-L 3-oxobutanoate;platinum(2+) Chemical compound [Pt+2].CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC([O-])=O QYXVDGZUXHFXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) Chemical compound OC(=O)CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CCC(O)=O)C#N VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFWPZNNZUCPLAX-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-3-methylaniline Chemical compound COC1=CC=C(N)C=C1C NFWPZNNZUCPLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVVFVKJZNVSANF-UHFFFAOYSA-N 6-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]hexyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCCCCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 ZVVFVKJZNVSANF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ALBJGICXDBJZGK-UHFFFAOYSA-N [1-[(1-acetyloxy-1-phenylethyl)diazenyl]-1-phenylethyl] acetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(OC(=O)C)N=NC(C)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ALBJGICXDBJZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNKQAWPNGDCPTE-UHFFFAOYSA-N [2,5-dimethyl-5-(3-methylbenzoyl)peroxyhexan-2-yl] 3-methylbenzenecarboperoxoate Chemical compound CC1=CC=CC(C(=O)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(=O)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 UNKQAWPNGDCPTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUIBLDFFVYKUAC-UHFFFAOYSA-N [5-(2-ethylhexanoylperoxy)-2,5-dimethylhexan-2-yl] 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(=O)C(CC)CCCC JUIBLDFFVYKUAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N cefatrizine Chemical group S([C@@H]1[C@@H](C(N1C=1C(O)=O)=O)NC(=O)[C@H](N)C=2C=CC(O)=CC=2)CC=1CSC=1C=NNN=1 UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000000701 coagulant Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 1
- MDKCAJOWNAKRKU-UHFFFAOYSA-N dihydroxyphosphanyl diphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OP(O)O)OC1=CC=CC=C1 MDKCAJOWNAKRKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- CIKJANOSDPPCAU-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl cyclohexane-1,4-dicarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1CCC(C(=O)OOC(C)(C)C)CC1 CIKJANOSDPPCAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910003471 inorganic composite material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- XKIVKIIBCJIWNU-UHFFFAOYSA-N o-[3-pentadecanethioyloxy-2,2-bis(pentadecanethioyloxymethyl)propyl] pentadecanethioate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC(=S)OCC(COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC)(COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC)COC(=S)CCCCCCCCCCCCCC XKIVKIIBCJIWNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005474 octanoate group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- DCVWZWOEQMSMLR-UHFFFAOYSA-N silylperoxysilane Chemical compound [SiH3]OO[SiH3] DCVWZWOEQMSMLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNJISVYSDHJQFR-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4,4-dimethylpentaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCC(=O)OOC(C)(C)C VNJISVYSDHJQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OOC(C)(C)C NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N tetradecyl 3-(3-oxo-3-tetradecoxypropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCC LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- MZHULIWXRDLGRR-UHFFFAOYSA-N tridecyl 3-(3-oxo-3-tridecoxypropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCC MZHULIWXRDLGRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
【解決手段】成分Aとして、下記一般式[1]で表され、分子量分布(Mw/Mn)が1.01〜1.4であり、かつ、数平均分子量が700<Mn<2000であるオルガノポリシロキサンと、成分Bとして、下記一般式[2]で表される物質とを含み、該成分A及び該成分Bが、0.1≦{(成分Bの重量)×100}/{(成分Aの重量)+(成分Bの重量)}≦9の関係を満たし、かつ、該成分Aに対し、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たす物質の含有量が、0.01重量%以上9重量%以下であり、かつ、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たさない物質の含有量が、3重量%以下であることを特徴とする、オルガノポリシロキサン組成物である。
(R1R2R3SiO1/2)M1(R4SiO3/2)T1(SiO4/2)Q(O1/2R5)E1 ・・・[1]
(R6R7R8SiO1/2)M2(R9SiO3/2)T2(O1/2R10)E2
・・・[2]
【選択図】なし
Description
しかし、種々の添加剤を混合した樹脂へオルガノポリシロキサンを混合した場合に特定の成分が析出してしまい、また、高分子量化した樹脂へオルガノポリシロキサンを混合した場合に樹脂の粘度が高いためにオルガノポリシロキサンが拡散しにくくなり、組成物中でオルガノポリシロキサンの濃度勾配が生じてその成形品の物性にムラが生じるなど、オルガノポリシロキサンの均一分散が困難であることに起因する問題も発生している。このような場合、分子量分布が狭く、かつ揮発するような低分子量成分を持たない液状のオルガノポリシロキサン組成物を用い、有機溶媒により希釈し、混合することでオルガノポリシロキサンの分散性を改善することも可能であるが、成形時の金型解放時に引火性蒸気が揮散して危険性を伴うことや、凝縮した有機溶媒が成形品を再溶解し、白化させ、外観不良を引き起こすこと、有機溶媒の揮発で温度が低下してしまうことによる硬化不良、有機溶媒が成形品に残存することによる樹脂融点の低下、成形品から徐々に有機溶媒が揮発することにより生じる経時的な収縮、有機溶媒の揮発に伴い空隙が生じることでの強度低下、有機溶媒の酸化等による着色など、オルガノポリシロキサンを添加する前の利点が一部損なわれることも在った。
