JP2021133266A - 粉粒体の散布方法及び粉粒体含有物品の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ホッパー内に貯留されている粉粒体の散布量を精度よく調整可能とする。【解決手段】本発明は、ホッパー２から排出された粉粒体Ｐを、搬送手段３によって所定の一方向に搬送して散布する工程を備えた粉粒体の散布方法であって、ホッパー及び該ホッパー内に貯蔵されている粉粒体の全質量（ホッパー込粉粒体全質量）Ａを連続して計測しつつ、粉粒体Ｐの単位時間当たりの散布量ΔＳが、単位時間当たりの目標散布量ΔＳｔと一致するように搬送手段の搬送能力を制御する第１搬送能力制御工程と、計測したホッパー内粉粒体の全質量Ｂが閾値を下回った場合に、該ホッパー内粉粒体の全質量が初期設定質量Ｂ０となるまでホッパー内に前記粉粒体Ｐを補充しつつ、第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法により搬送手段の搬送能力を制御する第２搬送能力制御工程Ｃ２とを有する。【選択図】図４

Description

本発明は、粉粒体の散布方法及び粉粒体含有物品の製造方法に関する。

粉粒体を散布する散布方法では、ホッパー内に貯留されている粉粒体の全質量の単位時間当たりの変化量を計測し、計測結果に応じて、ホッパー内の粉粒体を搬送する搬送手段の駆動を制御するとともに、ホッパー内の粉粒体が減少すると、粉粒体を補充することが知られている。
例えば特許文献１及び２には、計測結果に応じてホッパー内の粉体を搬送する搬送手段の駆動制御を、ホッパー内に粉体が補充される時にはホッパー内の粉粒体の質量や補充量に関係なく、一律の搬送量となるように制御する粉体供給装置が記載されている。
特許文献３には、ホッパー内に粉粒体が補充される時には、搬送手段による粉粒体の搬送制御を行わずに粉粒体を搬送することが記載されている。

特開平１１−１６０１３８号公報 特開２０１８−１５４４３１号公報 特開２０１７−９４２９４号公報

特許文献１及び２に記載の技術では、ホッパーへの補充時に搬送装置による搬送量が一定となるように制御しているが、ホッパー内に新たに供給される粉体やホッパー質量を考慮せず、定量制御としているので、フィードバック制御に比べて搬送手段で搬送される粉体量のバラツキは否めない。
特許文献３に記載の技術では、ホッパーへの補給時に搬送装置による搬送制御を休止しているが、粉粒体は制御されない状態で搬送されているため、ホッパー内に新たに供給される粉体やホッパー質量を考慮した搬送とはならず、改善の余地がある。

したがって本発明の課題は、ホッパー内に貯留されている粉粒体の散布量を精度よく調整可能とする製造方法及び粉粒体含有物品の製造方法を提供することにある。

本発明は、ホッパーから排出された粉粒体を、搬送手段によって所定の一方向に搬送して散布する工程を備えた粉粒体の散布方法であって、前記ホッパー及び該ホッパー内に貯蔵されている前記粉粒体の全質量を連続して計測しつつ、前記粉粒体の単位時間当たりの散布量が、単位時間当たりの目標散布量と一致するように該搬送手段の搬送能力を制御する第１搬送能力制御工程と、前記計測したホッパー内粉粒体の全質量が閾値を下回った場合に、該ホッパー内粉粒体の全質量が初期設定質量となるまで前記ホッパー内に前記粉粒体を補充しつつ、第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法により前記搬送手段の搬送能力を制御する第２搬送能力制御工程とを有する、粉粒体の散布方法を提供するものである。

また本発明は、ホッパーから排出された粉粒体が搬送手段によって所定の一方向に搬送されることで散布された粉粒体含有物品の製造方法であって、
前記ホッパー及び該ホッパー内に貯蔵されている前記粉粒体の全質量を連続して計測しつつ、前記粉粒体の単位時間当たりの散布量が、単位時間当たりの目標散布量と一致するように該搬送手段の搬送能力を制御する第１搬送能力制御工程と、前記計測したホッパー内粉粒体の全質量が閾値を下回った場合に、該ホッパー内粉粒体の全質量が初期設定質量となるまで前記ホッパー内に前記粉粒体を補充しつつ、第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法により前記搬送手段の搬送能力を制御する第２搬送能力制御工程とを有する、粉粒体含有物品の製造方法を提供するものである。

本発明によれば、ホッパー内に貯留されている粉粒体の散布量を精度よく調整可能とすることが可能な粉粒体の散布方法及び粉粒体含有物品の製造方法を提供することができる。

図１は、本発明で用いられる粉粒体散布装置の一実施形態を模式的に示す側面図である。 図２は、図１に示す粉粒体散布装置を、搬送手段による粉粒体の搬送方向の上流側から見た様子を模式的に示す正面図である。 図３（ａ）及び図３（ｂ）はそれぞれ、ホッパー及び該ホッパー内に貯蔵される粉粒体の全質量の計測値に基づき、該全質量の単位時間当たりの変化量を算出する方法を説明する図である。 図４は、第１搬送能力制御工程と第２搬送能力制御工程におけるホッパー内の粉粒体の変化と、振動発生手段の振幅の変化を示すグラフである。 図５は、図１に示す粉粒体散布装置におけるホッパーの斜視図である。 図６は、図１に示す粉粒体散布装置における排出口及びその近傍を模式的に示す側面図である。 図７は、第１搬送能力制御工程と第２搬送能力制御工程におけるホッパー内の粉粒体質量変化と振幅及び補充質量と散布量との関係を説明するグラフであり、（ａ）は従来構成、（ｂ）は本発明に斯かる構成による結果を示す。 図８は、第１搬送能力制御工程と第２搬送能力制御工程におけるホッパー内の粉粒体の変化と、振動発生手段の別な振幅の変化を示すグラフである。

以下本発明を、その好ましい実施形態に基づき図面を参照しながら説明する。まず、本発明の粉粒体の散布方法に用いられる好ましい散布装置の一実施形態を、図１を参照しながら説明する。図１に示す粉粒体散布装置１は、ホッパーから排出された粉粒体を、搬送手段によって所定の一方向に搬送して散布対象物に散布することで、粉粒体含有物品を製造する製造装置に用いられるものである。

粉粒体散布装置１は、粉粒体Ｐを内部に一時的に貯蔵可能なホッパー２と、ホッパー２から排出された粉粒体Ｐを図中符号Ｘで示す所定の一方向に搬送し、連続搬送される基材１００上に散布する搬送手段３とを備えている。ホッパー２は、搬送手段３（受取手段３０）の上方位置に位置している。基材１００は例えば、図１に示す如き搬送ロール、あるいはベルトコンベア等の公知の搬送装置により連続搬送することができる。なお、基材１００及びその搬送装置は、粉粒体散布装置１を構成するものではない。

