JP2021161278A - オルガノポリシロキサン組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
しかし、種々の添加剤を混合した樹脂へオルガノポリシロキサンを混合した場合に特定の成分が析出してしまい、また、高分子量化した樹脂へオルガノポリシロキサンを混合した場合に樹脂の粘度が高いためにオルガノポリシロキサンが拡散しにくくなり、組成物中でオルガノポリシロキサンの濃度勾配が生じてその成形品の物性にムラが生じるなど、オルガノポリシロキサンの均一分散が困難であることに起因する問題も発生している。このような場合、分子量分布が狭く、かつ揮発するような低分子量成分を持たない液状のオルガノポリシロキサン組成物を用い、有機溶媒により希釈し、混合することでオルガノポリシロキサンの分散性を改善することも可能であるが、成形時の金型解放時に引火性蒸気が揮散して危険性を伴うことや、凝縮した有機溶媒が成形品を再溶解し、白化させ、外観不良を引き起こすこと、有機溶媒の揮発で温度が低下してしまうことによる硬化不良、有機溶媒が成形品に残存することによる樹脂融点の低下、成形品から徐々に有機溶媒が揮発することにより生じる経時的な収縮、有機溶媒の揮発に伴い空隙が生じることでの強度低下、有機溶媒の酸化等による着色など、オルガノポリシロキサンを添加する前の利点が一部損なわれることも在った。
また、オルガノポリシロキサンの粘度が高い場合にそれを含む組成物とした際、成形時の流動性が悪く、金型への充填が不十分となることや空気を樹脂中に取り込んだ状態で硬化してしまうなど、用途によってはオルガノポリシロキサンが高粘度であることにより、様々な悪影響を及ぼすことがあった。
ヘアワックスやリップグロスなどの化粧品用途へ使用する場合には、オルガノポリシロキサンの粘度が質感に大きく影響を与えるため、重要な要素となっている。
[1]成分Aとして、一般的[1]で表されるオルガノポリシロキサンと、成分Bとして、下記一般式[2]で表される物質とを含み、かつ、該成分A及び該成分Bが、0.1≦{(成分Bの重量)×100}/{(成分Aの重量)+(成分Bの重量)}≦9の関係を満たし、かつ、
成分Aに対し、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たす物質の含有量が、0.01重量%以上、9重量%以下であり、かつ、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たさない物質の含有量が、3重量%以下であることを特徴とする、オルガノポリシロキサン組成物である。
RXSiO(4−X)/2 ・・・[1]
(R1R2R3SiO1/2)M2(R4SiO3/2)T2(O1/2R5)E2 ・・・[2]
ここで、上記式[1]中、
Rは、それぞれ独立して、有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく、
係数Xは、それぞれ独立して、0<X≦4を満たす。
ここで、上記式[2]中、
R1〜R3は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R4は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R5は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
係数M2は、1〜5の正の整数であり、係数T2は、1〜3の正の整数であり、係数E2は0〜5の整数である。
[2]前記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンとして、ジメチルポリシロキサン、または、MQレジンを含むことを特徴とする、[1]に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[3]前記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンが、トリメチルシロキシ基、ジメチルビニルトリメチルシロキシ基、および、ジメチルシロキシ基からなる群から選択される基を有することを特徴とする、[1]または[2]に記載のオルガノポリシロキサ
ン組成物。
[4]前記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンがフェニル基を有することを特徴とする、[1]〜[3]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[5]200gのオルガノポリシロキサン組成物を1Lナス型フラスコに入れて、真空圧力0.15torrの排気能力を有する真空ポンプにて減圧下、内温110℃で2時間加熱した際、オルガノポリシロキサンの質量減少量が10g以下であることを特徴とする、[1]〜[4]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[6]前記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンが40℃で液体であることを特徴とする、[1]〜[5]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[7]前記一般式[2]において、R4がフェニル基であることを特徴とする、[1]〜[6]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[8]前記一般式[2]において、R1〜R3がメチル基であることを特徴とする、[1]〜[7]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[9]前記一般式[2]で表される物質として、前記係数T2が1である物質を含むことを特徴とする、[1]〜[8]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[10]前記一般式[2]で表される物質として、前記係数M2が3である物質を含むことを特徴とする、[1]〜[9]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[11]オルガノポリシロキサン組成物中の前記一般式[2]で表される物質の含有量が、0.5〜3重量%であることを特徴とする、[1]〜[10]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物。
[12][1]〜[11]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物を含むことを特徴とする、樹脂組成物。
[13][1]〜[11]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物を含むことを特徴とする、有機溶媒希釈液。
[14][1]〜[11]のいずれかに記載のオルガノポリシロキサン組成物またはその硬化物を有することを特徴とする、電子機器用部材。
また、上記のオルガノポリシロキサン組成物は、臭気性及び着色性に優れ、引火点を比較的高く保つことができるという効果も有する。
