JP2021070765A - 光学用粘着剤組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】段差吸収性に優れるとともに、加工性に優れる光学用粘着剤組成物を提供すること。【解決手段】本発明の光学用粘着剤組成物は、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーを含有し、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーが、０℃以上１００℃以下のガラス転移温度を有する高Ｔｇセグメントと、−１００℃以上０℃未満のガラス転移温度を有する低Ｔｇセグメントを有し、０℃以上の領域と０℃未満の領域にそれぞれｔａｎδのピークを有することを特徴とする。ここで、前記ガラス転移温度は、各セグメントを構成するモノマー成分組成からＦＯＸの式により算出されるものである。【選択図】なし

Description

本発明は、光学用粘着剤組成物に関する。詳細には、光学部材の貼り合わせや光学製品の製造等に特に好ましく用いることができる光学用粘着剤組成物に関する。

近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）や有機ＥＬ表示装置などの画像表示装置や、タッチパネルなどの上記画像表示装置と組み合わせて用いられる入力装置が広く用いられるようになってきた。これらの画像表示装置や入力装置（「光学製品」とも称する）の製造等においては、光学部材を貼り合わせる用途等に透明な粘着剤組成物（「光学用粘着剤組成物」とも称する）が使用されている。例えば、タッチパネルやレンズなどと液晶表示装置（ＬＣＤ）や有機ＥＬ表示装置などの画像表示装置との貼付に、光学用粘着剤組成物からなる粘着剤層を有する粘着シートが使用されている。

上記光学部材の中には、印刷段差等の段差を有する部材を含むものが増えてきている。例えば、タッチパネルを備えた画像表示装置では、光学部材の表面に、パターン化されたＩＴＯ（インジウム・スズ酸化物）などの透明で導電性の印刷層が形成される。また、表面保護フィルムの周縁部には、枠状に黒色の隠蔽部を印刷するのが一般的である。このような用途において光学用粘着剤組成物には、印刷段差等の段差を埋める性能、即ち、優れた段差吸収性（「段差追従性」とも称する）が要求される。

また、上述の印刷段差以外の段差や隙間を有する光学部材の使用も増えてきており、段差吸収性に優れる光学用粘着剤組成物の要求度は高まっている。例えば、パネル上にカメラ等のセンサー類を設置するために偏光板等の光学部材に穴が設けられることが増えており、その場合に使用される光学用粘着剤組成物には、光学部材と穴部との境に生じる段差を埋めることが要求される。さらに、次世代ディスプレイとして注目されるマイクロＬＥＤディスプレイなどは、基板上にＬＥＤ素子を高密度に敷き詰めることによって作られており、この際に使用される光学用粘着剤組成物には、ＬＥＤ素子同士の隙間や段差を埋めることが要求される。

上記の段差吸収性を向上させるために、光学用粘着剤組成物を低弾性率化して柔軟性を向上する手法が試みられている（例えば、特許文献１）。しかしながら、このように低弾性率化された光学用粘着剤組成物は段差吸収性には優れているものの、形状安定性やハンドリング性等の加工性が低下するという問題がある。例えば、低弾性率の光学用粘着剤組成物からなる粘着剤層を有する光学部材積層体は、保管時に端部から粘着剤層がはみ出しやすく、はみ出した粘着剤層にゴミが付着するなど加工性の点で問題を生じることがあった。

加工性を改善するためには粘着剤層の弾性率を高めて硬くする必要があるが、粘着剤層を硬くすると段差吸収性が低下するというトレードオフの関係にあり、段差吸収性と加工性の両立は解決困難な課題である。

低弾性率の粘着剤層の加工性を改善するために、高いガラス転移温度を有する粘着付与樹脂を粘着剤に配合して室温付近の弾性率を向上させつつ、ガラス転移温度を超える温度範囲で低弾性率化する手法が知られているが、このような粘着付与樹脂による加工性改善は十分ではなかった。また、粘着付与樹脂を用いる場合では粘着剤組成物との相溶性が課題となる場合があり、目的となる弾性率を満たすほど多量に添加することは難しかった。

国際公開ＷＯ２０１６／１７０８７５号公報

本発明は、以上のような事情のもとで考え出されたものであって、本発明の目的は、段差吸収性に優れるとともに、加工性に優れる光学用粘着剤組成物を提供することにある。

本発明者らは、前記目的を達成するため鋭意検討した結果、光学用粘着剤組成物に含まれるポリマーとして、特定のガラス転移温度範囲を有する高Ｔｇセグメントと低Ｔｇセグメントを有する（メタ）アクリル系ブロックコポリマーを採用することにより、室温（例えば、２５℃）付近では、高い貯蔵弾性率を示し、硬く加工性が良好で、５０℃を超える領域で顕著に貯蔵弾性率が低下して高流動性となり、段差吸収性が良好となることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。

すなわち、本発明の第１の側面は、
（メタ）アクリル系ブロックコポリマーを含有する光学用粘着剤組成物であって、
前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーが、
０℃以上１００℃以下のガラス転移温度を有する高Ｔｇセグメントと、
−１００℃以上０℃未満のガラス転移温度を有する低Ｔｇセグメントと、
を有し、
０℃以上の領域と０℃未満の領域にそれぞれｔａｎδのピークを有することを特徴とする、光学用粘着剤組成物を提供する。
ここで、前記ガラス転移温度は、各セグメントを構成するモノマー成分組成からＦＯＸの式により算出されるものである。

本発明の光学用粘着剤組成物が、前記高Ｔｇセグメントと、前記低Ｔｇセグメントとを有し、０℃以上の領域と０℃未満の領域にそれぞれｔａｎδのピークを有する（メタ）アクリル系ブロックコポリマーを含有することにより、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーは、室温（例えば、２５℃）付近では、低Ｔｇセグメントのみが転移・流動化するが、高Ｔｇセグメントは転移しないため、（メタ）アクリル系ブロックコポリマー全体としては高い貯蔵弾性率を示し、硬く加工性が良好となる。そして、５０℃を超える領域で高Ｔｇセグメントも転移・流動化して（メタ）アクリル系ブロックコポリマー全体の貯蔵弾性率が低下して高流動性となる。

本発明の光学用粘着剤組成物から形成された粘着剤層を、段差を有する光学部材と貼り合わせる際に、例えば、オートクレーブなどの加熱条件（例えば、５０℃以上）で貼り合わせることにより、高流動性となり段差に十分に追従して気泡が残らずに隙間なく密着する。その後、室温（例えば、２５℃）に戻して保管する場合には貯蔵弾性率が高くなり、加工性が良好となる。

本発明の第１の側面の光学用粘着剤組成物において、前記０℃以上の領域におけるｔａｎδのピークの極大値が０．５〜３．０であることが好ましい。この構成は、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーの優れる加工性と形状安定制を実現できる点で好ましい。

本発明の第１の側面の光学用粘着剤組成物において、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーはＡＢＡ型トリブロックコポリマーであることが好ましい。この構成は、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーを製造しやすい点で好適である。

本発明の第１の側面の光学用粘着剤組成物における前記ＡＢＡ型トリブロックコポリマーにおいて、Ａセグメントが前記高Ｔｇセグメントであり、Ｂセグメントが前記低Ｔｇセグメントである態様が好ましい。この構成は、本発明の前記作用効果が得られやすい点で好適である。

本発明の第１の側面の光学用粘着剤組成物において、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーにおける前記高Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分として、炭素数が１〜３である直鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル、炭素数が３又は４である分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び脂環式モノマーからなる群から選ばれる少なくとも1種を含有することが好ましく、炭素数が３又は４である分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルがうより好ましい。前記脂環式モノマーとしては置換基を有していてもよい炭素数が４〜１０であるシクロアルキル基を有する（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステルが好ましい。この構成は、前記高Ｔｇセグメントを所定のガラス転移温度を有し、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーが０℃以上の領域にｔａｎδのピークを有するように制御し、本発明の前記作用効果が得られやすい点で好適である。

本発明の第１の側面の光学用粘着剤組成物において、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーにおける前記低Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分として、炭素数が４〜１８である直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び水酸基含有モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。この構成は、前記低Ｔｇセグメントを所定のガラス転移温度を有し、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーが０℃未満の領域にｔａｎδのピークを有するように制御し、本発明の前記作用効果が得られやすい点で好適である。

本発明の第１の側面の光学用粘着剤組成物において、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーにおける前記低Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分全量（１００重量％）に対して、水酸基含有モノマーを１重量％以上含有することが好ましい。この構成は、前記低Ｔｇセグメントを所定のガラス転移温度に制御し、本発明の前記作用効果が得られやすい点で好適である。

本発明の第１の側面の光学用粘着剤組成物において、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーの重量平均分子量は２０万以上であることが好ましい。この構成は、本発明の光学用粘着剤組成物において、室温付近で良好な硬さと加工性が得られやすいという点で好ましい。

本発明の第１の側面の光学用粘着剤組成物において、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーの分子量分布は、１より大きく５以下であることが好ましい。この構成は、本発明の光学用粘着剤組成物において、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーの均一性が高くなり、透明性が高い粘着剤が得られやすい点で好ましい。

本発明の第１の側面の光学用粘着剤組成物において、２５℃における貯蔵弾性率と５０℃における貯蔵弾性率の比（２５℃における貯蔵弾性率／５０℃における貯蔵弾性率）が３以上であることが好ましい。この構成は、本発明の光学用粘着剤組成物において、室温（２５℃）での貯蔵弾性率と加熱（５０℃）時の貯蔵弾性率の差が十分に広くなり、加熱時には高流動性となって優れた段差吸収性を示し、室温では硬くなって優れた加工性を示すことができる点で好ましい。

本発明の第１の側面の光学用粘着剤組成物において、２５℃における貯蔵弾性率が１ＭＰａ以上であり、５０℃における貯蔵弾性率が０．５ＭＰａ以下であることがこのましい。この構成は、本発明の光学用粘着剤組成物において、室温（２５℃）での貯蔵弾性率と加熱（５０℃）時の貯蔵弾性率の差が十分に広くなり、加熱時には高流動性となって優れた段差吸収性を示し、室温では硬くなって優れた加工性を示すことができる点で好ましい。

また、本発明の第２の側面は、光学用粘着剤組成物により形成される光学用粘着剤層を提供する。
また、本発明の第３の側面は、光学用粘着剤層を有する光学用粘着シートを提供する。
前記の光学用粘着剤層及び／又は光学用粘着シートは、後述の光学部材積層体を製造するために好適に使用できる。

また、本発明の第４の側面は、光学部材からなる第１の基板と、主面に段差を有する光学部材からなる第２の基板と、本発明の第２の側面の光学用粘着剤層とを有する光学部材積層体であって、前記光学用粘着剤層が、前記第１の基板の任意の主面と、前記第２の基板の前記段差を有する主面との間に積層された、光学部材積層体を提供する。
本発明の第４の側面の光学部材積層体において、前記第１の基板が主面に段差を有し、前記光学用粘着剤層は、前記第１の基板の前記段差を有する主面と、前記第２の基板の前記段差を有する主面との間に積層されていてもよい。
また、前記第２の基板が有する段差は、主面上に設けられた穴による段差であってもよく、その場合、前記第２の基板は偏光板であることが好ましい。
また、前記第１の基板が有する段差は、主面上に設けられた印刷段差であることが好ましい。
また、前記第２の基板が有する段差は、主面上に設けられたＬＥＤチップによる段差であってもよく、その場合、前記第２の基板はＬＥＤパネルであることが好ましい。
また、本発明の第５の側面は、前記光学部材積層体を備える光学製品を提供する。
本構成に係る光学部材積層体及び光学装置では、前記光学用粘着剤層が前記第２の基板の段差に十分に追従して隙間なく密着しており、室温での保管時には前記光学用粘着剤層が硬くなり、優れた加工性を有する。