また、オルガノポリシロキサンの粘度が高い場合にそれを含む組成物とした際、成形時の流動性が悪く、金型への充填が不十分となることや空気を樹脂中に取り込んだ状態で硬化してしまうなど、用途によってはオルガノポリシロキサンが高粘度であることにより、様々な悪影響を及ぼすことがあった。
例えばヘアワックスやリップグロスなどの化粧品用途へ使用する場合には、オルガノポリシロキサンの粘度が質感に大きく影響を与えるため、重要な要素となっている。
[1]成分Aとして、下記一般式[1]で表され、分子量分布(Mw/Mn)が1.01〜1.4であり、かつ、数平均分子量が700<Mn<2000であるオルガノポリシロキサンと、成分Bとして、下記一般式[2]で表される物質とを含み、
該成分A及び該成分Bが、0.1≦{(成分Bの重量)×100}/{(成分Aの重量)+(成分Bの重量)}≦9の関係を満たし、かつ、
該成分Aに対し、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たす物質の含有量が、0.01重量%以上9重量%以下であり、かつ、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たさない物質の含有量が、3重量%以下であることを特徴とする、オルガノポリシロキサン組成物である。
(R1R2R3SiO1/2)M1(R4SiO3/2)T1(SiO4/2)Q(O1/2R5)E1 ・・・[1]
(R6R7R8SiO1/2)M2(R9SiO3/2)T2(O1/2R10)E2
・・・[2]
ここで、上記式[1]中、
R1〜R4は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
R5は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
係数M1、T1、及び、Qは、それぞれ独立して、0以上0.65未満であり、M1+T1+Q=1を満たし;
係数M1、T1、Q、E1は、0<T1+Q<0.65、0.25<T1、及び0<E1/(M1+E1)<1を満たす。
ここで、上記式[2]中、
R6〜R8は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
R9は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
R10は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
M2は、1〜5の正の整数であり、係数T2は、1〜3の正の整数であり、係数E2は0
〜5の整数である。
[2]前記一般式[1]において、前記R4で表される有機基がフェニル基であることを特徴とする、[1]に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[3]前記係数M1が0.40以上0.55以下、かつ前記係数T1が0.45以上0.58以下であることを特徴とする、[1]または[2]に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[4]前記係数E1が0.01以上0.1以下であることを特徴とする、[1]〜[3]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[5]前記R1〜R3がメチル基であることを特徴とする、[1]〜[4]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[6]200gのオルガノポリシロキサン組成物を1Lナス型フラスコに入れて、真空圧力0.15torrの排気能力を有する真空ポンプにて減圧下、内温110℃で2時間加熱した際、オルガノポリシロキサンの質量減少量が10g以下であることを特徴とする、[1]〜[5]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[7]前記係数Qが0であることを特徴とする、[1]〜[6]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[8]前記一般式[2]において、R9がフェニル基であることを特徴とする、[1]〜[7]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[9]前記一般式[2]において、R6〜R8がメチル基であることを特徴とする、[1]〜[8]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[10]前記一般式[2]で表される物質として、前記係数T2が1である物質を含むことを特徴とする、[1]〜[9]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[11]前記一般式[2]で表される物質として、前記係数M2が3である物質を含むことを特徴とする、[1]〜[10]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。[12]オルガノポリシロキサン組成物中の前記一般式[2]で表される物質の含有量が0.5〜3重量%であることを特徴とする、[1]〜[11]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[13][1]〜[12]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物を含むことを特徴とする、樹脂組成物。
[14][1]〜[12]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物を含むことを特徴とする、有機溶媒希釈液。
[15][1]〜[12]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物またはその硬化物を有することを特徴とする、電子機器用部材。
[16][13]に記載の樹脂組成物またはその硬化物を有することを特徴とする、電子機器用部材。
[17]下記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンの製造方法であって、加熱工程を有し、該加熱工程における加熱温度が100℃以上であり、該加熱工程における原料混合物中のアルカリの含有量が100ppm未満であり、
該オルガノポリシロキサンの分子量分布(Mw/Mn)が1.01〜1.4であり、かつ、数平均分子量が700<Mn<2000であることを特徴とする、オルガノポリシロキサンの製造方法。
(R1R2R3SiO1/2)M1(R4SiO3/2)T1(SiO4/2)Q(O1/2R5)E1 ・・・[1]
ここで、上記式[1]中、
R1〜R4は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
R5は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
係数M1、T1、及び、Qは、それぞれ独立して、0以上0.65未満であり、M1+T1+Q=1を満たし;
また、係数M1、T1、Q、E1は、0<T1+Q<0.65、0.25<T1、および0<E1/(M1+E1)<1を満たす。
[18][1]〜[12]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物に含まれるオルガノポリシロキサンを製造する、[17]に記載のオルガノポリシロキサンの製造方法。
[19][13]に記載の樹脂組成物に含まれるオルガノポリシロキサンを製造する、[17]に記載のオルガノポリシロキサンの製造方法。
[20][14]に記載の有機溶媒希釈液に含まれるオルガノポリシロキサンを製造する、[17]に記載のオルガノポリシロキサンの製造方法。
[21][15]に記載の電子機器用部材の製造に用いられるオルガノポリシロキサン組成物又はその硬化物に含まれるオルガノポリシロキサンを製造する、[17]に記載のオルガノポリシロキサンの製造方法。
また、上記のオルガノポリシロキサン組成物は、臭気性及び着色性に優れ、引火点を比較的高く保つことができるという効果も有する。
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味し、「A〜B」は、A以上B以下であることを意味する。
また、本明細書において、2つ以上の対象を併せて説明する際に用いる「独立して」とは、それらの2つ以上の対象が同じであっても異なっていてもよいという意味で使用される。
本発明の一実施形態であるオルガノポリシロキサン組成物(以下、単に「オルガノポリシロキサン組成物」とも称する)は、成分Aとして、下記一般式[1]で表され、分子量分布(Mw/Mn)が1.01〜1.4であり、かつ、数平均分子量が700<Mn<2000であるオルガノポリシロキサン(以下、単に「オルガノポリシロキサン」とも称する)と、成分Bとして、下記一般式[2]で表される物質とを含み、
該成分A及び該成分Bが、0.1≦{(成分Bの重量)×100}/{(成分Aの重量)+(成分Bの重量)}≦9の関係を満たし、かつ、
成分A(下記式[1]で表されるオルガノポリシロキサン)に対し(成分Aを100重量%とした場合に おいて)、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たす物質の含有量が、0.01重量%以上、9重量%以下であり、かつ、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たさない物質の含有量が、3重量%以下であることを特徴とする、オルガノポリシロキサン組成物である。
(R1R2R3SiO1/2)M1(R4SiO3/2)T1(SiO4/2)Q(O1/2R5)E1 ・・・[1]
(R6R7R8SiO1/2)M2(R9SiO3/2)T2(O1/2R10)E2
・・・[2]
ここで、上記式[1]中、