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味し、「A〜B」は、A以上B以下であることを意味する。
また、本明細書において、2つ以上の対象を併せて説明する際に用いる「独立して」とは、それらの2つ以上の対象が同じであっても異なっていてもよいという意味で使用される。
本発明の一実施形態であるオルガノポリシロキサン組成物(以下、単に「オルガノポリシロキサン組成物」とも称する)は、成分Aとして、一般的[1]で表されるオルガノポリシロキサン(以下、単に「オルガノポリシロキサン」とも称する)と、成分Bとして、下記一般式[2]で表される物質とを含み、該成分A及び該成分Bが、0.1≦{(成分Bの重量)×100}/{(成分Aの重量)+(成分Bの重量)}≦9の関係を満たし、かつ、
成分Aに対し、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たす物質の含有量が、0.01重量部以上、9重量部以下であり、かつ、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たさない物質の含有量が、3重量部以下であることを特徴とする、オルガノポリシロキサン組成物である。
RXSiO(4−X)/2・・・[1]
(R1R2R3SiO1/2)M2(R4SiO3/2)T2(O1/2R5)E2 ・・・[2]
ここで、上記式[1]中、
Rは、それぞれ独立して、有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく、
係数Xは、それぞれ独立して、0<X≦4を満たす。
ここで、上記式[2]中、
R1〜R3は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R4は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R5は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;係数M2は、1〜5の正の整数であり、係数T2は、1〜3の正の整数であり、係数E2は0〜5の整数である。
オルガノポリシロキサン組成物は、成分Aとして、上記の一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンを含む。
RXSiO(4−x)/2・・・[1]
有機基またはケイ素に結合した酸素に結合する有機基の各成分の含有量を表しており、M単位、D単位、T単位、Q単位のケイ素単位の各成分の含有量表しており、オルガノポリシロキサンの各成分それぞれからなるオルガノポリシロキサンを表している。Rは有機基である。係数Xにおける「それぞれ独立して」の文言について、一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンは、一般式[1]を満たす複数の構造を有するオルガノポリシロキサンであり得るため、それらの複数の構造が同一であっても、異なってもよいことを示す文言である。
この場合の樹脂は極性が低い樹脂に該当し、Rは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、および、ビニル基を好適に使用できる。
この場合の樹脂は極性が低い樹脂および高い樹脂の双方に該当し、Rは、それぞれ独立して、フェニル基を有することが好ましく、特に、メチル基、フェニル基を組み合わせて使用することが好適である。
この場合の樹脂は極性が高い樹脂に該当し、Rは、それぞれ独立して、アクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシオクチル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、および、メチル基との組み合わせが好適に使用できる。
この場合の樹脂は極性が高い樹脂に該当し、Rは、それぞれ独立して、エチレングリコールモノエチレンエーテル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、フェニル基、フェネチレン基、スチリル基、ビニル基、および、メチル基との組み合わせが好適に使用でき、相溶性やポリカーボネートと混合する際の200℃を超える熱に対する耐熱性の観点では、Rは、メチル基、および、フェニル基を含む場合が好適である。
M単位とは、R1’R2’R3’SiO1/2で表される構成単位であり、D単位とは、R4’R5’SiO2/2で表される構成単位であり、T単位とは、R1’SiO1/2で表される構成単位であり、Q単位とは、SiO4/2で表される構成単位である。これらの構成単位におけるR1’〜R1’は、上述のRの条件と同様とすることができる。これらの構成単位を有し得るオルガノポリシロキサンは、下記の一般式[A]で表すことができる。
(R1’R2’R3’SiO1/2)M1’(R4’R5’SiO2/2)D1’(R1’SiO1/2)T1’(SiO4/2)Q’ ・・・[A]
ここで、上記一般式[A]において、係数M1’、D1’、T1’、Q’は、それぞれ0以上、1以下であり、M1’+D1’+T1’+Q’=1とすることができる。
く、10000以下であることがより好ましい。
数平均分子量Mnは、後述する方法で測定する。
重量平均分子量Mwは、後述する方法で測定する。
本発明の別の実施形態であるオルガノポリシロキサンの製造方法(以下、単に「オルガノポリシロキサンの製造方法」とも称する)は、公知のオルガノポリシロキサン製造法を用い製造することが可能であり、当業者においては容易に製造可能である。
オルガノポリシロキサン組成物は、粘度調整剤として下記一般式[2]で表される物質を含む。
(R1R2R3SiO1/2)M2(R4SiO3/2)T2(O1/2R5)E2 ・・・[2]
上記式[2]中、
R1〜R3は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R4は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R5は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;係数M2は、1〜5の正の整数であり、係数T2は、1〜3の正の整数であり、係数E2は0〜5の整数である。
T2+2−M2+E2=0は、シロキサン結合での環状体化合物を含まないことを意味する。環状体化合物はT3以上で存在し、環状体化合物においても粘度低減効果があり、樹脂との混合後、製品の保存性を問わない分野では使用可能である。また、環状体化合物は開環することによる粘度低減効果が変わることがあり、製品の安定性の観点から、含まないことが望ましいが、少量含んでいてもよい。一般式[1]で示されるオルガノポリシロキサン(成分A)に対し(成分Aを100重量%とした場合)、T2、M2、及びE2
