JP2021103286A

JP2021103286A - 有機ｅｌディスプレイ用積層体およびそれに用いる円偏光板

Info

Publication number: JP2021103286A
Application number: JP2020006708A
Authority: JP
Inventors: 伸行幡中; Nobuyuki Hatanaka; 耕太村野; Kota Murano
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2019-01-25
Filing date: 2020-01-20
Publication date: 2021-07-15
Anticipated expiration: 2040-01-20
Also published as: JP7397683B2

Abstract

【課題】本発明では、最表面にガラスが無い状態においても有機ＥＬパネルを保護しうる円偏光板を含む有機ＥＬディスプレイ用積層体を提供し、それに基づき表示特性と屈曲性と経年劣化に優れた有機ＥＬ表示装置およびそれに用いる円偏光板を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、円偏光板と粘着剤層とが積層された積層体であって、前記積層体の厚みが１００μｍ以下であり、前記円偏光板は、偏光板と位相差板とを含み、偏光板は、偏光子と保護フィルムとを含み、偏光子の位相差板が積層された面の反対側のみに保護フィルムを有し、前記円偏光板の水蒸気透過率が１００ｇ／ｍ２／２４ｈｒｓ以下であり、かつ前記円偏光板の３８０ｎｍ透過率が１％以下である有機ＥＬディスプレイ用積層体を提供する。【選択図】なし

Description

本発明は有機ＥＬディスプレイ用積層体、特に特定の円偏光板を備える有機ＥＬディスプレイ用積層体に関する。

近年、薄型ディスプレイの普及と共に、有機ＥＬパネルを搭載したディスプレイ（有機ＥＬ表示装置）が普及している。有機ＥＬパネルは内部の金属電極で外光が反射されてしまうため明瞭な黒表示が得られないという問題を生じる。この問題に対して、円偏光板を視認面に設けることによって、外光反射防止を抑制することができる。すなわち、視認者からの積層順としては、保護ガラス→円偏光板→有機ＥＬパネルである。円偏光板は、一般的に偏光板と位相差板を積層する事で作製することができる。偏光板としては、一般的にポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを延伸しヨウ素で染色した偏光子に透明保護フィルムを積層したものが、位相差板としては、延伸フィルムや液晶分子配向させたλ／４板等が使用され、中でも長波長ほど複屈折性が大きくなる性質（逆波長分散特性）を示すようなλ／４板が好適に使用されている。また、斜め方向から見た場合の反射色相変化を抑制する目的で、棒状液晶を垂直配向させた状態で重合硬化させた垂直配向液晶硬化膜をさらに備えた円偏光板が、特許文献１〔特開２０１５−１６３９３５号公報〕に提案されている。

特開２０１５−１６３９３５号公報

有機ＥＬ表示装置においては、フレキシブル形態での適用が検討されており、装置最表面にガラスを使わない検討がなされている。しかしながら、有機ＥＬパネルはガラスによる水（水蒸気）や酸素に対するバリア性が無い状態で駆動した場合に、劣化が進行する場合があることがわかった。また、良好な屈曲性を得るためには円偏光板自体も薄型化する必要があることがわかった。

そこで、本発明では、最表面にガラスが無い状態においても有機ＥＬパネルを保護しうる円偏光板を含む有機ＥＬディスプレイ用積層体を提供し、それに基づき表示特性と屈曲性と経年劣化に優れた有機ＥＬ表示装置およびそれに用いる円偏光板を提供することを目的とする。

本発明は、以下の態様を備える：
［１］円偏光板と粘着剤層とが積層された積層体であって、
前記積層体の厚みが１００μｍ以下であり、
前記円偏光板は、偏光板と位相差板とを含み、
偏光板は、偏光子と保護フィルムとを含み、偏光子の位相差板が積層された面の反対側のみに保護フィルムを有し、
前記円偏光板の水蒸気透過率が１００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒｓ以下であり、かつ
前記円偏光板の３８０ｎｍ透過率が１％以下である有機ＥＬディスプレイ用積層体。
［２］前記偏光子がポリビニルアルコール系樹脂フィルムから形成された偏光子である［１］の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
［３］前記円偏光板の４００ｎｍ透過率が１％以下である［１］または［２］の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
［４］前記位相差板が重合性液晶化合物の重合体を含む位相差層を１層のみ含み、かつ下記式（１）、式（２）及び式（３）の全てを満たす位相差板である［１］〜［３］のいずれかの有機ＥＬディスプレイ用積層体。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０） ≦ １．００（１）
１．００ ≦ Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）（２）
１００ｎｍ ≦ Ｒｅ（５５０）≦ １８０ｎｍ（３）
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
［５］前記位相差板の遅相軸と偏光板の吸収軸との成す角度が実質的に４５度である［４］の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
［６］前記位相差板が、偏光板側から順に第一の位相差層及び第二の位相差層含み、
第一の位相差層及び第二の位相差層は、それぞれ、重合性液晶化合物の重合体であって、
第一の位相差層が下記式（４）の関係を満たし、
第二の位相差層が式（３）の関係を満たし、
位相差板が式（１）及び式（２）の関係を満たす［１］〜［３］のいずれかの有機ＥＬディスプレイ用積層体。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０） ≦ １．００（１）
１．００ ≦ Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）（２）
１００ｎｍ ≦ Ｒｅ（５５０）≦ １８０ｎｍ（３）
２００ｎｍ ≦ Ｒｅ（５５０）≦ ３００ｎｍ（４）
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
［７］さらに、下記式（５）を満たす重合性液晶化合物の重合体からなる光学補償板を有する［１］〜［６］のいずれかの有機ＥＬディスプレイ用積層体。
−３０ｎｍ ≦ Ｒｔｈ（５５０）≦ −１００ｎｍ（５）
（Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍの光に対する膜厚方向の面内位相差を表す。）
［８］前記円偏光板が、４００ｎｍ透過率が１０％以下である粘着剤層を含む［１］〜［６］のいずれかの有機ＥＬディスプレイ用積層体。
［９］前記保護フィルムが、シクロオレフィンフィルムである［１］〜［７］のいずれかの有機ＥＬディスプレイ用積層体。
［１０］前記保護フィルムが、ポリイミドフィルム又はポリアミドイミドフィルムである［１］〜［７］のいずれかの有機ＥＬディスプレイ用積層体。
［１１］少なくとも偏光板と粘着剤層と位相差板とがこの順で積層された円偏光板であって、
前記偏光板は、偏光子と保護フィルムとを含み、偏光子の位相差板が積層された面の反対側のみに保護フィルムを有し、
前記位相差板が式（１）及び式（２）の関係を満たし、
前記円偏光板の水蒸気透過率が１００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒｓ以下であり、かつ
前記円偏光板の３８０ｎｍ透過率が１％以下である
円偏光板。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０） ≦ １．００（１）
１．００ ≦ Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）（２）
［１２］前記偏光子がポリビニルアルコール系樹脂フィルムから形成された偏光子である［１１］の円偏光板。
［１３］前記円偏光板の４００ｎｍ透過率が１％以下である［１１］または［１２］の円偏光板。
［１４］粘着剤層は４００ｎｍ透過率が１０％以下である［１１］〜［１３］のいずれかの円偏光板。
［１５］前記保護フィルムが、シクロオレフィンフィルムである［１１］〜［１４］のいずれかの円偏光板。
［１６］前記保護フィルムが、ポリイミドフィルム又はポリアミドイミドフィルムである［１１］〜［１５］のいずれかの円偏光板。