R1〜R4は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R5は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
係数M1、T1、及び、Qは、それぞれ独立して、0以上0.65未満であり、M1+T1+Q=1を満たす。
また、係数M1、T1、Q、E1は、0<T1+Q<0.65、0.25<T1、および0<E1/(M1+E1)<1を満たす。
ここで、上記式[2]中、
R6〜R8は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R9は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R10は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
M2は1〜5の正の整数であり、係数T2は、1〜3の正の整数であり、係数E2は0〜5の整数である。
オルガノポリシロキサン組成物は、成分Aとして、上記の一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンを含む。
(R1R2R3SiO1/2)M1(R4SiO3/2)T1(SiO2/2)Q(O1/2R5)E1 ・・・[1]
例えば、M1>0とした場合、M単位を必須とすることを意味する。
よって、T1+Q>0は、T単位またはQ単位を必須とすることを意味する。
また、本発明では、M単位、T単位およびQ単位の和を1と表す(M1+T1+Q=1)ため、T1+Q<0.65は、M単位、T単位およびQ単位の和に対し、T単位およびQ単位の和が65mol%未満であることを意味する。
0.25<T1は、M単位、T単位およびQ単位の和に対し、T単位が25mol%より多いことを意味する。
また、例えば、0≦E1/(M1+E1)は、係数Eを含まずともよく、また、含んでもよいことを意味している。また、0<E1/(M1+E1)の場合、係数Eは必ず含む。
E1/(M1+E1)<1は、T単位およびQ単位の酸素を結合手と呼んだ際に、T単位同士での結合による結合手の消費、Q単位同士での結合による結合手の消費、および、T単位とQ単位による結合手の消費、の結果、消費しなかった結合手と結合するのは、M単位、および/または、アルコキシ基および/またはシラノール基であり、結合手とM単位との結合を含み、また、M単位を必須とすることを示している。
なお、M単位、T単位、E単位を構成するユニットは、すべて同一であることを要しない。
を以下に示す。
この場合の樹脂は極性が低い樹脂に該当し、R1〜R4は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、および、ビニル基を好適に使用でき、特に、R1〜R3のうちの一つが水素原子、または、ビニル基であり、残り二つがメチル基である場合、R1〜R3がメチル基である場合、および、それらの任意の組み合わせがより好ましく、R4は水素原子、メチル基、ビニル基、である場合がより好ましく、ヒドロシリル化等の反応を伴う場合には、水素原子、ビニル基がさらに好ましく、反応させたくない場合は安定性の観点でメチル基が好ましい。
この場合の樹脂は極性が低い樹脂および高い樹脂の双方に該当し、R1〜R4は、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基を組み合わせて使用することが好適であり、特に、R1〜R3のうちの一つが水素原子、または、ビニル基であり、残り二つがメチル基、R1〜R3がメチル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、R4はフェニル基がより好ましい。
この場合の樹脂は極性が高い樹脂に該当し、R1〜R4は、それぞれ独立して、アクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシオクチル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、および、メチル基との組み合わせが好適に使用でき、特に、R1〜R3のうちの一つが水素原子、または、ビニル基であり、残り二つがメチル基、R1〜R3がメチル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、R4はアクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシオクチル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、フェニル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、鉛筆硬度やショア硬度などの硬さを硬くする観点では、アクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基、グリシドキシプロピル基が好適であり、柔軟性や脆性の観点では、メタクリロキシオクチル基、グリシドキシオクチル基が好適である。
この場合の樹脂は極性が高い樹脂に該当し、R1〜R4は、それぞれ独立して、エチレングリコールモノエチレンエーテル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、フェニル基、フェネチレン基、スチリル基、ビニル基、および、メチル基との組み合わせが好適に使用でき、特に、R1〜R3のうちの一つが水素原子、ビニル基、エチレングリコールモノエチレンエーテル基、グリシドキシプロピル基であり、残り二つがメチル基、R1〜R3がメチル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、R4はフェニル基がより好ましく、相溶性やポリカーボネートと混合する際の200℃を超える熱に対する耐熱性の観点では、R1〜R3がメチル基、R4がフェニル基の場合が好適である。
であってもよい。
また、分子量を低く、樹脂への相溶性を高める観点からは、MTレジンであることが好ましく、ケイ素含有量を高め、分子量を増加させる観点からは、MTQレジンであることが好ましい。
下であることがより好ましく、0.57以下であることがさらに好ましい。なお、T1+Qが小さいと、M1が大きくなり、M単位に修飾されたT単位のモノマー又はMQモノマーに収束するため、MT単位からなるモノマー又はMQ単位からなるモノマー量が増える。
同様に、0.25<T1/(M1+T1+Q)は、一般式[1]で示されるオルガノポリシロキサンにおけるT単位の含有量であり、具体的には、M単位、T単位、及びQ単位の和に対するT単位の含有量が25%より多いことを示している。
また0<E1/(M1+E1)<1は、一般式[1]で示されるオルガノポリシロキサンにおいて、M単位とE1を係数とするアルコキシ基及びシラノール基の比率であり、アルコキシ基及び/またはシラノール基を有するオルガノポリシロキサン成分を含有し、M単位と同量以上存在しないことを示す。通常0より大きく、0.002以上が好ましく、0.04以上がより好ましく、0.08以上がさらに好ましく、通常1未満であり、0.3以下が好ましく、0.2以下がより好ましく、0.15以下がさらに好ましい。
数平均分子量Mnは、後述する方法で測定する。
重量平均分子量Mwは、後述する方法で測定する。
本発明の別の実施形態であるオルガノポリシロキサンの製造方法(以下、単に「オルガノポリシロキサンの製造方法」とも称する)は、上記の実施形態に係るオルガノポリシロキサンの製造方法であり、既知のオルガノポリシロキサン製造法を用いることが可能であ
る。例えば、ジシロキサン化合物やジシラザン化合物及びそれらの加水分解物、アルコキシシラン化合物やその加水分解物、部分加水分解縮合物を1種類又は複数種同時に縮合させる方法、ジシロキサン化合物やジシラザン化合物及びそれらの加水分解物、クロロシラン化合物やその加水分解物、部分加水分解縮合物を縮合させる方法、環状シロキサン化合物を開環重合させる方法、アニオン重合をはじめとする連鎖重合等、いずれの製造方法であってもよく、複数の製造方法を組み合わせて使用してもかまわない。また、有機官能基を化学的手法により別の有機官能基に変換して用いてもよい。有機官能基を別の有機官能基に変換する方法としては、水素原子がケイ素原子に直接結合した基とアルケニル基を反応させる方法(ヒドロシリル化法)等が挙げられる。
また、得られたオルガノポリシロキサンについて、カラムクロマトグラフィーやGPC、溶媒による抽出、不要成分の留去等によって、所望の分子量や分子量分布を有するオルガノポリシロキサンを分画して使用してもよい。また、減圧や加熱等の処理により低沸点成分を除去してもよい。
上記の工程で得られた原料の混合物又は反応物溶媒の除去等、後処理の加熱時(加熱工程又は蒸留工程)にかかる加熱温度は、溶媒沸点や未反応原料、原料由来の加水分解物を除去する観点から、対象物が除去されれば特に限定されず、60℃以上が好ましく、100℃以上がより好ましく、110℃以上であることがさらに好ましく、120℃以上であることが特に好ましい。また、未反応のシラノールを縮合させ、安定性を高める目的では、100℃以上が好ましく、110℃以上がより好ましく、120℃がさらに好ましく、修飾された官能基を熱により変化させない観点からは、180℃以下が好ましく、150℃以下がより好ましく、140℃以下がさらに好ましい。上記の加熱工程は、反応を伴わない、または、反応対象官能基の反応率が未反応状態と比較して5%未満の場合において特に好ましい。
ppm未満であり、2ppm以下であることが好ましく、0.2ppm以下であることが好ましく、不含(0ppm)であることが好ましいが、通常0以上であり、0.001ppm以上は含まれ得る。
オルガノポリシロキサン組成物は、粘度調整剤として下記一般式[2]で表される物質を含む。
(R6R7R8SiO1/2)M2(R9SiO3/2)T2(O1/2R10)E2
・・・[2]
R6〜R8は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R9は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R10は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