ホッパー２は、図１に示す如き側面視、即ち、搬送手段３による粉粒体Ｐの搬送方向Ｘと直交する方向から見た場合において、上底が下底より長い台形形状をなしている貯蔵部２０と、該貯蔵部２０の下端に連接され、該側面視において長方形形状をなす直方体形状の排出部２１とを含んで構成されている。貯蔵部２０は内部に粉粒体Ｐの貯蔵が可能な空間を有し、その内部空間に粉粒体Ｐを一時的に貯蔵することが可能になされている。粉粒体Ｐは、貯蔵部２０の上部開口を通じ、粉体供給装置９０によって貯蔵部２０の内部空間に供給される。排出部２１は内部に粉粒体Ｐの移動路２２を有し、且つ排出部２１の下端（貯蔵部２０側とは反対側の端部）には、粉粒体Ｐの排出口２３が形成されており、貯蔵部２０の内部空間と排出口２３とが移動路２２を介して連通している。ホッパー２は、斯かる構成により、内部に一時的に貯蔵した粉粒体Ｐを、移動路２２を介して排出口２３から排出することが可能になされている。

搬送手段３は、図１に示すように、ホッパー２から排出された粉粒体Ｐを受け取る受取手段３０と、受取手段３０を振動させる振動発生手段３１とを含んで構成されている。搬送手段３は、ホッパー２の下端に位置する排出口２３に対して隙間Ｇを置いて配置されている。より具体的には、搬送手段３は、受取手段３０の上面３０ａ、即ち、ホッパー２から排出された粉粒体Ｐを受け取って搬送する上面３０ａと排出口２３との間に所定の隙間Ｇが形成されるように配置されている。振動発生手段３１は、受取手段３０の下面３０ｂに固定されている。受取手段３０において、粉粒体Ｐの受け取り及び搬送に利用される（粉粒体Ｐと接触する）のは、ホッパー２（排出口２３）の下方に位置する部分及びその近傍であり、それ以外の部分は基本的に粉粒体Ｐと接触しない粉粒体非接触部であるところ、振動発生手段３１は、受取手段３０の該粉粒体非接触部における下面３０ｂに固定されている。

搬送手段３は、振動発生手段３１を作動させて受取手段３０を振動させることによって、受取手段３０上の粉粒体Ｐを所定の方向に搬送可能になされている。粉粒体散布装置１は、振動発生手段３１に印加する電圧及び周波数を制御する制御部４０を備えており、該制御部４０によって、受取手段３０の振動数及び／又は振幅を制御し、延いては受取手段３０上の粉粒体Ｐの搬送状態を制御する。即ち、制御部４０による制御下、振動発生手段３１の非作動時には、受取手段３０は振動していないため、受取手段３０上の粉粒体Ｐの搬送は停止又は抑制されている。斯かる状態から振動発生手段３１を作動させると、受取手段３０が振動を開始することによって、受取手段３０上の粉粒体Ｐの停止又は抑制が解除され、粉粒体Ｐは、図中符号Ｘで示す方向に搬送され、最終的には図１及び図２に示すように、受取手段３０の端部から落下して、受取手段３０の下方を連続搬送されている基材１０上に散布される。

振動発生手段３１によって発生する振動を受取手段３０上の粉粒体Ｐに適切に伝えるようにする観点から、受取手段３０は平板状のものであることが好ましく、より具体的には、図１に示す如き扁平な平板部材が好ましい。斯かる平板部材からなる受取手段３０の材質は特に制限されないが、例えば、各種プラスチックや各種金属などが挙げられる。

振動発生手段３１としては、受取手段３０上の粉粒体Ｐを所望の一方向に搬送させ得る振動成分を発生可能なものであれば良く、例えば、圧電セラミック等の圧電素子、振動フィーダ等の公知の振動発生手段が挙げられる。中でも振動フィーダは、振動発生手段３１として好ましく用いられる。また、振動発生手段３１の振動数は特に制限されないが、粉粒体の搬送性並びに散布の均一性及び定量性等の観点から、好ましくは５０Ｈｚ以上、更に好ましくは１００Ｈｚ以上であり、そして、好ましくは５００Ｈｚ以下、更に好ましくは３００Ｈｚ以下である。より具体的には、好ましくは５０Ｈｚ以上５００Ｈｚ以下であり、更に好ましくは１００Ｈｚ以上３００Ｈｚ以下である。

ホッパー２には計測装置５０が取り付けられている。計測装置５０としては、ホッパー２及びホッパー２内に貯蔵されている粉粒体Ｐの全質量を連続して計測可能なものが用いられる。連続して計測可能とは、計測データのサンプリングタイムが１秒以下であることをいう。計測装置５０によって計測されたホッパー２及びホッパー２内に貯蔵されている粉粒体Ｐの全質量の計測データは、データの取得のたびに、先に述べた制御部４０に送信されるようになっている。計測装置５０の具体例としては電気式計測器が挙げられ、具体的には、ロードセル式計測器や電磁式計測器、音叉式計測器等を用いることができる。

制御部４０は、上述のとおり、受取手段３０の振動数及び／又は振幅を制御する機能を有する。また制御部４０は、計測装置５０から送信された計測データを受信できるようになっている。更に制御部４０は、ホッパー２の貯蔵部２０上に設置されている粉体供給装置９０に接続されており、貯蔵部２０内への粉粒体Ｐの供給も制御する機能を有する。制御部４０としては、例えば制御・処理用ソフトウエアがインストールされたコンピュータを用いることができる。

粉粒体散布装置１を用いた散布の対象となる粉粒体Ｐとしては、例えば吸水性ポリマー粒子、砂糖、活性炭、小麦粉、ポリエチレンペレット、ポリプロピレンペレット、ポリエチレンテレフタレートチップ、ポリカーボネートチップ、ポリエチレングラニュール、ポリアクリル酸ブチルビーズ等の有機物の粉粒体や、金属粉、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、ガラス、石灰等の無機物の粉粒体が挙げられる。粉粒体Ｐの形状は特に制限されず、例えば、球状、碁石状、楕円形、楕円柱、針状、キュービック状等が挙げられる。粉粒体散布装置１によれば、粉粒体Ｐが真球状の場合は勿論のこと、真球状以外の形状であっても、基材１００の長手方向Ｘ及び／又は幅方向Ｙに均一に定量性良く散布することができる。