また、本発明の第６の側面は、前記の光学部材積層体の製造方法であって、
前記第２の基板の前記段差を有する主面に本発明の第３の側面の光学用粘着シートを貼り付ける工程と、
前記第１の基板の任意の主面を、前記光学用粘着シートの光学用粘着剤層の上に積層し、５０℃以上で加熱加圧する工程と、
を含むことを特徴とする光学部材積層体の製造方法を提供する。
この方法は、前記の光学部材積層体を製造するのに好適である。

本発明の光学用粘着剤組成物は、上記構成を有するため、段差吸収性に優れるとともに、加工性に優れる。このため、本発明の光学用粘着剤組成物は、特に、段差を有する光学部材の貼り合わせや、画像表示装置等の光学製品の製造等に用いられる光学用粘着剤層や光学用粘着シートとして有用である。

［光学用粘着剤組成物］
本発明の光学用粘着剤組成物は、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーを含有する。そして、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーは、０℃以上１００℃以下のガラス転移温度を有する高Ｔｇセグメントと、−１００℃以上０℃未満のガラス転移温度を有する低Ｔｇセグメントとを有し、０℃以上の領域と０℃未満の領域にそれぞれｔａｎδのピークを有する。

本明細書において、「０℃以上１００℃以下のガラス転移温度を有する高Ｔｇセグメント」を単に「高Ｔｇセグメント」、「−１００℃以上０℃未満のガラス転移温度を有する低Ｔｇセグメント」を単に「低Ｔｇセグメント」、０℃以上の領域のｔａｎδのピークを単に「高温領域ｔａｎδピーク」、０℃未満の領域のｔａｎδのピークを単に「低温領域ｔａｎδピーク」、前記高Ｔｇセグメントと前記低Ｔｇセグメントと前記高温領域ｔａｎδピークと低温領域ｔａｎδピークとを有する（メタ）アクリル系ブロックコポリマーを「（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ」、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡを含有する光学用粘着剤組成物を「光学用粘着剤組成物Ａ」と称する場合がある。

なお、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及び／又は「メタクリル」（「アクリル」及び「メタクリル」のうち一方又は両方）を意味し、以下も同様である。また、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」及び／又は「メタクリロイル基」（「アクリロイル基」及び「メタクリロイル基」のうち一方又は両方）を意味し、以下も同様である。

高Ｔｇセグメント及び低Ｔｇセグメントにおける「セグメント」とは、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの各ブロック単位を構成する部分構造をいう。

本発明の（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの構造は、線状ブロックコポリマー、分岐状（星状）ブロックコポリマー、またはこれらの混合物であってもよい。このようなブロックコポリマーの構造は、求められるブロックコポリマーの物性に応じて適宜選択すればよいが、コスト面、製造容易性の観点から、線状ブロックコポリマーであることが好ましい。また、線状ブロックコポリマーは、いずれの構造（配列）であっても良いが、線状ブロックコポリマーの物性、または光学用粘着剤組成物Ａの物性の観点から、（Ａ−Ｂ）_n型、（Ａ−Ｂ）_n−Ａ型（ｎは１以上の整数、例えば１〜３の整数）からなる群より選択される少なくとも１種の構造を持つブロックコポリマーであることが好ましい。これらの構造においてＡ及びＢは、異なるモノマー組成から構成されるセグメントを意味する。本明細書において、前記線状ブロックコポリマーを構成するＡで表されるセグメントを「Ａセグメント」、Ｂで表されるセグメントを「Ｂセグメント」と称する場合がある。

これらの中でも、製造容易性、光学用粘着剤組成物Ａの物性等の観点から、Ａ−Ｂで表されるＡＢ型ジブロックコポリマー、Ａ−Ｂ−Ａで表されるＡＢＡ型トリブロックコポリマーが好ましく、より好ましくはＡＢＡ型トリブロックコポリマーである。ＡＢＡ型トリブロックコポリマーは、両端のＡセグメント同士の擬似架橋によりブロックコポリマー同士の架橋構造がより高度なものとなり、ブロックコポリマーの凝集力が向上し、より高い密着性（付着力）が発現することができるものと考えられる。なお、ＡＢＡ型トリブロックコポリマーにおいて、両端に位置する２つのＡセグメントは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡがＡＢＡ型トリブロックコポリマーである場合、２つのＡセグメント及び１つのＢセグメント（合計３つ）において、少なくとも１つが高Ｔｇセグメントであり、少なくとも他の１つが低Ｔｇセグメントであれば良い。製造の容易性、光学用粘着剤組成物Ａの物性等の観点から、Ａセグメントが前記高Ｔｇセグメントであり、Ｂセグメントが前記低ＴｇセグメントであるＡＢＡ型トリブロックコポリマーが好ましい。その場合において、２つのＡセグメントのうち少なくとも１つが高Ｔｇセグメントであり、Ｂセグメントが低ＴｇセグメントであるＡＢＡ型トリブロックコポリマーが好ましく、２つのＡセグメントの両方が高Ｔｇセグメントであり、Ｂセグメントが低ＴｇセグメントであるＡＢＡ型トリブロックコポリマーがより好ましい。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡを構成する高Ｔｇセグメントのガラス転移温度（Ｔｇ）は、上記の通り、０℃以上１００℃以下である。高ＴｇセグメントのＴｇがこの範囲にあることにより、光学用粘着剤組成物Ａの室温（２５℃）における貯蔵弾性率を高く制御しやすくなり、堅く加工性に優れるとともに、５０℃を超える領域において貯蔵弾性率が顕著に低下して高流動性の粘着剤組成物となる傾向がある。光学用粘着剤組成物Ａの室温（２５℃）における加工性を向上できるという観点から、高ＴｇセグメントのＴｇは、４℃以上が好ましく、６℃以上がより好ましく、８℃以上がさらに好ましく、１０℃以上がさらにより好ましく、１２℃以上が特に好ましい。一方、５０℃を超える領域において光学用粘着剤組成物Ａの貯蔵弾性率（Ｇ’）が顕著に低下して高流動性になりやすいという観点から、高ＴｇセグメントのＴｇは、９０℃以下が好ましく、８５℃以下がより好ましく、６０℃以下がさらに好ましく、５０℃以下がさらにより好ましく、３５℃以下が特に好ましい。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡを構成する低ＴｇセグメントのＴｇは、上記の通り、−１００℃以上０℃未満である。低ＴｇセグメントのガラスＴｇがこの範囲にあることにより、室温（２５℃）において当該低Ｔｇセグメントのみが流動化して、加工性を担保しつつ、適度な粘着力を光学用粘着剤組成物Ａに付与できる傾向がある。室温（２５℃）において光学用粘着剤組成物Ａの貯蔵弾性率が低下しにくく、加工性が向上できるという観点から低ＴｇセグメントのＴｇは、−９５℃以上が好ましく、−９０℃以上がより好ましく、−８０℃以上がさらに好ましい。一方、室温（２５℃）において光学用粘着剤組成物Ａの適度な粘着力と加工性を向上できるという観点から、低ＴｇセグメントのＴｇは、−５℃以下が好ましく、−１０℃以下がより好ましく、−２０℃以下がさらに好ましく、−３０℃以下がさらにより好ましく、−４０℃以下が特に好ましい。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡを構成する高Ｔｇセグメントと低ＴｇセグメントのＴｇの差（高ＴｇセグメントのＴｇ−低ＴｇセグメントのＴｇ）は、特に限定されないが、光学用粘着剤組成物Ａの室温（２５℃）における貯蔵弾性率を高く制御しやすくなり、堅く加工性に優れるとともに、５０℃を超える領域において貯蔵弾性率が顕著に低下して高流動性の粘着剤組成物となるという観点から、好ましくは３０℃以上、より好ましくは３５℃以上、より好ましくは４０℃以上、より好ましくは４５℃以上、さらに好ましくは５０℃以上、特に好ましくは５５℃以上であり、好ましくは１２０℃以下、より好ましくは１１５℃以下、より好ましくは１１０℃以下、より好ましくは１０５℃以下、さらに好ましくは１００℃以下、特に好ましくは９５℃以下である。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡを構成する高Ｔｇセグメント及び低Ｔｇセグメントのガラス転移温度（Ｔｇ）は、以下のＦｏｘの式から算出される計算ガラス転移温度である。この計算ガラス転移温度は、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの高Ｔｇセグメント又は低Ｔｇセグメントを構成する各モノマー成分の種類及び量に基づいて算出されるものであり、したがって、各セグメントのモノマー成分の種類及び量等を選択することにより調整することができる。

計算ガラス転移温度（計算Ｔｇ）は、以下のＦｏｘの式〔１〕から算出することができる。
１／計算Ｔｇ＝Ｗ１／Ｔｇ(１)＋Ｗ２／Ｔｇ(２)＋・・・＋Ｗｎ／Ｔｎ 〔１〕
ここで、Ｗ１、Ｗ２、・・・Ｗｎは共重合体を構成するモノマー成分（１）、モノマー成分（２）、・・・モノマー成分（ｎ）の全モノマー成分に対する各重量分率（重量％）を意味し、Ｔｇ（１）、Ｔｇ（２）、・・・Ｔｇ（ｎ）は、モノマー成分（１）、モノマー成分（２）、・・・モノマー成分（ｎ）のホモポリマーのガラス転移温度（単位は絶対温度：Ｋ）を表す。
なお、ホモポリマーのガラス転移温度は、各種文献、カタログなどから公知であり、例えば、J. Brandup, E. H. Immergut，E. A. Grulke: Polymer Handbook：JOHNWILEY & SONS, INCに記載されている。各種文献に数値が無いモノマーについては、一般的な熱分析、例えば示差熱分析や動的粘弾性測定法等により測定した値を採用することができる。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡが有する高温領域ｔａｎδピークが現れる温度領域は、前述の通り０℃以上（例えば、０℃以上１００℃以下）である。高温領域ｔａｎδピークがこの温度範囲にあることにより、光学用粘着剤組成物Ａの室温（２５℃）における貯蔵弾性率を高く制御しやすくなり、堅く加工性に優れるとともに、５０℃を超える領域において貯蔵弾性率が顕著に低下して高流動性の粘着剤組成物となる傾向がある。光学用粘着剤組成物Ａの室温（２５℃）における加工性を向上できるという観点から、高温領域ｔａｎδピークが現れる温度は、３℃以上が好ましく、６℃以上がより好ましく、９℃以上がさらに好ましく、１２℃以上がさらにより好ましく、１５℃以上が特に好ましい。一方、５０℃を超える領域において光学用粘着剤組成物Ａの貯蔵弾性率（Ｇ’）が顕著に低下して高流動性になりやすいという観点から、高温領域ｔａｎδピークが現れる温度は、９０℃以下が好ましく、８０℃以下がより好ましく、７０℃以下がさらに好ましく、６５℃以下がさらに好ましく、６０℃以下が特に好ましい。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡが有する低温領域ｔａｎδピークが現れる温度領域は、前述の通り０℃未満（例えば、−１００℃以上０℃未満）である。低温領域ｔａｎδピークがこの温度範囲にあることにより、室温（２５℃）において当該低Ｔｇセグメントのみが流動化して、加工性を担保しつつ、適度な粘着力を光学用粘着剤組成物Ａに付与できる傾向がある。室温（２５℃）において光学用粘着剤組成物Ａの貯蔵弾性率が低下しにくく、加工性が向上できるという観点から、低温領域ｔａｎδピークが現れる温度は、−９５℃以上が好ましく、−９０℃以上がより好ましく、−８０℃以上がさらに好ましく、−７０℃以上がさらに好ましい。一方、室温（２５℃）において光学用粘着剤組成物Ａの適度な粘着力と加工性を向上できるという観点から、低温領域ｔａｎδピークが現れる温度は、−５℃以下が好ましく、−１０℃以下がより好ましく、−２０℃以下がさらに好ましく、−３０℃以下がさらにより好ましく、−４０℃以下が特に好ましい。