M2は、1〜5の正の整数であり、係数T2は、1〜3の正の整数であり、係数E2は0〜5の整数である。
T2+2−M2+E2=0は、シロキサン結合での環状体化合物を含まないことを意味する。環状体化合物はT3以上で存在し、環状体化合物においても粘度低減効果があり、樹脂との混合後、製品の保存性を問わない分野では使用可能である。また、環状体化合物は開環することによる粘度低減効果が変わることがあり、製品の安定性の観点から、含まないことが望ましいが、少量含んでいてもよい。一般式[1]で示されるオルガノポリシロキサン(成分A)に対し(成分Aを100重量%とした場合)、T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たす物質の含有量は、上記の観点から、0.01重量%以上、9重量%以下であり、0.5重量%以上であることが好ましく、0.6重量%以上であることがより好ましく、1重量%以上であることがさらに好ましく、また、7重量%以下であることが好ましく、5重量%以下であることがより好ましく、4重量%以下であることがさらに好ましい。一般式[1]で示されるオルガノポリシロキサン(成分A)に対し、T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たさない物質の含有量は、上記の観点から、3重量%以下であり、0.1重量%以下がより好ましく、0.01重量%以下がさらに好ましく、含まないこと(0ppm)が最も好ましいが、通常0重量%以上であり、0.001重量%以上は含まれ得る。さらに、本発明から派生して、環状体化合物を製品から経時的に揮発させ、電極表面へ蒸着し、シロキサン化合物でコートする形態においては、混合時の熱で揮発しない最大量を含有することが望ましく、通常1重量%以上であり、3重量%以上が好ましく、9重量%以上がより好ましい。
ールモノエチレンエーテル基、アクリロキシプロピル基、アクリロキシオクチル基、メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシオクチル基、グリシジル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、1,2−エポキシシクロヘキシル−3−プロピル基、1,2−エポキシシクロヘキシル−3−オクチル基、フェニル基、フェネチレン基、スチリル基、ビニル基、アリル基であることが好ましく、混合する成分の極性が低い場合には、水素原子、メチル基、エチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1,2−エポキシシクロヘキシル−3−プロピル基、1,2−エポキシシクロヘキシル−3−オクチル基、1,2−エポキシシクロヘキシル−3−オクチル基、アリル基がさらに好ましく、混合する成分の極性が高い場合には、エチレングリコールモノエチレンエーテル基、アクリロキシプロピル基、アクリロキシオクチル基、メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシオクチル基、グリシジル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、フェニル基、フェネチレン基、スチリル基、ビニル基であることがさらに好ましく、混合する目的の樹脂組成物に合わせて任意の割合で組み合わせることが好ましい。
この場合の樹脂は極性が低い樹脂に該当し、R6〜R9は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、および、ビニル基を好適に使用でき、特に、R6〜R8のうちの一つが水素原子、または、ビニル基であり、残り二つがメチル基である場合、R6〜R8が全てメチル基である場合、および、それらの任意の組み合わせがより好ましく、また、R9は水素原子、メチル基、ビニル基、である場合がより好ましく、ヒドロシリル化等の反応を伴う場合には、水素原子、ビニル基がより好ましく、反応させたくない場合は安定性の観点でメチル基がより好ましく、R6〜R9がすべてメチル基であることがさらに好ましい。
この場合の樹脂は極性が低い樹脂および高い樹脂の双方に該当し、R6〜R9は、メチル基、フェニル基を組み合わせて使用することが好適であり、特に、R6〜R8のうちの一つが水素原子、または、ビニル基であり、残り二つがメチル基、R6〜R8がメチル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、R9はフェニル基がより好ましい。R6〜R8がすべてメチル基であり、R9がフェニル基であることが最も好ましい。
この場合の樹脂は極性が高い樹脂に該当し、R6〜R9は、アクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシオクチル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、および、メチル基との組み合わせが好適に使用でき、特に、R6〜R8のうちの一つが水素原子、または、ビニル基であり、残り二つがメチル基、R6〜R8がメチル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、R9はアクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシオクチル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、フェニル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、鉛筆硬度やショア硬度などの硬さを硬くする観点では、アクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基、グリシドキシプロピル基が好適であり、柔軟性や脆性の観点では、
メタクリロキシオクチル基、グリシドキシオクチル基が好適である。
この場合の樹脂は極性が高い樹脂に該当し、R6〜R9は、エチレングリコールモノエチレンエーテル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、フェニル基、フェネチレン基、スチリル基、ビニル基、および、メチル基との組み合わせが好適に使用でき、特に、R6〜R8のうちの一つが水素原子、ビニル基、エチレングリコールモノエチレンエーテル基、グリシドキシプロピル基であり、残り二つがメチル基、R1〜R3がメチル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、R8はフェニル基がより好ましく、相溶性やポリカーボネートと混合する際の200℃を超える熱に対する耐熱性の観点では、R6〜R8がすべてメチル基、R9がフェニル基の場合が好適である。
また、T単位の結合手への修飾において、M単位は脱離に伴うシラノール化および脱水縮合が起こりにくいが、E2で表されるアルコキシ基およびシラノール基は脱水縮合により反応させることが容易であるため、反応性の観点から、M2は少ない方が好ましく、T2の最大値が3であることから、T2が3の場合は、M2は4以下が好ましく、より好ましくは2以下であり、さらに好ましくは1であり、また、0の場合は加水分解縮合が非常に起きやすく、経時での粘度変化が大きいため、保存安定性の観点から、M2は1以上であり;T2が2の場合は、M2は3以下が好ましく、より好ましくは2以下であり、さらに好ましくは1であり、また、0の場合は非常に変化しやすく、経時での粘度変化が大きく、保存安定性の観点から、M2は1以上であり;T2が1の場合は、M2は3以下が好ましく、より好ましくは2以下であり、さらに好ましくは1であり、また、0の場合は非常に変化しやすく、経時での粘度変化が大きく、保存安定性の観点から、M2は1以上である。
さらに、オルガノポリシロキサン組成物において、成分A(上記の一般式[1]で表さ
れるオルガノポリシロキサン)の重量と成分B(上記の一般式[2]で表される物質)の重量との和に対する、成分Bの重量の100の値({(成分Bの重量)×100}/{(成分Aの重量)+(成分Bの重量)})は、オルガノポリシロキサンの粘度を下げる観点および成分Bの揮発性の観点から、0.1以上、9以下であるが、通常0.5以上であり、0.6以上であることが好ましく、1.3以上であることがより好ましく、また、通常7以下であり、5以下であることが好ましく、3以下であることがより好ましい。
なお、成分Aとしても、成分Bとしても考えられる成分は、本明細書においては、成分Bとして考えるものとする。
一般式[2]で表される物質の製造方法は特段制限されず、公知の方法により製造することができ、また、トリス(トリメチルシロキシ)フェニルシラン(PTTSS)等の市販品を用いることもできる。また、一般式[2]で表される物質は、意図的に添加する場合のみならず、M単位およびT単位を含む材料を原料として製造するような方法では、製造段階で含まれ得る物質であり、オルガノポリシロキサン製造時において意図して添加せずとも含有するようなことも考え得る。しかし、当該業者にとって一般式[2]で表される物質は、一般式[1]のオルガノポリシロキサンではない特定のオルガノポリシロキサンを製造した際、電極接点の不良問題(通称ローボラタイル問題)を引き起こす物質として忌み嫌われ、薄膜蒸留などの蒸留により、0.1重量%未満に除去されてきた。また、一般式[1]のオルガノポリシロキサンを製造する際に、一般式[2]である物質を生成させることで、意図して添加せずとも含有させることが可能であり、その場合、目的に応じて一般式[2]で表される物質の含有量を調整することで、粘度を調整することが可能であり、オルガノポリシロキサン組成物をガスクロマトグラフィーにて分析して、一般式[2]で表される物質の含有量を定量し、薄膜蒸留などの蒸留により、該物質の含有量を制御することで目的を達成することも可能である。
オルガノポリシロキサン組成物には、上述した一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサン、及び一般式[2]で表される成分以外の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、硬化触媒、連鎖重合開始剤、酸化防止剤、フィラー、硬化剤、硬化制御剤等が挙げられる。