がT2+2−M2+E2=0を満たす物質の含有量は、上記の観点から、0.01重量%以上、9重量%以下であり、0.5重量%以上であることが好ましく、0.6重量%以上であることがより好ましく、1重量%以上であることがさらに好ましく、また、7重量%以下であることが好ましく、5重量%以下であることがより好ましく、4重量%以下であることがさらに好ましい。一般式[1]で示されるオルガノポリシロキサン(成分A)に対し、T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たさない物質の含有量は、上記の観点から、3重量%以下であり、0.1重量%以下がより好ましく、0.01重量%以下がさらに好ましく、含まないこと(0ppm)が最も好ましいが、通常0重量%以上であり、0.001重量%以上は含まれ得る。
この場合の樹脂は極性が低い樹脂に該当し、R1〜R4は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、および、ビニル基を好適に使用でき、特に、R1〜R3のうちの一つが水素原子、または、ビニル基であり、残り二つがメチル基である場合、R1〜R3が全てメチル基である場合、および、それらの任意の組み合わせがより好ましく、また、R4は水素原子、メチル基、ビニル基、である場合がより好ましく、ヒドロシリル化等の反応を伴
う場合には、水素原子、ビニル基がより好ましく、反応させたくない場合は安定性の観点でメチル基がより好ましく、R1〜R4がすべてメチル基であることがさらに好ましい。
この場合の樹脂は上記混合する成分の極性が低い樹脂および高い樹脂の双方に該当し、R1〜R4は、メチル基、フェニル基を組み合わせて使用することが好適であり、特に、R1〜R3のうちの一つが水素原子、または、ビニル基であり、残り二つがメチル基、R1〜R3がメチル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、R4はフェニル基がより好ましい。R1〜R3がすべてメチル基であり、R4がフェニル基であることが最も好ましい。
この場合の樹脂は上記混合する成分の極性が高い樹脂に該当し、R1〜R4は、アクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシオクチル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、および、メチル基との組み合わせが好適に使用でき、特に、R1〜R3のうちの一つが水素原子、または、ビニル基であり、残り二つがメチル基、R1〜R3がメチル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、R4はアクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基、メタクリロキシオクチル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、フェニル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、鉛筆硬度やショア硬度などの硬さを硬くする観点では、アクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基、グリシドキシプロピル基が好適であり、柔軟性や脆性の観点では、メタクリロキシオクチル基、グリシドキシオクチル基が好適である。
この場合の樹脂は上記混合する成分の極性が高い樹脂に該当し、R1〜R4は、エチレングリコールモノエチレンエーテル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシオクチル基、フェニル基、フェネチレン基、スチリル基、ビニル基、および、メチル基との組み合わせが好適に使用でき、特に、R1〜R3のうちの一つが水素原子、ビニル基、エチレングリコールモノエチレンエーテル基、グリシドキシプロピル基であり、残り二つがメチル基、R1〜R3がメチル基、および、それらの組み合わせがより好ましく、R3はフェニル基がより好ましく、相溶性やポリカーボネートと混合する際の200℃を超える熱に対する耐熱性の観点では、R1〜R3がすべてメチル基、R4がフェニル基の場合が好適である。
また、T単位の結合手への修飾において、M単位は脱離に伴うシラノール化および脱水縮合が起こりにくいが、E2で表されるアルコキシ基およびシラノール基は脱水縮合により反応させることが容易であるため、反応性の観点から、M2は少ない方が好ましく、T2の最大値が3であることから、T2が3の場合は、M2は4以下が好ましく、より好ましくは2以下であり、さらに好ましくは1であり、また、0の場合は非常に加水分解縮合
しやすく、経時での粘度変化が大きいため、保存安定性の観点から、M2は1以上であり;T2が2の場合は、M2は3以下が好ましく、より好ましくは2以下であり、さらに好ましくは1であり、また、0の場合は非常に変化しやすく、経時での粘度変化が大きく、保存安定性の観点から、M2は1以上であり;T2が1の場合は、M2は3以下が好ましく、より好ましくは2以下であり、さらに好ましくは1であり、また、0の場合は非常に変化しやすく、経時での粘度変化が大きく、保存安定性の観点から、M2は1以上である。
さらに、オルガノポリシロキサン組成物において、成分A(上記の一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサン)の重量と成分B(上記の一般式[2]で表される物質)の重量との和に対する、成分Bの重量の100の値({(成分Bの重量)×100}/{(成分Aの重量)+(成分Bの重量)})は、オルガノポリシロキサンの粘度を下げる観点および成分Bの揮発性の観点から、0.1以上、9以下であるが、通常0.5以上であり、0.6以上であることが好ましく、1.3以上であることがより好ましく、また、通常7以下であり、5以下であることが好ましく、3以下であることがより好ましい。
なお、成分Aとしても、成分Bとしても考えられる成分は、本明細書においては、成分Bとして考えるものとする。
一般式[2]で表される物質の製造方法は特段制限されず、公知の方法により製造することができ、また、トリス(トリメチルシロキシ)フェニルシラン(PTTSS)等の市販品を用いることもできる。また、一般式[2]で表される物質は、意図的に添加する場合のみならず、M単位およびT単位を含む材料を原料として製造するような方法では、製造段階で含まれ得る物質であり、オルガノポリシロキサン製造時において意図して添加せずとも含有するようなことも考え得る。しかし、当該業者にとって一般式[2]で表される物質は、一般式[1]のオルガノポリシロキサンではない特定のオルガノポリシロキサンを製造した際、電極接点の不良問題(通称ローボラタイル問題)を引き起こす物質として忌み嫌われ、薄膜蒸留などの蒸留により、0.1重量%未満に除去されてきた。また、
一般式[1]のオルガノポリシロキサンを製造する際に、一般式[2]である物質を生成させることで、意図して添加せずとも含有させることが可能であり、その場合、目的に応じて一般式[2]で表される物質の含有量を調整することで、粘度を調整することが可能であり、オルガノポリシロキサン組成物をガスクロマトグラフィーにて分析して、一般式[2]で表される物質の含有量を定量し、薄膜蒸留などの蒸留により、該物質の含有量を制御することで目的を達成することも可能である。