前記高温領域ｔａｎδピークの極大値は、特に限定されないが、０．５〜３．０であることが好ましい。高温領域ｔａｎδピークの極大値がこの範囲にあることにより、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーの優れる加工性と形状安定制を実現できる点で好ましい。前記高温領域ｔａｎδピークの極大値は、優れる加工性を実現できる点で、０．６以上が好ましく、より好ましくは０．７以上である。また、前記高温領域ｔａｎδピークの極大値は、打痕が生じにくい点から、２．５以下が好ましく、より好ましくは２．２以下である。

前記低温領域ｔａｎδピークの極大値は、特に限定されないが、０．１〜２．０であることが好ましい。低温領域ｔａｎδピークの極大値がこの範囲にあることにより、前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーの優れる加工性と形状安定制を実現できる点で好ましい。前記高温領域ｔａｎδピークの極大値は、優れる加工性を実現できる点で、０．２以上が好ましく、より好ましくは０．３以上である。また、前記低温領域ｔａｎδピークの極大値は、打痕が生じにくい点から、１．５以下が好ましく、より好ましくは１以下である。

なお、前記の高温領域ｔａｎδピークと低温領域ｔａｎδピーク、並びにそれらが現れる温度及び極大値は、後述の実施例に記載された動的粘弾性測定により測定されるものである。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡは、モノマー成分を重合して得られる複数のセグメント（高Ｔｇセグメント及び低Ｔｇセグメントを含む）により構成され、当該モノマー成分が、分子中に（メタ）アクリロイル基を有するモノマー（アクリル系モノマー）を含むものである。
（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ又はその各セグメントは、アクリル系モノマーをモノマー成分全量（１００重量％）に対して７０重量％以上含むことが好ましく、８０重量％以上含むことがより好ましく、９０重量％以上含むことが特に好ましい。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ又はその各セグメント（高Ｔｇセグメント及び低Ｔｇセグメントを含む）を構成するアクリル系モノマーとしては、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を有するアクリル酸アルキルエステル、および／または、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を有するメタクリル酸アルキルエステルに由来するモノマー成分を重量割合で最も多い主たるモノマーユニットとして含む。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡのセグメントをなすための、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル、即ち、前記セグメントを形成するためのモノマー成分に含まれる直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸イソペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸テトラデシル、（メタ）アクリル酸ペンタデシル、（メタ）アクリル酸ヘキサデシル、（メタ）アクリル酸ヘプタデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸イソステアリル、（メタ）アクリル酸ノナデシル、および（メタ）アクリル酸エイコシルなど、炭素数が１〜２０の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。前記セグメントのための当該（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、一種類の（メタ）アクリル酸アルキルエステルを用いてもよいし、二種類以上の（メタ）アクリル酸アルキルエステルを用いてもよい。本実施形態では、前記セグメントのための当該（メタ）アクリル酸アルキルエステルとして、好ましくは、アクリル酸メチル、アクリル酸ｎ−ブチル、およびアクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸イソノニルからなる群より選択される少なくとも一種が用いられる。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡのセグメントは、脂環式モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。前記セグメントのモノマーユニットをなすための脂環式モノマー、即ち、当該セグメントを形成するためのモノマー成分に含まれる脂環式モノマーとしては、例えば、炭素数が４〜１０であるシクロアルキル基を有する（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル、二環式炭化水素環を有する（メタ）アクリル酸エステル、および、三環以上の炭化水素環を有する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。前記シクロアルキル基、二環式炭化水素環、三環以上の炭化水素環は、置換基を有していてもよい。当該置換基としては、ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基（例、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基等）等が挙げられる。前記置換基の数は、特に限定されず、１〜６個から適宜選択できる。当該置換基が２個以上ある場合は、２個以上の置換基は同一であってもよく、異なっていてもよい。

（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸３，３，５−トリメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘプチル、および（メタ）アクリル酸シクロオクチルが挙げられる。二環式炭化水素環を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸ボルニルおよび（メタ）アクリル酸イソボルニルが挙げられる。三環以上の炭化水素環を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸トリシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸２−メチル−２−アダマンチル、および（メタ）アクリル酸２−エチル−２−アダマンチルが挙げられる。前記セグメントのための脂環式モノマーとしては、一種類の脂環式モノマーを用いてもよいし、二種類以上の脂環式モノマーを用いてもよい。本実施形態では、前記セグメントのための脂環式モノマーとして、好ましくは、置換基（例、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基）を有していてもよい炭素数が４〜１０であるシクロアルキル基を有する（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステルであり、より好ましくは、アクリル酸シクロヘキシル、及び（メタ）アクリル酸３，３，５−トリメチルシクロヘキシルからなる群より選択される少なくとも一種が用いられる。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡのセグメントは、水酸基含有モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。水酸基含有モノマーは、モノマーユニット内に少なくとも一つの水酸基を有することとなるモノマーである。（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ内のセグメントが水酸基含有モノマーユニットを含む場合、光学用粘着剤組成物Ａにおいて接着性や適度な凝集力を得られやすい。

前記セグメントのモノマーユニットをなすための水酸基含有モノマー、即ち、当該セグメントを形成するためのモノマー成分に含まれる水酸基含有モノマーとしては、例えば、水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル、ビニルアルコール、およびアリルアルコールが挙げられる。水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシラウリル、および（メタ）アクリル酸（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）メチルが挙げられる。前記セグメントのための水酸基含有モノマーとしては、一種類の水酸基含有モノマーを用いてもよいし、二種類以上の水酸基含有モノマーを用いてもよい。本実施形態では、前記セグメントのための水酸基含有モノマーとして、好ましくは、水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルであり、より好ましくはアクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、およびメタクリル酸４−ヒドロキシブチルからなる群より選択される少なくとも一種が用いられる。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡのセグメントは、窒素原子含有モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。窒素原子含有モノマーは、モノマーユニット内に少なくとも一つの窒素原子を有することとなるモノマーである。（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡのセグメントが窒素原子含有モノマーユニットを含む場合、光学用粘着剤組成物Ａにおいて硬さや良好な接着信頼性を得られやすい。

前記セグメントをなすための窒素原子含有モノマー、即ち、当該セグメントを形成するためのモノマー成分に含まれる窒素原子含有モノマーとしては、例えば、Ｎ−ビニル環状アミドおよび（メタ）アクリルアミド類が挙げられる。窒素原子含有モノマーたるＮ−ビニル環状アミドとしては、例えば、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピペリドン、Ｎ−ビニル−３−モルホリノン、Ｎ−ビニル−２−カプロラクタム、Ｎ−ビニル−１，３−オキサジン−２−オン、およびＮ−ビニル−３，５−モルホリンジオンが挙げられる。窒素原子含有モノマーたる（メタ）アクリルアミド類としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−オクチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル（メタ）アクリルアミド、およびＮ，Ｎ−ジイソプロピル（メタ）アクリルアミドが挙げられる。アクリル系ポリマーのための窒素原子含有モノマーとしては、一種類の窒素原子含有モノマーを用いてもよいし、二種類以上の窒素原子含有モノマーを用いてもよい。本実施形態では、前記セグメントのための窒素原子含有モノマーとして、好ましくはＮ−ビニル−２−ピロリドンが用いられる。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡのセグメントは、カルボキシ基含有モノマーに由来するモノマーユニットを含んでもよい。カルボキシ基含有モノマーは、モノマーユニット内に少なくとも一つのカルボキシ基を有することとなるモノマーである。（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡのセグメントがカルボキシ基含有モノマーユニットを含む場合、光学用粘着剤組成物Ａにおいて良好な接着信頼性が得られることがある。

前記セグメントのモノマーユニットをなすためのカルボキシ基含有モノマー、即ち、当該セグメントを形成するためのモノマー成分に含まれるカルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、およびイソクロトン酸が挙げられる。前記セグメントのためのカルボキシ基含有モノマーとしては、一種類のカルボキシ基含有モノマーを用いてもよいし、二種類以上のカルボキシ基含有モノマーを用いてもよい。本実施形態では、前記セグメントのためのカルボキシ基含有モノマーとして、好ましくはアクリル酸が用いられる。

さらに、前記セグメントをなすためのモノマーユニットとしては、上記の（メタ）アクリル酸アルキルエステル、脂環式モノマー、水酸基含有モノマー、窒素原子含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー以外のモノマー（「その他のモノマー」と称する場合がある）が挙げられる。その他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステル［例えば、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸３−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−エトキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸４−エトキシブチルなど］；エポキシ基含有モノマー［例えば、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸メチルグリシジルなど］；スルホン酸基含有モノマー［例えば、ビニルスルホン酸ナトリウムなど］；リン酸基含有モノマー；芳香族炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステル［例えば、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸ベンジルなど］；ビニルエステル類［例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなど］；芳香族ビニル化合物［例えば、スチレン、ビニルトルエンなど］；オレフィン類又はジエン類［例えば、エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、イソブチレンなど］；ビニルエーテル類［例えば、ビニルアルキルエーテルなど］；塩化ビニル等が挙げられる。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡのセグメントを構成するモノマーユニットにおけるその他のモノマーの含有量は、モノマー成分全量（１００重量％）に対して３０重量％以下である限り、特に限定されず、本発明の効果を損なわない範囲で適宜選択される。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの高Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分としては、高ＴｇセグメントのＴｇを所定の範囲に制御しやすく、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡに所望の物性を付与できるという観点から、炭素数が１〜３である直鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル（以下、「（メタ）アクリル酸Ｃ_1-3直鎖状アルキルエステル」と称する場合がある）、炭素数が３又は４である分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル（以下、「（メタ）アクリル酸Ｃ_3-4分岐鎖状アルキルエステル」と称する場合がある）及び脂環式モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。これらモノマーのホモポリマーは比較的高いＴｇを有するため、これらから選ばれるモノマーを高Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分として含有することにより、高ＴｇセグメントのＴｇを本発明所定の範囲に制御しやすい。

前記脂環式モノマーとしては、置換基（例、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基）を有していてもよい炭素数が４〜１０であるシクロアルキル基を有する（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステルが好ましく、置換基（例、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基）を有していてもよい炭素数が４〜１０であるシクロアルキル基を有するアクリル酸シクロアルキルエステルがより好ましく、アクリル酸シクロヘキシル（ホモポリマーのＴｇ：１５℃）、（メタ）アクリル酸３，３，５−トリメチルシクロヘキシル（ホモポリマーのＴｇ：５２℃）が特に好ましい。

高Ｔｇセグメントが構成するモノマー成分として脂環式モノマーを含有する場合、脂環式モノマーのモノマー成分全量（１００重量％）に対する含有量は、高ＴｇセグメントのＴｇを所定の範囲に制御しやすく、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは１０重量％以上（例えば、１０〜１００重量％）、より好ましくは２０重量％以上、より好ましくは３０重量％以上、より好ましくは３０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上、より好ましくは５０重量％以上、より好ましくは６０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上、さらに好ましくは９０重量％以上、特に好ましくは９５重量％以上である。

前記（メタ）アクリル酸Ｃ_1-3直鎖状アルキルエステルとしては、アクリル酸Ｃ_1-3直鎖状アルキルエステルが好ましく、アクリル酸メチル（ホモポリマーのＴｇ：８℃）が特に好ましい。
前記（メタ）アクリル酸Ｃ_3-4分岐鎖状アルキルエステルとしては、アクリル酸Ｃ_3-4分岐鎖状アルキルエステルが好ましく、アクリル酸ｔ−ブチル（ホモポリマーのＴｇ：３５℃）が特に好ましい。