基材１００は、シート状の基材であることが好ましいが、シート状の基材に限られない。シート状の基材としては、各種製法による不織布、樹脂フィルム、織物、編み物、紙等、及びこれらのうちの同種又は異種のものを複数枚積層した積層体等が挙げられる。

粉粒体散布装置１を用いて、連続搬送されるシート状の基材上に粉粒体を散布する粉粒体の散布方法の一例として、被酸化性金属の粒子、及び水を含む発熱シートを製造する際に、連続搬送される繊維シートからなるシート状の基材上に、吸水性ポリマーの粒子、金属粒子、固形の電解質等を散布して、発熱組成物を形成する方法が挙げられる。このシート状の基材の発熱組成物の層に、塩化ナトリウム等の電解質や吸水性ポリマーといった粉粒体を、本発明の粉粒体散布装置を用いて散布することにより、これら粉粒体が均一な状態で配置された発熱体を得ることができる。このような発熱体であれば、発熱ムラの少ない、優れた発熱特性を得られることが期待できる。なお、本発明の装置及び粉粒体の散布方法は、発熱体の製造方法において好ましいものであるが、他の機能性シートの製造方法にも適用可能である。

粉粒体散布装置１を用いて、連続搬送されるシート状の基材１００上に粉粒体Ｐを散布する場合には、ホッパー２における排出口２３を通じて該ホッパー２内に貯留されている粉粒体Ｐを落下させ、搬送手段３の受取手段３０上に散布する。粉粒体Ｐの落下に連れてホッパー２内での粉粒体Ｐの貯留量は次第に減少してくる。ホッパー２内での粉粒体Ｐの量は、ホッパー２及びホッパー２内に貯蔵されている粉粒体Ｐの全質量の形で計測装置５０によって連続的に計測される。
なお、以下の説明においては、簡便のため、ホッパー２及びホッパー２内に貯蔵されている粉粒体込みの全質量（ホッパー込み粉粒体質量）をＡ、ホッパー質量をＡ_０、ホッパー内粉粒体質量をＢ＝Ａ−Ａ_０と定義し、満充填のときのホッパー内粉粒体質量をＢ_０とする。本実施形態において、ホッパー込み粉粒体質量Ａの計測時にホッパー風袋引きをしている。このため、ホッパー込み粉粒体質量Ａの計測は、結果的に、ホッパー内粉粒体質量Ｂを計測していることになる。
ホッパー込み粉粒体質量Ａの連続計測に先立ち、粉粒体Ｐの満充填状態でのホッパー内粉粒体質量Ｂ_０を予め測定しておくことが好ましい。粉粒体Ｐの満充填状態でのホッパー内粉粒体質量Ｂ_０を予め測定しておくことで、ホッパー２から落下した粉粒体Ｐの質量Ｂ_Ｐを、Ｂ_０−Ｂの計算から容易に算出することができる。

シート状の基材１００上に粉粒体Ｐを定量で安定的に散布するためには、搬送手段３における受取手段３０上に落下した粉粒体Ｐが、定量で基材１００上に散布されるように、受取手段３０の振幅や振動数を制御することが望ましい。受取手段３０の振幅や振動数は、振動発生手段３１によって制御される。振動発生手段３１による振動の制御は、具体的には以下の基準に従い行われることが好ましい。すなわち、ホッパー込み粉粒体質量Ａを連続的に測定し、ホッパー内粉粒体質量Ｂの単位時間当たりの変化量ΔＢを算出する。ΔＢは（Ｂ_ａ−Ｂ_ｂ）／ｔで定義される。Ｂ_ａは、ある時刻でのホッパー内粉粒体質量であり、Ｂ_ｂは、時間ｔ経過後のホッパー内粉粒体質量である。ΔＢは制御部４０において演算される。ホッパー２の質量Ａ_０は不変であるから、ΔＢは、ホッパー２内における粉粒体Ｐの質量の減少速度に等しい。以下、ΔＢを「質量減少速度」ともいう。この質量減少速度ΔＢに応じて、搬送手段３の搬送能力を制御し、該搬送手段３によって基材１００上に散布される粉粒体Ｐの単位時間当たりの散布量ΔＳを、単位時間当たりの目標散布量ΔＳ_ｔに一致させる第１搬送能力制御工程を行う。第１搬送能力制御においては、例えばΔＢがΔＳ_ｔよりも少ない場合には、搬送手段３の搬送能力を高めて散布量ΔＳを増加させる制御工程を行う。逆に、ΔＢがΔＳ_ｔよりも多い場合には、搬送手段３の搬送能力を低めて散布量ΔＳを減少させる制御工程を行う。

搬送手段３の搬送能力は、例えば振動発生手段３１の振動の振幅若しくは周波数又はそれら両者を制御することで変更が可能である。振動発生手段３１の制御には、例えばＰ制御（比例制御）、ＰＩ制御又はＰＩＤ制御などの公知のフィードバック制御方法を採用することができる。これらの各種の制御方法における係数は、トライアル・アンド・エラーによって決定することができる。

ホッパー内粉粒体質量Ｂの質量減少速度ΔＢは、種々の方法で算出することができる。例えば所定時間ｔ（秒）毎にホッパー内粉粒体質量Ｂを計測し、計測した該ホッパー内粉粒体質量Ｂと、ｔ（秒）前に計測した該ホッパー内粉粒体質量Ｂとの差分を算出し、その差分値をｔ（秒）で除した値を質量減少速度ΔＢと定義することができる。ｔの値は１秒以上３００秒以下であることが好ましい。一例として、図３（ａ）に示すとおり、５秒ごとにホッパー内粉粒体質量Ｂを測定し、最新の測定値と、５秒前の測定値との差分をとり、その差分を５秒で除すことで、質量減少速度ΔＢを算出できる。

別法として、所定時間ｓ（秒）毎にホッパー内粉粒体質量Ｂを計測し、計測した該ホッパー内粉粒体質量Ｂと、ｔ（秒）（ただしｓ＜ｔである。）前に計測した該ホッパー内粉粒体質量Ｂとの差分を算出し、その差分値をｔ（秒）で除した値を質量減少速度ΔＢと定義することもできる。ｓとｔの関係は、ｔ／ｓの値が１より大きく３０００以下であることが好ましい。またｓの値は０．１秒以上１０秒以下であることが好ましい。ｔの値はｓの値よりも大きいことを条件として、１秒以上３００秒以下であることが好ましい。一例として、図３（ｂ）に示すとおり、１秒ごとにホッパー内粉粒体質量Ｂを測定し、最新の測定値と、５秒前の測定値との差分をとり、その差分を５秒で除すことで、質量減少速度ΔＢを算出できる。