オルガノポリシロキサン組成物には、上述した一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサン、及び一般式[2]で表される物質以外の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、硬化触媒、連鎖重合開始剤、酸化防止剤、フィラー、硬化剤、硬化制御剤等が挙げられる。
オルガノポリシロキサン組成物中のその他の成分の含有量は、特段制限されず、本発明の効果が得られる範囲で、目的に合わせ任意に添加してよい。
硬化触媒の種類は、特段制限されず、例えば、付加重合触媒や縮合重合触媒等が挙げられる。
付加重合触媒の例としては、白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、1,3−ジビニル‐1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンとの白金(0)錯体、1,3,5,7−テトラビニル‐1,3,5,7−テトラメチルシクロシロキサンとの白金(0)錯体、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などの白金族金属触媒が挙げられる。付加重合触媒の配合量は、白金族金属としてオルガノポリシロキサン合計重量に対して通常1ppm以上、好ましくは2ppm以上であり、通常100ppm以下、好ましくは50ppm以下、さらに好ましくは20ppm以下である。これにより触媒活性が高く、硬化物の透明性が高いものとすることができる。また、付加重合触媒は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
連鎖重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、アニオン重合開始剤などが挙げられるが、ラジカル重合開始剤を使用する方法が一般的である。
光重合開始剤としては、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、分子内水素引き抜き型光重合開始剤、オキシムエステル光重合開始剤などを用いることができ、好適なものとして、アルキルフェノン系光重合開始剤を用い
ることができる。
有機過酸化物としては、例えば、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドなどが挙げられ、より具体的には、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t−アミルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、3−ヒドロキシ−1,1−ジメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルパーオキシネオデカノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシマレイン酸、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(3−メチルベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジブチルパーオキシトリメチルアジペート、t−アミルパーオキシノルマルオクトエート、t−アミルパーオキシイソノナノエート、t−アミルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキシドなどが挙げられる。
硬化性組成物は、酸化防止剤をさらに含有することが好ましい。硬化性組成物が酸化防止剤を含有することで、硬化物のはんだリフロー等の熱による着色を抑制できる。
酸化防止剤の具体例としては、2,6−ジ−t−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、トリエチレングリコールビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオールビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]等のフェノール系酸化防止剤;トリフェニルホスファイト、トリスイソデシルホスファイト、トリストリデシルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、テトラ(C12〜15アルキル)−4,4‘−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト等のリン系酸化防止剤;ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジトリデシル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリス
チル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステリアル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(β−ラウリルチオプロピオネート)等の硫黄系酸化防止剤などが挙げられる。これら酸化防止剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
オルガノポリシロキサン組成物の製造方法は、特段制限されず、上述した一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサン、一般式[2]で表される物質、及び任意成分としてその他の成分を混合することにより製造することができる。また、オルガノポリシロキサンの製造段階で一般式[2]で表される物質が製造される場合には、該物質を外部から添加する必要はなく、オルガノポリシロキサンの製造の最終段階で得られる組成物に該物質が含まれているため、これをオルガノポリシロキサン組成物として用いることができる。
以下、オルガノポリシロキサン組成物の特性について説明する。
1H−NMRを用いることにより、オルガノポリシロキサン中の官能基量を測定することができる。測定方法は下記の通りである。
オルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物を約50mg秤量し、これを重アセトンまたは重ジクロロメタン約1gに溶解させ、1H−NMR測定用サンプルを調製する。この測定用サンプルを用いて、400MHz 1H−NMR(例えば、日本電子株式会社製AL−400)にてRelaxation Delayを20秒で測定し、各成分のシグナル強度と内部標準のシグナル強度との比率、および秤量値から官能基(例えば、フェニル基、メチル基、およびオルガノオキシ基)の割合を算出する。