本発明では、有機ＥＬ表示装置に最表面にガラスが無い場合においても、表示特性と屈曲性と経年劣化に優れた有機ＥＬ表示装置およびそれに用いる円偏光板を提供することが可能になる。

本発明の有機ＥＬディスプレイ用積層体は、円偏光板と粘着剤層とが積層された積層体であって、円偏光板は偏光板と位相差板とを含み、偏光板は偏光子と保護フィルムとを含む。偏光板は位相差板が積層された反対側の偏光子の面に保護フィルムを有する。位相差板は位相差層が一層からなるものあるいは位相差層が２層からなるものであってよく、２層の場合第一の位相差層と第二の位相差層と呼んで区別することがある。偏光板と位相差板とは通常粘着剤層で接合されて円偏光板を構成する。円偏光板は粘着剤層と組み合わせて本発明の有機ＥＬディスプレイ用積層体が形成されてもよいが、更に光学補償板を組み合わせてもよい。従って、本発明の有機ＥＬディスプレイ用積層体は、円偏光板と粘着剤層とからなるものと、円偏光板と粘着剤層との間に光学補償板を別の粘着剤層により円偏光板に接着したものであってもよい。

＜偏光板＞
偏光板は、光吸収異方性の機能を有するフィルム（以下、偏光子という場合がある。）を含む。偏光子は、二色性色素を吸着させた延伸フィルムであってもよい。

二色性色素を吸着させた延伸フィルムである偏光子は、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、およびホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造される。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸化合物、オレフィン化合物、ビニルエーテル化合物、不飽和スルホン酸化合物、アンモニウム基を有するアクリルアミド化合物などが挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５〜１００モル％程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールも使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１,０００〜１０,０００程度であり、好ましくは１,５００〜５,０００の範囲である。

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光フィルムの原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものでなく、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系原反フィルムの膜厚は、例えば、１０〜１５０μｍ程度とすることができる。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前、染色と同時、または染色の後で行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行うことも可能である。一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶媒を用い、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常３〜８倍程度である。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの二色性色素による染色は、例えば、二色性色素を含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法によって行われる。

二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。二色性の有機染料としては、Ｃ．Ｉ．ＤＩＲＥＣＴＲＥＤ３９などのジスアゾ化合物からなる二色性直接染料および、トリスアゾ、テトラキスアゾなどの化合物からなる二色性直接染料等が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理前に、水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。

二色性色素としてヨウ素を用いる場合は通常、ヨウ素およびヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。
この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水１００質量部あたり、通常、０.０１〜１質量部程度である。またヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常、０．５〜２０質量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常２０〜４０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常２０〜１,８００秒程度である。

一方、二色性色素として二色性の有機染料を用いる場合は通常、水溶性二色性染料を含む水溶液にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。
この水溶液における二色性有機染料の含有量は、水１００質量部あたり、通常、１×１０^−４〜１０質量部程度であり、好ましくは１×１０^−３〜１質量部であり、さらに好ましくは１×１０^−３〜１×１０^−２質量部である。この水溶液は、硫酸ナトリウム等の無機塩を染色助剤として含んでいてもよい。染色に用いる二色性染料水溶液の温度は、通常、２０〜８０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常、１０〜１,８００秒程度である。

二色性色素による染色後のホウ酸処理は通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に浸漬する方法により行うことができる。このホウ酸水溶液におけるホウ酸の含有量は、水１００質量部あたり、通常２〜１５質量部程度であり、好ましくは５〜１２質量部である。二色性色素としてヨウ素を用いた場合には、このホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましく、その場合のヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常０.１〜１５質量部程度であり、好ましくは５〜１２質量部である。ホウ酸水溶液への浸漬時間は、通常６０〜１,２００秒程度であり、好ましくは１５０〜６００秒、さらに好ましくは２００〜４００秒である。ホウ酸処理の温度は、通常５０℃以上であり、好ましくは５０〜８５℃、さらに好ましくは６０〜８０℃である。

ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬する方法により行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常５〜４０℃程度である。
また浸漬時間は、通常１〜１２０秒程度である。

水洗後に乾燥処理が施されて、偏光子が得られる。乾燥処理は例えば、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常３０〜１００℃程度であり、好ましくは５０〜８０℃である。乾燥処理の時間は、通常６０〜６００秒程度であり、好ましくは１２０〜６００秒である。乾燥処理により、偏光子の水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、通常５〜２０重量％程度であり、好ましくは８〜１５重量％である。水分率が５重量％を下回ると、偏光子の可撓性が失われ、偏光子がその乾燥後に損傷したり、破断したりすることがある。また、水分率が２０重量％を上回ると、偏光子の熱安定性が悪くなる可能性がある。

こうしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗および乾燥をして得られる偏光子の厚さは、好ましくは５〜４０μｍ、より好ましくは５〜２０μｍである。

本発明の偏光板は、前述の方法等で得られる偏光子の一方の面のみに、接着剤層を介して保護フィルムを積層することにより得られる。保護フィルムは、偏光子の、位相差板が積層している面とは反対側に積層される。接着剤層は、公知の接着剤組成物を使用して形成される。

