JP2021160356A - 衛生設備部材 - Google Patents

Abstract

【課題】堆積した水垢等の汚れを少ない力または少ない拭き取り回数で除去でき、耐摺動性が向上された衛生設備部材の提供。
【解決手段】基材と、当該基材上にある表面層とを含んでなる部材であって、前記表面層は、撥水性であり、かつ、ＸＰＳ深さ方向分析で得られるプロファイルにおいて、ある測定点における炭素原子濃度と、その１点前の測定点における炭素原子濃度との差の絶対値が１．０ａｔ％以下となった点を表面層の終点とし、スパッタの開始から前記終点までのスパッタ時間が５分以内であり、前記部材の表面は、ＳＣＥ方式の分光測色法により測定されるｂ値が−０．１０以上＋０．１０以下であることを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、表面に撥水層を備える衛生設備部材に関する。詳細には、水がかかり得る環境で使用される衛生設備部材に関する。

水道水を含む生活用水は、ケイ素、カルシウムを含む。これらの物質は水垢の要因となっている。生活用水に接する水まわり部材においては、水垢の付着を抑制し、あるいは付着した水垢を容易に除去することが求められる。水まわり部材表面への水垢等の汚れの付着を防止し、あるいは汚れの除去性を高めるために、水まわり部材を保護層で被覆するなどして部材表面を改質する技術が知られている。

しかしながら、水まわり部材に保護層を設けることで着色が見られたり、保護層の傷つき・剥離などにより部材の外観が損なわれたりすることが問題であった。一方、水まわり部材の表面に汚れを付着させないことは困難であるため、清掃によって汚れを除去することが行われている。水垢等の落しにくい汚れを清掃する場合、特殊な洗剤を使って研磨するなどの方法が行われている。この方法は、日常的に行うには負担の大きな作業である。そこで、簡単な清掃で汚れを除去できることが求められている。

保護層として、基材と直接化学結合させる単分子膜を用いた防汚技術が知られている。例えば、特開２００４−２１７９５０号公報（特許文献１）には、水栓金具表面をフッ素アルキルホスホン酸で被覆することで、水垢易除去性が得られることが記載されている。単分子膜は、視認できない薄い層である。単分子膜を設けることにより、部材の外観が損なわれる可能性は低く、単分子膜の機能を付与することができる。また、単分子膜の結合を、ホスホン酸により結合することにより、単分子膜を緻密に形成することができる。これによって、基材表面の水酸基の大部分をシールドすることができ、基材表面への汚れ固着を防止し、汚れを容易に除去することができる。例えば、特開２０００−２６５５２６号公報（特許文献２）には、陶器表面の水酸基をシールドする防汚層を設けることで、珪酸スケール汚れの固着を抑制することが記載されている。この防汚層として、陶器表面の水酸基とフッ化アルキル基含有有機珪素化合物、加水分解性基含有メチルポリシロキサン化合物、およびオルガノポリシロキサン化合物を混合したものを塗布・乾燥した防汚層が開示されている。

一方、衛生設備部材の表面性状に関し、特開２０１８−１６５３９４号公報（特許文献３）には、ステンレス表面を平滑（算術平均粗さＲａが０．０５μｍ以下、最大谷深さＰｖが２．０μｍ以下）にすることで油汚れの拭き取り性を高めることが記載されている。ＵＳ２０１５／０２３９０２３号公報（特許文献４）には、材料表面に表面粗さＳａが１ｎｍ以上１ｍｍ以下の微細な凹凸構造を有する表面防汚層を設けることで、毛管作用により指紋を拡散させ、視認性を低下させることが記載されている。

特開２００４−２１７９５０号公報 特開２０００−２６５５２６号公報 特開２０１８−１６５３９４号公報 ＵＳ２０１５／０２３９０２３号公報

水垢等の汚れは日常の製品使用により汚れの付着および乾燥を繰り返すことで堆積する。したがって、汚れの除去に必要な拭き取る力が強くなったり、拭き取り回数が多くなったりするという課題があった。特に、目につきやすい部分、例えば、水栓金具の上面、正面および側面などは、美観を保つために拭取り回数が多くなり、表面層（例えば、単分子層）を形成したとしても、摺動によって劣化しやすいという課題があった。

本発明者らは、衛生設備部材の表面をナノメートルオーダーで平滑化することで、汚れの拭き取りにかかる力を低減できること、また汚れの拭き取り回数を低減できること、さらに表面層の摺動による劣化を低減する（つまり、耐摺動性を向上する）ことができることを見出した。本発明は、このような知見に基づくものである。

本発明による部材は、
基材と、当該基材上にある表面層とを含んでなる部材であって、
前記表面層は、
撥水性であり、かつ
ＸＰＳ深さ方向分析で得られるプロファイルにおいて、ある測定点における炭素原子濃度と、その１点前の測定点における炭素原子濃度との差の絶対値が１．０ａｔ％以下となった点を表面層の終点とし、スパッタの開始から前記終点までのスパッタ時間が５分以内であり、
前記部材の表面は、ＳＣＥ方式の分光測色法により測定されるｂ値（以下、「ＳＣＥ＿
ｂ値」という。）が−０．１０以上＋０．１０以下であることを特徴とする。

本発明によれば、堆積した水垢等の汚れを少ない力または少ない拭き取り回数で除去でき、耐摺動性が向上された衛生設備部材が提供される。

本発明による部材の一例を示す模式図である。 本発明による部材が適用される物品の一例である水栓の斜視図であり、本発明による部材の表面が好ましく適用される当該水栓の部位（正面、上面および側面）を示す。

1 本発明による部材
本発明による部材１は、図１に示すように、基材１０と、基材１０上にある表面層４０とを備えてなる。部材１は、基材１０と表面層４０との間に中間層３０および着色層２０をさらに含んでいてもよい。

１-１ 部材の表面の性状
１-１-１ 表面の性状
表面層４０の表面、すなわち部材１の表面は、ＳＣＥ方式の分光測色法により測定されるｂ値（以下、「ＳＣＥ＿ｂ値」という。）が−０．１０以上＋０．１０以下である。ＳＣＥ＿ｂ値がこの範囲にあることは、本発明の部材の表面が、表面凹凸の影響を受けやすい低波長の可視光の散乱が抑えられた表面であることを表わし、それ故、本発明の部材の表面がナノメートルオーダーで平滑化された表面であることを数値化して示すことを可能とする指標となる。
簡潔に言えば、部材表面のＳＣＥ＿ｂ値が−０．１０以上＋０．１０以下であることは、部材表面の写像性が高い、すなわち部材表面での可視光線の散乱が小さいという性質を示す。また、部材表面が非常に平滑であり、かつ、均質な組織であることを示す。
本発明の部材の表面は、ＳＣＥ＿ｂ値が上記範囲にあることにより、汚れの拭き取りにかかる力を低減でき、また汚れの拭き取り回数を低減できる。さらに表面層の摺動による劣化を低減する（つまり、耐摺動性を向上する）ことができる。本発明の部材の表面は、ＳＣＥ＿ｂ値が−０．１０以上０以下であることが好ましく、−０．０８以上０以下であることがさらに好ましい。これにより、部材表面をさらに平滑とし、汚れの拭き取りにかかる力や拭き取り回数をさらに低減できる。さらに表面層の摺動による劣化をさらに低減する（つまり、耐摺動性をさらに向上する）ことができる。