高Ｔｇセグメントが構成するモノマー成分として（メタ）アクリル酸Ｃ_1-3直鎖状アルキルエステル及び／又は（メタ）アクリル酸Ｃ_3-4分岐鎖状アルキルエステルを含有する場合、（メタ）アクリル酸Ｃ_1-3直鎖状アルキルエステル及び／又は（メタ）アクリル酸Ｃ_3-4分岐鎖状アルキルエステルのモノマー成分全量（１００重量％）に対する含有量は、高ＴｇセグメントのＴｇを所定の範囲に制御しやすく、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは１０重量％以上（例えば、１０〜１００重量％）、より好ましくは２０重量％以上、より好ましくは３０重量％以上、より好ましくは３０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上、より好ましくは５０重量％以上、より好ましくは６０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上、さらに好ましくは９０重量％以上、特に好ましくは９５重量％以上である。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの低Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分としては、低ＴｇセグメントのＴｇを所定の範囲に制御しやすく、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡに所望の物性を付与できるという観点から、炭素数が４〜１８である直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル（以下、「（メタ）アクリル酸Ｃ_4-18アルキルエステル」と称する場合がある）及び水酸基含有モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。すなわち、（メタ）アクリル酸Ｃ_4-18アルキルエステルのホモポリマーは比較的低いＴｇを有するため、これを低Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分として含有することにより、低ＴｇセグメントのＴｇを本発明所定の範囲に制御しやすい。一方、水酸基含有モノマーも比較的低いＴｇを有し、さらに（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡにおいて接着性や適度な凝集力を得られやすくなる。従って、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの低Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分として、（メタ）アクリル酸Ｃ_4-18アルキルエステルと水酸基含有モノマーの両方を含有することがさらに好ましい。

前記（メタ）アクリル酸Ｃ_4-18アルキルエステルとしては、アクリル酸Ｃ_4-18アルキルエステルが好ましく、アクリル酸ブチル（ホモポリマーのＴｇ：−５５℃）、アクリル酸２−エチルヘキシル（ホモポリマーのＴｇ：−７０℃）、アクリル酸ｎ−ヘキシル（ホモポリマーのＴｇ：−５７℃）、アクリル酸ｎ−オクチル（ホモポリマーのＴｇ：−６５℃）、アクリル酸イソノニル（ホモポリマーのＴｇ：−５８℃）が特に好ましい。

低Ｔｇセグメントが構成するモノマー成分として（メタ）アクリル酸Ｃ_4-18アルキルエステルを含有する場合、（メタ）アクリル酸Ｃ_4-18アルキルエステルのモノマー成分全量（１００重量％）に対する含有量は、低ＴｇセグメントのＴｇを所定の範囲に制御しやすく、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは１０重量％以上（例えば、１０〜１００重量％）、より好ましくは２０重量％以上、より好ましくは３０重量％以上、より好ましくは３０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上、より好ましくは５０重量％以上、より好ましくは６０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上、さらに好ましくは９０重量％以上、特に好ましくは９５重量％以上である。

前記水酸基含有モノマーとしては、水酸基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、アクリル酸４−ヒドロキシブチル（ホモポリマーのＴｇ：−６５℃）、アクリル酸２−ヒドロキシエチル（ホモポリマーのＴｇ：−１５℃）が特に好ましい。

低Ｔｇセグメントが構成するモノマー成分として水酸基含有モノマーを含有する場合、水酸基含有モノマーのモノマー成分全量（１００重量％）に対する含有量は、低ＴｇセグメントのＴｇを所定の範囲に制御しやすく、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡに所望の物性を付与できるという観点から、好ましくは１重量％以上、より好ましくは１．５重量％以上、より好ましくは２重量％以上、さらに好ましくは２．５重量％以上、特に好ましくは３重量％以上である。一方、水酸基含有モノマーのモノマー成分全量（１００重量％）に対する含有量は、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは４０重量％以下、より好ましくは３０重量％以下、より好ましくは２０重量％以下、さらに好ましくは１０重量％以下、特に好ましくは５重量％以下である。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの低Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分として、（メタ）アクリル酸Ｃ_4-18アルキルエステルと水酸基含有モノマーの両方を含有する場合、水酸基含有モノマーと（メタ）アクリル酸Ｃ_4-18アルキルエステルの比率（水酸基含有モノマー／（メタ）アクリル酸Ｃ_4-18アルキルエステル）は特に限定されないが、下限値は、好ましくは１／９９、より好ましくは１．５／９８．５、より好ましくは２／９８、さらに好ましくは２．５／９７．５、特に好ましくは３／９７であり、一方、上限値は５０／５０下、より好ましくは４０／６０、より好ましくは３０／７０、さらに好ましくは２０／８０である。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡは、上述のモノマー成分のリビングラジカル重合法によって製造することができる。リビングラジカル重合法は、従来のラジカル重合法の簡便性と汎用性を保ちながら、停止反応や、連鎖移動が起こりにくく、成長末端が失活することなく成長するため、分子量分布の精密制御、均一な組成のポリマーの製造が容易である点で好ましい。

リビングラジカル重合法においては、高Ｔｇセグメントを先に製造し、高Ｔｇセグメントに低Ｔｇセグメントのモノマーを重合してもよく；低Ｔｇセグメントを先に製造し、低Ｔｇセグメントに高Ｔｇセグメントのモノマーを重合してもよい。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡがＡＢＡ型トリブロックコポリマーである場合は、製造容易性に観点から、Ａセグメントを先に製造し、ＡセグメントにＢセグメントのモノマーを重合することが好ましい。

前記リビングラジカル重合法は、公知の方法を特に限定されなく使用することができ、重合成長末端を安定化させる手法の違いにより、遷移金属触媒を用いる方法（ＡＴＲＰ法）；硫黄系の可逆的付加開裂連鎖移動剤（ＲＡＦＴ剤）を用いる方法（ＲＡＦＴ法）；有機テルル化合物を用いる方法（ＴＥＲＰ法）等の方法がある。これらの方法のなかでも、使用できるモノマーの多様性、分子量制御のしやすさ、金属が光学用粘着剤組成物に残留しないなどの観点から、ＲＡＦＴ法を用いることが好ましい。

前記ＲＡＦＴ法は、公知の方法を特に限定されなく使用することができ、例えば、例えば、ＲＡＦＴ剤を用いて、モノマー成分を重合して第１のセグメントを調製する工程１（第１のＲＡＦＴ重合）と、工程１で得られた第１のセグメントに、工程１でのモノマー組成とは異なるモノマー成分をさらに添加・重合して、第２のセグメントを第１のセグメントに付加する工程２（第２のＲＡＦＴ重合）とを有する。第２のＲＡＦＴ重合の後に、さらに第３、４・・・のＲＡＦＴ重合を第２のＲＡＦＴ重合と同様に行い、第３、４・・・のセグメントをさらに付加してもよい。

前記工程１、工程２は、公知慣用の方法により行うことができ、例えば、溶液重合方法、乳化重合方法、塊状重合方法、熱や活性エネルギー線照射による重合方法（熱重合方法、活性エネルギー線重合方法）などが挙げられる。中でも、透明性、耐水性、コストなどの点で、溶液重合方法が好ましい。なお、重合は、酸素による重合阻害を抑制する点より、酸素との接触を避けて行われることが好ましい。例えば窒素雰囲気下で重合を行うことが好ましい。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡがＡＢＡ型トリブロックコポリマーである場合は、前記工程１でＡセグメントを調製し、得られたＡセグメントに前記工程２でＢセグメントを付加して調製することが好ましい。この場合、Ａセグメントとしては高Ｔｇセグメント、Ｂセグメントとしては低Ｔｇセグメントであることが好ましい。

前記ＲＡＦＴ剤としては、公知のものを特に限定なく使用することができ、例えば、下記式（１）、式（２）、又は式（３）で表される化合物（トリチオカーボネート、ジチオエステル、ジチオカーボネート）が好ましい。

式（１）、式（２）、又は式（３）［式（１）〜（３）］中、Ｒ^1a及びＲ^1bは、同一又は異なって、水素原子、炭化水素基、又はシアノ基を示す。Ｒ^1cは、シアノ基を有していてもよい炭化水素基を示す。上記Ｒ^1a、Ｒ^1b、及びＲ^1cとしての炭化水素基としては、例えば、炭素数１〜２０の炭化水素基（直鎖、分岐鎖、若しくは環状の飽和又は不飽和の炭化水素基等）が挙げられ、中でも、炭素数１〜１２の炭化水素基が好ましい。上記炭化水素基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ドデシル基、オクタデシル基等の炭素数１〜１２の直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基；フェニル基等の炭素数６〜１２のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等の総炭素数７〜１０のアリールアルキル基等が挙げられる。上記Ｒ^1cとしてのシアノ基を有する炭化水素基としては、例えば、上述の炭化水素基が有する水素原子の１〜３個がシアノ基で置換された基等が挙げられる。

式（１）〜（３）中、Ｒ²は、炭化水素基、又は、その炭化水素基が有する水素原子の一部がカルボキシル基で置換された基（例えば、カルボキシアルキル基）を示す。上記炭化水素基としては、例えば、炭素数１〜２０の炭化水素基（直鎖、分岐鎖、若しくは環状の飽和又は不飽和の炭化水素基等）が挙げられ、中でも、炭素数１〜１２の炭化水素基が好ましい。炭化水素基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ドデシル基、オクタデシル基等の炭素数１〜１２の直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基；ベンジル基、フェネチル基等の総炭素数７〜１０のアリールアルキル基等が挙げられる。

ＲＡＦＴ法では、式（１）〜（３）に示すＲＡＦＴ剤中の硫黄原子と当該硫黄原子に隣接するメチレン基との間に、原料モノマーが挿入するように反応して、重合が進行する。

前記ＲＡＦＴ剤の多くは、商業的に入手可能である。商業的に入手できないものは、公知乃至慣用の方法により容易に合成することができる。なお、本発明においてＲＡＦＴ剤は、１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。

ＲＡＦＴ剤としては、ジベンジルトリチオカーボネート、Ｓ−シアノメチル−Ｓ−ドデシルトリチオカーボネート等のトリチオカーボネート類；ジチオプロピオン酸シアノエチル、ジチオプロピオン酸ベンジル、ジチオ安息香酸ベンジル、ジチオ安息香酸アセトキシエチル等のジチオエステル類；Ｏ−エチル−Ｓ−（１−フェニルエチル）ジチオカーボネート、Ｏ−エチル−Ｓ−（２−プロポキシエチル）ジチオカーボネート、Ｏ−エチル−Ｓ−（１−シアノ−１−メチルエチル）ジチオカーボネート等のジチオカーボネート類等が挙げられ、このうち、トリチオカーボネート類が好ましく、式（１）において左右対称構造を有するトリチオカーボネート類がより好ましく、特にジベンジルトリチオカーボネート、ビス｛４−［エチル−（２−アセチロキシエチル）カルバモイル］ベンジル｝トリチオカーボネートが好ましい。

前記工程１は、ＲＡＦＴ剤の存在下、モノマー成分を重合することにより行うことができる。工程１においてＲＡＦＴ剤の使用量は、モノマー成分の総量１００重量部に対して、通常は０．０５〜２０重量部、好ましくは０．０５〜１０重量部である。このような使用量であれば、反応制御が容易であり、また得られるセグメントの重量平均分子量を制御することが容易である。
前記工程２は、前記工程１で得られた重合反応混合物に、モノマー成分を添加してさらに重合することにより行うことができる。

ＲＡＦＴ法は、重合開始剤の存在下に行うことが好ましい。重合開始剤としては、例えば、通常の有機系重合開始剤が挙げられ、具体的には、過酸化物、アゾ化合物が挙げられ、これらの中でも、アゾ化合物が好ましい。重合開始剤は１種単独で又は２種以上を用いることができる。

過酸化物系重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイルおよびｔｅｒｔ−ブチルペルマレエートが挙げられる。
アゾ化合物としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−シクロプロピルプロピオニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル、２−フェニルアゾ−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）ジヒドロクロリド、２，２’−アゾビス（Ｎ，Ｎ’−ジメチレンイソブチルアミジン）、２，２’−アゾビス（イソブチルアミド）ジヒドレート、４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）、２，２’−アゾビス（２−シアノプロパノール）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］が挙げられる。