オルガノポリシロキサン組成物中のその他の成分の含有量は、特段制限されず、本発明の効果が得られる範囲で、目的に合わせ任意に添加してよい。
硬化触媒の種類は、特段制限されず、例えば、付加重合触媒や縮合重合触媒等が挙げられる。
付加重合触媒の例としては、白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンとの白金(0)錯体、1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロシロキサンとの白金(0)錯体、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などの白金族金属触媒が挙げられる。付加重合触媒の配合量は、白金族金属としてオルガノポリシロキサン合計重
量に対して通常1ppm以上、好ましくは2ppm以上であり、通常100ppm以下、好ましくは50ppm以下、さらに好ましくは20ppm以下である。これにより触媒活性が高く、硬化物の透明性が高いものとすることができる。また、付加重合触媒は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
連鎖重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、アニオン重合開始剤などが挙げられるが、ラジカル重合開始剤を使用する方法が一般的である。
光重合開始剤としては、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、分子内水素引き抜き型光重合開始剤、オキシムエステル光重合開始剤などを用いることができ、好適なものとして、アルキルフェノン系光重合開始剤を用いることができる。
有機過酸化物としては、例えば、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドなどが挙げられ、より具体的には、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t−アミルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、3−ヒドロキシ−1,1−ジメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルパーオキシネオデカノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシマレイン酸、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(3−メチルベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジブチルパーオキシトリメチルアジペート、t−アミルパーオキシノルマルオクトエート
、t−アミルパーオキシイソノナノエート、t−アミルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキシドなどが挙げられる。
硬化性組成物は、酸化防止剤をさらに含有することが好ましい。硬化性組成物が酸化防止剤を含有することで、硬化物のはんだリフロー等の熱による着色を抑制できる。
酸化防止剤の具体例としては、2,6−ジ−t−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、トリエチレングリコールビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオールビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]等のフェノール系酸化防止剤;トリフェニルホスファイト、トリスイソデシルホスファイト、トリストリデシルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、テトラ(C12〜15アルキル)−4,4‘−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト等のリン系酸化防止剤;ジラウリルー3,3’−チオジプロピオネート、ジトリデシルー3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチルー3,3’−チオジプロピオネート、ジステリアルー3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(β−ラウリルチオプロピオネート)等の硫黄系酸化防止剤などが挙げられる。これら酸化防止剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
オルガノポリシロキサン組成物の製造方法は、特段制限されず、上述した一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサン、一般式[2]で表される物質、及び任意成分としてその他の成分を混合することにより製造することができる。また、オルガノポリシロキサンの製造段階で一般式[2]で表される物質が製造される場合には、該物質を外部から添加する必要はなく、オルガノポリシロキサンの製造の最終段階で得られる組成物に該物質が含まれているため、これをオルガノポリシロキサン組成物として用いることができる。
以下、オルガノポリシロキサン組成物等の特性について説明する。
1H−NMRを用いることにより、オルガノポリシロキサン等における官能基量を測定することができる。測定方法は下記の通りである。
オルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物を約50mg秤量し、これを重アセトンまたは重ジクロロメタン約1gに溶解させ、1H−NMR測定用サンプルを調製する。この測定用サンプルを用いて、400MHz 1H−NMR(例えば、日本電子株式会社製AL−400)にてRelaxation Delayを20秒で測定し、各成分のシグナル強度と内部標準のシグナル強度との比率、および秤量値から官能基(例えば、フェ
ニル基、メチル基、およびオルガノオキシ基)の割合を算出する。
上記の測定において、オルガノポリシロキサンに結合していない有機物や水、金属等の不純物については、測定結果に影響しないよう0.1重量%未満に除去されている必要があり、0.1重量%を上回る場合、蒸留や濾過、その他の精製方法により除去した後に試料を調整し、1H−NMRを測定する。除去が困難である場合は、1H−NMR測定やその他の分析方法により不純物の含有量を算出し、オルガノポリシロキサンの一部として計算しないよう、不純物の重量を秤量したサンプル重量から差し引いた値を真のサンプル量として計算に用いる。なお、内部標準としては、トルエンの他、N,N−ジメチルホルムアミドやテトラブロモエタンなど、オルガノポリシロキサンと反応しない物質であれば、用いることが出来る。
29Si−NMRを用いることにより、上記の一般式[1]中のM、D、T、Qの値を算出することができる。算出方法は下記の通りである。
重クロロホルムにTris(2,4−pentanedionate)chromiumIIIが0.5質量%になるように添加し、29Si−NMR測定用溶媒を得る。次いで、測定対象のオルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物を約1.5g秤量し、上記29Si−NMR測定用溶媒を2.5mL添加して溶解させ、10mmΦテフロン(商標登録)製NMR試料管に入れた。29Si−NMR(例えば、日本電子株式会社製のJNM−ECS400、TUNABLE(10)、Siフリー、AT10プローブ)を用いて下記の測定条件で測定し、シグナルの強度比から上記一般式[1]中のM、D、T及びQの値を算出する。
測定条件:Relaxation Delay/15秒、SCAN回数/1024回、測定モード/非ゲーテッドデカップルパルス法(NNE)、スピン/なし、測定温度/25℃
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いることにより、オルガノポリシロキサンの数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を算出することができる。算出方法は下記の通りである。
オルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物を対象に、GPC(例えば、装置としては、東ソー株式会社製のTOSOH HLC−8420GPC、また、カラムとしては、昭和電工株式会社製のKF−G、KF−402.5HQ、KF−402HQ、KF−401HQ)を用いて下記条件で測定し、標準ポリスチレン換算値として算出する。試料は約10重量%のテトラヒドロフラン溶液を用い、測定前に0.45μmのフィルターで濾過したものを用いる。
カラム温度:40℃
溶離液:テトラヒドロフラン、流量0.3mL/分
ガスクロマトグラフィー(GC)を用いることにより、オルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物の有機溶媒残存量、および、一般式[2]で表される物質の含有量を測定することができる。測定方法は以下の通りである。
オルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物を対象に、GC(例えば、装置としては、アジレント・テクノロジー株式会社製の7820Aガスクロマトグラフ、また、カラムとしては、アジレント・テクノロジー株式会社製のDB−17ht、0.25mm×30m×0.15μm)を用いて下記条件で測定する。試料は約50質量%のテトラヒドロフラン溶液を用い、内部標準物質としては目的に応じて選択し、例えば、メチルシクロペンタン、トルエン、トリデカンなどを用いる。
<設定条件>
・注入口:290℃
・圧力:21.76psi (コンスタントプレッシャー)
・オーブンプログラム:65℃(2minHold)→20℃/min→325℃(40minHold) (Total 55min)