１-１-２ 表面性状、写像性（ＳＣＥ＿ｂ値）、および耐摺動性の関係
装飾用のニッケルクロムめっきのように視覚的には鏡面である表面にも、ナノスケールでは微細な表面凹凸が存在する。ナノスケールの表面凹凸をもつ基材の上にナノスケールの膜厚を持つ有機層を形成した場合、耐摺動性には基材の凹凸形状が大きな影響を及ぼす。これは、摺動時に有機層の凸部に摺動の相手材が接触するため凸部に局所的に強いせん断応力が発生して優先的に摩耗されてしまうためである。一方で、ナノスケールで平滑な表面の場合には摺動時のせん断応力は面内に分散され、摩耗の速度は低下し耐摺動性が高まる。また、ナノスケールで表面が平滑な時には表面での光の散乱にも影響があり、特に波長が短く散乱されやすい青色の光の表面での散乱が抑えられる。従って、分光測色計での測定では青色光の影響が大きいｂ値の絶対値が減少する。

１-２ 表面層
本発明における表面層４０は、有機分子を含む撥水性の層であり、表面層４０より下の基材１０や着色層２０などの他の層の色味を損なわない程度に透明かつ薄い。表面層４０が撥水性の層であることで、ケイ素、カルシウム（水垢の原因物質）を含む水道水に接する衛生設備部材において、水垢の付着が抑制され、また付着した水垢を容易に除去することができる。

１-２-１ 表面層の材質
本発明において、表面層４０は、高分子層、低分子層または単分子層であってよい。

本発明において、高分子層は、高分子化合物を含有する層である。また低分子層とは、低分子化合物を含有する層である。高分子化合物および低分子化合物は、疎水基Ｒを有する。疎水基Ｒを有することにより、表面層４０に撥水性を与える。

１-２-１-１ 疎水基Ｒの具体例
本発明において、疎水基Ｒはアルキル鎖を含むものである。疎水基Ｒは、アルキル鎖の水素の一部がフッ素により置換されたものを含んでもよいし、アルキル鎖の炭素の一部が他の原子に置換されたものを含んでもよい。例えば、疎水基Ｒは、炭化水素基、フルオロアルキル基、フルオロ（ポリ）エーテル基、フルオロアルコキシ基、フルオロアシル基、アルコキシ基、アシル基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基からなる群から選択される１種以上を含むことができる。

疎水基Ｒは、ＣとＨとからなる炭化水素基であることが好ましい。炭化水素基は、飽和炭化水素基でもよいし、不飽和炭化水素基でもよい。また、鎖式炭化水素基でもよいし、芳香環などの環式炭化水素基でもよい。疎水基Ｒは、好ましくは鎖式飽和炭化水素基であり、より好ましくは直鎖式の飽和炭化水素基である。鎖式飽和炭化水素基は、柔軟な分子鎖であるため、下地を隙間なく覆うことができ、耐水性を高めることができる。炭化水素基が鎖式炭化水素基の場合は、好ましくは炭素数が６以上２５以下、より好ましくは炭素数が１０以上１８以下の炭化水素基である。炭素数が多い場合には、分子同士の相互作用が大きく、後述する自己組織化単分子層（ＳＡＭ）の分子間隔を狭くすることができ、耐水性をさらに高めることができる。

疎水基Ｒが飽和炭化水素基（すなわち、アルキル基）の場合、アルキル基の水素の一部が他の原子により置換されていてもよい。他の原子は、例えばハロゲン原子である。ハロゲン原子は、例えばフッ素原子である。アルキル基の水素の一部がフッ素原子により置換されたものは、例えばフルオロアルキル基である。疎水基Ｒがフルオロアルキル基を含むことで、高い撥水性の表面が得られる。ただし、高い水垢除去性を得るためにはハロゲン原子を含まない表面層の方が好ましい。またアルキル基の炭素の一部が他の原子に置換されていてもよい。

高分子化合物および低分子化合物は、金属元素に対し結合性を有する官能基を有することが好ましい。この官能基としては、ホスホン酸基、リン酸基、ホスフィン酸基、カルボキシル基、シラノール基（あるいは、アルコキシシリル基などのシラノールの前駆体）、βジオール基、アミノ基、水酸基、ヒドロキシアミド基、αまたはβ−ヒドロキシカルボン酸基からなる群から選択される１種以上を含むことが好ましい。より好ましくは、官能基として、ホスホン酸基またはシラノール基（あるいは、アルコキシシリル基などのシラノールの前駆体）を含む。これらの官能基は、着色層２０または中間層３０に含まれる金属元素と結合していることが好ましい。言い換えれば、表面層４０はこれらの官能基を介して着色層２０または中間層３０と結合していることが好ましい。

１-２-１-２ 単分子層
本発明において、表面層４０は、疎水基Ｒおよび金属元素に対し配位性を有する官能基Ｘを含む層であり、表面層４０が単層で形成された単分子層であることが好ましく、後述する非高分子の有機配位子Ｒ−Ｘからなる自己組織化単分子層（ｓｅｌｆ ａｓｓｅｍｂｌｅｄ ｍｏｎｏｌａｙｅｒｓ、ＳＡＭ）であることがより好ましい。自己組織化単分子層は、分子が緻密に集合した層となるため、撥水性に優れる。

ＳＡＭの厚さは、構成分子１分子の長さと同程度となる。ここで、「厚さ」とは、ＳＡＭのＺ方向に沿う長さを指す。ここで、図１において、基材１０から表面層４０に向かう方向をＺ方向とする。ＳＡＭの厚さは１０ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以下、より好ましくは３ｎｍ以下である。また、ＳＡＭの厚さは、０．５ｎｍ以上、好ましくは１ｎｍ以上である。ＳＡＭの厚さがこのような範囲になるような構成分子を用いることで、基材１０を効率的に被覆することができ、水垢等の汚染物質の易除去性に優れた衛生設備部材を得ることができる。

ＳＡＭの構成
本発明の好適な態様において、ＳＡＭは、有機分子が固体表面に吸着する過程で、当該固体表面上に形成される分子集合体であり、分子同士の相互作用によって集合体構成分子が密に集合する。ＳＡＭはアルキル基を含むことが好ましい。これによって、分子同士に疎水性相互作用が働き、分子が密に集合することができるため、汚れの易除去性に優れた衛生設備部材を得ることができる。

ＳＡＭを構成する分子の定義
本発明の好ましい態様において、非高分子の有機配位子Ｒ−Ｘは、疎水基Ｒと、着色層２０または中間層３０に含まれる金属元素に対し配位性を有する官能基Ｘとを備える。非高分子の有機配位子Ｒ−Ｘは、官能基Ｘを介して中間層と結合する。ここで、「非高分子」とは、国際純正応用化学連合(IUPAC)高分子命名法委員会による高分子科学の基本的術語の用語集(日本語訳)の定義１．１（すなわち、相対分子質量の大きい分子で、相対分子質量の小さい分子から実質的または概念的に得られる単位の多数回の繰返しで構成された構造をもつもの。http://main.spsj.or.jp/c19/iupac/Recommendations/glossary36.htmlを参照）に該当しない化合物を意味する。ＳＡＭは、このような非高分子の有機配位子Ｒ−Ｘを用いて形成される層である。

１-２-１-３ 非高分子の有機配位子Ｒ−Ｘ
本発明の好ましい態様において、表面層４０は非高分子の有機配位子Ｒ−Ｘを用いて形成される層である。疎水基Ｒは、前述に記載されたものを用いることができる。疎水基Ｒは、ＣとＨとからなる炭化水素基を含むことが好ましい。疎水基Ｒが有する炭化水素基の骨格内の１ないし２個所で炭素以外の原子が置換されていても良い。置換される原子としては、酸素、窒素、硫黄が挙げられる。好ましくは、疎水基Ｒの片末端（Ｘとの結合端ではない側の端部）はメチル基である。これによって、部材１の表面が撥水性となり、汚れの易除去性を高めることができる。