重合開始剤の使用量は、モノマー成分の総量１００重量部に対して、通常は０．００１〜２重量部、好ましくは０．００２〜１重量部である。このような使用量であれば、得られるセグメントの重量平均分子量を制御することが容易である。

ＲＡＦＴ法は、重合溶媒を使用しない塊状重合であってもよいが、重合溶媒を使用することが好ましい。重合溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン等の脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素；クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、フェニルエチルエーテル、ジフェニルエーテル等のエーテル；酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル；アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシドが挙げられる。重合溶媒は１種単独で又は２種以上を用いることができる。

重合溶媒の使用量としては、特に限定されず、例えば、モノマー成分１ｇに対して、０．０１ｍＬ以上が好ましく、より好ましくは０．０５ｍＬ以上、さらに好ましくは０．１ｍＬ以上であり、５０ｍＬ以下が好ましく、より好ましくは１０ｍＬ以下、さらに好ましくは１ｍＬ以下である。

ＲＡＦＴ法での反応温度は、通常は６０〜１２０℃、好ましくは７０〜１１０℃であり、通常は窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行われる。この反応は常圧、加圧および減圧のいずれの条件でも行うことができ、通常は常圧で行われる。また、反応時間は通常は１〜２０時間、好ましくは２〜１４時間である。

上述のＲＡＦＴ法の重合反応条件は、それぞれ工程１および工程２に適用されうる。

重合反応の終了後、得られた反応混合物から、通常の分離精製手段により使用溶媒、残存モノマーの除去等を行い、目的とする（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡを分離することができる。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの高Ｔｇセグメント又は低Ｔｇセグメントを前記工程１で調製する場合、当該高Ｔｇセグメント又は低Ｔｇセグメントの重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されないが、好ましくは１０，０００〜１，０００，０００であり、より好ましくは５０，０００〜５００，０００、さらに好ましくは１００，０００〜３００，０００である。高Ｔｇセグメント又は低ＴｇセグメントのＭｗがこの範囲内にあることは、上述の本発明の効果に好適である。
前記のＭｗは、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡに高Ｔｇセグメント又は低Ｔｇセグメントが二つ以上存在する場合、その和のＭｗである。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されないが、好ましくは２０万（２００，０００）以上であり、より好ましくは３００，０００〜５，０００，０００、さらに好ましくは４００，０００〜２５００，０００である。（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡのＭｗがこの範囲内にあることは、上述の本発明の効果に好適である。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、特に限定されないが、好ましくは１より大きく、より好ましくは１．５以上、さらに好ましくは２以上であり、特に好ましくは２．５以上であり、好ましくは５以下、より好ましくは４．５以下、さらに好ましくは４以下、特に好ましくは３．５以下である。

なお、上記重量平均分子量（Ｍｗ）、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、後述の実施例に記載されたＧＰＣ法により測定されるものである。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ中の高Ｔｇセグメントの含有率は、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ全体１００重量％中において１０重量％以上が好ましく、より好ましくは２０重量％以上、さらに好ましくは２５重量％以上であり、特に好ましくは３０重量％以上であり、９５重量％以下が好ましく、より好ましくは９０重量％以下、さらに好ましくは８５重量％以下である。

（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ中の低Ｔｇセグメントの含有率は、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ全体１００重量％中において５重量％以上が好ましく、より好ましくは１０重量％以上、さらに好ましくは１５重量％以上であり、６０重量％以下が好ましく、より好ましくは５０重量％以下、さらに好ましくは４０重量％以下、特に好ましくは３０重量％以下である。

前記低Ｔｇセグメント及び低Ｔｇセグメントの含有率又はそれらの比率が上記の範囲内にあることは、上述の本発明の効果に好適である。
前記各セグメントの含有率及びそれらの比率は、前記ＲＡＦＴ法の各工程で得られる各セグメント又は（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの重量平均分子量（Ｍｗ）から算出でき、各セグメントを形成する際のモノマーの仕込み比および各モノマーの重合率等で制御することができる。

光学用粘着剤組成物Ａにおける（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡの含有量は、特に限定されないが、室温（２５℃）での優れた加工性と５０℃を超える領域での優れた段差吸収性を得る観点から、光学用粘着剤組成物Ａ全量（全重量、１００重量％）に対して、５０重量％以上（例えば、５０〜１００重量％）であることが好ましく、より好ましくは６０重量％以上、さらに好ましくは８０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。

光学用粘着剤組成物Ａには、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、添加剤が含まれていてもよい。このような添加剤としては、例えば、重合開始剤、シランカップリング剤、溶剤、架橋促進剤、粘着付与樹脂（ロジン誘導体、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノールなど）、老化防止剤、充填剤、着色剤（顔料や染料など）、紫外線吸収剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、可塑剤、軟化剤、界面活性剤、帯電防止剤、防錆剤などが挙げられる。なお、添加剤は、単独で又は２種以上組み合わせて用いられてもよい。

前記重合開始剤としては光重合開始剤（光開始剤）や熱重合開始剤などが挙げられる。なお、重合開始剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いられてもよい。

前記光重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α−ケトール系光重合開始剤、芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤が挙げられる。

前記ベンゾインエーテル系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、アニソールメチルエーテルなどが挙げられる。前記アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−（ｔ−ブチル）ジクロロアセトフェノンなどが挙げられる。前記α−ケトール系光重合開始剤としては、例えば、２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノン、１−［４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル］−２−メチルプロパン−１−オンなどが挙げられる。前記芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤としては、例えば、２−ナフタレンスルホニルクロライドなどが挙げられる。前記光活性オキシム系光重合開始剤としては、例えば、１−フェニル−１，１−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）−オキシムなどが挙げられる。前記ベンゾイン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインなどが挙げられる。前記ベンジル系光重合開始剤としては、例えば、ベンジルなどが挙げられる。前記ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ポリビニルベンゾフェノン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどが挙げられる。前記ケタール系光重合開始剤としては、例えば、ベンジルジメチルケタールなどが挙げられる。前記チオキサントン系光重合開始剤としては、例えば、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、ドデシルチオキサントンなどが挙げられる。

前記光重合開始剤の使用量は、特に限定されないが、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡを構成するモノマー成分１００重量部に対して、０．０１〜１重量部が好ましく、より好ましくは０．０５〜０．５重量部である。

前記熱重合開始剤としては、例えばアゾ系重合開始剤、過酸化物系重合開始剤（例えば、ジベンゾイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルマレエートなど）、レドックス系重合開始剤などが挙げられる。中でも、アゾ系重合開始剤が好ましい。前記アゾ系重合開始剤としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−２−メチルブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル、４，４’−アゾビス−４−シアノバレリアン酸などが挙げられる。

前記アゾ系重合開始剤の使用量は、特に限定されないが、アクリル系ポリマーＡを構成するモノマー成分１００重量部に対して、０．０５〜０．５重量部が好ましく、より好ましくは０．１〜０．３重量部である。

光学用粘着剤組成物Ａには、本発明の効果を損なわない範囲で、シランカップリング剤が含まれていてもよい。光学用粘着剤組成物Ａにシランカップリング剤が含まれていると、ガラスに対する接着信頼性（特に、高温高湿環境下でのガラスに対する接着信頼性）が向上し、好ましい。

前記シランカップリング剤としては、特に限定されないが、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−アミノプロピルトリメトキシシランなどが好ましく挙げられる。中でも、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。また、市販品として、例えば、商品名「ＫＢＭ−４０３」（信越化学工業株式会社製）が挙げられる。なお、シランカップリング剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いられてもよい。

光学用粘着剤組成物Ａにおけるシランカップリング剤の含有量は、特に限定されないが、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ１００重量部に対して、０．０１〜１重量部が好ましく、より好ましくは０．０３〜０．５重量部である。

また、光学用粘着剤組成物Ａには、溶剤が含まれていてもよい。該溶剤としては、特に限定されないが、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類；トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類などの有機溶剤が挙げられる。なお、溶剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いられてもよい。

光学用粘着剤組成物Ａは、いずれの形態を有している粘着剤組成物であってもよく、例えば、エマルション型、溶剤型（溶液型）、活性エネルギー線硬化型、熱溶融型（ホットメルト型）などが挙げられる。中でも、光学用粘着剤組成物Ａとしては、溶剤型の粘着剤組成物や活性エネルギー線硬化型の粘着剤組成物が好ましく挙げられる。

光学用粘着剤組成物Ａの調製方法としては、特に限定されないが、例えば公知の方法が挙げられる。例えば、溶剤型の光学用粘着剤組成物Ａは、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ、溶剤、必要に応じて加えられる成分（例えば、前記のシランカップリング剤、架橋剤、溶剤、添加剤など）を混合することにより作製される。また、活性エネルギー線硬化型の光学用粘着剤組成物Ａは、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ、必要に応じて加えられる成分（例えば、前記の光重合開始剤、シランカップリング剤、架橋剤、溶剤、添加剤など）を混合することにより作製される。

光学用粘着剤組成物Ａの２５℃における貯蔵弾性率（Ｇ’２５）は、特に限定されないが、室温における加工性を向上させる観点から、１ＭＰａ以上が好ましく、より好ましくは１．５ＭＰａ以上、より好ましくは２ＭＰａ以上、より好ましくは２．５ＭＰａ以上、より好ましくは３ＭＰａ以上であり、室温における粘着信頼性を向上させる観点から、５０ＭＰａ以下が好ましく、より好ましくは４５ＭＰａ以下、より好ましくは４０ＭＰａ以下、より好ましくは３５ＭＰａ以下、より好ましくは３０ＭＰａ以下である。

光学用粘着剤組成物Ａの５０℃における貯蔵弾性率（Ｇ’５０）は、特に限定されないが、５０℃を超える領域の段差吸収性を向上させる観点から、０．５ＭＰａ以下が好ましく、より好ましくは０．４５ＭＰａ以下、より好ましくは０．４ＭＰａ以下、より好ましくは０．３５ＭＰａ以上、より好ましくは０．３ＭＰａ以下であり、５０℃を超える領域の取り扱い性を向上させる観点から、０．０００１ＭＰａ以上が好ましく、より好ましくは０．０００５ＭＰａ以上、より好ましくは０．００１ＭＰａ以上、より好ましくは０．００５ＭＰａ以上、より好ましくは０．０１ＭＰａ以上である。

光学用粘着剤組成物Ａの２５℃における貯蔵弾性率と５０℃における貯蔵弾性率の比（Ｇ’２５／Ｇ’５０）は、特に限定されないが、室温における加工性を向上させ、且つ５０℃を超える領域の段差吸収性を向上させる観点から、３以上が好ましく、より好ましくは５以上、より好ましくは１０以上、さらに好ましくは１５以上、特に好ましくは２０以上であり、接着信頼性、取り扱い性等の観点から、１００以下が好ましく、より好ましくは９５以下、より好ましくは９０以下、さらに好ましくは８５以下、特に好ましくは８０以下である。

なお、前記の２５℃における貯蔵弾性率（Ｇ’２５）と５０℃における貯蔵弾性率（Ｇ’２５）、及びそれらの比（Ｇ’２５／Ｇ’５０）は、後述の実施例に記載された動的粘弾性測定により測定されるものである。

本発明の光学用粘着剤層は、光学用粘着剤組成物Ａにより形成されるものである。本明細書において、光学用粘着剤組成物Ａにより形成される光学用粘着剤層を「光学用粘着剤層Ａ」と称する場合がある。

光学用粘着剤層Ａは、特に限定されないが、光学用粘着剤組成物Ａを、基材や剥離フィルム等の適当な支持体上に塗布（塗工）し、必要に応じて、加熱乾燥及び／又は硬化することにより形成される。例えば、溶剤型の光学用粘着剤組成物Ａにより光学用粘着剤層Ａを形成する場合、光学用粘着剤組成物Ａを支持体上に塗布（塗工）し、加熱乾燥することにより形成される。また、活性エネルギー線硬化型の粘着剤組成物Ａにより粘着剤層Ａを形成する場合、粘着剤組成物Ａを支持体上に塗布（塗工）し、活性エネルギー線を照射することにより形成される。なお、必要に応じて、活性エネルギー線照射に加えて、加熱乾燥が行われてもよい。