・スプリット比:1/70
・注入量:0.5μL
・検出器:290℃
<キャリヤーガス>
Air流量:350mL/min
H2流量:35ml/min
He流量:20mL/min
オルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物と樹脂との混合分散性の評価方法は、下記の通りである。
有機溶媒として、テトラグライムに水分量が10.5重量%となるように水を添加したものを11g準備し、該有機溶媒とオルガノポリシロキサン1gとを25℃で混合攪拌し、透明となったものを樹脂への混合分散性がよいもの、白濁したものを樹脂への混合分散性が悪いものと判断する。
使用するテトラグライムの純度はガスクロマトグラフィーにより、純度が99.8%以上であることを確認し、カールフィッシャー水分測定装置により含有水分濃度を確認したものを用いる。
オルガノポリシロキサン組成物中のオルガノポリシロキサンの量は一定であること、つまり、オルガノポリシロキサン組成物は安定していることが好ましい。このオルガノポリシロキサンの安定性を評価する方法として、200gのオルガノポリシロキサン組成物を1Lナス型フラスコに入れて、真空圧力0.15torrの排気能力を有する真空ポンプにて減圧下、内温110℃で2時間加熱した場合のオルガノポリシロキサンの質量減少量を評価する方法を採用した場合、その減少量は、10g以下であることが好ましく、5g以下であることがより好ましく、2g以下であることがさらに好ましく、減少が確認されないこと(検出限界以下)が特に好ましい。上記条件における重量減少量を上記の上限値以下にすることにより、樹脂との加熱混練時に一般式[2]で表される物質の揮発量が少ないために樹脂と所望のオルガノポリシロキサン組成物を均一分散することができ、製品ロット毎の一般式[2]で表される物質の含有量の振れを抑えることができ、また、オルガノポリシロキサン中に含まれる成分の引火点を比較的高く保つことができ、引火点が低い場合のリスクである、通常の条件で安全に取り扱うことが困難になることを避けることができ、消防法危険物分類においても、より危険度の低高い分類となることから、貯蔵、運搬時のコストも減少させることができる。また、硬化時の硬化物の重量減少量も小さくなることから、硬化物の貯蔵弾性率の温度依存性が小さく使用できる温度範囲が広くなる、減肉による脆化が起こりにくい、などの利点を得ることができる。なお、この減少量が小さいほど上記の利点が得られやすくなるため、上記の重量減少量好ましい下限はないが、通常0.0001g以上となる。
オルガノポリシロキサン組成物を測定対象として1H−NMRを測定し、有機溶媒等、オルガノポリシロキサンおよび一般式[2]で表される物質以外の成分の重量を算出する。具体的には、ナス型フラスコに回転子を入れ、それらの重さを測定する。その後、オルガノポリシロキサン組成物を該ナス型フラスコに入れ、オルガノポリシロキサン組成物の重量を測定する。オイルバスにてナス型フラスコを加熱し、マグネチックスターラにより
回転子を回して液面が流動する程度に撹拌し、オイル式真空ポンプにて減圧する。2時間後、室温まで冷却し、常圧に戻し、ナス型フラスコに付着したオイルを十分にふき取り、ナス型フラスコに入った状態のオルガノポリシロキサン組成物の重量を測定し、先に測定していたナス型フラスコと回転子の重さを差引き、該操作により揮発した重量を算出する。該操作後のオルガノポリシロキサン組成物の1H−NMRを測定し、有機溶媒等、オルガノポリシロキサン以外の成分の重量を算出する。該操作前後の重量減少量及び1H−NMR、および、ガスクロマトグラフィーの測定結果から、揮発した重量からオルガノポリシロキサン以外の成分の量及びオルガノポリシロキサンの揮発量を算出する。また、揮発した留出液をコールドトラップなどにより全量回収し、重量及び1H−NMR、ガスクロマトグラフィーを測定してもよい。
着色性は、250℃に加熱したホットプレートへオルガノポリシロキサンを含む組成物を10mg添加し、10分経過後の着色性を目視で確認して評価した。
粘度は、オルガノポリシロキサン組成物を測定対象として粘度計(例えば、ブルックフィールド社製のRV型粘度計RVDV−2 +Pro)を用いて得られた、温度25℃における測定値を用いる。
上述したオルガノポリシロキサン組成物や上述した一般式[1]で表されたオルガノポリシロキサンの用途は特段制限されないが、例えば、以下に示す用途で用いることができる。
オルガノポリシロキサン組成物は、他の樹脂と組み合わせて樹脂組成物として用いることができる。該樹脂組成物は、上述したオルガノポリシロキサン組成物を含んでいればよく、例えば、樹脂を含有する組成物にオルガノポリシロキサン組成物を添加した態様としてもよく、また、オルガノポリシロキサン組成物に樹脂を添加した態様としてもよい。
樹脂組成物の使用態様は特段制限されず、組成物の状態で用いてもよく、また、組成物を硬化させた硬化物の状態で用いてもよい。
またそのほかの好適な用途としては、熱可塑性樹脂用難燃剤、3Dプリンター用樹脂添加剤、LED樹脂用添加剤、蒸着方式によるガラス表面改質剤などにも、特に好適に使用される。
オルガノポリシロキサン組成物は、有機溶媒と組み合わせて有機溶媒希釈液として用いることができる。該有機溶媒希釈液は、上述したオルガノポリシロキサン組成物を含んでいればよく、例えば、有機溶媒を含有する組成物にオルガノポリシロキサン組成物を添加した態様としてもよく、また、オルガノポリシロキサン組成物に有機溶媒を添加した態様としてもよい。
オルガノポリシロキサン組成物を含む有機溶媒希釈液に含まれる有機溶媒の種類は、特段制限されず、任意に選択してよい。例えば、有機溶媒が残存した仕掛品および故意に有機溶媒に溶解した形態のものについて、容器への移し替え、販売、輸送、他物質が入った反応器への投入などを行ってもよい。
オルガノポリシロキサン組成物およびその硬化物、ならびにオルガノポリシロキサン組成物を含む樹脂組成物およびその硬化物は、電子機器用部材に含まれて用いることができる。電子機器用部材としては、例えば、LED照明用封止材およびオルガノポリシロキサンが使用されるLED関連部品への使用やLED照明用のカバー、レンズおよびカメラ用部材、スマホ用のカバー部材、電界コンデンサ用の耐電圧向上剤、パソコンキーボード用の鍵盤下のクリック感を表現する部材、パワーデバイスモジュール用の封止材などが挙げられる。また、電子機器用部材は、オルガノポリシロキサン組成物の硬化物のみからなる態様であってもよく、また、オルガノポリシロキサン組成物の硬化物を一部に含む態様であってもよい。
オルガノポリシロキサン組成物を硬化する条件は特段制限されず、公知の方法により硬化することができる。
量%以上がより好ましく、50重量%以上がさらに好ましく、また、通常99重量%以下であり、75重量%以下が好ましく、60重量%以下がより好ましく、レンズおよびカメラ用部材などがこれに該当する。
オルガノポリシロキサン組成物は、上述した用途以外にも例えば、非反応性粘度調整剤、反応性粘度調整剤、相溶化剤、潤滑剤、分散剤、凝集剤、接着剤、粘着剤、離型剤、撥水剤、撥油剤、コーティング剤、表面改質剤、金属表面補修剤、難燃性付与剤、キシミ音低減剤、無機または有機の発光素子を含む半導体デバイス封止材や基材、コーティング材、光学部材などの用途に用いることができる。
なお、以下の説明において[部]とは、特に断らない限り重量基準に基づく「重量部」を表す。
オルガノポリシロキサン及び/又はオルガノポリシロキサン組成物の評価は下記の方法で行った。
生成したオルガノポリシロキサンを約50mg秤量し、これを重アセトンまたは重ジクロロメタン約1gに溶解させ、1H−NMR測定用サンプルを調製した。400MHz 1H−NMR(日本電子株式会社製AL−400)にてRelaxation Delayを20秒で測定した、各成分のシグナル強度と内部標準のシグナル強度との比率、および秤量値からフェニル基、メチル基、およびオルガノオキシ基の割合を算出した。
重クロロホルムにTris(2,4−pentanedionate)chromiumIIIが0.5質量%になるよう添加し、29Si−NMR測定用溶媒を得た。測定対象のオルガノポリシロキサンを約1.5g秤量し、上記29Si−NMR測定用溶媒を2.5mL添加して溶解させ、10mmΦテフロン(商標登録)製NMR試料管に入れた。下記の装置および装置条件で測定し、シグナルの強度比から上記一般式[1]中のM、D、T及びQの値を算出した。
装置:日本電子株式会社製JNM−ECS400、TUNABLE(10)、Siフリー、AT10プローブ
測定条件:Relaxation Delay/15秒、SCAN回数/1024回、測定モード/非ゲーテッドデカップルパルス法(NNE)、スピン/なし、測定温度/25℃
オルガノポリシロキサンの数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、および分子量分布(Mw/Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて下記条件で測定し、標準ポリスチレン換算値として示した。試料は約10重量%のテトラヒドロフラン溶液を用い、測定前に0.45μmのフィルターで濾過したものを用いた。
装置:TOSOH HLC−8420GPC(東ソー株式会社製)
カラム:KF−G、KF−402.5HQ、KF−402HQ、KF−401HQ(いずれも昭和電工株式会社製)、カラム温度40℃
溶離液:テトラヒドロフラン、流量0.3mL/分
オルガノポリシロキサンの有機溶媒残存量、および、一般式[2]で表される物質の含有量を確認するため、ガスクロマトグラフィー(GC)を用いて下記条件で測定した。試料は約50質量%のテトラヒドロフラン溶液を用い、内部標準物質としてメチルシクロペンタンを用いた。
装置:アジレント・テクノロジー株式会社製の7820Aガスクロマトグラフ
カラム:アジレント・テクノロジー株式会社製のDB−17ht、0.25mm×30m×0.15μm
<設定条件>
・注入口:290℃
・圧力:21.76psi(コンスタントプレッシャー)
・オーブンプログラム:65℃(2minHold)→20℃/min→325℃(40minHold) (Total 55min)
