JP2021082789A - 窒化物半導体基板および窒化物半導体基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1に、本明細書に記載の窒化物半導体基板の一例を示す。本実施例では、窒化物半導体として窒化ガリウム(GaN)、II族元素のp型不純物としてマグネシウム(Mg)を用いている。図1(A)は、二次イオン質量分析(SIMS)法を用いた、Mgの深さ方向の濃度プロファイルである。図1(A)の横軸はMgの濃度[cm−3]である。縦軸は、GaN基板の表面からの深さである。図1(B)は、図1(A)に対応するTEM断面写真である。紙面上方向が、c軸方向([0001]方向)である。紙面右方向が、m軸方向([1−100]方向)である。紙面に垂直な方向が、a軸方向([11−20]方向)である。GaN基板の表面は、c面((0001)面)である。また図1(B)の断面は、a面((11−20)面)である。回折ベクトルg(TEM観察の際に選択された回折格子面の法線ベクトル)は、1−100方向である。
図3および図4を用いて、本明細書における空孔型の転位ループを説明する。図3(A)にGaN完全結晶の結晶構造の模式図を示す。図3(A)では、分かりやすさのためにガリウム原子のみを記載し、窒素原子は省略している。紙面上方向が、a軸方向([11−20]方向)である。紙面右方向が、m軸方向([1−100]方向)である。紙面に垂直な方向が、c軸方向([0001]方向)である。GaNはウルツ鉱型結晶構造である。
図4〜図7を用いて、空孔型の転位ループの形成メカニズムを説明する。第1のステップとして、図5(A)に示すように、GaN基板の表面(a面)からMgをイオン注入する。イオン注入により、空孔型の点欠陥PDが複数発生する。点欠陥PDは、ガリウム空孔や窒素空孔などである。なお、図5(A)〜図7(A)では、点欠陥PDを、空白で示している。また図5(B)〜図7(B)では、点欠陥PDを原子が抜けた空白で示している。
本明細書の技術で使用するアニール温度の意義を説明する。図8に、比較例のGaN基板を示す。図8の比較例では、1300℃でアニールしている。その他の条件は、図1で説明した条件と同一である。図8(B)の断面TEM写真から分かるように、注入領域R1およびその近傍には、楕円形状の転位が見られない。これにより、1300℃以下のアニール温度では、空孔型の転位ループが形成されないことが分かる。これは、1300℃以下では、空孔型点欠陥が析出するための十分な活性化エネルギーを与えることができないためと考えられる。すなわち、1300℃より高い温度は、空孔型の転位ループを形成することができる特異温度であることが分かる。
本明細書の転位ループの意義を、p型不純物の活性化の観点から説明する。図9に、カソードルミネッセンス(CL)スペクトルCS1〜CS3を示す。横軸はフォトンエネルギー[eV]であり、縦軸はCL強度[任意単位]である。CLスペクトルCS1は、表面にMgがイオン注入されたGaN基板を、通常の圧力下で1300℃でアニールした後に測定された結果である。同様に、CLスペクトルCS2は、1GPaの圧力下での1300℃のアニール後の測定結果である。また、CLスペクトルCS3は、1GPaの圧力下での1480℃のアニール後の測定結果である。何れのアニールも30秒のアニール時間で行われた。
イオン注入を行うと、GaN結晶内に空孔型点欠陥が導入されてしまう。空孔型点欠陥によってアクセプタが補償されるため、実効アクセプタ濃度が低下してしまう。しかし点欠陥をすべて消滅させたり、結晶外に掃き出すことは困難である。本明細書に記載されている技術では、Mgがイオン注入されたGaN基板を1300℃より高い温度でアニールすることで、GaN結晶中の空孔型点欠陥を「空乏型の転位ループ」として析出させることができる。これにより、転位ループの周辺の点欠陥密度を低下させることができるため、実効アクセプタ濃度の低下を抑制できる。また転位ループは、刃状転位である。刃状転位は、点欠陥に比してアクセプタを補償する効果が小さいため、デバイスの電気特性に与える影響が小さい。よって、点欠陥を刃状転位に変換することで、デバイス特性の悪化を防止することができる。
窒化物半導体はGaNに限定されるものではなく、例えば、AlGaN(窒化アルミニウムガリウム)、AlN(窒化アルミニウム)、InN(窒化インジウム)、InGaN(窒化インジウムガリウム)または、その混晶等であってもよい。
Claims (7)
- 不純物がイオン注入によって導入されている領域を備え、
前記イオン注入が行われた領域およびその近傍に空孔型の転位ループが存在している、窒化物半導体基板。 - 前記窒化物半導体基板はウルツ鉱型結晶構造であり、
前記空孔型の転位ループはa面上に存在している、請求項1に記載の窒化物半導体基板。 - 前記窒化物半導体基板はGaNである、請求項1または2に記載の窒化物半導体基板。
- 前記不純物はマグネシウムである、請求項1〜3の何れか1項に記載の窒化物半導体基板。
- 窒化物半導体基板の表面に不純物をイオン注入することで、イオン注入が行われた領域に空孔型点欠陥を発生させるイオン注入工程と、
前記窒化物半導体基板を1300℃よりも高い温度でアニールすることで、前記空孔型点欠陥を空孔型の転位ループとして析出させるアニール工程と、
を備える、窒化物半導体基板の製造方法。 - 前記アニール工程は、アニール温度における前記窒化物半導体基板の飽和蒸気圧以上の高圧雰囲気化で行われる、請求項5に記載の窒化物半導体基板の製造方法。
- 前記窒化物半導体基板はウルツ鉱型結晶構造であり、
前記空孔型の転位ループはa面上に存在している、請求項5または6に記載の窒化物半導体基板の製造方法。
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