１-２-１-４ Ｘの具体例
本発明において、官能基Ｘは、ホスホン酸基、リン酸基、ホスフィン酸基、カルボキシル基、シラノール基（あるいは、アルコキシシリル基などのシラノールの前駆体）、βジオール基、アミノ基、水酸基、ヒドロキシアミド基、αまたはβ−ヒドロキシカルボン酸基から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

カルボキシル基、βジオール基、アミノ基、水酸基、ヒドロキシアミド基、αまたはβ−ヒドロキシカルボン酸基は、官能基同士で重合することなく、着色層２０または中間層３０に含まれる金属元素に配位（吸着）するため、緻密な表面層４０が形成される。

本発明の好ましい態様によれば、Ｘは、リン原子を含む官能基のうち、ホスホン酸基、リン酸基、ホスフィン酸基から選ばれる少なくとも１種であり、より好ましくはホスホン酸基である。これにより、耐水性が高く、かつ汚染物質の易除去性に優れた部材を効率的に得ることができる。

１-２-１-５ Ｒ−Ｘの具体例
一般式Ｒ−Ｘで表される有機ホスホン酸化合物は、好ましくはオクタデシルホスホン酸、ヘキサデシルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、デシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、ペルフルオロデシルホスホン酸、ペルフルオロヘキシルホスホン酸、ペルフルオロオクチルホスホン酸であり、より好ましくはオクタデシルホスホン酸、ヘキサデシルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、デシルホスホン酸である。さらに、より好ましくは、オクタデシルホスホン酸である。

Ｒ−Ｘにおいて、ホスホン酸基を有する分子としてホスホン酸、リン酸基を有する分子として（有機）リン酸、ホスフィン酸基を有する分子としてホスフィン酸、カルボキシル基を有する分子としてカルボン酸、βジオール基を有する分子としてプロトカテク酸、没食子酸、ドーパ、カテコール（オルトヒドロキシフェニル）基、アミノ基を有する分子としてアミノ酸、水酸基を有する分子としてアルコール、ヒドロキシアミド基を有する分子としてヒドロキサム酸、αまたはβ−ヒドロキシカルボン酸基を有する分子としてサリチル酸、キナ酸を用いてもよい。

本発明において、表面層は、二種類以上のＲ−Ｘから形成されていてもよい。二種類以上のＲ−Ｘから形成された表面層とは、上述した化合物が複数種類混合されてなる表面層を意味する。また、本発明において、表面層は、水垢易除去性を損なわない範囲において、Ｒ−Ｘ以外の有機分子を微量に含んでいてもよい。

１-３ 中間層
本発明の好ましい態様によれば、基材１０と表面層４０との間に中間層３０を設けてもよい。中間層３０は表面層４０および基材１０と良好な密着性を得ることができる。中間層３０の好ましい例としては、金属原子と酸素原子とを含む層が挙げられる。中間層３０において、前記金属原子は酸素原子と結合している。つまり、中間層３０には、酸化状態の金属元素が含まれる。本発明においては、金属元素は、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｓｉからなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。また、中間層３０は、下地の色味を損なわないため、表面層４０と同じ程度のまたはそれ未満の厚みが好ましい。

１-４ 着色層
本発明の好ましい態様によれば、基材１０と表面層４０との間に着色層２０を設けてもよい。着色層２０は、着色層２０を有しない部材１の表面を対照として、着色層２０を有する部材１の表面のΔＬ＊、Δａ＊およびΔｂ＊の少なくとも１つの絶対値が０を超える色を呈する層である。本発明において、着色層２０は、ＺｒまたはＣを含んでなる層であることが好ましい。本発明において、着色層２０は、ＺｒまたはＣを含んでなる無機質の層であることがより好ましい。これにより、部材１の耐久性が優れる。

本発明において、中間層３０および着色層２０は共に設けられてよい。この場合、部材１の表面から、表面層４０、中間層３０、着色層２０の順に備えられていることが好ましい。例えば、着色層２０がＣを含んでなる無機質の層である場合、中間層３０を設けることによって、表面層４０の密着性を優位に高めることが可能となる。

１-５ 基材
本発明において、基材１０の材質は特に制限されず、例えば衛生設備部材の基材として一般的に使用されているものを使用することができる。

１-５-１ 基材１０の支持材１０ａ
基材１０は、支持材１０ａを含んでなる。すなわち、基材１０は支持材１０ａからなるものであるか、支持材１０ａと他の要素とを備えてなるか、または、支持材１０ａの表面層４０の側に、後述する領域１０ｂを含んでなるものか、のいずれかである。支持材１０ａの材質は、金属でもよいし、樹脂やセラミック、陶器、ガラスであってもよい。

１-５-２ 基材１０の領域１０ｂ
基材１０は領域１０ｂを含んでいてもよい。領域１０ｂは支持材１０ａの表面層側の面に備えられる。領域１０ｂは、金属を含む層または炭素を主として含む無機化合物からなる層であることが好ましい。領域１０ｂは、例えば、金属めっきや物理蒸着法（ＰＶＤ）により形成されることができる。領域１０ｂは、金属元素のみから構成されていてもよいし、金属窒化物（例えば、ＴｉＮ、ＴｉＡｌＮなど）、金属炭化物（例えば、ＣｒＣなど）、金属炭窒化物（例えば、ＴｉＣＮ、ＣｒＣＮ、ＺｒＣＮ、ＺｒＧａＣＮなど）等を含んでいてもよい。領域１０ｂは支持材１０ａの上に直接形成されていてもよいし、領域１０ｂと支持材１０ａの間に異なる層を含んでいてもよい。領域１０ｂが設けられる基材１０としては、例えば、黄銅や樹脂で形成された支持材１０ａに金属めっき処理により領域１０ｂを設けた金属めっき製品が挙げられる。一方、領域１０ｂが設けられない基材１０としては、例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）のような金属成型品が挙げられる。基材１０の形状は、特に限定されるものではなく、単純な平板のような形状であっても立体形状であっても良い。本発明によれば、見る方向、角度よって色の変化が少ない部材とすることができるため、立体形状の基材１０に本発明は好ましく適用できる。

表面層４０が有機ホスホン酸化合物からなる場合、領域１０ｂは、Ｔｉ、Ｚｒ、ＣｒおよびＡｌより選択される一以上の金属原子と酸素原子とを含む層を含んでいることが好ましい。

１-６ 部材の特定
本発明における部材１の特定方法は、以下の方法を用いることができる。先ず、部材１の表面が撥水性であることを確認し、部材１が表面層４０を有することを確認する。次に、表面層４０を構成する元素をＸＰＳ測定により特定する。また、表面層４０および中間層３０の厚みはXPS測定で元素の存在比を測定しながらスパッタリングすることで得られる。次に、着色層２０および基材１０の特定については、断面をＳＥＭ観察することで着色層２０と基材１０の境界を識別する。上記の測定の前には表面に付着した汚れを除去するために前処理を行う。詳細を下記にて説明する。

１-６-１ 前処理
本発明において、測定前に部材１の表面を洗浄し、表面に付着した汚れを十分に除去する。例えば、測定前に部材１の表面をエタノールによる拭取り洗浄、および中性洗剤によるスポンジ摺動洗浄の後、超純水にて十分にすすぎ洗いを行う。また、部材１が、表面にヘアライン加工やショットブラスト加工などが施された、表面粗さが大きな部材の場合は、測定する部位として、できるだけ平滑性の高い平面の部分を選んで測定する。平滑性の高い部分とは、例えば、粗い部分に比べて光を拡散するため、分光測色計等を用いて色差測定した場合に正反射成分を含まないＳＣＥ方式によるＬ＊が５未満の点のことを指す。