上記の測定において、オルガノポリシロキサンに結合していない有機物や水、金属等の不純物については、測定結果に影響しないよう0.1重量%未満に除去されている必要があり、0.1重量%を上回る場合、蒸留や濾過、その他の精製方法により除去した後に試料を調整し、1H−NMRを測定する。除去が困難である場合は、1H−NMR測定やその他の分析方法により不純物の含有量を算出し、オルガノポリシロキサンの一部として計算しないよう、不純物の重量を秤量したサンプル重量から差し引いた値を真のサンプル量として計算に用いる。なお、内部標準としては、トルエンの他、N,N−ジメチルホルムアミドやテトラブロモエタンなど、オルガノポリシロキサンと反応しない物質であれば、用いることが出来る。
29Si−NMRを用いることにより、上記の一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサン中のM、D、T、Qの値を算出することができる。算出方法は下記の通りである。
重クロロホルムにTris(2,4−pentanedionate)chromiumIIIが0.5質量%になるように添加し、29Si−NMR測定用溶媒を得る。次いで、測定対象のオルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物を約1.5g秤量し、上記29Si−NMR測定用溶媒を2.5mL添加して溶解させ、10mmΦテフロン(商標登録)製NMR試料管に入れた。29Si−NMR(例えば、日本電子株式会社製のJNM−ECS400、TUNABLE(10)、Siフリー、AT10プローブ)を用いて下記の測定条件で測定し、シグナルの強度比から上記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサン中のM、D、T及びQの値を算出する。
測定条件:Relaxation Delay/15秒、SCAN回数/1024回、測定モード/非ゲーテッドデカップルパルス法(NNE)、スピン/なし、測定温度/25℃
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いることにより、オルガノポリシロキサンの数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を算出することができる。算出方法は下記の通りである。
オルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物を対象に、GPC(例えば、装置としては、東ソー株式会社製のTOSOH HLC−8420GPC、また、カラムとしては、昭和電工株式会社製のKF−G、KF−402.5HQ、KF−402HQ、KF−401HQ)を用いて下記条件で測定し、標準ポリスチレン換算値として算出する。試料は約10重量%のテトラヒドロフラン溶液を用い、測定前に0.45μmのフィルターで濾過したものを用いる。
カラム温度:40℃
溶離液:テトラヒドロフラン、流量0.3mL/分
ガスクロマトグラフィー(GC)を用いることにより、オルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物の有機溶媒残存量、および、一般式[2]で表される物質の含有量を測定することができる。測定方法は以下の通りである。
オルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物を対象に、GC(例えば、装置としては、アジレント・テクノロジー株式会社製の7820Aガスクロマトグラフ、また、カラムとしては、アジレント・テクノロジー株式会社製のDB−17ht、0.25mm×30m×0.15μm)を用いて下記条件で測定する。試料は約50質量%のテトラヒドロフラン溶液を用い、内部標準物質としては目的に応じて選択し、例えば、メチルシクロペンタン、トルエン、トリデカンなどを用いる。
<設定条件>
・注入口:290℃
・圧力:21.76psi(コンスタントプレッシャー)
・オーブンプログラム:65℃(2minHold)→20℃/min→325℃(40minHold) (Total 55min)
・スプリット比:1/70
・注入量:0.5μL
・検出器:290℃
<キャリヤーガス>
Air流量:350mL/min
H2流量:35ml/mi
He流量:
オルガノポリシロキサンまたはそれを含む組成物と樹脂との混合分散性の評価方法は、下記の通りである。
有機溶媒として、テトラグライムに水分量が10.5重量%となるように水を添加したものを11g準備し、該有機溶媒とオルガノポリシロキサン1gとを25℃で混合攪拌し、透明となったものを樹脂への混合分散性がよいもの、白濁したものを樹脂への混合分散性が悪いものと判断する。
使用するテトラグライムの純度はガスクロマトグラフィーにより、純度が99.8%以上であることを確認し、カールフィッシャー水分測定装置により含有水分濃度を確認したものを用いる。
オルガノポリシロキサン組成物中のオルガノポリシロキサンの量は一定であること、つ
まり、オルガノポリシロキサン組成物は安定していることが好ましい。このオルガノポリシロキサンの安定性を評価する方法として、200gのオルガノポリシロキサン組成物を1Lナス型フラスコに入れて、真空圧力0.15torrの排気能力を有する真空ポンプにて減圧下、内温110℃で2時間加熱した場合のオルガノポリシロキサンの質量減少量を評価する方法を採用した場合、その減少量は、10g以下であることが好ましく、5g以下であることがより好ましく、2g以下であることがさらに好ましく、減少が確認されないことが特に好ましい(検出限界以下)。上記条件における重量減少量を上記の上限値以下にすることにより、樹脂との加熱混練時に一般式[2]で表される物質の揮発量が少ないために樹脂と所望のオルガノポリシロキサン組成物を均一分散することができ、製品ロット毎の一般式[2]で表される物質の含有量の振れを抑えることができ、また、オルガノポリシロキサン中に含まれる成分の引火点を比較的高く保つことができ、引火点が低い場合のリスクである、通常の条件で安全に取り扱うことが困難になることを避けることができ、消防法危険物分類においても、より危険度の低高い分類となることから、貯蔵、運搬時のコストも減少させることができる。また、硬化時の硬化物の重量減少量も小さくなることから、硬化物の貯蔵弾性率の温度依存性が小さく使用できる温度範囲が広くなる、減肉による脆化が起こりにくい、などの利点を得ることができる。なお、この減少量が小さいほど上記の利点が得られやすくなるため、上記の重量減少量好ましい下限はないが、通常0.0001g以上となる。