図３（ａ）に示す質量減少速度ΔＢの算出方法は、図３（ｂ）に示す質量減少速度ΔＢの算出方法よりも、制御部４０における演算の負荷が小さいという利点を有する。一方、図３（ｂ）に示す質量減少速度ΔＢの算出方法は、図３（ａ）に示す質量減少速度ΔＢの算出方法よりも精密に質量減少速度ΔＢを算出できるという利点がある。

ところで、ホッパー内粉粒体質量Ｂは、粉粒体Ｐを散布する時間の経過とともに次第に減少してくる。先に述べたとおり、ホッパー等の供給装置内に貯留されている粉粒体Ｐを、該ホッパーの下部から落下させる場合、ホッパー内に貯留されている粉粒体Ｐの量に応じて落下量に差が生じる場合があることが経験的に知られている。
この点について本発明者が鋭意検討した結果、ホッパー内粉粒体質量Ｂが、粉粒体Ｐの満充填状態でのホッパー内粉粒体質量Ｂ_０の好ましくは４０質量％以上１００質量％以下、更に好ましくは８０質量％以上１００質量％以下である場合には、粉粒体Ｐの落下量に差が生じにくく、散布量を安定化させ得ることが判明した。

したがって、ホッパー内粉粒体質量Ｂを、粉粒体Ｐの満充填状態でのホッパー内粉粒体質量Ｂ_０の好ましくは４０質量％以上１００質量％以下、更に好ましくは８０質量％以上１００質量％以下に維持した状態で粉粒体Ｐを散布することが好ましい。換言すれば、粉粒体Ｐの満充填状態でのホッパー内粉粒体質量Ｂ_０の４０質量％の値を閾値として設定し、ホッパー内粉粒体質量Ｂが閾値である０．４Ｂ_０を下回ったら、ホッパー内粉粒体質量Ｂが、初期設定質量、すなわち粉粒体Ｐの満充填状態でのホッパー内粉粒体質量Ｂ_０となるまで、ホッパー２内に粉粒体Ｐを補充する粉粒体補充制御を行う。
すなわち、本実施形態において、閾値とはホッパー内に貯蔵されている粉粒体の満充填状態の全質量となるホッパー内粉粒体質量Ｂ_０に対し、一定の割合の質量値として事前に決定した値である。

本実施形態において実際に計測される質量は、ホッパー込み粉粒体質量Ａである。上述の補充操作とは、粉粒体質量を連続して計測し、該ホッパー内粉粒体質量Ｂが閾値を下回ったら、該ホッパー内粉粒体質量が初期設定質量となるまで該ホッパー内に該粉粒体を補充する粉粒体補充制御を行うことと同義である。この粉粒体補充制御は、制御部４０から粉体供給装置９０に向けて動作指令を発し、粉体供給装置９０によって粉粒体Ｐをホッパー２内に供給することで行われる。
また、この粉粒体補充制御工程は、第２搬送能力制御工程で行われる。第２搬送能力制御工程は、先に述べた第１搬送能力制御工程とは独立して行われるため、粉粒体補充制御工程は第１搬送能力制御工程とは独立して行われる。「独立して行われる」とは、粉粒体補充工程と第２搬送能力制御工程とを、別個の制御系を用いて行うことを意図するものではなく、一つの制御系のみを用い、粉粒体補充操作と第２搬送能力制御操作とを並列処理によって行うことも包含される。

前記粉粒体補充工程によってホッパー２内に粉粒体Ｐを供給している間も、計測装置５０を用いたホッパー込み粉粒体質量Ａの計測は連続して行われている。しかし、粉粒体Ｐの供給に起因するホッパー２の振動やその他の要因に起因して、ホッパー２内への粉粒体Ｐの供給の間は、ホッパー込み粉粒体質量Ａの計測を正確に行うことが容易でない。
特許文献１，２の技術では、ホッパーへの補充時に搬送装置による搬送量が一定となるように制御しているが、ホッパー内に新たに供給される粉体やホッパー質量を考慮せず、定量制御としているので、フィードバック制御に比べて搬送手段で搬送される粉体量のバラツキの発生は否めない。
特許文献３に記載の技術では、粉粒体補充工程を行っている間は第１搬送能力制御工程を休止するが、粉粒体自体は制御を受けない状態で搬送されていることから、ホッパー内に新たに供給される粉体やホッパー質量を考慮しない搬送であるため、改善の余地がある。

そこで、本実施形態では、粉粒体補充工程を行っている間は、第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法により搬送手段３の搬送能力を制御するようにした。本実施形態では、第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法により搬送手段３の搬送能力を制御する工程と、粉粒体補充工程とを合わせて第２搬送能力制御工程としている。
すなわち、本実施形態に斯かる製造方法では、第１搬送能力制御工程と、計測した全質量（ホッパー内粉粒体質量Ｂ）が閾値を下回った場合、全質量が初期設定質量（Ｂ_０）となるまでホッパー２内に粉粒体Ｐを補充しつつ、第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法により搬送手段３の搬送能力を制御する第２搬送能力制御工程とを有している。
「第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法」とは、粉粒体補充工程を行っている最中に、第１搬送能力制御工程時の制御と異なるパラメータを用いて搬送手段３の作動をフィードバック制御して搬送手段３の搬送能力を制御することである。

図４は、第１搬送能力制御工程と第２搬送能力制御工程におけるホッパー２内の粉粒体Ｐの変化と、振動発生手段３１の振幅の変化を示す図である。図４において、横軸は時間を示し、縦軸はホッパー内の粉体量（ホッパー内粉粒体質量Ｂ）と振動発生手段３１の作動による振幅の変化を示す。
図４中、符号Ｃ１は第１搬送能力制御工程による制御区間（以下「制御区間Ｃ１」と記す」）を示し、符号Ｃ２は第２搬送能力制御工程による制御区間（以下「制御区間Ｃ２」と記す」）を示す。また、制御区間Ｃ２において、ホッパー内粉粒体質量Ｂの増加は、粉粒体補充工程によりホッパー２内に粉粒体Ｐが補充されることによるものであり、制御区間Ｃ２において振幅が変位するのは搬送手段３が制御されている状態を示している。すなわち、制御区間Ｃ２において、ホッパー内粉粒体質量Ｂの増加は、粉粒体補充工程を示し、振幅の変化は、第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法により搬送手段３が制御されている工程を示している。このため、制御区間Ｃ２における振幅の変化は、第２搬送能力制御工程における搬送手段３の制御工程を示すことにもなる。