本発明において、部材１の表面を分析する場合、部材１の表面のうち、曲率半径が比較的大きい部分を選択することが好ましい。また、分析可能なサイズに切断したものを測定試料とすることが好ましい。切断時には、分析や評価をする部分をフィルム等で覆うことで、表面の損傷がないようにすることが好ましい。

１-６-２ 表面層の特定
１-６-２-１ 表面層の疎水基Ｒの特定
本発明において、表面層４０は以下の手順で詳細に確認することができる。先ず、表面層４０の撥水性を評価し、撥水性の表面層４０が形成されていることを確認する。撥水性の評価方法としては、後述の水滴接触角の評価等を用いることができる。この撥水性の表面層４０に対し、ＸＰＳ分析にて表面元素分析を行い、表面層４０に含まれる元素を確認する。

本発明において、表面層４０が疎水基を含む層であることは、以下の手順で、疎水基に含まれるアルキル鎖を確認することにより判断できる。

先ず、ＸＰＳ分析にて表面元素分析を行い、疎水基に含まれるアルキル鎖のＣ−Ｃ結合に帰属される２８４−２８５ｅＶのピークが検出されることを確認する。

次に、赤外分光法もしくは表面増強ラマン分光法（Ｓｕｒｆａｃｅ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｒａｍａｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＳＥＲＳ）を用いて、疎水基に由来するピークシフト（ｃｍ^−１）を確認する。

赤外分光法を用いる場合は、高感度反射法（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を用いることができる。高感度反射法による測定装置として、赤外線の入射角度を８０°以上に可変可能な高感度反射測定が可能なアタッチメント（例えば、Ｈａｒｒｉｃｋ社製Ｓｅａｇｕｌｌ）を備えた赤外分光装置（ＦＴ−ＩＲ）を用いることができる。赤外分光装置は、例えば、Ｃａｒｙ ６３０ＩＲ（アジレント）、Ｎｉｃｏｌｅｔ ｉＳ５０（サーモフィッシャーサイエンティフィック）を用いることができる。

高感度反射法によるＦＴ−ＩＲを用いた測定は、以下の条件で測定する。赤外線入射角度：８５°、検出器：ＭＣＴ検出器、波数分解能；２ｃｍ^−１、積算回数：２５６。
まず、測定対象の衛生設備部材に用いられている基材のみ（基材表面に表面層等が形成されていないもの）を参照として測定する。なお、ここで、衛生設備部材に用いられている基材の代用として、測定対象の基材と同一の材料で構成された板材等を用いても良い。その後、切り出した衛生設備部材１を測定することでＩＲスペクトルを得る。ＩＲスペクトルは、横軸は、波数（ｃｍ^−１）、縦軸は透過率又は吸光度である。

得られたＩＲスペクトルにおいて、以下を確認することにより、表面層４０が疎水基を含むことを確認できる。メチル基に由来する波数：２９６０ｃｍ^−１、２９３０ｃｍ^−１付近、アルキル鎖（−（ＣＨ₂）n−）に由来する波数：２８５０ｃｍ^−１付近、２９２０ｃｍ^−１付近が検出されることでアルキル鎖の存在を確認できる。疎水基が水素の一部がフッ素により置換されたアルキル鎖を含む場合は、波数：１２９５ｃｍ^−１付近、１２００ｃｍ^−１付近、１１５０ｃｍ^−１付近が検出されることで水素の一部がフッ素により置換されたアルキル鎖の存在を確認できる。また、他の疎水基の場合は、これらに相当する波数を確認する。測定範囲で最も吸光度が低い範囲の１００ｃｍ^−１の吸光度の平均値の３倍以上あることで検出されているとみなし、存在を確認する。

表面増強ラマン分光法を用いる場合は、透過型表面増強センサ（透過型ＳＥＲＳセンサ）および共焦点顕微ラマン分光装置を備えた表面増強ラマン分光分析装置を用いる。透過型表面増強センサは、例えば、特許第６１７９９０５号の実施例１に記載されるものを用いることができる。共焦点顕微ラマン分光装置は、例えば、ＮａｎｏＦｉｎｄｅｒ３０（東京インスツルメンツ）を用いることができる。

表面増強ラマン分光法を用いた測定方法を以下に説明する。切り出した衛生設備部材１の表面に透過型表面増強センサを配置し、測定する。測定条件は、以下とする。Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ、１．２ｍＷ）スキャン時間（１０秒）、グレーチング（８００ Ｇｒｏｏｖｅｓ／ｍｍ）、ピンホールサイズ（１００μｍ）である。測定結果としてラマンスペクトルを得る。ラマンスペクトルは、横軸はラマンシフト（ｃｍ^−１）、縦軸は信号強度である。

得られたラマンスペクトルにおいて、メチル基に由来するラマンシフト：２９３０ｃｍ^−１付近、アルキル鎖−（ＣＨ_２）_ｎ−に由来するラマンシフト：２８５０ｃｍ^−１付近、２９２０ｃｍ^−１付近が検出されることで疎水基の存在を確認できる。疎水基が水素の一部がフッ素により置換されたアルキル鎖を含む場合は、−（ＣＦ_２）_ｎ−に由来するラマンシフト：７３５ｃｍ^−１付近、１２９５ｃｍ^−１付近が検出されることで水素の一部がフッ素により置換されたアルキル鎖を確認できる。また、他のアルキル基の場合は、これらに相当するラマンシフトを確認する。ラマンシフトの信号は、測定範囲で最も信号強度が低い範囲の１００ｃｍ^−１の信号強度の平均値の３倍以上あることで検出されているとみなし、存在を確認する。

表面層が単分子層である場合の疎水基（Ｒ）およびＸの特定
本発明において、表面層４０が、疎水基Ｒおよび金属元素に対し結合性を有する官能基Ｘを含む層であり、さらに単層で形成された単分子層である場合、表面層４０がＲおよびＸを含む層であることは下記の方法により特定することができる。

先ず、ＸＰＳ分析にて表面元素分析を行い、表面層４０に含まれる元素を確認する。

次に、質量分析にて表面に存在する成分の分子に由来する質量電荷比（ｍ/ｚ）から分子構造を特定する。質量分析は、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）または高分解能質量分析法（ＨＲ−ＭＳ）を用いることができる。ここで高分解能質量分析法とは、質量分解能が０．０００１ｕ（ｕ：Ｕｎｉｆｉｅｄ ａｔｏｍｉｃ ｍａｓｓ ｕｎｉｔｓ）又は０．０００１Ｄａ未満の精度で測定可能で精密質量から元素組成が推定できるものを指す。ＨＲ−ＭＳとしては、二重収束型質量分析法、飛行時間型タンデム質量分析法（Ｑ−ＴＯＦ−ＭＳ）、フーリエ変換型イオンサイクロトロン共鳴質量分析法（ＦＴ−ＩＣＲ−ＭＳ）、オービトラップ質量分析法などが挙げられ、本発明においては飛行時間型タンデム質量分析法（Ｑ−ＴＯＦ−ＭＳ）を用いる。質量分析は、部材から十分な量のＲおよびＸを回収できる場合は、ＨＲ−ＭＳを用いることが望ましい。一方、部材のサイズが小さいこと等の理由で、部材から十分な量のＲおよびＸが回収できない場合は、ＴＯＦ−ＳＩＭＳを用いることが望ましい。質量分析を用いる場合、イオン化したＲおよびＸに相当するｍ／ｚのイオン強度が検出されることで、ＲおよびＸの存在を確認できる。ここでイオン強度は、測定範囲においてイオン強度が算出されている範囲の中で最も値が低いｍ／ｚを中心に前後５０Ｄａの平均値の信号の３倍以上を有することで検出されているとみなす。

