JP2021154430A - 表面被覆切削工具 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、この状況を鑑みて、合金鋼の高速断続切削加工おいて、十分な耐久性を有する被覆工具を提供することを目的とする。
「(1)工具基体と、該工具基体の表面に下部層と上部層を含む硬質被覆層を有する表面被覆切削工具であって、
前記下部層はTiの化合物層であり、
前記上部層は2.0〜20.0μmの平均層厚を有し、Al2O3層を含み、該Al2O3層内において隣接する2のAl2O3結晶粒の粒界において、TiとSが共存して偏析している粒界の数が、全粒界の数の20%以上である
ことを特徴とする表面被覆切削工具。
(2)前記Al2O3層は、α型の結晶構造を有し、Σ3〜Σ29の構成原子共有格子点分布グラフにおいてΣ3に最高ピークを有し、Σ3の全体に占める割合は60%以上であることを特徴とする(1)に記載の表面被覆切削工具。
(3)前記Al2O3層内にTiとSが共存しているAl2O3結晶粒界の割合がすべてのAl2O3結晶粒界数に対して30〜80%であることを特徴とする(1)または(2)に記載の表面被覆切削工具。」
また、後述するTiC層等のTi化合物層、およびAl2O3層の組成は、化学量論的組成に限定されず、従来公知のすべての原子比の組成を含むものである。
硬質被覆層は、TiC層等を含むTiの化合物層である下部層とAl2O3層を含む上部層を有する。以下、順にこれら層について説明する。
下部層に含まれるTi化合物層(例えば、TiC層、TiN層、TiCN層、TiCO層およびTiCNO層の少なくとも1つ)は、工具基体とAl2O3層を含む上部層の間に存在し、単層であっても複数層であってもよく、その高い硬度によって、硬質被覆層に対して耐摩耗性を付与するものである。また、Ti化合物層は、工具基体の表面、および、Al2O3層を含む上部層のいずれとも密着性を付与する役割を有する。
<平均層厚>
上部層は、Al2O3層を含み、その平均層厚は、2.0〜20.0μmであることが好ましい。その理由は、2.0μm未満であると、薄いため長期の使用にわたって耐久性を十分に確保することができず、一方、20.0μmを超えると、結晶粒が大きくなってしまいチッピングが発生しやすくなるためである。
TiとSの偏析がある粒界の割合は、例えば、次のようにして確認する。
Al2O3層の縦断面(工具基体の表面に垂直な断面)において、工具基体の表面に平行な方向に10μm、Al2O3層の層厚方向に平均層厚以上の長さの領域の少なくとも10箇所を観察領域と決定する。
この各観察領域に対して、透過型電子顕微鏡(TEM:Transmission Electron Microscope)を用い、高角散乱環状暗視野走査透過顕微鏡法(HAADF−STEM:High−angle Annular Dark Field Scanning TEM)により観察を行う。図1は、この観察結果の一例を示す模式図である。本発明でいう粒界とは、結晶粒界のうち隣接する2の結晶粒に接する部分であり、この部分を1個の粒界とする。すなわち、1個の結晶粒界は複数の粒界から構成される。ちなみに、図1では、A〜Hの8の結晶粒が図示されている。例えば、Bの結晶粒についてみると、A、C、EおよびFの各結晶粒と粒界を有し、その中でAおよびFの結晶粒との粒界を粒界として図示している。図1において、すべての結晶粒における粒界の総数(この観察領域における全粒界の数)は13である。
この粒界のすべてに対して、当該粒界を中心として隣接する2の結晶粒の粒界に対して垂直な方向に、エッジオン条件にて、該粒界を中心にこの粒界を跨いで測定長100nmの領域にてTiとSにつき、エネルギー分散型X線分光法(EDS:Energy dispersive X−ray spectroscopy)による組成の線分析を実施する。
ここで、エッジオン条件とは、粒界と平行な軸を中心に試料を傾けたときに電子線入射方向と粒界の深さ方向が平行となる角度にて測定を行う条件のことをいう(例えば、特開2017−5004号公報を参照)。
各粒界に対して組成の線分析を行った結果、TiとSの検出強度の最大値を与える(TiとSの濃度の最大値に対応する)位置が、前記粒界から前記2の結晶粒内へ10nm以内の領域内に存在し、かつ、前記最大値が粒界から10nmを超えて50nmまでの前記2の結晶粒内の領域におけるTiとSの検出強度の最大値と比較してそれぞれ2.00倍以上であることを満たしているとき(濃度の比が2.00倍以上のとき)、当該粒界はTiとS元素が共存して粒界へ偏析していると判断する。
図2は、TiとSが共存して偏析があると判断されるTiとSの検出濃度の変化の一例を模式的に示したものであり、同図では、粒界が横軸の測定長の50nmの位置となるように測定の起点を定めている。
このTiとSの粒界への偏析があると判断される粒界の数が全粒界の数(各観察領域におけるすべての結晶粒における粒界の総数)に占める割合(個数割合)を求める。
こうして、観察領域ごとに求めた個数割合の算術平均を算出して、TiとSが共存して偏析している粒界の数が、全粒界の数に占める割合を導出する。