制御区間Ｃ１では、搬送手段３に対して質量減少速度ΔＢに応じたフィードバック制御が行われるので、振幅は搬送手段３を質量減少速度ΔＢに応じて変化する。この点は、特許文献３の技術でも、振幅の幅や高さは異なると思うが、制御区間Ｃ１で振幅は変化する。
特許文献３の技術では、粉粒体補充工程において、制御区間Ｃ２における振幅は搬送手段を制御していないのでフラットである。これに対し、本実施形態では、粉粒体補充工程において搬送手段３を制御しているため、制御区間Ｃ２における振幅が変化する。

このように、本実施形態においては、搬送手段３は、第１搬送能力制御工程による制御とは異なるパラメータでフィードバック制御されるので、基材１００上への粉粒体Ｐの散布量を安定化させることができる。

また、第２搬送能力制御工程による搬送手段３の制御は、図４に示すように、粉粒体補充工程の完了後、すなわちホッパー内粉粒体質量Ｂが、初期設定質量である、粉粒体Ｐの満充填状態でのホッパー内粉粒体質量Ｂ_０を満たした後、該ホッパー内粉粒体質量Ｂが所定時間Ｊにわたり連続して減少したときに解除される。すなわち、本実施形態の製造方法では、第２搬送能力制御工程から第１搬送能力制御工程へと切り替わり、第１搬送能力制御工程による搬送手段３の搬送能力制御へと戻される。「ホッパー内粉粒体質量Ｂが所定時間にわたり連続して減少したとき」とは、例えばホッパー内粉粒体質量Ｂの計測を１秒ごとに連続して行っている場合には、粉粒体補充工程の完了後、ホッパー内粉粒体質量Ｂが１秒前よりも少ない状態が５回継続した場合のことである。この処理は制御部４０において行われ、該制御部４０における判断の結果、振動発生手段３１の作動指令が制御部４０から振動発生手段３１に向けて発せられる。なお、「連続して減少したとき」の回数は、例示の５回に限定されるものではない。

粉粒体補充工程の完了後に直ちに第１搬送能力制御工程に切り替えないのは、計測装置５０による満充填状態でのホッパー内粉粒体質量Ｂ_０の計測結果に、誤差や過渡的な計測結果を含んでいる場合を考慮してのことである。このように、粉粒体補充工程の完了後にタイムラグを設けて第２搬送能力制御工程から第１搬送能力制御工程へと切り替えることで、搬送手段３の搬送能力制御が正確な計測結果に基づいて行われるので、より基材１００上への粉粒体Ｐの散布量を安定化させることができる。

第２搬送能力制御工程では、粉粒体補充工程においてホッパー２に補充される補充質量に応じて搬送能力を制御する。この場合の「補充質量」は、粉粒体補充工程においてホッパー２に供給される粉粒体Ｐの単位時間当たりの補充質量であってもよいし、ホッパー２に補充される総量としたものであってもよい。
このように、補正のパラメータとして補充質量を用い、該補充質量に応じて搬送手段３の搬送能力を粉粒体補充工程中に制御することで、同工程中に変動する補充質量に応じた搬送能力制御が可能となり、より基材１００上への粉粒体Ｐの散布量を安定化させることができる。

別な制御形態としては、ホッパー２に対して粉粒体Ｐを補充する前後における単位時間当たりの散布量の変化量ΔＰ_１、ΔＰ_２によって搬送能力を制御するようにしてもよい。例えばΔＰ_１が目標散布量ΔＳ_ｔに対し１％少ない、またはΔＰ_２が目標散布量ΔＳ_ｔに対し１％多い、という判断を制御部４０ですることを想定した場合、次回の第２搬送能力制御工程では、その直前の第２搬送能力制御工程で変化させた振幅の半分の変化を与える制御をする。図４において、ΔＰ_１は、補充する前における単位時間当たりの散布量の変化量を示し、ΔＰ_２は、補充後における単位時間当たりの散布量の変化量を示す。第２搬送能力制御工程におけるホッパー２に対して粉粒体Ｐを補充する前後とは、ホッパー２に対して粉粒体Ｐを補充する粉粒体補充工程から、補充後に第２搬送能力制御工程から第１搬送能力制御工程へと切り替えるまでの区間の前後が該当する。
このように、本実施形態では、ホッパー２に対する粉粒体Ｐの補充工程前後の変化量に応じて搬送手段３による搬送能力を制御するので、搬送手段３の制御が正確な計測結果に基づいて行われるため、より基材１００上への粉粒体Ｐの散布量を安定化させることができる。

第２搬送能力制御工程の搬送手段３の搬送能力制御をどの地点で行うのかという点については、図４に示すように、第１搬送能力制御工程から第２搬送能力制御工程へ切替わるＡ１から第２搬送能力制御工程から第１搬送能力制御工程への切替わるＡ２までの区間のどこで行ってもよい。

制御区間Ｃ２における振幅の変化やその位置は、制御区間Ｃ２で行われる制御内容によって異なる。例えば、図４中、Ｅ１で示す制御区間Ｃ２の振幅変化（搬送能力変化）は、段階的に振幅を上昇させる制御形態であり、制御区間Ｃ２の略全域で行われている。図４中、Ｅ２で示す制御区間Ｃ２の振幅変化（搬送能力変化）は、第１搬送能力制御工程から第２搬送能力制御工程に切り替わった直後において搬送手段３に対して制御が行われた制御形態を示す。図中、符号Ｅ３で示す振幅変化（搬送能力変化）は、第２搬送能力制御工程から第１搬送能力制御工程に切り替わる直前において搬送手段３に対して制御が行われた制御形態を示す。
このように、搬送手段３の搬送能力の変更する時期は、制御区間Ｃ２内のどこで行っても、粉粒体補充工程中であれば、基材１００上への粉粒体Ｐの散布量を安定化させることができるので好ましい。

図７は、図４に示したグラフに、粉粒体補充質量と粉粒体散布質量を追加したものを模式的に示したグラフである。図７（ａ）は、粉粒体補給工程を行っている間は第１搬送能力制御を休止する従来構成による計測結果を示し、図７（ｂ）は粉粒体補充工程を行っている間でも第２搬送能力制御を実行する本実施形態に斯かる構成による計測結果を示す。
図７（ａ）に符号Ｆ１〜Ｆ３で示すように、従来構成においては、粉粒体補充工程中及び第２搬送能力制御工程（制御区間Ｃ２）第１搬送能力制御工程（制御区間Ｃ１）への切替時の粉粒体の散布質量変動が大きくなる。従来構成の場合、これらの時期に第１搬送能力制御を休止しているので、振幅の変化はなく、搬送手段３による粉粒体散布質量が粉粒体補充質量に応じて制御されず、粉粒体散布質量の変動が大きく出たものと推察される。
これに対し、図７（ｂ）に符号Ｆ４〜Ｆ６に示すように、本実施形態の場合、粉粒体補充工程中及び第２搬送能力制御工程（制御区間Ｃ２）から第１搬送能力制御工程（Ｃ１）への切替時の粉粒体補充工程中であっても、第２搬送能力制御による搬送手段３に対する制御が実行される。このため、振幅は変化するので、搬送手段３による粉粒体散布質量が粉粒体補充質量に応じて制御されることになり、粉粒体散布質量の変動が抑制されたものと推察される。