１-６-２-２ 表面層のＲおよびＸ認定時のＴＯＦ−ＳＩＭＳ測定条件
飛行時間型２次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）装置には、例えば、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ５（ＩＯＮ−ＴＯＦ社製）を用いる。測定条件は、照射する１次イオン：２０９Ｂｉ３＋＋、１次イオン加速電圧２５ｋＶ、パルス幅１０．５ｏｒ７．８ｎｓ、バンチングあり、帯電中和なし、後段加速９．５ｋＶ、測定範囲（面積）：約５００×５００μｍ^２、検出する２次イオン：Ｐｏｓｉｔｉｖｅ、Ｎｅｇａｔｉｖｅ、Ｃｙｃｌｅ Ｔｉｍｅ：１１０μｓ、スキャン数１６とする。測定結果として、ＲおよびＸに由来する２次イオンマススペクトル（ｍ／ｚ）を得る。２次イオンマススペクトルは、横軸は質量電荷比（ｍ／ｚ）、縦軸は検出されたイオンの強度（カウント）として表される。

１-６-２-３ 表面層のＲおよびＸ認定時のＨＲ／ＭＳ測定条件
高分解能質量分析装置として飛行時間型タンデム質量分析装置（Ｑ−ＴＯＦ−ＭＳ）、例えば、Ｔｒｉｐｌｅ ＴＯＦ ４６００（ＳＣＩＥＸ社製）を用いる。測定には、例えば、切り出した基材をエタノールに浸漬させ、表面層４０を形成するために用いた成分（ＲおよびＸ）を抽出し、不要成分をフィルターろ過後、バイアル瓶（１ｍＬ程度）に移した後に測定する。測定条件は、例えば、イオン原：ＥＳＩ／Ｄｕｏ Ｓｐｒａｙ Ｉｏｎ Ｓｏｕｒｃｅ、イオンモード（Ｐｏｓｉｔｉｖｅ／Ｎｅｇａｔｉｖｅ）、ＩＳ電圧（−４５００Ｖ）、ソース温度（６００℃）、ＤＰ（１００Ｖ）、ＣＥ（４０Ｖ）でのＭＳ／ＭＳ測定を行う。測定結果として、ＭＳ／ＭＳスペクトルを得る。ＭＳ／ＭＳスペクトルは、横軸は質量電荷比（ｍ／ｚ）、縦軸は検出されたイオンの強度（カウント）として表される。

１-６-２-４ 各層の原子濃度の測定
表面層４０、中間層３０および着色層２０の組成は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により求める。測定前に、部材１を中性洗剤でスポンジ摺動後、超純水にて十分にすすぎ洗いを行うことが好ましい。ＸＰＳ装置には、ＰＨＩ ＱａｎｔｅｒａＩＩ（アルバック・ファイ製）を用いることが好ましい。各元素を後述の「ＸＰＳ測定条件」および「スパッタ条件１」を用いてＸＰＳ深さ方向分析を行うことによりスペクトルを得る。

検出された原子の濃度は、得られたスペクトルから、データ解析ソフトウェアＰＨＩ ＭｕｌｔｉＰａｋ（アルバック・ファイ製）を用いて算出する。得られたスペクトルは、測定された各原子の電子軌道に基づくピークに対してＳｈｉｒｅｌｙ法でバックグラウンドを除去した後にピーク面積強度を算出し、データ解析ソフトウェアに予め設定されている装置固有の感度係数で除算することで補正処理を行う。測定した元素種全ての補正後のピーク面積強度の合計に対する、ある元素の補正後のピーク面積の割合を対象の原子濃度と定義し、ａｔ．％単位で算出する。

なお、ＸＰＳは、軟Ｘ線を試料表面に照射し、試料表面のイオン化に伴い放出される光電子を補足してエネルギー分析を行う手法であり、得られるスペクトルは各電子軌道から放出される光電子ピークを示すため、元素は元素記号＋電子軌道で表記する。（例：炭素の１ｓ軌道から得られた光電子ピークをＣ１ｓと表記する）

１-６-２-５ ＸＰＳ測定条件
本明細書に記載の全てのＸＰＳ測定において、下記の「ＸＰＳ測定条件」を用いる。
ＸＰＳ測定条件
Ｘ線条件：単色化ＡｌＫα線、２５Ｗ、１５ｋＶ
分析領域：１００μｍφ
中和銃条件：１．０Ｖ、１０μＡ
光電子取り出し角：４５°
Ｔｉｍｅ Ｐｅｒ Ｓｔｅｐ：５０ｍｓ
Ｓｗｅｅｐ：５回
Ｐａｓｓ ｅｎｅｒｇｙ：１１２ｅＶ
分析元素（エネルギー範囲）：Ｚｒ３ｄ（１７７−１８７ｅＶ）、Ｃ１ｓ（２８１−２９６ｅＶ）、Ｎ１ｓ（３９４−４０６ｅＶ）、Ｏ１ｓ（５２４−５４０ｅＶ）、Ｃｒ２ｐ３（５７２−５８２ｅＶ）、Ｔｉ２ｐ（４５２−４６３ｅＶ）、Ｓｉ２ｐ（９８―１０８ｅＶ）

本発明において、ＸＰＳ測定とＡｒイオンを使用したスパッタリングの併用による深さ方向分析を行うことにより、各層の深さ方向の元素組成等を特定する。なお、本発明において、ＸＰＳ測定とＡｒイオンを使用したスパッタリングの併用による深さ方向分析を「ＸＰＳ深さ方向分析」と表す。ＸＰＳ深さ方向分析では、Ａｒイオンを使用したスパッタリングとＸＰＳ測定を交互に繰り返す。ＸＰＳ測定の条件は、上述の「ＸＰＳ測定条件」を用いることができる。スパッタリング時の条件（以下、「スパッタリング条件」とも言う）は、下記の各条件を用いることができる。ＸＰＳ測定は、各スパッタリング条件の「スパッタサイクル」ごとに行う。ＸＰＳ深さ方向分析により、スペクトル情報を得る。このスペクトル情報から元素組成について深さ方向プロファイル（プロファイル）を取得する。このプロファイルから深さ方向の元素組成を特定することができる。

１-６-２-６ ＸＰＳ深さ方向分析時のスパッタリング条件１（以下、「スパッタ条件１」という）
不活性ガス種：Ａｒ
スパッタ電圧：５００V
スパッタ範囲：２ｍｍ×２ｍｍ
スパッタサイクル：１０秒
なお、スパッタ電圧とはＡｒイオン銃に印加する電圧、スパッタ範囲とはスパッタリングにより削る表面の範囲を指す。また、スパッタサイクルとは深さ方向の一測定ごとにＡｒガスを連続して照射した時間を指し、スパッタサイクルの総和をスパッタ時間とする。

１-６-２-７ 表面層４０の厚さ
本発明において、表面層４０は、ＸＰＳ深さ方向分析で得られるプロファイルにおいて、ある測定点における炭素原子濃度と、その１点前の測定点における炭素原子濃度との差の絶対値が１．０ａｔ％以下となった点を表面層４０の終点とし、スパッタの開始から終点までのスパッタ時間は５分以内であり、好適には３分以内である。またスパッタ時間の下限値は１分以上であることが好ましい。好適な範囲はこれらの上限値と下限値とを適宜組み合わせることが出来る。この時間が表面層の厚さの指標となる。このように表面層は視認できない薄い層であり、基材の色味を維持したまま部材に機能付与することが出来る。ここで、「ＸＰＳ深さ方向分析で得られるプロファイル」とは、上述の「ＸＰＳ測定条件」と「スパッタ条件１」を用いて、ＸＰＳ深さ方向分析を行って得られたプロファイルを指す。また、ＸＰＳ深さ方向分析は、無作為の３点を選んで測定し、これら３点の平均値を表面層の厚さと認定することが好ましい。