＜保護フィルム＞
保護フィルムは、光（特に可視光）を透過し得る透明性を有する基材を意味する。透明性とは、波長３８０〜７８０ｎｍにわたる光線に対しての透過率が８０％以上となる特性をいう。具体的な保護フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ノルボルネン系ポリマーなどのシクロオレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシド等が挙げられる。入手のしやすさや透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステル、セルロースエステル、シクロオレフィン系樹脂またはポリカーボネートが好ましい。セルロースエステルは、セルロースに含まれる水酸基の一部または全部が、エステル化されたものであり、市場から容易に入手することができる。セルロースエステル基材も市場から容易に入手することができる。
市販のセルロースエステル基材としては、フジタックフィルム”（富士写真フィルム（株））；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”および“ＫＣ４ＵＹ”（コニカミノルタオプト（株））などが挙げられる。

保護フィルムに求められる特性は、偏光板の構成によって異なるが、通常、位相差性ができるだけ小さいフィルムが好ましい。位相差性ができるだけ小さいフィルムとしては、ゼロタック（コニカミノルタオプト株式会社）、Ｚタック（富士フィルム株式会社）等の位相差を有しないセルロースエステルフィルム等が挙げられる。また、未延伸の環状オレフィン系樹脂フィルムも好ましい。その他の好ましい保護フィルムとして、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等も挙げられる。偏光板が積層されていない保護フィルムの面には、ハードコート処理、反射防止処理、帯電防止処理等がなされてもよい。

本発明では、保護フィルムを形成する樹脂は、例えば、シクロオレフィン、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン化合物、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステルであってもよい。保護フィルムは、４００ｎｍの透過率が１０％以下であることが好ましい。４００ｎｍの透過率は、１０％以下であると、有機ＥＬパネルの劣化（変色）を抑制する効果を有する。

保護フィルムの厚みは、強度や加工性を良好にする点で、通常１０〜８０μｍであり、好ましくは２０〜６０μｍ、より好ましくは２０〜４０μｍである。

＜位相差板＞
位相差板は、ポリマーを延伸することによって位相差を与える延伸フィルムであってもよいが、本発明の有機ＥＬディスプレイ用積層体の薄層化の観点から、水平配向又は垂直配向した重合性液晶化合物の重合体を含む位相差層から構成されることが好ましい。位相差板が、位相差層から構成される場合、位相差層のみであってもよいし、後述する配向膜や基材を含んでいてもよい。

位相差板は、重合性液晶化合物の重合体を含む位相差層を一層のみ含む場合、下記式（１）、（２）および（３）を全て満足することが好ましい：
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０） ≦ １．００（１）
１．００ ≦ Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）（２）
１００ｎｍ ≦ Ｒｅ（５５０）≦ １８０ｎｍ（３）
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
上記式（１）を満たす位相差板は、いわゆる逆波長分散性を有し、優れた偏光性能を示す。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の値は、好ましくは０．９３以下であり、より好ましくは０．８８以下、さらに好ましくは０．８６以下、好ましくは０．８０以上、より好ましくは０．８２以上である。上記式（３）は、好ましくは１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８０ｎｍ、さらに好ましくは１２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍである。
なお、Ｒｅ（５５０）は実施例に記載の方法により測定できる。

本発明の円偏光板において、位相差板の遅相軸と偏光板の吸収軸との成す角度は、好ましくは実質的に４５°である。なお、本発明において「実質的に４５°」とは、４５°±５°を意味する。

位相差板が、第一の位相差層及び第二の位相差層を含み、各位相差層が重合性液晶化合物の重合体である位相差層である場合には、第一の位相差層が下記式（４）の関係を満たし、第二の位相差層が前記式（３）の関係を満たし、位相差板全体が前記式（１）（２）の関係を満たすことが好ましい。
２００ｎｍ ≦ Ｒｅ（５５０）≦ ３００ｎｍ（４）
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）

位相差層を形成する重合性液晶化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ａ）」ともいう）は、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物を意味する。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。重合性液晶化合物として、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

重合性液晶化合物（Ａ）としては、成膜の容易性および位相差性を付与するという観点から、下記（ア）〜（エ）を全て満たす化合物が挙げられる。

（ア）サーモトロピック液晶性を有する化合物である；
（イ）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する。
（ウ）長軸方向（ａ）に対して交差する方向〔交差方向（ｂ）〕上にπ電子を有する。
（エ）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向（ａ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）（ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）（ｉｉ）
とが、
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある〔すなわち、交差方向（ｂ）のπ電子密度が、長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きい〕。
なお、上記（ア）〜（エ）を全て満たす重合性液晶化合物（Ａ）は、ラビング処理により形成した配向膜上に塗布し、相転移温度以上に加熱することにより、ネマチック相を形成することが可能である。この重合性液晶化合物（Ａ）が配向して形成されたネマチック相では通常、重合性液晶化合物の長軸方向が互いに平行になるように配向しており、この長軸方向がネマチック相の配向方向となる。

上記特性を有する重合性液晶化合物（Ａ）は、一般に逆波長分散性を示すものであることが多い。上記（ア）〜（エ）の特性を満たす化合物として、具体的には、例えば、下記式（Ｉ）：

で表される化合物が挙げられる。前記式（Ｉ）で表される化合物は単独または２種以上組み合わせて使用できる。

式（Ｉ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。ここでいう芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環状構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをいう。ここで、ｎは整数を表す。−Ｎ＝や−Ｓ−等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。

Ｇ^１およびＧ^２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。

Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、エステル構造を有する二価の連結基である。
Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。

ｋ、ｌは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ^１およびＢ^２、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｅ^１およびＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｉ−、−ＣＯＯ−で置換されていてもよい。Ｐ^１およびＰ^２は互いに独立に、重合性基または水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。

Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−フェニレンジイル基、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４−フェニレンジイル基、無置換の１，４−フェニレンジイル基、または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４−フェニレンジイル基、または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロへキサンジイル基である。また、複数存在するＧ^１およびＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ^１またはＬ^２に結合するＧ^１およびＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。

Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、好ましくは−Ｒ^ａ１ＣＯＯＲ^ａ２−（Ｒ^ａ１およびＲ^ａ２はそれぞれ独立に単結合または炭素数１〜４のアルキレン基を表す）であり、より好ましくは−ＣＯＯＲ^ａ２−１−（Ｒ^ａ２−１は単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す）であり、さらに好ましくは−ＣＯＯ−または−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−である。

Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒ^ａ９ＯＲ^ａ１０−、−Ｒ^ａ１１ＣＯＯＲ^ａ１２−、−Ｒ^ａ１３ＯＣＯＲ^ａ１４−、またはＲ^ａ１５ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ１６−である。ここで、Ｒ^ａ９〜Ｒ^ａ１６はそれぞれ独立に単結合、または炭素数１〜４のアルキレン基を表す。Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲ^{ａ１０−１}−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯＲ^{ａ１２−１}−、またはＯＣＯＲ^{ａ１４−１}−である。ここで、Ｒ^{ａ１０−１}、Ｒ^{ａ１２−１}、Ｒ^{ａ１４−１}はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２のいずれかを表す。Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−、またはＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２−である。

ｋおよびｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるためさらに好ましい。

Ｅ^１およびＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４〜１２のアルカンジイル基がより好ましい。

Ｐ^１またはＰ^２で表される重合性基としては、例えばエポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、およびオキセタニル基等が挙げられる。これらの中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、および電子吸引性基から選ばれる少なくとも１つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、およびフェナンスロリン環等が挙げられる。これらの中でも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、またはベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール環を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

式（Ｉ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。

Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２３）の基が挙げられる。

式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２３）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。

Ｑ^１およびＱ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^２’Ｒ^３’−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^２’−、−ＣＯ−またはＯ−を表し、Ｒ^２’およびＲ^３’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。

Ｊ^１およびＪ^２は、それぞれ独立に、炭素原子、または窒素原子を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。

Ｗ^１およびＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表し、ｍは０〜６の整数を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。

Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ^０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ^１およびＺ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。

Ｑ^１およびＱ^２は、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ^２’−、−Ｏ−が好ましく、Ｒ^２’は水素原子が好ましい。中でも−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−が特に好ましい。

式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２３）の中でも、式（Ａｒ−６）および式（Ａｒ−７）が分子の安定性の観点から好ましい。

式（Ａｒ−１７）〜（Ａｒ−２３）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。なお、前記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２３）で表される化合物は、例えば、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法に準じて製造することができる。

位相差層を構成する重合性液晶組成物（Ａ）中の重合性液晶化合物（Ａ）の含有量は、重合性液晶組成物（Ａ）の固形分１００質量部に対して、例えば７０〜９９．５質量部であり、好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは９０〜９８質量部である。含有量が上記範囲内であると、位相差板の配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、重合性液晶組成物（Ａ）から溶剤等の揮発性成分を除いた成分の合計量のことをいう。

重合性液晶組成物（Ａ）は、重合性液晶化合物（Ａ）の重合反応を開始するための重合開始剤を含んでいてもよい。また、重合性液晶組成物（Ａ）は、必要に応じて、光増感剤、レベリング剤、添加剤等を含有してもよい。

位相差層は、例えば、重合性液晶化合物（Ａ）および必要に応じて重合開始剤、添加剤等を含む重合性液晶組成物（Ａ）に溶剤を加えて混合および撹拌することにより調製される組成物（以下、「位相差膜形成用組成物」ともいう）を、基材または配向膜上に塗布し、乾燥により溶媒を除去し、得られた塗膜中の重合性液晶化合物（Ａ）を加熱および／または活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。

基材は、透明性を有する基材であることが好ましい。配向膜は、位相差膜形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を任意方向に配向させるものである。配向膜は、配向性ポリマーから形成することができる。また、配向膜は光配向膜であってもよい。

配向性ポリマーとしては、例えば、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステルが挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。配向性ポリマーは単独または２種以上組み合わせて使用できる。

配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物（以下、「配向性ポリマー組成物」ということがある）を基材に塗布し、溶剤を除去する、または、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去し、ラビングする（ラビング法）ことで得られる。溶剤としては、配向性ポリマー組成物を構成する成分を溶解し得るものであればよく、例えば、ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノールなどのアルコール；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル化グリコールエーテルなどから適宜選択して用いることができる。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマー材料が、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１〜２０％が好ましく、０．１〜１０％程度がさらに好ましい。

配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法およびアプリケータ法等の塗布方法や、フレキソ法等の印刷法等の公知の方法が挙げられる。

配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じてラビング処理を行うことができる（ラビング法）。

ラビング法により配向規制力を付与する方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を、接触させる方法が挙げられる。

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーと溶剤とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ともいう）を基材に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。

光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起または異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基等が挙げられる。
Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基等が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物を基材上に塗布することにより、基材上に光配向層を形成することができる。該組成物に含まれる溶剤としては、配向膜形成用組成物に用いうる溶剤として先に例示した溶剤と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマーあるいはモノマーの溶解性に応じて適宜選択することができる。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚みによって適宜調節できるが、光配向膜形成用組成物の質量に対して、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコ−ルやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては例えば、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。

偏光を照射するには、基板上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光ＵＶを照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レ−ザ−などが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプがより好ましい。これらの中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテ−ラ−などの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。

なお、ラビングまたは偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターンまたは複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。

グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像およびリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、形成された樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、および、基材に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。

配向膜（配向性ポリマーを含む配向膜または光配向膜）の厚さは、通常１０〜１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０〜１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０〜２００ｎｍ、特に好ましくは５０〜１５０ｎｍの範囲である。

位相差膜形成用組成物を基材等に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。

次いで、位相差膜形成用組成物から得られた塗膜中に含まれる重合性液晶化合物が重合しない条件で、溶剤を乾燥等により除去することにより、乾燥塗膜が形成される。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。

さらに、重合性液晶化合物を液体相に相転移させるため、重合性液晶化合物が液体相に相転移する温度以上まで昇温した後降温し、該重合性液晶化合物をネマチック相に相転移させる。かかる相転移は、前記塗膜中の溶媒除去後に行ってもよいし、溶媒の除去と同時に行ってもよい。