以上のとおり、粉粒体散布装置１を用いた粉粒体の散布方法によれば、所定の方向に連続搬送される基材１００上に粉粒体Ｐを定量で散布することができる。特に搬送方向Ｘに沿って見たときの粉粒体Ｐの散布量を一定化することができる。これに加えて、搬送方向と直交する方向、すなわち幅方向Ｙに沿って見たときの粉粒体Ｐの散布量も一定化することができる。特に、（ｉ）排出口２３を平面視したとき（すなわち粉粒体Ｐの排出方向と直交する方向の断面視において）、搬送手段３による粉粒体Ｐの搬送方向Ｘと直交する方向（幅方向Ｙ）の長さＷ（図５参照）が、搬送方向Ｘの長さＤ（図１、図５及び図６参照）に比して、長い形状をなしていると、基材１００の幅方向にも均一に定量性良く粉粒体Ｐを散布することができる。

排出部２１の下端に位置する排出口２３の平面視形状は、排出部２１内の移動路２２における粉粒体Ｐの流れに少なからず影響を及ぼす。本発明者らの知見によれば、排出口２３の平面視形状が、長方形形状又はそれに準じた形状、即ち「一方向に長い形状」であると、真円形状や正方形形状の場合に比して、移動路２２における粉粒体Ｐの流れが定常流化されやすく、基材１００の幅方向に均一に定量性良く粉粒体Ｐを散布することができる。この観点から、排出口２３においては、「幅方向Ｙの長さＷ＞搬送方向Ｘの長さＤ」なる大小関係が成立していることが好ましい。

基材１００の幅方向に均一に定量性良く粉粒体Ｐを散布する観点から、（ｉｉ）移動路２２は、搬送方向Ｘの最大幅Ｄが粉粒体Ｐの最大粒子径ｒ（図６参照）との比Ｄ／ｒは、好ましくは２倍以上、より好ましくは３以上、そして、好ましくは３０以下、より好ましくは２０以下であることが好ましく、移動路２２において粉粒体Ｐの詰まりが発生することを効果的に防止できる。

基材１００の幅方向に均一に定量性良く粉粒体Ｐを散布する観点から、（ｉｉｉ）移動路２２は、粉粒体Ｐの排出方向の長さＨ（図２及び図５参照）が粉粒体Ｐの最大粒子径ｒの１倍以上である（１≦Ｈ／ｒ）ことも好ましい。移動路２２の長さＨを粉粒体Ｐの最大粒子径ｒの１倍以上とすることで、移動路２２において粉粒体Ｐの詰まりが発生することを効果的に防止でき、基材１００に対して粉粒体Ｐを幅方向に均一に定量性良く散布することができる。移動路２２の長さＨは、粉粒体Ｐの最大粒子径ｒを基準として、好ましくは５倍以上、更に好ましくは１０倍以上である。移動路２２の長さＨの上限値としては、粉粒体Ｐの流れの定常流化の観点からは制限されないが、装置の適正な大きさの観点から決定することができ、例えば、粉粒体Ｐの最大粒子径ｒの１００倍以下であることが好ましい。

基材１００の幅方向に均一に定量性良く粉粒体Ｐを散布する観点から、（ｉｖ）隙間Ｇ（図１、図２及び図６参照）は、粉粒体Ｐの最大粒子径ｒの１倍以上である（１≦Ｇ／ｒ）ことも好ましい。ホッパー２（排出部２１）の排出口２３と搬送手段３（受取手段３０）の上面との隙間Ｇを、粉粒体Ｐの最大粒子径ｒの１倍以上とすることで、隙間Ｇにおいて粉粒体Ｐの詰まりが発生することを効果的に防止でき、基材１００に対して粉粒体Ｐを幅方向Ｙに均一に定量性良く散布することができる。隙間Ｇは、粉粒体Ｐの最大粒子径ｒを基準として、好ましくは１倍以上、更に好ましくは２倍以上であり、そして、好ましくは２０倍以下、更に好ましくは１０倍以下である。より具体的には、好ましくは１倍以上２０倍以下、更に好ましくは２倍以上１０倍以下である。

粉粒体Ｐの最大粒子径ｒは公知の方法により測定することができる。具体的には例えば、乾式篩法（ＪＩＳ Ｚ８８１５：１９９４）、動的光散乱法、レーザー回析法、遠心沈降法、重力沈降法、画像イメージング法、ＦＦＦ（フィールド・フロー・フラクショネーション）法、静電気検知体法が挙げられる。

また、ホッパー２内における粉粒体Ｐの流れの定常流化及び流動性の更なる向上の観点から、前記の（ｉ）ないし（ｉｖ）に加え更に、ホッパー２における粉粒体Ｐと接触する内面の水平方向に対する角度が、粉粒体Ｐの安息角θ（図６参照）以上であることが好ましい。本実施形態においては、ホッパー２の側壁は、貯蔵部２０の傾斜側壁２０ｓ（図１及び図２参照）を除き、全て水平方向と直交する垂直方向に延びる垂直壁であり、それら垂直壁の内面の水平方向に対する角度は９０°であって粉粒体Ｐの安息角θよりも大きく、また、貯蔵部２０の傾斜側壁２０ｓの内面の水平方向に対する角度は、粉粒体Ｐの安息角θと同じかそれよりも大きくなされている。「ホッパーにおける粉粒体と接触する内面の水平方向に対する角度」をθ１とした場合、θ１と粉粒体の安息角θとの比は、θ１／θとして、好ましくは１．２以上、更に好ましくは１．５以上、θ１は、好ましくは１．２θ以上であって９０°以下、更に好ましくは１．５θ以上であって９０°以下である。