１-６-３ 表面層４０の好ましい炭素原子濃度
本発明において、表面層４０が炭化水素基を含む場合、表面層４０の炭素原子濃度は、好ましくは３５ａｔ％以上であり、より好ましくは４０ａｔ％以上であり、さらに好ましくは４３ａｔ％以上であり、最も好ましくは４５ａｔ％以上である。また、炭素原子濃度は、好ましくは７０ａｔ％未満であり、より好ましくは６５ａｔ％以下であり、さらに好ましくは６０ａｔ％以下である。炭素原子濃度の好適な範囲はこれらの上限値と下限値とを適宜組み合わせることができる。炭素原子濃度をこのような範囲とすることにより、水垢易除去性を高めることができる。

１-６-４ 表面層４０の好ましい金属原子濃度
本発明において、表面層４０の金属原子濃度は、好ましくは１．０ａｔ％以上１０ａｔ％未満である。金属原子濃度をこの範囲とすることで、表面層４０は緻密であることを示している。これによって、十分な耐水性を有し、水垢易除去性に優れた衛生設備部材を得ることができる。より好ましくは、金属原子濃度は１．５ａｔ％以上１０ａｔ％未満である。これによって、さらに耐水性、および水垢易除去性を高めることができる。

１-６-５ 表面性状の測定
１-６-５-１ 写像性の測定
部材の写像性（色味）の測定は、例えば以下のように行われる。
部材の色味の測定には分光測色計（ＣＭ−２６００Ｄ、コニカミノルタ）を用いる。測定前に校正板を用いて白色校正を行う。その後、部材に対し目視でも明らかな傷や汚れを避けて３箇所ずつ色味の測定を行い、測定パラメータの平均値を算出する。
写像性の測定に使用可能な分光測色計の構成は例えば以下のとおりである。
装置：分光測色計ＣＭ−２６００Ｄ（コニカミノルタ製）
バージョン：１．４２
測定パラメータ：ＳＣＩ／ＳＣＥ
表色系：Ｌ＊ａ＊ｂ＊、ΔＥ＊
ＵＶ設定：ＵＶ０％
光源：Ｄ６５
観察視野角：１０°
測定径：φ３ｍｍ
測定波長間隔：１０ｎｍ
測定回数：３回
測定前待ち時間：０秒
校正：ゼロ校正後、白色校正（ゼロ校正：遠方の空間で校正、白色校正：校正用の白色板で校正）

１-６-５-２ 表面粗さの測定
部材の表面粗さの測定には原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（ＳＦＴ−４５００、島津製作所）を用いることができる。測定前に、カンチレバーに照射するレーザーの位置を調整し、十分な反射光強度が得られるようにする。装置および測定条件は以下を利用することができる。

装置：原子間力顕微鏡（ＳＦＴ４５００、島津製作所製）
カンチレバー：ＯＭＣＬ−ＡＣ２４０ＴＳ−Ｃ３（オリンパス製）
測定モード：ダイナミック
走査範囲：５μｍ×５μｍ
走査速度：１Ｈｚ
画素数：５１２×５１２：走査角度０°
オペレーティングポイント：０．１１５Ｖ
Ｐゲイン：０，００１
Ｉゲイン：１２００
オフセット：０
ｚレンジ：１倍
走査モード：力一定

レバーチューン条件：
範囲：ＡＣ２４０ １−１００ｋＨｚ
振幅：Ｓｔａｎｄａｒｄ ０．３Ｖ
で装置上で自動チューンを行った。

表面形状パラメータの算出
原子間力顕微鏡を用いた測定により得られた画像は、傾き補正した後にフィルタ処理を行う。傾き補正には、装置付属の解析ソフトウェアのラインフィットを用いる。フィルタ処理は、表面からうねりの成分を除去するＬ−フィルタを使用する。Ｌ−フィルタのカットオフ値は８００ｎｍを用いる。面粗さのパラメータはＪＩＳ Ｂ ０６８１−２で定められる算術平均高さＳａを用いる。

本発明において、部材の表面は、ＪＩＳ Ｂ ０６８１−２（２０１８）で定められる表面粗さ（Ｓａ）が３ｎｍ以下であることが好ましく、２．１ｎｍ以下であることがさらに好ましい。部材表面のＳＣＥ＿ｂ値（写像性）が−０．１０以上＋０．１０以下であることに加えて、表面粗さ（Ｓａ）が３ｎｍ以下であることにより、耐摺動性がさらに高まる。

１-６-６ 中間層の認定
本発明において、部材１が中間層３０を含むか否かは、ＸＰＳ深さ方向分析により認定できる。先ず、「ＸＰＳ測定条件」と「スパッタ条件１」を用いて、で１０分間ＸＰＳ深さ方向分析を行い、炭素原子の検出が１点前の測定点との差が１．０ａｔ％以下となった点において、１０ａｔ％以上検出される金属元素を確認する。当該元素の濃度が１０分間分析した時に３．０ａｔ％以下になった場合、当該元素の存在範囲を中間層と認定できる。当該元素の濃度が１０分間分析した時に３．０ａｔ％以下に下がらなかった場合、部材は中間層を含まないとする。

１-６-７ 着色層および基材の認定
本発明において、着色層２０は、以下の方法により特定できる。まず、部材１を層の積層方向と垂直方向（図１のＺ方向）に切断し、イオンミリング装置を用いて断面ミリングを行い、平滑な断面を得る。この断面に対して、走査型電子顕微鏡／エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＳＥＭ／ＥＤＸ）を用いて観察を行うことで、着色層および基材の識別ができる。観察領域は、着色層２０と基材１０の界面が収まるようにＳＥＭ画像を取得する。そのＳＥＭ画像に対して、ＥＤＸによるマッピング分析を行うことで、着色層および基材の元素分布を視覚的に確認することができる。この元素分布の異なる境界面を、着色層２０および基材１０の境界面と識別する。これにより、着色層２０を特定することができる。

１-６-８ 表面層４０の好ましい撥水性
本発明の衛生設備部材１、言い換えると、表面層４０の水滴接触角は、好ましくは９０°以上であり、より好ましくは１００°以上である。水滴接触角は、静的接触角を意味する。静的接触角は、表面層４０に２μｌの水滴を滴下し、１秒後の水滴を基材側面から撮影することによって求められる。測定装置としては、例えば接触角計（型番：ＳＤＭｓ−４０１、協和界面科学株式会社製）を用いることができる。

２．部材の製造方法
本発明の部材は以下の工程：
（ａ）表面のＳＣＥ＿ｂ値が−０．１０以上＋０．１０以下である基材を用意する工程と、
（ｂ）前記基材の表面に表面層を形成する工程と
を含んでなる方法により製造されることが好ましい。
基材の表面をナノオーダーで平滑化したあとに、表面層を形成することで、汚れの拭き取りにかかる力を低減でき、汚れの拭き取り回数を低減でき、耐摺動性を向上させることができる。

３．部材の用途
本発明において、「衛生設備」とは、建物の給排水設備または室内用の備品である。好ましくは、室内用の備品である。また、好ましくは、水、例えば生活用水（工業用水でも良い）がかかり得る環境で用いられるものである。

本発明において、水がかかり得る環境としては、水を用いる場所であれば良い。例えば、住宅や、公園、商業施設、オフィスなどの公共施設などの水を用いる場所が挙げられる。水を用いる場所としては、好ましくは、バスルーム、トイレ空間、化粧室、洗面所、台所などが挙げられる。