オルガノポリシロキサン組成物を測定対象として1H−NMRを測定し、有機溶媒等、オルガノポリシロキサンおよび一般式[2]で表される物質以外の成分の重量を算出する。具体的には、ナス型フラスコに回転子を入れ、それらの重さを測定する。その後、オルガノポリシロキサン組成物を該ナス型フラスコに入れ、オルガノポリシロキサン組成物の重量を測定する。オイルバスにてナス型フラスコを加熱し、マグネチックスターラにより回転子を回して液面が流動する程度に撹拌し、オイル式真空ポンプにて減圧する。2時間後、室温まで冷却し、常圧に戻し、ナス型フラスコに付着したオイルを十分にふき取り、ナス型フラスコに入った状態のオルガノポリシロキサン組成物の重量を測定し、先に測定していたナス型フラスコと回転子の重さを差引き、該操作により揮発した重量を算出する。該操作後のオルガノポリシロキサン組成物の1H−NMRを測定し、有機溶媒等、オルガノポリシロキサン以外の成分の重量を算出する。該操作前後の重量減少量及び1H−NMR、および、ガスクロマトグラフィーの測定結果から、揮発した重量からオルガノポリシロキサン以外の成分の量及びオルガノポリシロキサンの揮発量を算出する。また、揮発した留出液をコールドトラップなどにより全量回収し、重量及び1H−NMR、ガスクロマトグラフィーを測定してもよい。
着色性は、250℃に加熱したホットプレートへオルガノポリシロキサンを含む組成物を10mg添加し、10分経過後の着色性を目視で確認して評価した。
粘度は、オルガノポリシロキサン組成物を測定対象として粘度計(例えば、ブルックフィールド社製のRV型粘度計RVDV−2 +Pro)を用いて得られた、温度25℃における測定値を用いる。
上述したオルガノポリシロキサン組成物や上述した一般式[1]で表されたオルガノポリシロキサンの用途は特段制限されないが、例えば、以下に示す用途で用いることができる。
オルガノポリシロキサン組成物は、他の樹脂と組み合わせて樹脂組成物として用いることができる。該樹脂組成物は、上述したオルガノポリシロキサン組成物を含んでいればよく、例えば、樹脂を含有する組成物にオルガノポリシロキサン組成物を添加した態様としてもよく、また、オルガノポリシロキサン組成物に樹脂を添加した態様としてもよい。
樹脂組成物の使用態様は特段制限されず、組成物の状態で用いてもよく、また、組成物を硬化させた硬化物の状態で用いてもよい。
オルガノポリシロキサン組成物は、有機溶媒と組み合わせて有機溶媒希釈液として用いることができる。該有機溶媒希釈液は、上述したオルガノポリシロキサン組成物を含んでいればよく、例えば、有機溶媒を含有する組成物にオルガノポリシロキサン組成物を添加した態様としてもよく、また、オルガノポリシロキサン組成物に有機溶媒を添加した態様としてもよい。
オルガノポリシロキサン組成物を含む有機溶媒希釈液に含まれる有機溶媒の種類は、特段制限されず、任意に選択してよい。例えば、有機溶媒が残存した仕掛品および故意に有機溶媒に溶解した形態のものについて、容器への移し替え、販売、輸送、他物質が入った反応器への投入などを行ってもよい。
オルガノポリシロキサン組成物およびその硬化物およびオルガノポリシロキサン組成物を含む樹脂およびその硬化物は、電子機器用部材に含まれて用いることができる。電子機器用部材としては、例えば、LED照明用封止材およびオルガノポリシロキサンが使用さ
れるLED関連部品への使用やLED照明用のカバー、レンズおよびカメラ用部材、スマホ用のカバー部材、電界コンデンサ用の耐電圧向上剤、パソコンキーボード用の鍵盤下のクリック感を表現する部材、パワーデバイスモジュール用の封止材などが挙げられる。また、電子機器用部材は、オルガノポリシロキサン組成物の硬化物のみからなる態様であってもよく、また、オルガノポリシロキサン組成物の硬化物を一部に含む態様であってもよい。
オルガノポリシロキサン組成物を硬化する条件は特段制限されず、公知の方法により硬化することができる。
オルガノポリシロキサン組成物は、上述した用途以外にも例えば、非反応性粘度調整剤、反応性粘度調整剤、相溶化剤、潤滑剤、分散剤、凝集剤、接着剤、粘着剤、離型剤、撥水剤、撥油剤、コーティング剤、表面改質剤、金属表面補修剤、難燃性付与剤、キシミ音低減剤、無機または有機の発光素子を含む半導体デバイス封止材や基材、コーティング材、光学部材などの用途に用いることができる。
なお、以下の説明において[部]とは、特に断らない限り重量基準に基づく「重量部」を表す。
オルガノポリシロキサン及び/又はオルガノポリシロキサン組成物の評価は下記の方法で行った。
生成したオルガノポリシロキサンを約50mg秤量し、これを重アセトンまたは重ジクロロメタン約1gに溶解させ、1H−NMR測定用サンプルを調製した。400MHz 1H−NMR(日本電子株式会社製AL−400)にてRelaxation Delayを20秒で測定した、各成分のシグナル強度と内部標準のシグナル強度との比率、および秤量値からフェニル基、メチル基、およびオルガノオキシ基の割合を算出した。
重クロロホルムにTris(2,4−pentanedionate)chromiumIIIが0.5質量%になるよう添加し、29Si−NMR測定用溶媒を得た。測定対象のオルガノポリシロキサンを約1.5g秤量し、上記29Si−NMR測定用溶媒を2.5mL添加して溶解させ、10mmΦテフロン(商標登録)製NMR試料管に入れた。下記の装置および装置条件で測定し、シグナルの強度比から上記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサン中のM、D、T及びQの値を算出した。
装置:日本電子株式会社製JNM−ECS400、TUNABLE(10)、Siフリー、AT10プローブ
測定条件:Relaxation Delay/15秒、SCAN回数/1024回、測定モード/非ゲーテッドデカップルパルス法(NNE)、スピン/なし、測定温度/25℃
オルガノポリシロキサンの数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、および分子量分布(Mw/Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて下記条件で測定し、標準ポリスチレン換算値として示した。試料は約10重量%のテトラヒドロフラン溶液を用い、測定前に0.45μmのフィルターで濾過したものを用いた。
装置:TOSOH HLC−8420GPC(東ソー株式会社製)
カラム:KF−G、KF−402.5HQ、KF−402HQ、KF−401HQ(いずれも昭和電工株式会社製)、カラム温度40℃
溶離液:テトラヒドロフラン、流量0.3mL/分
オルガノポリシロキサンの有機溶媒残存量、および、一般式[2]で表される物質の含有量を確認するため、ガスクロマトグラフィー(GC)を用いて下記条件で測定した。試料は約50質量%のテトラヒドロフラン溶液を用い、内部標準物質としてメチルシクロペンタンを用いた。
装置:アジレント・テクノロジー株式会社製の7820Aガスクロマトグラフ
カラム:アジレント・テクノロジー株式会社製のDB−17ht、0.25mm×30m×0.15μm
設定温度等
・注入口:290℃
・圧力:21.76psi(コンスタントプレッシャー)
・オーブンプログラム:65℃(2minHold)→20℃/min→325℃(40minHold) (Total 55min)
・スプリット比:1/70
・注入量:0.5μL
・検出器:290℃
<キャリヤーガス>
Air流量350ml/min
H2流量:35mL/min
He流量:20mL/min