また、基材１００に対する粉粒体Ｐの散布精度を安定的に向上させる観点から、前記の（ｉ）ないし（ｉｖ）に加え更に、図６に示すとおり、排出口２３の中心を通って垂直方向に延びる仮想直線ＶＬと搬送手段３（受取手段３０の上面３０ａ）との交点２３Ａは、隙間Ｇ、粉粒体Ｐの安息角θとの関係において、搬送手段３における搬送方向Ｘの下流側端３ＤＥからＧ／ｔａｎθ以上１５Ｇ以下の範囲に位置していることが好ましい。換言すれば、搬送手段３（受取手段３０）の下流側端３ＤＥと交点２３Ａとの離間距離Ｌは、Ｇ／ｔａｎθ以上１５Ｇ以下であることが好ましい。斯かる離間距離Ｌが短いほど、粉粒体Ｐの散布精度の点で好ましいが、離間距離Ｌが短すぎると、排出口２３から排出された粉粒体Ｐが、搬送手段３と接触せずに直接その下方に位置する基材１００に散布されてしまうおそれがあり、散布精度の安定的な向上を却って阻害するおそれがある。離間距離Ｌは、Ｇ／ｔａｎθ以上１０Ｇ以下であることが更に好ましい。

以上、本発明をその好ましい実施形態に基づき説明したが、本発明は、前記実施形態に制限されず適宜変更可能である。搬送手段３の搬送能力の制御形態としては、図４に示したＥ１〜Ｅ３の形態に限定されるものではなく、図８に符号Ｅ４に示すように、粉粒体補充工程において振幅が連続して傾斜する（リニアに変化する）ように搬送手段３の搬送能力を制御してもよい。あるいは符号Ｅ５で示すように、１つの粉粒体補充工程において複数回、振幅を制御して搬送手段３の搬送能力を制御してもよいし、符号Ｅ６に示すように１つの粉粒体補充工程の最後に振幅を制御して搬送手段３の搬送能力を制御してもよい。
また、本実施形態では、搬送手段３として振動フィーダを用いていることから、振動発生手段３１の振幅を変更することで、搬送能力（単位時間当たりの粉粒体の散布量）を調整したが、振動発生手段３１で発生する周波数を変更して搬送能力を制御するようにしてもよい。

上述した実施形態に関し、本発明は更に以下の粉粒体の散布方法、粉粒体含有物品の製造方法を開示する。
＜１＞
ホッパーから排出された粉粒体を、搬送手段によって所定の一方向に搬送して散布する工程を備えた粉粒体の散布方法であって、
前記ホッパー及び該ホッパー内に貯蔵されている前記粉粒体の全質量を連続して計測しつつ、前記粉粒体の単位時間当たりの散布量が、単位時間当たりの目標散布量と一致するように該搬送手段の搬送能力を制御する第１搬送能力制御工程と、
前記計測したホッパー内粉粒体の全質量が閾値を下回った場合に、該ホッパー内粉粒体の全質量が初期設定質量となるまで前記ホッパー内に前記粉粒体を補充しつつ、第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法により前記搬送手段の搬送能力を制御する第２搬送能力制御工程とを有する、粉粒体の散布方法。
＜２＞
前記ホッパー内粉粒体の全質量が初期設定質量を満たした後、当該ホッパー内粉粒体の全質量が所定時間にわたり連続して減少した場合に、第２搬送能力制御工程から第１搬送能力制御工程へと切り替えて前記搬送手段の搬送能力を制御する、前記＜１＞に記載の粉粒体の散布方法。
＜３＞
所定時間ｔ（秒）毎に前記ホッパー内粉粒体の全質量を計測し、計測した該ホッパー内粉粒体の全質量と、ｔ（秒）前に計測した該ホッパー内粉粒体の全質量との差分値をｔ（秒）で除した値を単位時間当たりの変化量と定義し、該変化量に応じて前記搬送手段の搬送能力を第１搬送能力制御工程で制御する、前記＜１＞又は＜２＞に記載の粉粒体の散布方法。

＜４＞
所定時間ｓ（秒）毎に前記ホッパー内粉粒体の全質量を計測し、計測した該ホッパー内粉粒体の全質量と、所定時間ｔ（秒）（ただしｓ＜ｔである。）前に計測したホッパー内粉粒体の全質量との差分値をｔ（秒）で除した値を単位時間当たりの変化量と定義し、該変化量に応じて前記搬送手段の搬送能力を第１搬送能力制御工程で制御する、前記＜１＞又は＜２＞に記載の粉粒体の散布方法。
＜５＞
ｔの値は１秒以上３００秒以下である、前記＜３＞又は＜４＞に記載の粉粒体の散布方法。
＜６＞
前記閾値は、前記ホッパー内粉粒体の前記初期設定質量に対し、一定の割合の質量値として事前に決定した値である、前記＜１＞〜＜５＞の何れか１に記載の粉粒体の散布方法。

＜７＞
前記ホッパー内の粉粒体質量Ｂを、前記粉粒体の満充填状態でのホッパー内粉粒体質量Ｂ_０の好ましくは４０質量％以上１００質量％以下、更に好ましくは８０質量％以上１００質量％以下に維持した状態で、前記粉粒体を散布する、前記＜６＞に記載の粉粒体の散布方法。
＜８＞
第２搬送能力制御工程は、前記ホッパーに対する補充質量に応じて前記搬送手段の搬送能力を制御する、前記＜１＞〜＜７＞の何れか１に記載の粉粒体の散布方法。
＜９＞
第２搬送能力制御工程は、ホッパー内粉粒体の全質量が初期設定質量となるまで前記ホッパー内に前記粉粒体を補充する粉粒体補充工程を有し、
前記補充質量は、該粉粒体補充工程において前記ホッパーに供給される粉粒体の単位時間当たりの補充質量、または、該ホッパーに補充される総量である、前記＜８＞に記載の粉粒体の散布方法。

＜１０＞
第２搬送能力制御工程は、前記ホッパーに対して前記粉粒体を補充する前、後又は前後における単位時間当たりの散布量の変化量に応じて前記搬送手段の搬送能力を制御する、前記＜１＞〜＜７＞の何れか１に記載の粉粒体の散布方法。
＜１１＞
第２搬送能力制御工程における前記搬送手段の出力制御は、第１搬送能力制御工程から第２搬送能力制御工程への切替時から第２搬送能力制御工程から第１搬送能力制御工程への切替わるまでの区間内で行う、前記＜１＞〜＜１０＞の何れか１に記載の粉粒体の散布方法。
＜１２＞
前記粉粒体は、吸水性ポリマー又は電解質である、前記＜１＞〜＜１１＞の何れか１に記載の粉粒体の散布方法。