・スプリット比:1/70
・注入量:0.5μL
・検出器:290℃
<キャリヤーガス>
Air流量:350ml/min
H2流量:35mL/min
He流量:20mL/min
オルガノポリシロキサンと樹脂との混合分散性を評価するために、有機溶媒との混合試験を行った。有機溶媒として、テトラグライムに水分量が10.5重量%となるように水を添加したものを11g準備し、該有機溶媒とオルガノポリシロキサン1gとを25℃で混合攪拌し、透明となったものを樹脂への混合分散性がよいもの、白濁したものを樹脂への混合分散性が悪いものと判断した。
200gのオルガノポリシロキサン組成物を1Lナス型フラスコに入れて、真空圧力0.15torrの排気能力を有する真空ポンプにて減圧下、内温110℃で2時間加熱し、質量減少率を天秤にて確認した。質量減少率が5重量%以下であるものを成形性に影響がないものと判断し、重量減少率が5重量%超であるものを成形性に影響があるものと判断した。
減圧加熱の際の重量減少は、以下の方法で測定した。
オルガノポリシロキサン組成物を測定対象として1H−NMRを測定し、有機溶媒等、オルガノポリシロキサン以外の成分の重量を算出した。具体的には、ナス型フラスコに回転子を入れ、それらの重さを測定した。その後、オルガノポリシロキサン組成物を該ナス型フラスコに入れ、オルガノポリシロキサン組成物の重量を測定した。オイルバスにてナス型フラスコを加熱し、マグネチックスターラにより回転子を回して液面が流動する程度に撹拌し、オイル式真空ポンプにて減圧した。2時間後、室温まで冷却し、常圧に戻し、ナス型フラスコに付着したオイルを十分にふき取り、ナス型フラスコに入った状態のオルガノポリシロキサン組成物の重量を測定し、先に測定していたナス型フラスコと回転子の重さを差引き、該操作により揮発した重量を算出した。該操作後のオルガノポリシロキサン組成物の1H−NMRを測定し、有機溶媒等、オルガノポリシロキサン以外の成分の重量を算出した。該操作前後の重量減少量及び1H−NMRの測定結果から、揮発した重量からオルガノポリシロキサン以外の成分の量及びオルガノポリシロキサンの揮発量を算出した。
250℃に加熱したホットプレートへオルガノポリシロキサンを10mg添加し、10分経過後の着色性を目視で確認した。
粘度は、オルガノポリシロキサン組成物を測定対象としてブルックフィールド社製RV型粘度計RVDV−2 +Proを用いて得られた、温度25℃における測定値とした。
オルガノポリシロキサンの製造に使用した原料等を以下に示す。
・ヘキサメチルジシロキサン(NuSil Technology社製)
・フェニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製 KBM−103)
・トルエン(キシダ化学株式会社製)
・メタノール(キシダ化学株式会社製)
・ヘプタン(キシダ化学株式会社製)
・1N塩酸(キシダ化学株式会社製)
・2N水酸化カリウム水溶液(キシダ化学株式会社製)
オルガノポリシロキサン1の原料として、ヘキサメチルジシロキサン32部、フェニルトリメトキシシラン73部、溶媒としてトルエン19部、メタノール19部、触媒及び反応基質として1N塩酸15部を使用し、40℃で7時間加水分解縮合を行った。2N水酸化カリウム水溶液を13部加えた後、さらに40℃で2時間反応させた。塩酸および脱塩水による洗浄によりカリウム成分を除去した後、溶媒等の低沸点成分をダイアフラムポンプを使用して80℃に加熱しながら留去した。この際、トルエン、メタノール、及び水を除き、オルガノポリシロキサン組成物を得た。該オルガノポリシロキサン組成物中に、一般式[2]で表される物質に該当するトリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが約3重量%含有していることをガスクロマトグラフィーにより確認した。その後、さらに120℃から140℃の高温に加熱しながら高真空条件でトルエンのピークが検出されなくなるまで留去を継続し、常温で液状のオルガノポリシロキサン組成物1を得た。
また、1H−NMRによる分析の結果、フェニル基の量は5.0mmol/g、トリメチルシロキシ基の量は4.4mmol/g、メトキシ基の量は0.31mmol/gであり、29Si−NMR測定の結果、ケイ素の構成単位M、D、T、及びQの値は、それぞれM=0.46、D=0、T=0.54、Q=0であることが確認された。これは、一般式[1]において、M1=0.46、T1=0.54、E1=0.035であり、R4がフェニル基であり、それ以外のR1〜R3、R5がメチル基であることを意味する。
また、ガスクロマトグラフィーより、このオルガノポリシロキサン組成物において、溶媒として使用したメタノール及びトルエンは検出されず、トリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが2.1重量%含有されていることが確認された。これは、一般式[2]としてR9がフェニル基であり、R6〜R8がメチル基であり、係数T2=1、M2=3、E2=0である物質が含有されていることが確認された。
オルガノポリシロキサン組成物1に対し、さらに高温高真空条件で留去操作を継続し、オルガノポリシロキサン組成物2を得た。ガスクロマトグラフィーより、オルガノポリシ
ロキサン組成物2からは、一般式[2]で物質に該当するトリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが検出されなかった。得られたオルガノポリシロキサン組成物2の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は901、重量平均分子量(Mw)は960、分子量分布(Mw/Mn)は1.07であった。また、1H−NMRによる分析の結果、フェニル基の量は5.1mmol/g、トリメチルシロキシ基の量は4.3mmol/g、メトキシ基の量は0.26mmol/gであり、これは、一般式[1]において、M1=0.45、T1=0.55、E1=0.033であり、R4はフェニル基であり、それ以外のR1からR5はメチル基であることを意味する。
反応時の攪拌効率を高めたこと以外製造例1と同様の製造条件を適用し、オルガノポリシロキサン組成物3を製造した。得られたオルガノポリシロキサン組成物3の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が905、重量平均分子量(Mw)が976、分子量分布(Mw/Mn)が1.08であることが確認された。また、1H−NMRによる分析の結果、フェニル基の量は5.2mmol/g、トリメチルシロキシ基の量は4.2mmol/g、メトキシ基の量は0.31mmol/gであり、これは、一般式[1]において、M1=0.45、T1=0.55、E1=0.033であり、R4はフェニル基であり、それ以外のR1からR5はメチル基であることが確認された。また、ガスクロマトグラフィーより、このオルガノポリシロキサン組成物3からは、溶媒として使用したメタノールおよびトルエンは検出されず、トリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが0.6重量%含有されていることが確認された。これは、一般式[2]としてR9がフェニル基であり、R6からR8がメチル基であり、係数T2=1、M2=3、E2=0である物質が含有されていることを意味する。
40℃で7時間加水分解縮合を行ったのち、室温で14時間熟成したこと以外製造例1と同様の製造条件を適用し、オルガノポリシロキサン組成物4を製造した。得られたオルガノポリシロキサン組成物4の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が926、重量平均分子量(Mw)が1059、分子量分布(Mw/Mn)が1.14であることが確認された。また、1H−NMRによる分析の結果、フェニル基の量が5.2mmol/g、トリメチルシロキシ基の量が4.1mmol/g、メトキシ基の量が0.27mmol/gであり、これは、一般式[1]において、M1=0.44、T1=0.56、E1=0.029であり、R4はフェニル基であり、それ以外のR1〜R5はメチル基である。また、ガスクロマトグラフィーより、このオルガノポリシロキサン組成物中には溶媒として使用したメタノール及びトルエンは検出されず、トリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが1.3重量%含有されていることが確認された。これは、一般式[2]としてR9がフェニル基であり、R6からR8がメチル基であり、係数T2=1、M2=3、E2=0である物質を含有していることを意味する。
製造例1に基づき製造する際、溶媒を留去する工程を行う前のオルガノポリシロキサン組成物を仕掛品5とし、仕掛品5の溶媒を留去する工程で水酸化カリウムが釜内に付着した状態で留去し、製造したこと以外製造例1と同様の製造条件を適用し、オルガノポリシロキサン組成物5を製造した。
得られたオルガノポリシロキサン組成物5の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は937、重量平均分子量(Mw)は1049、分子量分布(Mw/Mn)は1.12であった。また、1H−NMRによる分析の結果、フェニル基の量は5.1mmol/g、トリメチルシロキシ基の量は4.4mmol/g、メトキシ基の量は0.31mmol/gであり、これは、一般式[1]において、M1=0.46、T1=0.54、E1=0.033であり、R4はフェニル基であり、それ以外のR1からR5はメチル基である。また、ガスクロマトグラフィーより、このオルガノポリシロキサン組成物中には溶媒として使用したメタノールおよびトルエンは検出されず、トリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが1.8重量%含有していた。これは、一般式[2]としてR9がフェニル基であり、R6からR8がメチル基であり、係数T2=1、M2=3、E2=0である物質を含有すること意味する。
製造例1に基づき製造する際、溶媒を留去する工程を行う前の組成物を仕掛品6とし、仕掛品6に対し、水酸化カリウム濃度を2ppmとなるよう添加し、留去以降の工程を製造例1と同様の製造条件を適用し、オルガノポリシロキサン組成物6を製造した。
