JP2021115546A - 高耐熱反射防止膜の成膜方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記固体基材の表面に酸性の電解質ポリマー溶液を接触させた後にリンスする第1の工程と、
前記固体基材の表面に酸性の微粒子分散液を接触させた後にリンスする第2の工程と、
前記第1の工程および前記第2の工程を交互に繰り返して微粒子積層膜を形成する第3の工程と、
を含み、
前記電解質ポリマー溶液および前記微粒子分散液のpHをそれぞれ1〜7の範囲内に調整することにより前記微粒子積層膜の膜厚を制御することを特徴とする。
また、このようにして形成される高耐熱反射防止膜は、柔軟性および可撓性を有するとともに耐熱性に優れたものとなり、その結果、高温時における高耐熱反射防止膜のひび割れ等を防止できる。この場合、特に、微粒子間の空気層(空隙)の存在により、高耐熱反射防止膜が形成されているレンズが温度変化によって膨張したり収縮したりしても、高耐熱反射防止膜がそれに追随できる。そのため、高耐熱反射防止膜が破壊されてしまうことを防止できる。なお、このような高耐熱反射防止膜は、125℃以上の耐熱性を有するとともに、レンズの熱膨張率に近い熱膨張率を有するものを選択することが好ましい。また、空気層は屈折率が低いため、高耐熱反射防止膜の屈折率は低下する。そのため、光の反射がさらに抑制される。
なお、樹脂製のレンズへの製膜方法について説明してきたが、ガラス製のレンズについても同様の方法で製膜可能である。また、高耐熱反射防止膜のレンズ上に直接成形する場合に限らず、例えば、高耐熱反射防止膜とレンズの間に高耐熱反射防止膜とレンズの密着性を増加させるための密着層等が介在することを妨げるものではない。
13,14,15,16,17 レンズ(固体基材)
30 高耐熱反射防止膜
162 電解質ポリマー
163 微粒子
Claims (10)
- 固体基材の表面上に高耐熱反射防止膜を形成するための成膜方法であって、
前記固体基材の表面に酸性の電解質ポリマー溶液を接触させた後にリンスする第1の工程と、
前記固体基材の表面に酸性の微粒子分散液を接触させた後にリンスする第2の工程と、
前記第1の工程および前記第2の工程を交互に繰り返して微粒子積層膜を形成する第3の工程と、
を含み、
前記電解質ポリマー溶液および前記微粒子分散液のpHをそれぞれ1〜7の範囲内に調整することにより前記微粒子積層膜の膜厚を制御することを特徴とする成膜方法。 - 前記微粒子分散液が単分散性の無孔質コロイダルシリカ粒子を含むことを特徴とする請求項1に記載の成膜方法。
- 前記無孔質コロイダルシリカ粒子の平均粒径が10nm〜15nmであり、
前記第1の工程と前記第2の工程とを1回ずつ行なって成る積層工程1回当たりの平均膜厚が15nm〜45nmとなるように前記電解質ポリマー溶液および前記微粒子分散液のそれぞれのpHを1〜7の範囲内に調整することを特徴とする請求項2に記載の成膜方法。 - 前記電解質ポリマー溶液および前記微粒子分散液のそれぞれのpHが3〜7の範囲内に調整されることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の成膜方法。
- 前記電解質ポリマー溶液のpHが3〜7の範囲内に調整されるとともに、前記前記微粒子分散液のpHが4〜5の範囲内に調整されることを特徴とする請求項4に記載の成膜方法。
- 前記電解質ポリマー溶液のpHと前記微粒子分散液のpHとの差が±3であることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の成膜方法。
- アルカリ性物質の添加によって前記電解質ポリマー溶液および前記微粒子分散液のそれぞれのpHが調整されることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の成膜方法。
- 前記固体基材を電解質ポリマー溶液中および微粒子分散液中にそれぞれ5分以上にわたって浸漬させることにより前記固体基材の表面に前記電解質ポリマー溶液および前記微粒子分散液を接触させることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の成膜方法。
- 前記固体基材が光学部材であることを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載の成膜方法。
- 前記光学部材がレンズユニットのレンズ群を構成するレンズであることを特徴とする請求項9に記載の成膜方法。
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---|---|---|---|---|
JP2006301125A (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 低屈折率薄膜及びその製造方法 |
JP2012022081A (ja) * | 2010-07-13 | 2012-02-02 | Keio Gijuku | 光学薄膜、その製造方法および光学多層膜 |
JP2013530255A (ja) * | 2010-03-24 | 2013-07-25 | ヴァイヴ クロップ プロテクション インコーポレイテッド | 中性有機化合物とポリマーナノ粒子とを配合する方法 |
JP2015076691A (ja) * | 2013-10-08 | 2015-04-20 | 株式会社東芝 | 画像処理装置及びデータ転送制御プログラム |
JP2019020523A (ja) * | 2017-07-13 | 2019-02-07 | 日本電産コパル株式会社 | 光学素子及び光学素子の製造方法 |
JP2020144176A (ja) * | 2019-03-05 | 2020-09-10 | マクセル株式会社 | 反射防止膜の成膜方法 |
-
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006301125A (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 低屈折率薄膜及びその製造方法 |
JP2013530255A (ja) * | 2010-03-24 | 2013-07-25 | ヴァイヴ クロップ プロテクション インコーポレイテッド | 中性有機化合物とポリマーナノ粒子とを配合する方法 |
JP2012022081A (ja) * | 2010-07-13 | 2012-02-02 | Keio Gijuku | 光学薄膜、その製造方法および光学多層膜 |
JP2015076691A (ja) * | 2013-10-08 | 2015-04-20 | 株式会社東芝 | 画像処理装置及びデータ転送制御プログラム |
JP2019020523A (ja) * | 2017-07-13 | 2019-02-07 | 日本電産コパル株式会社 | 光学素子及び光学素子の製造方法 |
JP2020144176A (ja) * | 2019-03-05 | 2020-09-10 | マクセル株式会社 | 反射防止膜の成膜方法 |
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