なお、上記の塗布（塗工）に際には、公知のコーティング法が用いられてもよい。例えば、慣用のコーター、具体的には、グラビヤロールコーター、リバースロールコーター、キスロールコーター、ディップロールコーター、バーコーター、ナイフコーター、スプレーコーター、コンマコーター、ダイレクトコーターなどが用いられてもよい。

光学用粘着剤層Ａのゲル分率は、５０〜９０重量％であり、好ましくは５０〜８０重量％、さらに好ましくは５０〜７０重量％である。上記ゲル分率を９０重量％以下とすることにより、光学用粘着剤層Ａの凝集力がある程度小さくなり、粘着剤層Ａが軟らかくなるため、段差部分に粘着剤層が追従しやすくなり、優れた段差吸収性が得られる。一方、上記ゲル分率を５０重量％以上とすることにより、粘着剤層が軟らかくなりすぎて、粘着シートの加工性が低下するという問題の発生を抑制でき、また、高温環境下や高温高湿環境下において、気泡や浮きの発生を抑制して、接着信頼性を向上させることができる。上記ゲル分率は、例えば、前記の架橋剤の種類や含有量（使用量）などにより制御することができる。

上記ゲル分率（溶剤不溶分の割合）は、酢酸エチル不溶分として求めることができる。具体的には、粘着剤層を、酢酸エチル中に室温（２３℃）で７日間浸漬した後の不溶分の浸漬前の試料に対する重量分率（単位：重量％）として求められる。より具体的には、上記ゲル分率とは、以下の「ゲル分率の測定方法」により算出される値である。
（ゲル分率の測定方法）
粘着剤層を約１ｇ採取し、その重量を測定し、該重量を「浸漬前の粘着剤層の重量」とする。次に、採取した粘着剤層を酢酸エチル４０ｇに７日間浸漬した後、酢酸エチルに不溶解な成分（不溶解部分）を全て回収し、回収した全不溶解部分を１３０℃で２時間乾燥させて酢酸エチルを除去した後、その重量を測定して「不溶解部分の乾燥重量」（浸漬後の粘着剤層の重量）とする。そして、得られた数値を以下の式に代入して算出する。
ゲル分率（重量％）＝［（不溶解部分の乾燥重量）／（浸漬前の粘着剤層の重量）］×１００

また、光学用粘着剤層Ａの融点は、特に限定されないが、−６０〜２０℃であることが好ましく、より好ましくは、−４０〜１０℃であり、さらに好ましくは、−３０〜０℃である。上記融点が、２０℃より高いと室温で粘着力を発現できない。

上記融点は、特に限定されないが、例えば、粘着剤層を測定用サンプルとして、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により、ＪＩＳ Ｋ ７１２１に準拠して測定することができる。具体的には、例えば、測定装置として、ＴＡ ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製、装置名「Ｑ−２０００」を用い、−８０℃から８０℃まで昇温速度１０℃／分の条件で測定することができる。

光学用粘着剤層Ａの厚さは、特に限定されないが、１０μｍ〜１ｍｍが好ましく、より好ましくは１００〜５００μｍ、さらに好ましくは１５０〜３５０μｍである。上記厚さを１０μｍ以上とすることにより、段差部分に粘着剤層が追従しやすくなり、段差吸収性が向上する。また、上記厚さを１ｍｍ以下とすることにより、粘着剤層の変形が起きにくくなり、加工性が向上する。

本発明の光学用粘着シートは、光学用粘着剤層Ａを少なくとも１層有する。本明細書において、光学用粘着剤層Ａを有する光学用粘着シートを「光学用粘着シートＡ」と称する場合がある。なお、「粘着シート」には、「粘着テープ」の意味を含むものとする。すなわち、光学用粘着シートＡは、テープ状の形態を有する粘着テープであってもよい

光学用粘着シートＡは、該シートの片面のみが粘着剤層表面（粘着面）である（すなわち、光学用粘着剤層Ａ表面である）片面粘着シートであってもよいし、該シートの両面が粘着剤層表面である両面粘着シートであってもよい。光学用粘着シートＡは、特に限定されないが、被着体同士の貼り合わせに用いる等の観点から、両面粘着シートであることが好ましく、より好ましくは該シートの両面が光学用粘着剤層Ａの表面である両面粘着シートである。

光学用粘着シートＡは、基材（基材層）を有しない粘着シート、いわゆる「基材レスタイプ」の粘着シート（「基材レス粘着シート」と称する場合がある）であってもよいし、基材を有する粘着シート（「基材付き粘着シート」と称する場合がある）であってもよい。上記基材レス粘着シートとしては、例えば、光学用粘着剤層Ａのみからなる両面粘着シートや、光学用粘着剤層Ａと光学用粘着剤層Ａ以外の粘着剤層（「他の粘着剤層」と称する場合がある）からなる両面粘着シート等が挙げられる。上記基材を有する粘着シートとしては、例えば、基材の片面側に光学用粘着剤層Ａを有する片面粘着シートや、基材の両面側に光学用粘着剤層Ａを有する両面粘着シートや、基材の一方の片面側に光学用粘着剤層Ａを有し、他方の片面側に他の粘着剤層を有する両面粘着シート等が挙げられる。

上記の中でも、透明性などの光学物性向上の観点から、基材レス粘着シートが好ましく、より好ましくは、光学用粘着剤層Ａのみからなる、基材を有しない両面粘着シート（基材レス両面粘着シート）である。また、光学用粘着シートＡが基材を有する粘着シートである場合には、特に限定されないが、加工性の観点から、基材の両面側に光学用粘着剤層Ａを有する両面粘着シート（基材付き両面粘着シート）であることが好ましい。

なお、上記の「基材（基材層）」とは、光学用粘着シートＡを被着体（光学部材等）に使用（貼付）する際には、粘着剤層とともに被着体に貼付される部分であり、粘着シートの使用（貼付）時に剥離される剥離フィルム（セパレータ）は含まれない。

光学用粘着シートＡは、上記より、基材付き粘着シートであってもよい。このような基材としては、例えば、プラスチックフィルム、反射防止（ＡＲ）フィルム、偏光板、位相差板などの各種光学フィルムが挙げられる。上記プラスチックフィルムなどの素材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のアクリル系樹脂、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリサルフォン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、商品名「アートン」（環状オレフィン系ポリマー、ＪＳＲ株式会社製）、商品名「ゼオノア」（環状オレフィン系ポリマー、日本ゼオン株式会社製）」等の環状オレフィン系ポリマーなどのプラスチック材料が挙げられる。なお、これらのプラスチック材料は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いられてもよい。また、上記の「基材」とは、粘着シートを被着体（光学部材等）に貼付する際には、粘着剤層とともに被着体に貼付される部分である。粘着シートの使用時（貼付時）に剥離される剥離フィルム（セパレータ）は、「基材」には含まれない。

前記基材は、透明であることが好ましい。上記基材の可視光波長領域における全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１に準じる）は、特に限定されないが、８５％以上が好ましく、より好ましくは８８％以上である。また、上記基材のヘイズ（ＪＩＳ Ｋ７１３６に準じる）は、特に限定されないが、１．５％以下が好ましく、より好ましくは１．０％以下である。このような透明な基材としては、例えば、ＰＥＴフィルムや、商品名「アートン」、商品名「ゼオノア」などの無配向フィルムなどが挙げられる。

前記基材の厚さは、特に限定されないが、１２〜７５μｍが好ましい。なお、上記基材は単層および複層のいずれの形態を有していてもよい。また、前記基材の表面には、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理等の物理的処理、下塗り処理等の化学的処理などの公知慣用の表面処理が適宜施されていてもよい。

光学用粘着シートＡは、他の粘着剤層（光学用粘着剤層Ａ以外の粘着剤層）を有していてもよい。上記他の粘着剤層としては、特に限定されないが、例えば、ウレタン系粘着剤、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、フッ素系粘着剤などの公知乃至慣用の粘着剤から形成された粘着剤層が挙げられる。なお、上記粘着剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いられてもよい。

光学用粘着シートＡは、光学用粘着剤層Ａ、他の粘着剤層、基材以外にも、本発明の効果を損なわない範囲で、他の層（例えば、中間層、下塗り層など）を有していてもよい。

光学用粘着シートＡは、使用時までは粘着面に剥離フィルム（セパレータ）が設けられていてもよい。光学用粘着シートＡの粘着面が剥離フィルムにより保護される形態は、特に限定されないが、２枚の剥離フィルムによりそれぞれの粘着面が保護される形態であってもよいし、ロール状に巻回されることにより、両面が剥離面である１枚の剥離フィルムで、それぞれの粘着面が保護される形態であってもよい。剥離フィルムは、粘着剤層の保護材として用いられ、被着体に貼付する際に剥がされる。なお、光学用粘着シートＡにおいて、剥離フィルムは、粘着剤層の支持体としての役割も担う。なお、剥離フィルムは必ずしも設けられなくてもよい。

上記剥離フィルムとしては、特に限定されないが、例えば、剥離処理層を有する基材、フッ素ポリマーからなる低接着性基材や無極性ポリマーからなる低接着性基材などが挙げられる。上記剥離処理層を有する基材としては、例えば、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離処理剤により表面処理されたプラスチックフィルムや紙等が挙げられる。上記フッ素ポリマーからなる低接着性基材におけるフッ素系ポリマーとしては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、クロロフルオロエチレン−フッ化ビニリデン共重合体等が挙げられる。また、上記無極性ポリマーとしては、例えば、オレフィン系樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなど）等が挙げられる。なお、上記セパレータは公知乃至慣用の方法により形成される。また、セパレータの厚さ等も、特に限定されない。

光学用粘着シートＡの製造方法としては、公知乃至慣用の製造方法が挙げられる。光学用粘着シートＡの製造方法は、光学用粘着剤層Ａの組成などによって異なり、特に限定されないが、例えば、以下の（１）〜（３）などの方法が挙げられる。
（１）（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ、必要に応じて、重合開始剤、シランカップリング剤、その他の添加剤等を含む光学用粘着剤組成物Ａを、基材又はセパレータ上に塗布（塗工）し、硬化（例えば、熱硬化や紫外線などの活性エネルギー線照射による硬化）して、光学用粘着シートＡを製造する。
（２）（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ、必要に応じて、添加剤等を溶剤に溶かした光学用粘着剤組成物Ａ（溶液）を、基材又はセパレータ上に塗布（塗工）し、乾燥及び／又は硬化して粘着シートを製造する
（３）上記（１）で製造した光学用粘着シートＡをさらに乾燥させる。
なお、活性エネルギー線による硬化（光硬化）を利用する場合には、光重合反応は空気中の酸素に阻害されるので、例えば、セパレータを貼り合わせること、窒素雰囲気下で光硬化させること等により、酸素を遮断することが好ましい。

光学用粘着シートＡは、特に限定されないが、生産性の観点から、（メタ）アクリル系ブロックコポリマーＡ及び重合開始剤（光重合開始剤や熱重合開始剤などの重合開始剤）を含む光学用粘着剤組成物Ａにより、熱や活性エネルギー線による硬化反応を利用して、製造された粘着シートであることが好ましい。また、厚さのある粘着剤層が得られる点から、光重合開始剤を含有する粘着剤組成物により、活性エネルギー線による硬化反応を利用して、製造されることが好ましい。

光学用粘着シートＡの厚さ（総厚さ）は、特に限定されないが、１０μｍ〜１ｍｍが好ましく、より好ましくは１００〜５００μｍ、さらに好ましくは１５０〜３５０μｍである。上記厚さを１０μｍ以上とすることにより、段差部分に粘着剤層が追従しやすくなり、段差吸収性の向上を図ることができる。なお、光学用粘着シートＡの厚さには、剥離フィルムの厚さは含まれない。