得られたオルガノポリシロキサン組成物6の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は963、重量平均分子量(Mw)は1118、分子量分布(Mw/Mn)は1.16であった。
仕掛品6の水酸化カリウム濃度を0.2ppmとしたこと以外製造例6と同様の製造条件を適用し、オルガノポリシロキサン組成物7を製造した。
得られたオルガノポリシロキサン組成物7の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は899、重量平均分子量(Mw)は965、分子量分布(Mw/Mn)は1.07であった。
Claims (21)
- 成分Aとして、下記一般式[1]で表され、分子量分布(Mw/Mn)が1.01〜1.4であり、かつ、数平均分子量が700<Mn<2000であるオルガノポリシロキサンと、成分Bとして、下記一般式[2]で表される物質とを含み、
該成分A及び該成分Bが、0.1≦{(成分Bの重量)×100}/{(成分Aの重量)+(成分Bの重量)}≦9の関係を満たし、かつ、
該成分Aに対し、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たす物質の含有量が、0.01重量%以上9重量%以下であり、かつ、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たさない物質の含有量が、3重量%以下であることを特徴とする、オルガノポリシロキサン組成物である。
(R1R2R3SiO1/2)M1(R4SiO3/2)T1(SiO4/2)Q(O1/2R5)E1 ・・・[1]
(R6R7R8SiO1/2)M2(R9SiO3/2)T2(O1/2R10)E2
・・・[2]
ここで、上記式[1]中、
R1〜R4は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
R5は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
係数M1、T1、及び、Qは、それぞれ独立して、0以上0.65未満であり、M1+T1+Q=1を満たし;
係数M1、T1、Q、E1は、0<T1+Q<0.65、0.25<T1、及び0<E1/(M1+E1)<1を満たす。
ここで、上記式[2]中、
R6〜R8は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
R9は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
R10は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
M2は、1〜5の正の整数であり、係数T2は、1〜3の正の整数であり、係数E2は0〜5の整数である。 - 前記一般式[1]において、前記R4で表される有機基がフェニル基であることを特徴とする、請求項1に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記係数M1が0.40以上0.55以下、かつ前記係数T1が0.45以上0.58以下であることを特徴とする、請求項1または2に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記係数E1が0.01以上0.1以下であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記R1〜R3がメチル基であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 200gのオルガノポリシロキサン組成物を1Lナス型フラスコに入れて、真空圧力0.15torrの排気能力を有する真空ポンプにて減圧下、内温110℃で2時間加熱し
た際、オルガノポリシロキサンの質量減少量が10g以下であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。 - 前記係数Qが0であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記一般式[2]において、R9がフェニル基であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記一般式[2]において、R6〜R8がメチル基であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記一般式[2]で表される物質として、前記係数T2が1である物質を含むことを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記一般式[2]で表される物質として、前記係数M2が3である物質を含むことを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- オルガノポリシロキサン組成物中の前記一般式[2]で表される物質の含有量が0.5〜3重量%であることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 請求項1〜12のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物を含むことを特徴とする、樹脂組成物。
- 請求項1〜12のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物を含むことを特徴とする、有機溶媒希釈液。
- 請求項1〜12のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物またはその硬化物を有することを特徴とする、電子機器用部材。
- 請求項13に記載の樹脂組成物またはその硬化物を有することを特徴とする、電子機器用部材。
- 下記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンの製造方法であって、加熱工程を有し、該加熱工程における加熱温度が100℃以上であり、該加熱工程における原料混合物中のアルカリの含有量が100ppm未満であり、
該オルガノポリシロキサンの分子量分布(Mw/Mn)が1.01〜1.4であり、かつ、数平均分子量が700<Mn<2000であることを特徴とする、オルガノポリシロキサンの製造方法。
(R1R2R3SiO1/2)M1(R4SiO3/2)T1(SiO4/2)Q(O1/2R5)E1 ・・・[1]
ここで、上記式[1]中、
R1〜R4は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
R5は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
係数M1、T1、及び、Qは、それぞれ独立して、0以上0.65未満であり、M1+T1+Q=1を満たし;
また、係数M1、T1、Q、E1は、0<T1+Q<0.65、0.25<T1、および
0<E1/(M1+E1)<1を満たす。 - 請求項1〜12のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物に含まれるオルガノポリシロキサンを製造する、請求項17に記載のオルガノポリシロキサンの製造方法。
- 請求項13に記載の樹脂組成物に含まれるオルガノポリシロキサンを製造する、請求項17に記載のオルガノポリシロキサンの製造方法。
- 請求項14に記載の有機溶媒希釈液に含まれるオルガノポリシロキサンを製造する、請求項17に記載のオルガノポリシロキサンの製造方法。
- 請求項15に記載の電子機器用部材の製造に用いられるオルガノポリシロキサン組成物又はその硬化物に含まれるオルガノポリシロキサンを製造する、請求項17に記載のオルガノポリシロキサンの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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---|---|---|---|
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024106667A Division JP2024127914A (ja) | 2020-03-31 | 2024-07-02 | オルガノポリシロキサン組成物 |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021161247A true JP2021161247A (ja) | 2021-10-11 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09111123A (ja) * | 1995-08-02 | 1997-04-28 | Dow Corning Corp | オルガノシロキサン組成物 |
WO2013005858A1 (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-10 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置 |
JP2014074183A (ja) * | 2011-04-21 | 2014-04-24 | Jsr Corp | ポリシロキサン |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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WO2013005858A1 (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-10 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP2024127914A (ja) | 2024-09-20 |
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