重合性液晶化合物のネマチック液晶状態を保持したまま、重合性液晶化合物を重合させることにより、重合性液晶組成物の硬化層である位相差層が形成される。重合方法としては光重合法が好ましい。光重合において、乾燥塗膜に照射する光としては、当該乾燥塗膜に含まれる光重合開始剤の種類、重合性液晶化合物の種類（特に、該重合性液晶化合物が有する重合性基の種類）およびその量に応じて適宜選択される。その具体例としては、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線およびγ線からなる群より選択される１種以上の光や活性電子線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点や、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって、光重合可能なように、重合性液晶組成物に含有される重合性液晶化合物や光重合開始剤の種類を選択しておくことが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥塗膜を冷却しながら、光照射することで、重合温度を制御することもできる。
このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶化合物の重合を実施すれば、基材が比較的耐熱性が低いものを用いたとしても、適切に偏光板を形成できる。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた位相差板を得ることもできる。

前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０〜３，０００ｍＷ／ｃｍ^２である。紫外線照射強度は、好ましくは光重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは１秒〜５分、より好ましくは５秒〜３分、さらに好ましくは１０秒〜１分である。このような紫外線照射強度で１回または複数回照射すると、その積算光量は、１０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２である。

位相差層の厚みは、適用される表示装置に応じて適宜選択できるが、薄膜化および屈曲性等の観点から、０．１〜１０μｍであることが好ましく、１〜５μｍであることがより好ましく、１〜３μｍであることがさらに好ましい。

＜光学補償板＞
本発明の有機ＥＬディスプレイ用積層体は、必要に応じて、更に光学補償板を組み合わせてもよい。光学補償板は、液晶表示装置の視野角や色を補償する光学機能を有しており、好ましくは、液晶性物質が配向してなる。
光学補償板は、より好ましくは、重合性液晶化合物の重合体からなり、以下の式（５）を満たす：
−３０ｎｍ ≦ Ｒｔｈ（５５０）≦ −１００ｎｍ（５）
（Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍを照射した際の膜厚方向の面内位相差を表す。）
このような光学補償板に好ましく使用される液晶性物質として、側鎖型液晶性高分子化合物が挙げられる。側鎖型液晶性高分子化合物は、柔軟な主鎖に柔軟鎖を介して液晶層を発現させる中核単位であるメソゲン基が側鎖として結合したものであり、例えば、ポリアクリレートやポリメタクリレート、ポリシロキサン等を主鎖骨格とし、必要に応じて共役性の原子団等からなるスペーサー部を介して、側鎖としてメソゲン基を有する物などを挙げることができる。また、側鎖のメソゲン基からみて主鎖と逆側になる末端には、必要に応じて共役性の原子団等からなるスペーサー部を介して、オキセタニル基、エポキシ基、ビニルエーテル基等の架橋のための重合性官能基を、フィルムの引張弾性率を制御するために持たせてもよい。

光学補償板の厚さは、例えば０．１〜３０μｍ程度、好ましくは０．５〜２５μｍ程度、さらに好ましくは３〜２０μｍ程度である。

＜円偏光板＞
本発明における円偏光板は、偏光板と位相差板とを含み、偏光板は偏光子と保護フィルムとを含む。偏光板は位相差板とは反対側に保護フィルムを有する。

上記円偏光板において、偏光板と位相差板とは、接着剤層を介して積層されてもよいし、粘着剤層を介して積層されてしてもよく、粘着剤層を介して積層されることが好ましい。すなわち、上記円偏光板は、偏光板、粘着剤層及び位相差板の順に積層された構造を有することが好ましい。

偏光板と位相差板とを積層させる粘着剤層としては、波長４００ｎｍの透過率が１０％以下である粘着剤層（以下、近赤外吸収粘着剤層という場合がある。）が好ましい。

偏光板と位相差板とを積層させる粘着剤層を形成する粘着剤組成物としては、特に限定されず、公知の粘着剤組成物が使用できる。

近赤外吸収粘着剤層を形成する粘着剤組成物は、特に限定されないが、例えば特開２０１７−１１９７００号公報に記載の粘着剤組成物が挙げられ、波長４００ｎｍ付近（例えば波長３８５ｎｍ〜波長４０５ｎｍ）の光を選択的に吸収する化合物を含む粘着剤組成物であることが好ましく、メロシアニン構造を有する光選択吸収化合物を含む粘着剤組成物であることがより好ましい。

本発明における円偏光板は、水蒸気透過率が１００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒｓ以下であり及び３８０ｎｍの光の透過率が１％以下である。これにより、表示特性と屈曲性と経年劣化に優れた有機ＥＬディスプレイが得られる。

水蒸気透過率は、ＪＩＳＺ０２０８に従い、４０℃、相対湿度９０％の条件で測定し、フィルムの面積１ｍ^２あたり２４時間でそのフィルムを通過する水分量として算出する。水蒸気透過率が１００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒｓを超えると、得られた有機ＥＬディスプレイの耐久性が悪くなる。水蒸気透過率は、好ましくは６０ｇ／ｍ^２／２４ｈｒｓ以下、より好ましくは３０ｇ／ｍ^２／２４ｈｒｓ以下であり、更に好ましくは１０ｇ／ｍ^２／２４ｈｒｓ以下であり、測定限界以下の低い水蒸気透過率であってもよい。

光の透過率は、分光光度計（ＵＶ−３１５０；株式会社島津製作所製）を用いて、３８０ｎｍの透過率を測定する。３８０ｎｍおよび４００ｎｍの両方の透過率を特定するとより好ましい。これらの波長での光の透過率は、好ましくは０．５％以下、より好ましくは０．３％以下である。

上記円偏光板において、酸素透過度は、好ましくは３０ｃｃ／ａｔｍ／ｍ^２／２４ｈｒｓ以下である。酸素透過度は、ＪＩＳＫ７１２６に基づき、酸素透過率測定装置（ＯＸ−ＴＲＡＮＭＬ、ＭＯＣＯＮ社製）にて２３℃、相対湿度５０％の条件で測定を行う。酸素透過度は、有機ＥＬディスプレイの耐久性をより向上させる点で、より好ましくは２０ｃｃ／ａｔｍ／ｍ^２／２４ｈｒｓ以下、更に好ましくは１０ｃｃ／ａｔｍ／ｍ^２／２４ｈｒｓ以下である。