＜１３＞
前記搬送手段は振動フィーダであり、
前記搬送手段の搬送能力の制御とは、前記振動フィーダの振幅を制御することである、前記＜１＞〜＜１２＞の何れか１に記載の粉粒体の散布方法。
＜１４＞
ホッパーから排出された粉粒体が搬送手段によって所定の一方向に搬送されることで散布された粉粒体含有物品の製造方法であって、
前記ホッパー及び該ホッパー内に貯蔵されている前記粉粒体の全質量を連続して計測しつつ、前記粉粒体の単位時間当たりの散布量が、単位時間当たりの目標散布量と一致するように該搬送手段の搬送能力を制御する第１搬送能力制御工程と、
前記計測したホッパー内粉粒体の全質量が閾値を下回った場合に、該ホッパー内粉粒体の全質量が初期設定質量となるまで前記ホッパー内に前記粉粒体を補充しつつ、第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法により前記搬送手段の搬送能力を制御する第２搬送能力制御工程とを有する、粉粒体含有物品の製造方法。

＜１５＞
前記搬送手段は、前記振動発生手段を作動させて前記受取手段を振動させることによって、該受取手段上の粉粒体を所定の方向に搬送可能になされている、前記＜１４＞に記載の粉粒体含有物品の製造方法。
＜１６＞
前記振動発生手段の振動数は、好ましくは５０Ｈｚ以上、更に好ましくは１００Ｈｚ以上であり、そして、好ましくは５００Ｈｚ以下、更に好ましくは３００Ｈｚ以下、好ましくは５０Ｈｚ以上５００Ｈｚ以下であり、更に好ましくは１００Ｈｚ以上３００Ｈｚ以下である、前記＜１５＞に記載の粉粒体含有物品の製造方法。

１ 粉粒体散布装置
２ ホッパー
３ 搬送手段（振動フィーダ）
３０ 受取手段
３１ 振動発生手段
４０ 制御部
５０ 計測装置
１００ 基材
Ｃ１ 第１搬送能力制御工程
Ｃ２ 第２搬送能力制御工程
Ｐ 粉粒体
ΔＳ 単位時間当たりの散布量
ΔＳ_ｔ 単位時間当たりの目標散布量
Ａ ホッパー込みの粉粒体の全質量
Ａ_０ ホッパーの質量
Ｂ ホッパー内粉粒体質量
Ｂ_０ 初期設定質量（満充填状態のホッパー内粉粒体質量）
ΔＢ 単位時間当たりの変化量

Claims (11)

1. ホッパーから排出された粉粒体を、搬送手段によって所定の一方向に搬送して散布する工程を備えた粉粒体の散布方法であって、
   前記ホッパー及び該ホッパー内に貯蔵されている前記粉粒体の全質量を連続して計測しつつ、前記粉粒体の単位時間当たりの散布量が、単位時間当たりの目標散布量と一致するように該搬送手段の搬送能力を制御する第１搬送能力制御工程と、
   前記計測したホッパー内粉粒体の全質量が閾値を下回った場合に、該ホッパー内粉粒体の全質量が初期設定質量となるまで前記ホッパー内に前記粉粒体を補充しつつ、第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法により前記搬送手段の搬送能力を制御する第２搬送能力制御工程とを有する、粉粒体の散布方法。
2. 前記ホッパー内粉粒体の全質量が初期設定質量を満たした後、当該ホッパー内粉粒体の全質量が所定時間にわたり連続して減少した場合に、第２搬送能力制御工程から第１搬送能力制御工程へと切り替えて前記搬送手段の搬送能力を制御する、請求項１に記載の粉粒体の散布方法。
3. 所定時間ｔ（秒）毎に前記ホッパー内粉粒体の全質量を計測し、計測した該ホッパー内粉粒体の全質量と、ｔ（秒）前に計測した該ホッパー内粉粒体の全質量との差分値をｔ（秒）で除した値を単位時間当たりの変化量と定義し、該変化量に応じて前記搬送手段の搬送能力を第１搬送能力制御工程で制御する、請求項１又は２に記載の粉粒体の散布方法。
4. 所定時間ｓ（秒）毎に前記ホッパー内粉粒体の全質量を計測し、計測した該ホッパー内粉粒体の全質量と、所定時間ｔ（秒）（ただしｓ＜ｔである。）前に計測したホッパー内粉粒体の全質量との差分値をｔ（秒）で除した値を単位時間当たりの変化量と定義し、該変化量に応じて前記搬送手段の搬送能力を第１搬送能力制御工程で制御する、請求項１又は２に記載の粉粒体の散布方法。
5. 前記閾値は、前記ホッパー内粉粒体の前記初期設定質量に対し、一定の割合の質量値として事前に決定した値である、請求項１〜４の何れか一項に記載の粉粒体の散布方法。
6. 第２搬送能力制御工程は、前記ホッパーに対する補充質量に応じて前記搬送手段の搬送能力を制御する、請求項１〜５の何れか一項に記載の粉粒体の散布方法。
7. 第２搬送能力制御工程は、前記ホッパーに対して前記粉粒体を補充する前、後又は前後における単位時間当たりの散布量の変化量に応じて前記搬送手段の搬送能力を制御する、請求項１〜５の何れか一項に記載の粉粒体の散布方法。
8. 第２搬送能力制御工程における前記搬送手段の出力制御は、第１搬送能力制御工程から第２搬送能力制御工程への切替時から第２搬送能力制御工程から第１搬送能力制御工程への切替わるまでの区間内で行う、請求項１〜７の何れか一項に記載の粉粒体の散布方法。
9. 前記粉粒体は、吸水性ポリマー又は電解質である、請求項１〜８の何れか一項に記載の粉粒体の散布方法。
10. 前記搬送手段は振動フィーダであり、
    前記搬送手段の搬送能力の制御とは、前記振動フィーダの振幅を制御することである、請求項１〜９の何れか一項に記載の粉粒体の散布方法。
11. ホッパーから排出された粉粒体が搬送手段によって所定の一方向に搬送されることで散布された粉粒体含有物品の製造方法であって、
    前記ホッパー及び該ホッパー内に貯蔵されている前記粉粒体の全質量を連続して計測しつつ、前記粉粒体の単位時間当たりの散布量が、単位時間当たりの目標散布量と一致するように該搬送手段の搬送能力を制御する第１搬送能力制御工程と、
    前記計測したホッパー内粉粒体の全質量が閾値を下回った場合に、該ホッパー内粉粒体の全質量が初期設定質量となるまで前記ホッパー内に前記粉粒体を補充しつつ、第１搬送能力制御工程による制御とは異なる手法により前記搬送手段の搬送能力を制御する第２搬送能力制御工程とを有する、粉粒体含有物品の製造方法。

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