すなわち、前記α型の結晶構造を有するAl2O3層結晶粒について、結晶面である(0001)面および(10-10)面の法線が、観察研磨面に法線となす傾斜角を測定する。前記結晶粒は、格子点にAlおよび酸素からなる構成原子がそれぞれ存在するコランダム型六方晶の結晶構造を有する。測定により得られた傾斜角に基づいて、相互に隣接する結晶粒の界面で、前記構成原子のそれぞれが前記結晶粒相互間で1つの構成原子を共有する格子点(構成原子共有格子点)からなる対応粒界の分布を算出し、前記構成原子共有格子点間に構成原子を共有しない格子点がN個(ただし、Nはコランダム型六方晶の結晶構造上2以上の偶数となるが、分布頻度の点からNの上限を28とした場合、4、8、14、24、および26の偶数は存在せず)存在する構成原子共有格子点形態からなる対応粒界をΣN+1で表した個々のΣN+1がΣN+1全体に占める分布割合を示す構成原子共有格子点分布グラフを求める。
硬質被覆層の上部層のAl2O3結晶粒について、HAADF−STEMを用いて、Al2O3結晶粒の結晶格子面のそれぞれの法線が、観察研磨面の法線となす角度を測定するとともに、その測定結果より、隣接する結晶格子相互の結晶方位関係を算出することにより、上部層のAl2O3の対応粒界分布グラフを求める。
それとともに、結晶格子界面を構成する測定点間の結晶方位関係が、対応粒界を構成する結晶粒間のなす角度の値に対して誤差Δθ=5°の範囲内となった場合に、その測定点間に対応粒界が存在するとみなし、全粒界長に対するΣN+1対応粒界の割合を求める。
上部層の上部に、TiC層、TiCN層、TiCN層、TiCO層およびTiCNO層のうちの1層または2層以上のTi化合物層からなり0.1〜5.0μmの合計平均層厚を有する最外層を設けると、より一層優れた耐溶着性、耐摩耗性が発揮されて好ましい。ここで、合計平均層厚が0.1μm未満であると、最外層を設けた効果が十分に発揮されず、一方、5.0μmを超えると、チッピングが発生しやすくなる。
ここで、硬質被覆層を構成する各層の平均層厚は、例えば、集束イオンビーム装置(FIB:Focused Ion Beam system)、クロスセクションポリッシャー装置(CP:Cross section Polisher)等を用いて、硬質被覆層を任意の位置で切断して観察用の試料を作製し、その縦断面を走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)またはTEM、走査型透過電子顕微鏡(STEM:Scanning Transmission Electron Microscope)、あるいはSEMまたはTEM付帯のエネルギー分散型X線分析(EDX:Energy Dispersive X−ray spectrometry)装置を用いて複数箇所(例えば、5箇所)で観察して、その結果を平均することにより得ることができる。
工具基体は、この種の工具基体として従来公知の基材であれば、本発明の目的を達成することを阻害するものでない限り、いずれのものも使用可能である。例をあげるならば、超硬合金(WC基超硬合金、WCの他、Coを含み、さらに、Ti、Ta、Nb等の炭窒化物を添加したものも含むもの等)、サーメット(Tiの炭化物、Tiの窒化物、Tiの炭窒化物等を主成分とするもの等)、セラミックス(炭化チタン、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウムなど)、cBN焼結体、またはダイヤモンド焼結体であり、これらのいずれかであることが好ましい。
本発明の被覆工具の硬質被覆層は、(1)下部層の成膜工程、(2)上部層の成膜工程、そして、(3)上部層のエッチング工程の3工程を含む工程により作製される。
Tiの炭窒化物層を有するTiの化合物層である下部層は、例えば、平均層厚が3.0〜20.0μmとなるように、公知の成膜条件によって成膜することができる。
この工程は、Sが粒界に偏析するAl2O3層を含む上部層を、その平均層厚が2.0〜20.0μmとなるように成膜する。成膜条件として、例えば、
反応ガス:AlCl3 1.0〜1.8%、CO2 3.0〜5.0%、
HCl 1.0〜3.0%、H2S 0.75〜1.50%、H2 残部
反応雰囲気温度:900〜1000℃
反応雰囲気圧力:5.0〜10.0kPa
をあげることができる。
この工程は、上部層の成膜後、Tiを含むガスによりエッチングと熱処理を行うことにより、上部層のAl2O3層の結晶粒の粒界にTiとSを共存させて偏析させることができる。エッチング条件として、例えば、
反応ガス組成(容量%):TiCl4 1.0〜2.0%、H2 残部
反応雰囲気温度:900〜1000℃
反応雰囲気圧力:5.0〜15.0kPa
処理時間:30〜120分
をあげることができる。
ここでは、本発明の被覆工具の実施例として、工具基体としてWC基超硬合金を用いたインサート切削工具に適用したものについて述べるが、工具基体として、前記したものを用いた場合であっても同様であるし、ドリル、エンドミルに適用した場合も同様である。
(a)まず、表2に示される条件にて、表4に示される目標合計平均層厚の下部層(第1層、第2層、第3層の順に工具基体に近い)としてのTi化合物層を蒸着形成した。