本発明において、室内用の備品は、住宅や商業施設などの公共施設で用いられ、かつ人が触れるものである。室内用の備品は、好ましくは、バスルーム、トイレ空間、化粧室、洗面所、または台所などで用いられる備品である。本発明において、室内用の備品として使用される衛生設備部材としては、めっきやＰＶＤコートしたものを含む製品が挙げられる。具体的には、水栓、排水金具、止水金具、洗面器、扉、シャワーヘッド、シャワーバー、シャワーフック、シャワーホース、手すり、タオルハンガー、キッチンカウンター、キッチンシンク、排水カゴ、キッチンフード、換気扇、排水口、大便器、小便器、温水洗浄便座、温水洗浄便座の便蓋、温水洗浄便座のノズル、操作盤、操作スイッチ、操作レバー、取っ手、ドアノブなどが挙げられる。本発明の衛生設備部材は、水栓、水栓金具、排水金具、止水金具、洗面器、シャワーヘッド、シャワーバー、シャワーフック、シャワーホース、手すり、タオルハンガー、キッチンカウンター、キッチンシンク、排水カゴであることが好ましい。特に、本発明の衛生設備部材は、水栓、バスルームまたはトイレ空間で用いられる部材として好適に使用できる。これら水栓等の物品は、生活用水が部材表面に接触する用途に適用されるため、表面に水垢が形成されやすい。本発明の部材がこれら物品として使用されることで、本発明の効果が特に生かされ、堆積した水垢等の汚れを少ない力または少ない拭き取り回数で除去できる。

また、本発明の衛生設備部材は、水栓、トイレを構成する部材、または浴室を構成する部材の正面、上面または側面として、その表面が適用される。つまり、水栓、トイレを構成する部材、または浴室を構成する部材の正面、上面または側面は、本発明の衛生設備部材の表面層を有することが好ましい。上記水栓等の正面、上面または側面は、最も使用者の身に触れるところであり、そのため清掃時に最も摺動される部位である。したがって、本発明の部材の表面が水栓等の正面、上面または側面に適用されることで、本発明の効果が最も生かされ、部材表面の耐摺動性が向上する。

本発明の効果が大きい部分として、例えば、水栓であれば図２の矢印部に示すような台付シングル混合水栓（品番：TLP02302JA、TOTO製）の正面、上面または側面の部位が当てはまる。具体的には、スパウトやレバーハンドルの上面、水栓本体の正面が含まれる。
このような部位は水栓の背面または下面に比べて清掃時に手が届きやすく、また力もかけやすいことから清掃時の材料への負荷が大きく、表面が摩耗しやすい。このような部位に本発明で示す平滑な表面を設けることで、水垢がより小さい力で除去できるようになり、また耐摺動性が向上することで部材の外観を長期間保つことができる。

以下の実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

部材の作製
（実施例１）
ニッケルクロムメッキした黄銅板を弱アルカリ性研磨剤（製品名：きらりあ、ＴＯＴＯ製）で擦り洗いし、基材を作製した。
次いで、炭化水素基を備えてなる表面層を以下の手順により形成した。
先ず、基材の表面に存在する汚れを除去するために、アルカリ性洗剤入りの水溶液で超音波洗浄した。その後、基材表面を流水に当てて洗剤を除去した。さらに、基材をイオン交換水に浸漬し、超音波洗浄によるすすぎ洗いをした後、エアーダスターで水分を除去した。
次に、基材を２．５Ｍ水酸化ナトリウム水溶液に６０℃・５分間浸漬したのち、イオン交換水にて十分にすすぎ洗いを行った。
表面層を形成するための処理剤として、オクタデシルホスホン酸（ＯＤＰＡ）（製品コード:Ｏ０３７１、東京化成工業製）をエタノール（富士フイルム和光純薬製、和光一級）に溶解させた溶液を用いた。基材を処理剤の中に１分以上浸漬し、エタノールにて掛け洗い洗浄した。その後、乾燥機にて１２０℃で１０分間乾燥させ、基材表面に表面層を形成させた。こうして、実施例１の部材を作製した。

（実施例２）
ニッケルクロムメッキを施した黄銅板を自動研磨機（ビューラー製）によりバフ研摩し、基材を作製した。研摩粒子には、平均粒径が０．０５μｍのアルミナ粒を用いた。
次いで、この基材の表面に実施例１と同様の手順で表面層を形成し、実施例２の部材を作製した。

（実施例３）
ニッケルクロムメッキを施した黄銅板を弱アルカリ性研磨剤（製品名：きらりあ、ＴＯＴＯ製）で擦り洗いし、基材を作製した。
次いで、フッ化炭素基を備えてなる表面層を以下の手順により形成した。
先ず、基材の表面に存在する汚れを除去するために、アルカリ性洗剤入りの水溶液で超音波洗浄した。その後、基材表面を流水に当てて洗剤を除去した。さらに、基材をイオン交換水に浸漬し、超音波洗浄によるすすぎ洗いをした後、エアーダスターで水分を除去した。
次に、基材へ紫外光（波長：２５４ｎｍ、照射強度：１５ｍＷ／ｃｍ^２程度）を１０分間照射した。
その後、シリコーン系プライマー（製品名：ＫＢＭ４０３、信越化学製）をイソプロピルアルコール（富士フイルム和光純薬製）に溶解させた溶液を、不織布（製品名：ベンコットＭ３−ＩＩ、旭化成製）に浸み込ませ、基材全体に塗り広げたのち、１０分間自然乾燥させて中間層を形成した。
表面層を形成するための処理剤として、フッ化アルキル基を含有するコーティング剤（製品名：ＳＵＲＥＣＯ２１０１Ｓ、ＡＧＣ製）を用いた。この処理剤を不織布（製品名：ベンコットＭ３−ＩＩ、旭化成製）に浸み込ませ、基材全体に塗り広げたのち、乾燥機にて１２０℃で３０分間乾燥させ、中間層の表面に表面層を形成した。
こうして、実施例３の部材を作製した。

（実施例４）
ニッケルクロムメッキを施した黄銅板を自動研磨機（ビューラー製）によりバフ研摩し、基材を作製した。研摩粒子には、平均粒径が０．０５μｍのアルミナ粒を用いた。
次いで、この基材の表面に実施例３と同様の手順で表面層を形成し、実施例４の部材を作製した。

（比較例１）
ニッケルクロムメッキを施した黄銅板を基材とし、この基材の表面に実施例１と同様の手順で表面層を形成し、比較例１の部材を作製した。

（比較例２）
ニッケルクロムメッキを施した黄銅板を基材とし、この基材の表面に実施例３と同様の手順で表面層を形成し、比較例２の部材を作製した。

性能試験
上記のとおり作製した各部材に対し、以下の試験を行った。

水滴接触角測定
測定前に、アルカリ性洗剤を用いて各部材をウレタンスポンジで擦り洗いし、超純水で十分にすすぎを行った。各部材の水滴接触角測定には、接触角計（型番：ＳＤＭｓ−４０１、協和界面科学株式会社製）を用いた。測定用のプローブ液体は超純水を用い、滴下する水滴サイズは２μｌとした。接触角は、いわゆる静的接触角であり、水を滴下してから１秒後の値とし、異なる５か所を測定した平均値を求めた。ただし、５カ所の中に異常値が現れた場合は、異常値を除いて平均値を算出した。ただし、５か所中４か所の平均値±２０°以上乖離する値を異常値とみなし、５か所の中に異常値を示す測定点が現れた場合は、異常値を除いて平均値を算出した。結果を、接触角（初期）として表１に示す。

水垢除去性試験
乾燥炉中で５０℃に加熱した各部材の表面に、水道水を２００μｌ滴下し、液体が乾燥するまで放置した。この操作を１サイクルとした。同一の操作を再び行い、すなわち１サイクル後に形成された水垢の上にさらに水道水を滴下し、乾燥させ、２サイクル分の水垢を形成した。さらに同一の操作を繰り返し行い３サイクル、５サイクル分の水垢を作製した。水垢が形成された部材を以下の手順で評価した。