＜粘着剤層（１）＞
本発明において、円偏光板と積層させる粘着剤層（本明細書において、本粘着剤層を「粘着剤層（１）」と称することがある。）を形成する粘着剤組成物としては、特に限定されず、例えば、アクリル系やシリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリアミド系、ポリエーテル系、ゴム系などの適宜な粘着剤を用いることができる。中でも、光学的透明性や粘着特性、耐候性などの点から、感圧のアクリル系粘着剤が好ましい。粘着剤層（１）は、通常、円偏光板の位相差板に積層される。粘着剤層（１）の円偏光板が積層された面と反対側に、さらに別の層（セパレートフィルム等）が積層されてもよい。

なお、粘着剤層（１）及び偏光板と位相差板との積層に使用される粘着剤層には、各種拡散剤を分散させて拡散性を付与したり、各種導電性物質を混合して帯電防止性を付与したりする等、用途に応じて機能性を持たせてもよい。

本発明における円偏光板と粘着剤層が積層された積層体の厚みは、表示装置の屈曲性や視認性の観点から、好ましくは１００μｍ以下であり、より好ましくは９０μｍ以下である。

＜有機ＥＬ表示装置（有機ＥＬディスプレイ）＞
本発明は、本発明の有機ＥＬディスプレイ用積層体を備えてなる表示装置を包含する。
表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（電場放出表示装置（ＦＥＤ等）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置等）および圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置および投写型液晶表示装置等の何れをも含む。これら表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に、本発明の表示装置としては、有機ＥＬ表示装置およびタッチパネル表示装置が好ましく、特に有機ＥＬ表示装置が好ましい。

以下、実施例および比較例により本発明をさらに詳細に説明する。実施例および比較例中の「％」および「部」は、特記しない限り、「質量％」および「質量部」である。

［実施例１］
＜偏光板の作製＞
［偏光板：ヨウ素ＰＶＡ型偏光板の製造］
厚さ３０μｍのポリビニルアルコールフィルム（ＰＶＡ：平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％以上）を、乾式延伸により約５倍に一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、４０℃の純水に４０秒間浸漬した。その後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０４４／５．７／１００の染色水溶液に２８℃で３０秒間浸漬して染色処理を行った。次に、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１１．０／６．２／１００のホウ酸水溶液に７０℃で１２０秒間浸漬した。引き続き、８℃の純水で１５秒間洗浄した後、３００Ｎの張力で保持した状態で、６０℃で５０秒間、次いで７５℃で２０秒間乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向している厚さ１２μｍの偏光子を得た。

得られた偏光子と、シクロオレフィンフィルム（日本ゼオン株式会社製ＺＦ１４）の間に水系接着剤を注入し、ニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、片面に保護フィルムとしてシクロオレフィンフィルム（ＣＯＰ）を有する偏光板Ｉを得た。なお、上記水系接着剤は、水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（クラレポバールＫＬ３１８；株式会社クラレ製）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（スミレーズレジン６５０；住化ケムテックス株式会社製、固形分濃度３０％の水溶液）１．５部とを添加して調製した。

＜位相差板の作製＞
［光配向膜形成用組成物の調製］
特開２０１３−０３３２４９号公報記載の下記光配向性材料５部とシクロペンタノン（溶剤）９５部とを混合し、得られた混合物を８０℃で１時間撹拌することにより、光配向膜形成用組成物を得た。
（光配向性材料）

［重合性液晶組成物の調製］
下記構造の重合性液晶化合物Ａ−１（８６．０部）と、重合性液晶化合物Ａ−２（１４．０部）と、ポリアクリレート化合物（レベリング剤／ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）（０．１２部）と、２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（光重合開始剤／イルガキュア３６９；チバスペシャルティケミカルズ社製）（３．０部）とを混合し、重合性液晶化合物Ａ−１および重合性液晶化合物Ａ−２を含む重合性液晶組成物（Ａ１）を得た。

重合性液晶化合物Ａ−１：

重合性液晶化合物Ａ−２：

[位相差板の作製]
シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ；ＺＦ−１４；日本ゼオン株式会社製）を、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０；春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、前記光配向膜形成用組成物をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（偏光子ユニット付ＳＰＯＴＣＵＲＥＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施し、配向膜を形成した。得られた配向膜の厚さをエリプソメータＭ−２２０（日本分光株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。

続いて、前記配向膜上に、先に調製した重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物（Ａ１）を、バーコーターのワイヤーを＃３０に設定して５０ｍｍ／ｓｅｃの速度で塗布し、１２０℃で１分間乾燥した。その後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ；ウシオ電機株式会社製）を用いて、重合性液晶組成物（Ａ１）を塗布した面側から紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３１３ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、位相差層とシクロオレフィンポリマーフィルムの積層体を形成した。得られた位相差層の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ；オリンパス株式会社製）で測定したところ、２．３μｍであった。
得られた位相差層の波長５５０ｎｍにおける位相差値を測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍであった。
また、得られた位相差層の波長４５０ｎｍ及び波長６５０ｎｍにおける位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８５、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０５であった。

＜円偏光板の作製＞
偏光板Ｉと位相差板Ｂを、偏光板Ｉの吸収軸と位相差板Ｂの遅相軸の為す角度（θ）が４５°となるように粘着剤（リンテック株式会社製、アクリル系粘着剤（無色透明、無配向）を用いて貼合した後に位相差板のシクロオレフィンポリマーフィルムを剥離し、円偏光板１を作製した。

＜有機ＥＬディスプレイ用積層体の作製＞
得られた円偏光板の位相差板に、アクリル系粘着剤（リンテック社製膜厚１５μｍ）を積層させて有機ＥＬディスプレイ用積層体を得た。
得られた有機ＥＬディスプレイ用積層体の層構成について、表１にまとめた。

＜水蒸気透過率の測定＞
得られた円偏光板についてＪＩＳＺ０２０８に従い、４０℃、相対湿度９０％の条件で測定し、フィルムの面積１ｍ²あたり２４時間でそのフィルムを通過する水分量として算出した。結果を表２に示す。

＜酸素透過度の測定＞
得られた円偏光板についてＪＩＳＫ７１２６に基づき、酸素透過率測定装置（ＯＸ−ＴＲＡＮＭＬ、ＭＯＣＯＮ社製）にて２３℃、相対湿度５０％の条件で測定を行った。結果を表２に示す。

＜透過率の測定＞
得られた円偏光板について分光光度計（ＵＶ−３１５０；株式会社島津製作所製）を用いて、３８０ｎｍ、及び４００ｎｍの透過率を測定した。結果を表２に示す。