光学用粘着シートＡは、高い透明性を有していることが好ましい。光学用粘着シートＡのヘイズ（ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準じる）は、例えば、１．０％以下が好ましく、より好ましくは０．７％以下である。上記ヘイズを１．０％以下とすることにより、光学用粘着シートＡを貼付した光学製品や光学部材の透明性や外観が良好となる。
また、光学用粘着シートＡの全光線透過率（可視光波長領域における全光線透過率）（ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１に準じる）は、特に限定されないが、９０％以上が好ましく、より好ましくは９１％以上である。上記全光線透過率を９０％以上とすることにより、光学用粘着シートＡを貼付した光学製品や光学部材の透明性や外観が良好となる。
ヘイズ、及び全光線透過率は、例えば、粘着シートにガラス板等を貼り合わせ、ヘイズメーターを用いて測定することができる。

ゆえに、光学用粘着シートＡは、透明性などの光学物性向上の観点から、ヘイズが１．０％以下であり、全光線透過率が９０％以上である粘着シートであることが好ましい。また、光学用粘着シートＡは、透明性などの光学物性向上の観点や被着体同士の貼り合わせに用いる等の観点から、ヘイズが１．０％以下であり、全光線透過率が９０％以上である両面粘着シートであることが好ましく、光学用粘着剤層Ａのみを有し、ヘイズが１．０％以下であり、全光線透過率が９０％以上である基材レス両面粘着シートであることが特に好ましい。

光学用粘着シートＡは、光学用粘着剤層Ａを有するので、室温における加工性に優れる。
また、光学用粘着シートＡは、光学用粘着剤層Ａを有するので、５０℃を超える領域での段差吸収性に優れる。例えば、５〜１０μｍの段差に加えて、４０μｍを超えるような高い段差に対しても、段差吸収性に優れる。さらには、８０μｍを超えるような高い段差に対しても段差吸収性を有する。
さらに、光学用粘着シートＡは、光学用粘着剤層Ａを有するので、接着信頼性に優れる。

光学用粘着剤組成物Ａ、光学用粘着剤層Ａ、光学用粘着シートＡにおける「光学用」とは光学用途に用いられることを意味し、より具体的には、光学部材を貼り合わせる用途（光学部材貼り合わせ用）や、光学部材が用いられた製品（光学製品）の製造用途などに用いられる光学用粘着剤組成物、光学用粘着剤層、光学用粘着シートである。

上記光学部材としては、光学的特性（例えば、偏光性、光屈折性、光散乱性、光反射性、光透過性、光吸収性、光回折性、旋光性、視認性など）を有する部材であれば、特に限定されないが、例えば、表示装置（画像表示装置）や入力装置等の光学製品を構成する部材又はこれらの機器（光学製品）に用いられる部材が挙げられ、例えば、偏光板、波長板、位相差板、光学補償フィルム、輝度向上フィルム、導光板、反射フィルム、反射防止フィルム、透明導電フィルム（ＩＴＯフィルムなど）、意匠フィルム、装飾フィルム、表面保護板、プリズム、レンズ、カラーフィルター、透明基板（前面透明部材など）や、さらにはこれらが積層されている部材が挙げられる。

上記表示装置（画像表示装置）としては、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、電子ペーパーなどが挙げられる。また、上記入力装置としては、タッチパネルなどが挙げられる。

上記光学部材としては、特に限定されないが、例えば、ガラス、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、金属薄膜などからなる部材（例えば、シート状やフィルム状、板状の部材など）などが挙げられる。なお、「光学部材」には、上記の通り、被着体である表示装置や入力装置の視認性を保ちながら加飾や保護の役割を担う部材（意匠フィルム、装飾フィルムや表面保護板等）も含むものとする。

光学用粘着シートＡは、中でも、高剛性の光学部材の貼り合わせに用いられることが好ましく、特にガラスからなる光学部材の貼り合わせに用いられることが好ましい。即ち、光学用粘着シートＡは、例えば、ガラスセンサー、ガラス製表示パネル（ＬＣＤなど）、タッチパネルの透明電極付きガラス板等のガラスからなる光学部材を貼り合わせる用途に用いられる光学用粘着シートであることが好ましく、より好ましくは、ガラスセンサーとガラス製表示パネルを貼り合わせる用途に用いられる光学用粘着シートである。

光学用粘着シートＡによる光学部材の貼り合わせる態様としては、特に限定されないが、例えば、下記が挙げられる。
（１）光学用粘着シートＡを介して光学部材同士を貼り付ける態様
（２）光学用粘着シートＡを介して光学部材を光学部材以外の部材に貼り合わせる態様
（３）光学部材を含む光学用粘着シートＡを、光学部材や光学部材以外の部材に貼り合わせる態様

上記（３）の態様における光学部材を含む光学用粘着シートＡは、光学部材を基材とする基材付き粘着シート、すなわち光学部材付き粘着シートであることが好ましい。

なお、上記光学部材付き粘着シートは、光学部材上に粘着剤層Ａを有する粘着型光学部材でもある。

本発明の光学部材積層体は、光学部材からなる第１の基板と、主面に段差を有する光学部材からなる第２の基板と、光学用粘着剤層Ａとを有する光学部材積層体であって、光学用粘着剤層Ａが、前記第１の基板の任意の主面と、前記第２の基板の前記段差を有する主面との間に積層されたものである。
また、本発明の光学部材積層体は、前記第１の基板が主面に段差を有し、前記光学用粘着剤層が、前記第１の基板の前記段差を有する主面と、前記第２の基板の前記段差を有する主面との間に積層されたものであってもよい。

前記第１の基板、第２の基板を構成する光学部材としては、上述のものが含まれる。前記第１の基板、第２の基板が主面に有する段差は、特に限定されないが、例えば、基板の主面上に設けられたＩＴＯ（インジウム・スズ酸化物）などの透明で導電性の印刷層や、意匠、装飾などのために施された印刷層等の印刷段差、基板（例えば、偏光板など）の主面上に施された一箇所以上の穴状加工による段差、基板の主面上に配列された発光素子（例えば、ＬＥＤ素子など）による段差が含まれる。本発明の光学部材積層体においては、光学用粘着剤層Ａは、当該段差に十分に追従し、気泡などの隙間なく密着している。

本発明の光学部材積層体の好ましい具体例としては、前記第２の基板が、主面上に設けられた穴による段差を有する偏光板であり、前記第１の基板が、主面上に印刷段差を有する光学部材（例えば、透明カバー部材）である光学部材積層体が挙げられる。

また、本発明の光学部材積層体の他の好ましい具体例としては、前記第２の基板が、主面上に設けられたＬＥＤチップによる段差を有するＬＥＤパネルである光学部材積層体が挙げられる。

本発明の光学製品は、前記光学部材積層体を備えることを特徴とする。当該光学製品としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、電子ペーパーなどの画像表示装置、タッチパネルなどの入力装置などが挙げられる。

本発明の光学製品の好ましい具体例としては、画像表示セルの表面に穴開き加工の施された偏光板を備える画像表示パネルと、前面透明部材と、が積層された画像表示装置であって、前記画像表示パネルの穴開き偏光板上に前記光学用粘着シートを介して前記前面透明部材が貼り合せられてなる、画像表示装置が挙げられる。

上記構成に係る画像表示装置では、前記光学用粘着剤層が前記偏光板に設けられた穴の境界に生じる段差に十分に追従して隙間なく密着しており、室温での保管時には前記光学用粘着剤層が硬くなり、優れた加工性を有する。

本発明の光学部材積層体は、好ましくは、以下の工程を含む方法によって製造され得る。
（１）前記第２の基板の前記段差を有する主面に光学用粘着シートＡを貼り付ける工程（第１工程）
（２）前記第１の基板の任意の主面を、光学用粘着シートＡの光学用粘着剤層Ａの上に積層し、５０℃以上で加熱加圧する工程（第２工程）

前記第１工程における、第２の基板の前記段差を有する主面に光学用粘着シートＡを貼り付けは、公知の方法で行うことができる。光学用粘着シートＡが剥離フィルムを有する場合、第１工程の後に剥離する。

前記第２工程における第１の基板の光学用粘着剤層Ａへの積層も、公知の方法で行うことができる。

前記第２工程において、５０℃以上で加熱加圧することにより、光学用粘着剤層Ａが高流動性になって、基板の前記段差に十分に追従して、隙間なく密着できる。加熱は、５０℃以上で行い、好ましくは６０℃以上、より好ましくは７０℃以上で行う。加圧は、特に限定されないが、例えば１．５ａｔｍ以上、好ましくは２ａｔｍ以上、より好ましくは３ａｔｍ以上で行う。加熱加圧は、例えば、オートクレーブなどを用いて行うことができる。

前記第２工程で製造された本発明の光学部材積層体は、室温（２５℃）に戻した後に、光学用粘着剤層Ａの貯蔵弾性率が高くなり、形状安定や取り扱い性などの加工性が向上する。

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
以下の生成物の重量平均分子量（Ｍｗ）、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）の測定は、以下の測定条件のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＣＰ法）による標準ポリスチレン換算として測定した。
・測定装置：ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ（東ソー社製）
・カラム：ＴＳＫｇｅｌＧＭＨ−Ｈ（Ｓ）、（東ソー社製）
・移動相溶媒：テトラヒドロフラン
・流量：１．０ｃｍ³／ｍｉｎ
・カラム温度：４０℃

実施例１
（高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ１の調製）
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、モノマー成分としてシクロヘキシルアクリレート（ＣＨＡ）１００重量部、ＲＡＦＴ剤としてジベンジルトリチオカーボネート（ＤＢＴＣ）０．５重量部、重合溶媒として酢酸エチル１００重量部を仕込み、熱重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２重量部を投入して窒素雰囲気下で溶液重合を行うことにより、Ｍｗが２０万の高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ１を得た。

（アクリル系トリブロックコポリマー含有粘着剤溶液Ｂ１の調製）
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、モノマー成分としてｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）９７重量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４ＨＢＡ）３重量部、上記で得られた高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ１ １００重量部、重合溶媒として酢酸エチル１００重量部を仕込み、熱重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２重量部を投入して窒素雰囲気下で溶液重合を行うことにより、Ｍｗが５１万、Ｍｗ／Ｍｎが２．０６のＡＢＡ型アクリル系トリブロックコポリマーを含有する粘着剤溶液Ｂ１を得た。
ＦＯＸの式による計算ガラス転移温度（Ｔｇ）において、ＡＢＡ型アクリル系トリブロックコポリマーのセグメントＡのＴｇは１５℃、セグメントＢのＴｇは−５５℃である。

（粘着シートの調製）
表面にシリコーン系離型層が設けられた厚み７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（三菱ケミカル製「ダイアホイルＭＲＦ７５」）を基材として、基材上にアクリル系トリブロックコポリマー含有粘着剤溶液Ｂ１を塗布し、１３０℃で３分間乾燥させて、厚さ１５０μｍの粘着剤層を形成した。この粘着剤層上に、片面がシリコーン剥離処理された厚み７５μｍのＰＥＴフィルム（三菱ケミカル製「ダイアホイルＭＲＥ７５」）を貼り合わせ、両面に離型フィルムが付設された粘着シートを得た。

実施例２
（高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ２及び粘着シートの調製）
シクロヘキシルアクリレート（ＣＨＡ）の代わりに、メチルアクリレート（ＭＡ）を使用したこと以外は、実施例１と同様に行い、Ｍｗが１４万の高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ２を得た。
（アクリル系トリブロックコポリマー含有粘着剤溶液Ｂ２の調製）
高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ１の代わりに高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ２を用いたこと以外は、実施例１と同様に行い、Ｍｗが２９万、Ｍｗ／Ｍｎが２．９のアクリル系トリブロックコポリマーを含有する粘着剤溶液Ｂ２を得、実施例１と同様の方法により粘着シートを調製した。
ＦＯＸの式による計算ガラス転移温度（Ｔｇ）において、ＡＢＡ型アクリル系トリブロックコポリマーのセグメントＡのＴｇは８℃、セグメントＢのＴｇは−５５℃である。

