JP2021110905A5

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Publication number: JP2021110905A5
Application number: JP2020004671A
Authority: JP
Filing date: 2020-01-15
Publication date: 2023-01-17
Anticipated expiration: 2040-01-15

Claims

基板を露光する露光装置であって、
露光光により原版のパターン像を前記基板に投影する投影光学系と、
前記露光光が経由する前記投影光学系の光学素子を経由して前記投影光学系から射出された計測光を用いて、前記投影光学系の光学特性を計測する計測部と、
前記計測部での計測結果に基づいて、前記基板上での前記露光光の照射位置を補正する制御部と、
を含み、
前記計測部は、前記計測光を受光する受光素子を含み、
前記受光素子は、前記投影光学系に取り付けられている、ことを特徴とする露光装置。
前記受光素子は、前記計測光を受光する受光面を有し、
前記受光面は、前記投影光学系の結像位置とは異なる位置に配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
前記計測部は、前記投影光学系内に前記計測光を投光する投光部を更に含み、
前記投光部は、前記投影光学系に取り付けられている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
前記投光部は、前記計測光を前記投影光学系の光軸に平行に投光する、ことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
前記投光部は、前記原版と前記投影光学系との間に配置されている、ことを特徴とする請求項３又は４に記載の露光装置。
前記投影光学系は、両側テレセントリック光学系で構成されている、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
前記受光素子は、フォトダイオードを含む、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
前記制御部は、前記投影光学系における光学素子の駆動、前記投影光学系内の雰囲気の調整、前記原版と前記基板との相対位置の変更のうち少なくとも１つにより、前記基板上での前記露光光の照射位置を補正する、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
前記投影光学系は、複数の光学素子を含み、
前記制御部は、前記受光素子上での前記計測光の位置変動の周波数成分に基づいて、前記複数の光学素子の中から、前記露光光の位置変動に影響を与えている光学素子を特定し、特定した光学素子を駆動することにより前記基板上での前記露光光の照射位置を補正する、ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
前記制御部は、前記受光素子上での前記計測光の位置変動の周波数成分に基づいて、前記投影光学系内の雰囲気ゆらぎが前記露光光の位置変動に影響を与えていると特定した場合、前記投影光学系内の雰囲気を調整することにより前記基板上での前記露光光の照射位置を補正する、ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
前記制御部は、前記受光素子上での前記計測光の受光位置に基づいて、前記投影光学系内での前記露光光の位置変動を推定し、推定した前記露光光の位置変動に応じて前記基板上での前記露光光の照射位置を補正する、ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置。
前記計測部は、前記投影光学系内への前記計測光の入射角度および入射位置の少なくとも一方を検出する検出部を更に有し、
前記制御部は、前記検出部での検出結果に更に基づいて、前記投影光学系内での前記露光光の位置変動を推定する、ことを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
前記検出部は、前記投影光学系内に投光される前の前記計測光から一部の光を検出光として分岐する分岐部と、前記投影光学系を介さずに前記検出光を受光する第２受光素子とを有し、前記第２受光素子上での前記検出光の受光位置に基づいて、前記投影光学系内への前記計測光の入射位置および入射角度の少なくとも一方を検出する、ことを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
前記第２受光素子は、前記検出光の光路長と前記計測光の光路長とが同じになるように配置され、
前記制御部は、前記受光素子上での前記計測光の位置変動と前記第２受光素子上での前記検出光の位置変動との差に基づいて、前記投影光学系内での前記露光光の位置変動を推定する、ことを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
前記検出部は、前記検出光を第１検出光と第２検出光とに分岐する第２分岐部と、前記投影光学系を介さずに前記第２検出光を受光する第３受光素子とを更に含み、
前記第２受光素子は、前記第１検出光を受光し、
前記制御部は、前記第２受光素子上での前記第１検出光の位置変動と前記第３受光素子上での前記第２検出光の位置変動との差に基づいて、前記受光素子上での前記計測光の位置変動を補正し、それにより得られた値に基づいて前記投影光学系内での前記露光光の位置変動を推定する、ことを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
前記第２受光素子で受光される前記第１検出光の光路長と、前記第３受光素子で受光させる前記第２検出光の光路長とは互いに異なる、ことを特徴とする請求項１５に記載の露光装置。
基板を露光する露光装置であって、
露光光により原版のパターン像を前記基板に投影する投影光学系と、
前記露光光が経由する前記投影光学系の光学素子を経由して前記投影光学系から射出された計測光を用いて、前記投影光学系の光学特性を計測する計測部と、
前記計測部で計測された結果に基づいて、前記基板上での前記露光光の照射位置の位置変動を推定する制御部と、
を含み、
前記計測部は、前記計測光を受光する受光素子を含み、
前記受光素子は、前記投影光学系に取り付けられている、ことを特徴とする露光装置。
請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光を行われた前記基板を現像する工程と、を含み、
現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。