（ｉ）乾いた布を用いて、部材の表面に対して軽い荷重（８０ｇｆ／ｃｍ^２）を掛けながら、５回往復摺動させた。
（ｉｉ）水垢の除去を確認出来れば試験を終了する。水垢の残りが存在する場合は（ｉ）を繰り返した。
水垢除去の可否は、部材の表面を流水で洗い流し、エアーダスターで水分を除去した後、部材の表面に水垢が残存しているかを目視で判断した。

（ｉ）、（ｉｉ）の手順により水垢の除去に要した摺動回数に基づき、水垢除去性能を以下のとおり評価した。
５回で除去できたとき ３点
１０回で除去できたとき ２点
１５回で除去できたとき １点
１５回で除去できなかったとき ０点
結果を、水垢除去性（初期）として表１に示す。

耐摩耗試験
各部材の表面を、マイクロファイバー布巾（激落ちクロス、レック製）を用いて、布巾に水を含ませた状態で、部材面に対して荷重（２５ｇｆ／ｃｍ^２）をかけながら、２２００往復摺動させた。摺動後、部材表面を流水で洗い流し、エアーダスターで水分を除去した。摩耗試験後の各部材について、上記と同様に、水滴接触角測定および水垢除去性試験を行った。結果を、接触角（摺動後）および水垢除去性（摺動後）として表１に示す。

特性の測定
上記のとおり作製した各部材に対し、以下の測定を行った。

色味の測定
各部材の色味の測定には分光測色計（ＣＭ−２６００Ｄ、コニカミノルタ）を用いた。測定前に校正板を用いて白色校正を行った。その後、各部材に対し目視でも明らかな傷や汚れを避けて３箇所ずつ色味の測定を行い、測定パラメータの平均値を算出した。
なお、使用した分光測色計の構成は以下のとおりである。
装置：分光測色計ＣＭ−２６００Ｄ（コニカミノルタ製）
バージョン：１．４２
測定パラメータ：ＳＣＩ／ＳＣＥ
表色系：Ｌ＊ａ＊ｂ＊、ΔＥ＊
ＵＶ設定：ＵＶ０％
光源：Ｄ６５
観察視野角：１０°
測定径：φ３ｍｍ
測定波長間隔：１０ｎｍ
測定回数：３回
測定前待ち時間：０秒
校正：ゼロ校正後、白色校正（ゼロ校正：遠方の空間で校正、白色校正：校正用の白色板で校正）
各部材のＳＣＥ＿ｂ値を表１に示す。

表面粗さの測定
表面粗さの測定には原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（ＳＦＴ−４５００、島津製作所）を用いた。測定前に、カンチレバーに照射するレーザーの位置を調整し、十分な反射光強度が得られるようにした。

装置：原子間力顕微鏡（ＳＦＴ４５００、島津製作所製）
カンチレバー：ＯＭＣＬ−ＡＣ２４０ＴＳ−Ｃ３（オリンパス製）
測定モード：ダイナミック
走査範囲：５μｍ×５μｍ
走査速度：１Ｈｚ
画素数：５１２×５１２
走査角度：０°
オペレーティングポイント：０．１１５Ｖ
Ｐゲイン：０，００１
Ｉゲイン：１２００
オフセット：０
ｚレンジ：１倍
走査モード：力一定

レバーチューン条件：
範囲：ＡＣ２４０ １−１００ｋＨｚ
振幅：Ｓｔａｎｄａｒｄ ０．３Ｖ
で装置上で自動チューンを行った。

表面形状パラメータの算出
原子間力顕微鏡を用いた測定により得られた画像は、傾き補正した後にフィルタ処理を行った。傾き補正には、装置付属の解析ソフトウェアのラインフィットを用いた。フィルタ処理は、表面からうねりの成分を除去するＬ−フィルタを使用した。Ｌ−フィルタのカットオフ値は８００ｎｍを用いた。面粗さのパラメータはＪＩＳ Ｂ ０６８１−２で定められる算術平均高さＳａを用いた。各部材の算術平均高さＳａを表１に示す。

ＸＰＳによる表面層の各原子濃度の測定
前述の「ＸＰＳ測定条件」と「スパッタ条件１」を用いて、ＸＰＳ深さ方向分析を行い、プロファイルを得た。このプロファイルにおいて、ある測定点における炭素原子濃度と、その１点前の測定点における炭素原子濃度との差の絶対値が１．０ａｔ％以下となった点を表面層の終点とし、スパッタの開始から終点までのスパッタ時間（分）を表１に示す。

表面層に含まれる疎水基の確認
表面層が疎水基を含むことを下記の方法により確認した。表面増強ラマン分光法を用いて確認した。表面増強ラマン分光分析装置としては、以下を用いた。表面増強ラマンセンサとして、特許第６１７９９０５号の実施例１に記載される透過型表面増強センサを用いた。共焦点顕微ラマン分光装置としてＮａｎｏＦｉｎｄｅｒ３０（東京インスツルメンツ）を用いた。測定には、切り出した部材の表面に透過型表面増強ラマンセンサを配置し、測定した。測定条件は、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ、１．２ｍＷ）スキャン時間（１０秒）、グレーチング（８００ Ｇｒｏｏｖｅｓ／ｍｍ）、ピンホールサイズ（１００μｍ）を用いた。

実施例１、２においては、アルキル鎖に含まれる−（ＣＨ_２）_ｎ−に由来するラマンシフト２８５０ｃｍ^−１、２９２０ｃｍ^−１に信号ピークが検出された。実施例３、４においては、水素の一部がフッ素により置換されたアルキル鎖に含まれる−（ＣＦ_２）_ｎ−に由来するラマンシフト７３５ｃｍ^−１、１２９５ｃｍ^−１に信号ピークが検出された。

１ 部材、１０ 基材、１０ａ 基材１０の支持材、１０ｂ 基材１０の一領域、２０ 着色層、３０ 中間層、４０ 表面層

Claims (7)

1. 基材と、当該基材上にある表面層とを含んでなる部材であって、
   前記表面層は、
   撥水性であり、かつ
   ＸＰＳ深さ方向分析で得られるプロファイルにおいて、ある測定点における炭素原子濃度と、その１点前の測定点における炭素原子濃度との差の絶対値が１．０ａｔ％以下となった点を表面層の終点とし、スパッタの開始から前記終点までのスパッタ時間が５分以内であり、
   前記部材の表面は、ＳＣＥ方式の分光測色法により測定されるｂ値（以下、「ＳＣＥ＿ｂ値」という。）が−０．１０以上＋０．１０以下である、部材。
2. 水栓、トイレを構成する部材、または浴室を構成する部材として用いられる、請求項１に記載の部材。
3. 水栓、トイレを構成する部材、または浴室を構成する部材の正面、上面または側面として、その表面が適用される、請求項２に記載の部材。
4. 前記部材の表面は、ＪＩＳ Ｂ ０６８１−２（２０１８）で定められる表面粗さ（Ｓａ）が３ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の部材。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の部材の製造方法であって、
   （ａ）表面のＳＣＥ＿ｂ値が−０．１０以上＋０．１０以下である基材を用意する工程と、
   （ｂ）前記基材の表面に表面層を形成する工程と
   を含んでなる、方法。
6. 前記工程（ａ）は、
   （ａ１）支持材を用意する工程と、
   （ａ２）前記支持材の表面を研磨し、前記基材を作製する工程と
   を含んでなる、請求項５に記載の方法。
7. 前記工程（ａ１）と前記工程（ａ２）の間に、前記支持材の表面にめっきを施し、めっき層を表面に備えた支持材を作製する工程をさらに含んでなる、請求項６に記載の方法。
   
   

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