オルガノポリシロキサンと樹脂との混合分散性を評価するために、有機溶媒との混合試験を行った。有機溶媒として、テトラグライムに水分量が10.5重量%となるように水を添加したものを11g準備し、該有機溶媒とオルガノポリシロキサン1gとを25℃で混合攪拌し、透明となったものを樹脂への混合分散性がよいもの、白濁したものを樹脂への混合分散性が悪いものと判断した。
200gのオルガノポリシロキサン組成物を1Lナス型フラスコに入れて、真空圧力0.15torrの排気能力を有する真空ポンプにて減圧下、内温110℃で2時間加熱し、質量減少率を天秤にて確認した。質量減少率が5重量%以下であるものを成形性に影響がないものと判断し、重量減少率が5重量%超であるものを成形性に影響があるものと判断した。
減圧加熱の際の重量減少は、以下の方法で測定した。
オルガノポリシロキサン組成物を測定対象として1H−NMRを測定し、有機溶媒等、オルガノポリシロキサン以外の成分の重量を算出した。具体的には、ナス型フラスコに回転子を入れ、それらの重さを測定した。その後、オルガノポリシロキサン組成物を該ナス型フラスコに入れ、オルガノポリシロキサン組成物の重量を測定した。オイルバスにてナス型フラスコを加熱し、マグネチックスターラにより回転子を回して液面が流動する程度に撹拌し、オイル式真空ポンプにて減圧した。2時間後、室温まで冷却し、常圧に戻し、ナス型フラスコに付着したオイルを十分にふき取り、ナス型フラスコに入った状態のオルガノポリシロキサン組成物の重量を測定し、先に測定していたナス型フラスコと回転子の重さを差引き、該操作により揮発した重量を算出した。該操作後のオルガノポリシロキサン組成物の1H−NMRを測定し、有機溶媒等、オルガノポリシロキサン以外の成分の重量を算出した。該操作前後の重量減少量及び1H−NMRの測定結果から、揮発した重量からオルガノポリシロキサン以外の成分の量及びオルガノポリシロキサンの揮発量を算出した。
250℃に加熱したホットプレートへオルガノポリシロキサンを10mg添加し、10分経過後の着色性を目視で確認した。
粘度は、オルガノポリシロキサン組成物を測定対象としてブルックフィールド社製RV型粘度計RVDV−2 +Proを用いて得られた、温度25℃における測定値とした。
オルガノポリシロキサンの製造に使用した原料等を以下に示す。
・ヘキサメチルジシロキサン(NuSil Technology社製)
・フェニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製 KBM−103)
・トルエン(キシダ化学株式会社製)
・メタノール(キシダ化学株式会社製)
・ヘプタン(キシダ化学株式会社製)
・1N塩酸(キシダ化学株式会社製)
・2N水酸化カリウム水溶液(キシダ化学株式会社製)
オルガノポリシロキサン1の原料として、ヘキサメチルジシロキサン32部、フェニルトリメトキシシラン73部、溶媒としてトルエン19部、メタノール19部、触媒及び反応基質として1N塩酸15部を使用し、40℃で7時間加水分解縮合を行った。2N水酸化カリウム水溶液を13部加えた後、さらに40℃で2時間反応させた。塩酸および脱塩水による洗浄によりカリウム成分を除去した後、溶媒等の低沸点成分をダイアフラムポンプを使用して80℃に加熱しながら留去した。この際、トルエン、メタノール、及び水を除き、オルガノポリシロキサン組成物を得た。該オルガノポリシロキサン組成物中に、一般式[2]で表される物質に該当するトリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが約3重量%含有していることをガスクロマトグラフィーにより確認した。その後、さら
に120〜140℃の高温に加熱しながら高真空条件でトルエンのピークが検出されなくなるまで留去を継続し、常温で液状のオルガノポリシロキサン組成物1を得た。
また、1H−NMRによる分析の結果、フェニル基の量は5.0mmol/g、トリメチルシロキシ基の量は4.4mmol/g、メトキシ基の量は0.3mmol/gであり、29Si−NMR測定の結果、ケイ素の構成単位M、D、T、及びQの値は、それぞれM=0.46、D=0、T=0.54、Q=0であることが確認された。
また、ガスクロマトグラフィーより、このオルガノポリシロキサン組成物において、溶媒として使用したメタノール及びトルエンは検出されず、トリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが2.1重量%含有されていることが確認された。これは、一般式[2]としてR4がフェニル基であり、R1〜R3がメチル基であり、係数T2=1、M2=3、E2=0である物質を含有することが確認された。
オルガノポリシロキサン組成物1に対し、さらに高温高真空条件で留去操作を継続し、オルガノポリシロキサン組成物2を得た。ガスクロマトグラフィーより、オルガノポリシロキサン組成物2からは、一般式[2]で物質に該当するトリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが検出されなかった。得られたオルガノポリシロキサン組成物2の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は901、重量平均分子量(Mw)は960、分子量分布(Mw/Mn)は1.07であった。また、1H−NMRによる分析の結果、フェニル基の量は5.1mmol/g、トリメチルシロキシ基の量は4.3mmol/g、メトキシ基の量は0.26mmol/gである。
反応時の攪拌効率を高めたこと以外製造例1と同様の製造条件を適用し、オルガノポリシロキサン組成物3を製造した。得られたオルガノポリシロキサン組成物3の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が905、重量平均分子量(Mw)が976、分子量分布(Mw/Mn)が1.08であることが確認された。また、1H−NMRによる分析の結果、フェニル基の量は5.2mmol/g、トリメチルシロキシ基の量は4.2mmol/g、メトキシ基の量は0.31mmol/gである。また、ガスクロマトグラフィーより、このオルガノポリシロキサン組成物3からは、溶媒として使用したメタノールおよびトルエンは検出されず、トリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが0.6重量%含有されていることが確認された。これは、一般式[2]としてR4がフェニル基であり、R1からR3がメチル基であり、係数T2=1、M2=3である物質が含有していることを意味する。
反応時間を21時間としたこと以外製造例1と同様の製造条件を適用し、オルガノポリシロキサン組成物4を製造した。得られたオルガノポリシロキサン組成物4の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が926、重量平均分子量(Mw)が1059、分子量分布(Mw/Mn)が1.14であることが確認された。また、1H−NMRによる分析の結果、フェニル基の量が5.2mmol/g、トリメチルシロキシ基の量が4.1mmol/g、メトキシ基の量が0.27mmol/gである。また、ガスクロマトグラフィーより、このオルガノポリシロキサン組成物中には溶媒として使用したメタノール及びトルエンは検出されず、トリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが1.3重量%含有されていることが確認された。これは、一般式[2]としてR4がフェニル基であり、R1からR3がメチル基であり、係数T2=1、M2=3、
