JP2021143107A - 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[化1]
SiCl4 + 2H2O → SiO2 + 4HCl
この反応では副生成物として塩酸が生成し、水分が混入すると金属腐食性を呈するため、製造装置材料や排気温度管理に注意が必要である。さらに、排気から塩酸を回収処理する設備を設けるとコスト増を招く。
[化2]
[SiO(CH3)2]4 + 16O2 → 4SiO2 + 8CO2 + 12H2O
このように、バーナに供給するケイ素化合物原料として、OMCTSに代表されるハロゲンフリーな有機シロキサンを用いると、塩酸が排出されない。そのため、製造装置材料や排気の取り扱いの自由度が増す。また、塩酸回収処理設備を設ける必要がなく、コストを抑えることが期待される。
図1は、本実施形態における気化器周りの供給フローに関する図である。原料液101は、液体マスフローコントローラ1で流量制御され、原料液配管2を通して気化器3に供給される。原料液101は、同じく気化器3に導入されたキャリアガス102によって微細な液滴にされ、加熱されることで原料液101が気化され原料ガスとキャリアガス102とが混合した原料混合ガス104となる。キャリアガス102はガスマスフローコントローラ4で流量制御され、キャリアガス配管5を通して、気化器3に供給される。気化器3での原料液101の気化を促進させるため、キャリアガス102は熱交換器6を用いて予熱して供給してもよい。キャリアガス102としては、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスまたは、酸素や、酸素と不活性ガスの混合ガスを用いることができる。原料混合ガス104は、原料ガス配管10を通して、バーナ11に供給される。
R = ln(D2/D1)/(2×π×λ) + 1/(C×π×D2)
で表され、
バーナ11の原料ガス供給管12の出口温度T3は
T3 = T2 + (T1−T2)/exp(3.6×L/(R×ρ×Q×d))
で表される。なお、バーナ11の置かれている環境温度T2としてバーナの外表面温度を用いることができる。
有機シロキサン原料101としてOMCTS、キャリアガス102としてN2ガス、可燃性ガス105としてH2ガス、シールガス107としてAir、シールガス108としてN2ガスを用いた。OMCTSを供給開始する前、バーナ1本当たりの流量として、可燃性ガス105は30SLM、酸素ガス106bは12SLM、シールガス107は5.0SLM、シールガス108は5.0 SLMとし、酸水素火炎を形成し、60分間予熱を行った。このときのOMCTS供給開始直前のバーナ11の外表面温度T2は65℃であった。
原料ガス供給管12に流すパージガス109の流量Qを5.0SLM(すなわちQ/Vは353[min-1])にした以外は、実施例1と同様の条件にて行った。その結果、OMCTS供給開始時にバーナ管内およびバーナ出口でのOMCTSの液化を防止することができた。
原料ガス供給管12に流すパージガス109の流量Qを1.0SLM(すなわちQ/Vは71 [min-1])にした以外は、実施例1と同様の条件にて行った。その結果、OMCTS供給開始時にバーナ管内で激しく液化が生じた。
原料ガス供給管12に流すパージガス109の流量Qを3.0SLM(すなわちQ/Vは212[min-1])にした以外は、実施例1と同様の条件にて行った。その結果、OMCTS供給開始時にバーナ管内で液化が生じた。
OMCTSを供給開始する前に、可燃性ガス105を供給せず、酸水素火炎を形成しない状態で、OMCTSの供給開始と同時に、可燃性ガス105の供給を開始した。また、原料ガス供給管12に流すパージガス109の流量Qは7.0SLM(すなわちQ/Vは494[min-1])とした。その結果、OMCTS供給開始時にバーナ管内で激しく液化が生じた。また、このときのOMCTS供給開始直前のバーナ11の外表面温度T2は27℃であった。
2 原料液配管
3 気化器
4 ガスマスフローコントローラ
5 キャリアガス配管
6 熱交換器
7 ガスマスフローコントローラ
8 予混合ガス配管
9 熱交換器
10 原料ガス配管
11 バーナ
12 原料ガス供給管
13 バーナ外表面温度測定点
101 原料液
102 キャリアガス
103 酸素
104 原料混合ガス
105 燃焼用可燃性ガス
106a 燃焼用酸素ガス
106b 燃焼用酸素ガス
107 シールガス
108 シールガス
109 パージガス
Claims (4)
- 出発材上にガラス微粒子を堆積して光ファイバ用多孔質ガラス母材を製造する方法であって、
原料タンクから供給される有機シロキサン原料を気化器に供給する工程と、前記気化器内において原料とキャリアガスを混合・気化する工程と、光ファイバ多孔質ガラス母材製造装置内のバーナに供給し燃焼反応によりSiO2微粒子を外付け堆積する工程とを備え、
前記バーナの原料ガス供給管に原料を供給開始する前に、前記原料ガス供給管に60℃以上のパージガスを流し、且つ、可燃性ガスおよび助燃性ガスをバーナに供給し、バーナの外表面温度が60℃以上となるように、バーナ出口において酸水素火炎を形成することで前記バーナおよび前記光ファイバ多孔質ガラス母材製造装置内を予熱し、
前記原料ガス供給管に流す前記パージガスは、前記バーナにおける原料ガスバーナ導入口からバーナ出口までの前記原料ガス供給管内の容積をV[L]、原料供給開始前に前記バーナの前記原料ガス供給管に流すガス流量をQ[SLM]としたとき、Q/V>350[min-1]を満たす流量で流されることを特徴とする、光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法。 - 請求項1に記載の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法において、
前記原料ガス供給管に流す前記パージガスは、Q/V>450[min-1]を満たす流量で流されることを特徴とする、光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法。 - 前記有機シロキサン原料にオクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCTS)を使用することを特徴とする、請求項1または2に記載の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法。
- 原料供給開始前に前記パージガスを流す前記気化器から前記原料ガスバーナ導入口までの原料ガス導入配管は、140℃以上220℃以下の温度に加熱保温されることを特徴とする、請求項1に記載の光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法。
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