(b)次に、表3に示される条件にて、化学蒸着にてAl2O3層を成膜後、TiCl4とガスH2ガスの混合ガスによるエッチング工程を経て、表4に示される目標平均層厚の上部層としてのAl2O3層を得た。
これら、表2および3に記載されている条件は、前述の製造方法一例として記載されたものである。
また、それぞれ、前述の方法により、本発明被覆工具1〜10、比較被覆工具1〜10の前記Al2O3層内のAl2O3結晶粒についてTiとSの粒界への偏析の有無を確認し、TiとSの偏析のある結晶粒界数の全結晶粒の全粒界数に対して占める割合、α型Al2O3結晶粒における対応粒界分布グラフのピーク位置およびΣ3対応界面割合(%)を求めた。測定結果を表4、表5に示す。加えて、図3に本発明被覆工具5の対応粒界分布グラフ、図4に比較被覆工具3の対応粒界分布グラフを示す。
被削材:JIS・SCM440の長さ方向等間隔4本縦溝入り棒材、
切削速度:350m/min
切り込み:2.0mm
送り :0.25mm/rev
切削時間:5分
(通常の切削速度、切り込み、送りは、それぞれ、200m/min、1.5mm、0.20mm/revである。)
被削材:JIS・SCM440 4スリット材
切削速度:250m/min
切り込み:1.5mm
1回転あたりの送り:0.25mm/rev
切削時間:5分
(通常の切削速度、切り込み、送りは、それぞれ、200m/min、1.0mm、0.2mm/revである。)
これに対して、比較例被覆工具1〜10は、硬質被覆層の剥離発生や、チッピングの発生により、比較的短時間で使用寿命に至っている。
Claims (3)
- 工具基体と、該工具基体の表面に下部層と上部層を含む硬質被覆層を有する表面被覆切削工具であって、
前記下部層はTiの化合物層であり、
前記上部層は2.0〜20.0μmの平均層厚を有し、Al2O3層を含み、該Al2O3層内において隣接する2のAl2O3結晶粒の粒界において、TiとSが共存して偏析している粒界の数が、全粒界の数の20%以上である
ことを特徴とする表面被覆切削工具。 - 前記Al2O3層は、α型の結晶構造を有し、Σ3〜Σ29の構成原子共有格子点分布グラフにおいてΣ3に最高ピークを有し、Σ3の全体に占める割合は60%以上であることを特徴とする請求項1に記載の表面被覆切削工具。
- 前記Al2O3層内にTiとSが共存しているAl2O3結晶粒界の割合がすべてのAl2O3結晶粒界数に対して30〜80%であることを特徴とする請求項1または2に記載の表面被覆切削工具。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006205301A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Kyocera Corp | 表面被覆部材および切削工具 |
JP2007237330A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-09-20 | Mitsubishi Materials Corp | 難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削スローアウエイチップ |
JP2011083877A (ja) * | 2009-10-19 | 2011-04-28 | Mitsubishi Materials Corp | 硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具 |
JP2016005862A (ja) * | 2014-05-30 | 2016-01-14 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
-
2020
- 2020-03-26 JP JP2020056630A patent/JP7486045B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006205301A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Kyocera Corp | 表面被覆部材および切削工具 |
JP2007237330A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-09-20 | Mitsubishi Materials Corp | 難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削スローアウエイチップ |
JP2011083877A (ja) * | 2009-10-19 | 2011-04-28 | Mitsubishi Materials Corp | 硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具 |
JP2016005862A (ja) * | 2014-05-30 | 2016-01-14 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
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