E2=0である物質を含有していることを意味する。
製造例1に基づき製造する際、する際、溶媒を留去する工程を行う前のオルガノポリシロキサン組成物を仕掛品5とし、仕掛品5の溶媒を留去する工程で水酸化カリウムが釜内に付着した状態で留去し、製造したこと以外製造例1と同様の製造条件を適用し、オルガノポリシロキサン組成物5を製造した。
得られたオルガノポリシロキサン組成物5の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は937、重量平均分子量(Mw)は1049、分子量分布(Mw/Mn)は1.12であった。また、1H−NMRによる分析の結果、フェニル基の量は5.1mmol/g、トリメチルシロキシ基の量は4.4mmol/g、メトキシ基の量は0.31mmol/gである。また、ガスクロマトグラフィーより、このオルガノポリシロキサン組成物中には溶媒として使用したメタノールおよびトルエンは検出されず、トリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシランが1.8重量%含有していた。これは、一般式[2]としてR4がフェニル基であり、R1からR3がメチル基であり、係数T2=1、M2=3、E2=0である物質を含有すること意味する。
仕掛品5に対し、水酸化カリウム濃度を2ppmとなるよう添加し、留去以降の工程を製造例1と同様の製造条件を適用し、オルガノポリシロキサン組成物6を製造した。
得られたオルガノポリシロキサン組成物6の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は963、重量平均分子量(Mw)は1118、分子量分布(Mw/Mn)は1.16であった。
仕掛品5の水酸化カリウム濃度を0.2ppmとしたこと以外製造例6と同様の製造条件を適用し、オルガノポリシロキサン組成物7を製造した。
得られたオルガノポリシロキサン組成物7の分子量測定を実施した結果、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は899、重量平均分子量(Mw)は965、分子量分布(Mw/Mn)は1.07であった。
Claims (14)
- 成分Aとして、一般的[1]で表されるオルガノポリシロキサンと、成分Bとして、下記一般式[2]で表される物質とを含み、かつ、該成分A及び該成分Bが、0.1≦{(成分Bの重量)×100}/{(成分Aの重量)+(成分Bの重量)}≦9の関係を満たし、かつ、
成分Aに対し、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たす物質の含有量が、0.01重量%以上、9重量%以下であり、かつ、該式[2]における係数T2、M2、及びE2がT2+2−M2+E2=0を満たさない物質の含有量が、3重量%以下であることを特徴とする、オルガノポリシロキサン組成物である。
RXSiO(4−X)/2 ・・・[1]
(R1R2R3SiO1/2)M2(R4SiO3/2)T2(O1/2R5)E2 ・・・[2]
ここで、上記式[1]中、
Rは、それぞれ独立して、有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく、
係数Xは、それぞれ独立して、0<X≦4を満たす。
ここで、上記式[2]中、
R1〜R3は、それぞれ独立して、炭素原子を含む有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R4は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよい。
R5は、炭素数1〜20の有機基、及び、水素原子からなる群から選択され、同一でも異なっていてもよく;
係数M2は、1〜5の正の整数であり、係数T2は、1〜3の正の整数であり、係数E2は0〜5の整数である。 - 前記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンとして、ジメチルポリシロキサン、または、MQレジンを含むことを特徴とする、請求項1に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンが、トリメチルシロキシ基、ジメチルビニルトリメチルシロキシ基、および、ジメチルシロキシ基からなる群から選択される基を有することを特徴とする、請求項1または2に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンがフェニル基を有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 200gのオルガノポリシロキサン組成物を1Lナス型フラスコに入れて、真空圧力0.15torrの排気能力を有する真空ポンプにて減圧下、内温110℃で2時間加熱した際、オルガノポリシロキサンの質量減少量が10g以下であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記一般式[1]で表されるオルガノポリシロキサンが40℃で液体であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記一般式[2]において、R4がフェニル基であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記一般式[2]において、R1〜R3がメチル基であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記一般式[2]で表される物質として、前記係数T2が1である物質を含むことを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 前記一般式[2]で表される物質として、前記係数M2が3である物質を含むことを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- オルガノポリシロキサン組成物中の前記一般式[2]で表される物質の含有量が、0.5〜3重量%であることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物を含むことを特徴とする、樹脂組成物。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物を含むことを特徴とする、有機溶媒希釈液。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載のオルガノポリシロキサン組成物またはその硬化物を有することを特徴とする、電子機器用部材。
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