＜耐候性試験＞
得られた有機ＥＬディスプレイ用積層体のアクリル系粘着剤と、ＳＡＭＳＵＮＧ社製「ＧａｌａｘｙＳ５」より前面ガラスおよび偏光板を除去した表示装置とを貼合した。表示装置の電源をＯＦＦにした状態（黒表示時）、ＯＮにした状態（白表示時）で反射色相を確認した。初期外観およびサンシャインウェザーメータでの１００時間促進耐候性試験後の外観（１００時間促進耐候性試験）の結果を表３に示す。なお、正面反射色相（表３では「白表示」および「黒表示」）はサンプルを正面から５０ｃｍ離れて目視で観察して色相を確認した色相であり、斜方反射色相（表３では「斜方黒表示」）は仰角６０°、方位角０〜３６０°方向から５０ｃｍ離れて目視で観察したときの色相である。

＜屈曲性試験＞
得られた円偏光板の塗膜面側に厚み０．７ｍｍのガラス板を載せ、ガラス板に這わせるようにして積層体を１８０度曲げた後、１０倍のルーペを使用して蛍光灯の光に透過させて屈曲部分を観察し、シワやクラックの有無を確認した。シワやクラックが観察されなかったものをＡ、わずかにシワが確認されたものをＢ、シワとクラックが観察されたものをＣとした。結果を表３に示す。

［実施例２］
実施例１で偏光板と位相差板の粘着剤を、日本国特許出願公開公報・特開２０１７−１２０４３０の実施例２に記載の粘着剤（近紫外ＰＳＡ）に変更した以外は実施例１と同様にして作製した。

［実施例３］
［位相差板の作製］
＜配向性ポリマー組成物（１）の調製＞
市販のポリビニルアルコール (ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製)に水を加えて１００℃で１時間加熱し、配向性ポリマー組成物（１）を得た。配向性ポリマー組成物（１）における固形分は２質量％であった。

＜組成物（Ｂ−１）の調製＞
式（ＬＣ２４２）で表される重合性液晶化合物、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製；イルガキュア９０７）、ポリアクリレート化合物（レベリング剤／ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）、反応添加剤（ＢＡＳＦ社製Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９００）及びプロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ）を混合して組成物（Ｂ−１）を得た。なお、組成物（Ｂ−１）における各化合物の割合は、重合性液晶化合物１９．２質量％、重合開始剤０．５質量％、レベリング剤０．１質量％、反応添加剤１．１質量％及びＰＧＭＥＡ７９．１％である。

＜位相差層１の作製＞
ケン化済みトリアセチルセルロースフィルム（以下、ＴＡＣと称する場合がある。）に配向性ポリマー組成物（１）を塗布し、加熱乾燥後、厚さ８０ｎｍの配向性ポリマーの膜を得た。得られた配向性ポリマーの膜の表面に、ラビング処理を施した。この上に、組成物（Ｂ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１２００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより位相差層１を形成した。得られた位相差層１の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、膜厚は１．９４μｍであった。得られた位相差層１の位相差値を測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝２６９ｎｍであった。また、波長４５０ｎｍならびに波長６５０ｎｍの位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０８、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．９９であった。

＜位相差層２の作製＞
ケン化済みトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ株式会社製、ＫＣ４ＵＹ）に配向性ポリマー組成物（１）を塗布し、加熱乾燥後、厚さ８２ｎｍの配向性ポリマーの膜を得た。得られた配向性ポリマーの膜の表面をＴＡＣの長手方向から１５°となる角度でラビング処理を施し、この上に、組成物（Ｂ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１２００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより位相差層２を形成した。得られた位相差層２の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、膜厚は９７３ｎｍであった。得られた位相差層２の位相差値を測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝１３５ｎｍであった。また、波長４５０ｎｍ及び波長６５０ｎｍの位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０７、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．９８となった。

＜位相差層１と位相差層２との貼合＞
上記で得られた位相差層１の遅相軸及び位相差層２の遅相軸の角度が６０°となるように、光硬化性接着剤を用いて貼合し、位相差板３を作製した。

＜円偏光板の作製＞
偏光板Ｉと、位相差板３の位相差層１側を、偏光板Ｉの吸収軸と位相差層１の遅相軸の為す角度（θ）が１５°、偏光板Ｉの吸収軸と位相差板２の遅相軸の為す角度（θ）が７５°となるように接着剤を用いて貼合した後に位相差板のシクロオレフィンポリマーフィルムを剥離し、円偏光板を作製した。

＜有機ＥＬディスプレイ用積層体の作製＞
上記で得られた位相差板３を用いた以外、実施例１と同様にして有機ＥＬディスプレイ用積層体を作製した。

［実施例４］
［光学補償板の作製］
＜配向性ポリマー組成物（２）の調製＞
市販の配向性ポリマーであるサンエバーＳＥ−６１０（日産化学工業株式会社製）に２−ブトキシエタノールを加えて配向性ポリマー組成物（２）を得た。なお、配向性ポリマー組成物（２）の固形分は１質量％であった。

シクロオレフィンフィルムの表面を、コロナ処理装置を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、配向性ポリマー組成物（２）を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥し、配向膜を得た。得られた配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、３４ｎｍであった。続いて、配向膜上に組成物（Ｂ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより光学補償板を得た。得られた光学補償板の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、膜厚は４５０ｎｍであった。また、得られた光学補償板の波長５５０ｎｍでの位相差値を測定したところＲｅ（５５０）＝１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝−７０ｎｍであった。なお、シクロオレフィンフィルム単独の波長５５０ｎｍにおける位相差値は略０であった。

実施例１で作製した円偏光板と上記で得られた光学補償板とを、実施例１記載のアクリル系粘着剤を用いて貼合し、光学補償板付円偏光板を得た。得られた光学補償板付円偏光板の光学補償板に、さらにアクリル系粘着剤を積層して有機ＥＬディスプレイ用積層体を得た。

［実施例５］
国際公開第２０１７／０１４２７９号に記載の実施例１と同様の方法で３０μｍのポリイミド系フィルム（ＰＩフィルム）を作製した。
シクロオレフィンポリマーフィルムの代わりに前記ポリイミド系フィルム（ＰＩフィルム）を保護フィルムとして用いたこと以外は実施例２と同様に作製した。

［実施例６］
国際公開第２０１７／０１４２７９号に記載の実施例１と同様の方法で３０μｍのポリイミド系フィルム（ＰＩフィルム）を作製した。
保護フィルムとして、前記ポリイミド系フィルムを用いた以外は実施例３と同様にして作成した。

［実施例７］
国際公開第２０１７／０１４２７９号に記載の実施例１と同様の方法で３０μｍのポリイミド系フィルム（ＰＩフィルム）を作製した。
保護フィルムとして前記ポリイミド系フィルムを用い、位相差板と偏光板との積層に用いる粘着剤を、実施例１記載のアクリル系粘着剤とした以外は実施例４と同様にして作成した。

［比較例１］
＜偏光板の作製＞
偏光子の両側にトリアセチルセルロースフィルム(ＴＡＣ；ＫＣ２ＵＡ；コニカミノルタ株式会社製)を配置し、それぞれの層の間に水系接着剤を注入し、ニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、両側に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する偏光板を得た。なお、上記水系接着剤は、水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（クラレポバールＫＬ３１８；株式会社クラレ製）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（スミレーズレジン６５０；住化ケムテックス株式会社製、固形分濃度３０％の水溶液）１．５部とを添加して調製した。

＜有機ＥＬディスプレイ用積層体の作製＞
位相差板としてポリカーボネート系共重合体樹脂フィルム（ＷＲＳ−１４３；帝人社製）を用いたこと以外は実施例１と同様にして有機ＥＬディスプレイ用積層体を作製した。

［比較例２］
実施例３で作製した位相差板２を用いた以外は比較例１と同様にして有機ＥＬディスプレイ用積層体を作製した。

［比較例３］
比較例１で作製した偏光板を用いた以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬディスプレイ用積層体を作製した。

なお、表１における「ＣＯＰ」はシクロオレフィンフィルムを表し、「ＰＩ」はポリイミドを表し、「ＴＡＣ」はトリアセチルセルロースフィルムを表し、「ＰＶＡ」はポリビニルアルコールを表し、「ＰＳＡ」はアクリル系粘着剤を表す。また、ＲｅはＲｅ（５５０）を表し、α＝Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）、β＝Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）を表し、Ｒｔｈは膜厚方向の面内位相差を表す。

上記表２および表３の結果から明らかなように、本発明の要件を満足する実施例１〜７では、１００時間促進耐候性試験後の外観は、初期外観とほとんど変化がなく、しかも屈曲性も当初の性能を維持している。比較例１〜３では１００時間の促進耐候性試験後の外観は初期外観から変化している。特に水蒸気透過率が比較例では全て７００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒｓで基準値の１００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒｓから大きく外れているので、耐候性が悪くなったものと理解する。

Claims

円偏光板と粘着剤層とが積層された積層体であって、
前記積層体の厚みが１００μｍ以下であり、
前記円偏光板は、偏光板と位相差板とを含み、
偏光板は、偏光子と保護フィルムとを含み、偏光子の位相差板が積層された面の反対側のみに保護フィルムを有し、
前記円偏光板の水蒸気透過率が１００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒｓ以下であり、かつ
前記円偏光板の３８０ｎｍ透過率が１％以下である有機ＥＬディスプレイ用積層体。
前記偏光子がポリビニルアルコール系樹脂フィルムから形成された偏光子である請求項１記載の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
前記円偏光板の４００ｎｍ透過率が１％以下である請求項１または２に記載の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
前記位相差板が重合性液晶化合物の重合体を含む位相差層を１層のみ含み、かつ下記式（１）、式（２）及び式（３）の全てを満たす位相差板である請求項１〜３のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０） ≦ １．００（１）
１．００ ≦ Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）（２）
１００ｎｍ ≦ Ｒｅ（５５０）≦ １８０ｎｍ（３）
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
前記位相差板の遅相軸と偏光板の吸収軸との成す角度が実質的に４５度である請求項４に記載の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
前記位相差板が、偏光板側から順に第一の位相差層及び第二の位相差層を含み、
第一の位相差層及び第二の位相差層は、それぞれ、重合性液晶化合物の重合体であって、
第一の位相差層が下記式（４）の関係を満たし、
第二の位相差層が式（３）の関係を満たし、
位相差板が式（１）及び式（２）の関係を満たす請求項１〜３のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０） ≦ １．００（１）
１．００ ≦ Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）（２）
１００ｎｍ ≦ Ｒｅ（５５０）≦ １８０ｎｍ（３）
２００ｎｍ ≦ Ｒｅ（５５０）≦ ３００ｎｍ（４）
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
さらに、下記式（５）を満たす重合性液晶化合物の重合体からなる光学補償板を有する請求項１〜６のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
−３０ｎｍ ≦ Ｒｔｈ（５５０）≦ −１００ｎｍ（５）
（Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍの光に対する膜厚方向の面内位相差を表す。）
前記円偏光板が、４００ｎｍ透過率が１０％以下である粘着剤層を含む請求項１〜６のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
前記保護フィルムが、シクロオレフィンフィルムである請求項１〜７のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
前記保護フィルムが、ポリイミドフィルム又はポリアミドイミドフィルムである請求項１〜７のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ用積層体。
少なくとも偏光板と粘着剤層と位相差板とがこの順で積層された円偏光板であって、
前記偏光板は、偏光子と保護フィルムとを含み、偏光子の位相差板が積層された面の反対側のみに保護フィルムを有し、
前記位相差板が式（１）及び式（２）の関係を満たし、
前記円偏光板の水蒸気透過率が１００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒｓ以下であり、かつ
前記円偏光板の３８０ｎｍ透過率が１％以下である
円偏光板。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０） ≦ １．００（１）
１．００ ≦ Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）（２）
前記偏光子がポリビニルアルコール系樹脂フィルムから形成された偏光子である請求項１１記載の円偏光板。
前記円偏光板の４００ｎｍ透過率が１％以下である請求項１１または１２に記載の円偏光板。
前記粘着剤層は４００ｎｍ透過率が１０％以下である請求項１１〜１３のいずれかに記載の円偏光板。
前記保護フィルムが、シクロオレフィンフィルムである請求項１１〜１４のいずれかに記載の円偏光板。
前記保護フィルムが、ポリイミドフィルム又はポリアミドイミドフィルムである請求項１１〜１５のいずれかに記載の円偏光板。