実施例３
（アクリル系トリブロックコポリマー含有粘着剤溶液Ｂ３及び粘着シートの調製）
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、モノマー成分として２−エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）９７重量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４ＨＢＡ）３重量部、実施例１で得られた高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ１ １００重量部、重合溶媒として酢酸エチル１００重量部を仕込み、熱重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２重量部を投入して窒素雰囲気下で溶液重合を行うことにより、Ｍｗが３５万、Ｍｗ／Ｍｎが２．５のＡＢＡ型アクリル系トリブロックコポリマーを含有する粘着剤溶液Ｂ３を得、実施例１と同様の方法により粘着シートを調製した。
ＦＯＸの式による計算ガラス転移温度（Ｔｇ）において、ＡＢＡ型アクリル系トリブロックコポリマーのセグメントＡのＴｇは１５℃、セグメントＢのＴｇは−７０℃である。

実施例４
（高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ３の調製）
モノマーとしてシクロヘキシルアクリレート（ＣＨＡ）５０質量部、３，３，５−トリメチルシクロヘキシルアクリレート（ＴＭＣＨＡ）５０質量部を使用したこと以外は、実施例１と同様に行い、Ｍｗが１８万の高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ３を得た。
（アクリル系トリブロックコポリマー含有粘着剤溶液Ｂ４及び粘着シートの調製）
高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ１の代わりに高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ３を用いたこと以外は、実施例３と同様に行い、Ｍｗが４０万、Ｍｗ／Ｍｎが４．３のＡＢＡ型アクリル系トリブロックコポリマーを含有する粘着剤溶液Ｂ４を得、実施例１と同様の方法により粘着シートを調製した。
ＦＯＸの式による計算ガラス転移温度（Ｔｇ）において、ＡＢＡ型アクリル系トリブロックコポリマーのセグメントＡのＴｇは３２℃、セグメントＢのＴｇは−７０℃である。

実施例５
（高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ４の調製）
アクリル酸メチル（ＭＡ）６０質量部、ｔ−ブチルアクリレート（ｔ−ＢＡ）４０質量部を使用したこと以外は、実施例１と同様に行い、Ｍｗが１６万の高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ４を得た。
（アクリル系トリブロックコポリマー含有粘着剤溶液Ｂ５及び粘着シートの調製）
高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ１の代わりに高分子ＲＡＦＴ溶液Ａ４を用いたこと以外は、実施例３と同様に行い、Ｍｗが３７万、Ｍｗ／Ｍｎが３．９のＡＢＡ型アクリル系トリブロックコポリマーを含有する粘着剤溶液Ｂ５を得、実施例１と同様の方法により粘着シートを調製した。
ＦＯＸの式による計算ガラス転移温度（Ｔｇ）において、ＡＢＡ型アクリル系トリブロックコポリマーのセグメントＡのＴｇは１８℃、セグメントＢのＴｇは−７０℃である。

比較例１
（アクリル系ランダムコポリマー含有粘着剤溶液Ｃ１及び粘着シートの調製）
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、モノマー成分としてｎ−ブチルアクリレート（ＢＡ）９７重量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４ＨＢＡ）３重量部、重合溶媒として酢酸エチル１２２重量部を仕込み、熱重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２重量部を投入して窒素雰囲気下で溶液重合を行うことにより、Ｍｗが６０万のアクリル系ランダムコポリマーを含有する粘着剤溶液Ｃ１を得、実施例１と同様の方法により粘着シートを調製した。
ＦＯＸの式によるアクリル系ランダムコポリマーの計算ガラス転移温度（Ｔｇ）は−５５℃である。

比較例２
（粘着付与樹脂溶液Ｄ１の調製）
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、モノマー成分としてシクロヘキシルアクリレート（ＣＨＡ）１００重量部、連鎖移動剤としてｎ−ドデシルメルカプタン（ＮＤＭ）１重量部、重合溶媒として酢酸エチル１２２重量部を仕込み、熱重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２重量部を投入して窒素雰囲気下で溶液重合を行うことにより、Ｍｗが２万のアクリル系ポリマーを含有する粘着付与樹脂溶液Ｄ１を得た。ＦＯＸの式による計算ガラス転移温度（Ｔｇ）は１５℃である。
（粘着付与樹脂配合粘着剤溶液及び粘着シートの調製）
比較例１で得られた粘着剤溶液Ｃ１ １００重量部に、上記で得られた粘着付与樹脂溶液Ｄ１ ５重量部を混合、攪拌して、粘着付与樹脂配合粘着剤溶液を得、実施例１と同様の方法により粘着シートを調製した。

比較例３
（アクリル系ランダムコポリマー含有粘着剤溶液Ｃ２及び粘着シートの調製）
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、モノマー成分として２−エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）５０重量部、シクロヘキシルアクリレート（ＣＨＡ）４７重量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４ＨＢＡ）３重量部、重合溶媒として酢酸エチル１２２重量部を仕込み、熱重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２重量部を投入して窒素雰囲気下で溶液重合を行うことにより、Ｍｗが８０万のアクリル系ランダムコポリマーを含有する粘着剤溶液Ｃ２を得、実施例１と同様の方法により粘着シートを調製した。ＦＯＸの式による計算ガラス転移温度（Ｔｇ）は−３６℃である。

比較例４
（アクリル系ランダムコポリマー含有粘着剤溶液Ｃ３及び粘着シートの調製）
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、モノマー成分としてブチルアクリレート（ＢＡ）６０重量部、イソボルニルメタアクリレート（ＩＢＸＭＡ）３５重量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４ＨＢＡ）５重量部、重合溶媒として酢酸エチル１２２重量部を仕込み、熱重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２重量部を投入して窒素雰囲気下で溶液重合を行うことにより、Ｍｗが９０万のアクリル系ランダムコポリマーを含有する粘着剤溶液Ｃ３を得、実施例１と同様の方法により粘着シートを調製した。ＦＯＸの式による計算ガラス転移温度（Ｔｇ）は−１１℃である。

（評価）
上記の実施例及び比較例で得られた粘着剤溶液を用いた粘着シートについて、２５℃における断貯蔵弾性率（Ｇ’２５）、５０℃における断貯蔵弾性率（Ｇ’５０）及びそれらの比（Ｇ’２５／Ｇ’５０）、ｔａｎδのピーク温度及び極大値、加工性、及び段差吸収性を測定又は評価した。測定又は評価の方法を以下に示す。測定又は評価の結果は表１に示した。

（１）貯蔵弾性率［Ｇ’２５、Ｇ’５０、Ｇ’２５／Ｇ’５０］並びにｔａｎδのピーク温度及び極大値
２５℃、５０℃における貯蔵弾性率並びにｔａｎδのピーク温度及び極大値は、動的粘弾性測定により求めた。
複数の粘着シートを積層して厚さ約１．５ｍｍとしたものを測定用試料とした。なお、積層粘着シートの貯蔵弾性率の測定には、第一粘着剤層と第二粘着剤層とを交互に積層して厚さ約１．５ｍｍとしたものを測定用試料として用いた。Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製「Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ Ｅｘｐａｎｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ（ＡＲＥＳ）」を用いて、以下の条件により、動的粘弾性測定を行い、測定結果から、２５℃，５０℃，における貯蔵弾性率（Ｇ’₂₅，Ｇ’₅₀）並びにｔａｎδのピーク温度及び極大値を読み取った。
（測定条件）
変形モード：ねじり
測定周波数：１Ｈｚ
昇温速度：５℃／分
測定温度：−５０〜１５０℃の範囲
形状：パラレルプレート ８．０ｍｍφ

（２）加工性
粘着シートから一方の剥離フィルムを剥がし、片方の粘着面を露出させ、該粘着面をＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製、商品名「Ａ４１００」、厚さ１００μｍ）に貼り付けた。次いで、プレス機を用いてＰＥＴフィルム側から打ち抜いて、これを加工性評価用サンプル（「ＰＥＴフィルム／粘着剤層／剥離フィルム」の構成を有する）とした。該加工性評価用サンプルを、温度：２３℃、相対湿度５０％ＲＨの雰囲気中に１週間放置した後、ＰＥＴフィルムに対して反対側に位置する剥離フィルムを剥離した時の糊欠けの有無を観察し、下記の評価基準により、加工性（加工適正）を評価した。
加工性の評価基準
○（加工性良好）：糊欠けが見られなかった。
×（加工性不良）：糊欠けが見られた。

（３）段差吸収性
粘着シートを４０ｍｍ×４０ｍｍのサイズに切り出し、粘着シートの一方の面から厚み５０μｍの離型フィルムを剥離して、５０ｍｍ×５０ｍｍのガラス板にロールラミネータ（ロール間圧力：０．２ＭＰａ、送り速度：１００ｍｍ／分）により貼り合わせた。同様にして、穴あけ加工が施された粘着剤層付き偏光板を３０×３０ｍｍのサイズに切り出し、粘着剤層に設けられた５０μｍの離型フィルムを剥離して、５０ｍｍ×５０ｍｍのガラス板に貼り合せた。
粘着シートの他方の面から厚み３８μｍの離型フィルムを剥離して、真空ラミネータ（０．１ｋＰａ、６０℃、３０秒）により粘着シートと偏光板とを貼り合せた。この試料を、オートクレーブ（５０℃、０．５ＭＰａ、１５分）で処理した後、倍率２０倍のデジタルマイクロスコープで観察し、偏光板に設けられた穴部における気泡の有無を確認した。
段差吸収性の評価基準
◎（段差吸収性優良）：気泡が確認されなかった。
○（段差吸収性良好）：直径数十 μｍの気泡が５個未満確認された。
×（段差吸収性不良）：気泡が確認された。

Claims (24)

1. （メタ）アクリル系ブロックコポリマーを含有する光学用粘着剤組成物であって、
   前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーが、
   ０℃以上１００℃以下のガラス転移温度を有する高Ｔｇセグメントと、
   −１００℃以上０℃未満のガラス転移温度を有する低Ｔｇセグメントを有し、
   ０℃以上の領域と０℃未満の領域にそれぞれｔａｎδのピークを有することを特徴とする、光学用粘着剤組成物。
   ここで、前記ガラス転移温度は、各セグメントを構成するモノマー成分組成からＦＯＸの式により算出されるものである。
2. 前記０℃以上の領域におけるｔａｎδの極大値が０．５〜３．０である、請求項１に記載の光学用粘着剤組成物。
3. 前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーが、ＡＢＡ型トリブロックコポリマーである、請求項１又は２に記載の光学用粘着剤組成物。
4. 前記ＡＢＡ型トリブロックコポリマーにおいて、Ａセグメントが前記高Ｔｇセグメントであり、Ｂセグメントが前記低Ｔｇセグメントである、請求項３に記載の光学用粘着剤組成物。
5. 前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーにおける前記高Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分として、炭素数が１〜３である直鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル、炭素数が３又は４である分岐鎖鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び脂環式モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学用粘着剤組成物。
6. 前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーにおける前記高Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分として、炭素数が３又は４である分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含有する、請求項５に記載の光学用粘着剤組成物。
7. 前記脂環式モノマーが、置換基を有していてもよい炭素数が４〜１０であるシクロアルキル基を有する（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステルを含有する、請求項５に記載の光学用粘着剤組成物。
8. 前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーにおける前記低Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分として、炭素数が４〜１８である直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル及び水酸基含有モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学用粘着剤組成物。
9. 前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーにおける前記低Ｔｇセグメントを構成するモノマー成分全量（１００重量％）に対して、水酸基含有モノマーを１重量％以上含有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学用粘着剤組成物。
10. 前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーの重量平均分子量が２０万以上である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学用粘着剤組成物。
11. 前記（メタ）アクリル系ブロックコポリマーの分子量分布が、１より大きく５以下である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学用粘着剤組成物。
12. ２５℃における貯蔵弾性率と５０℃における貯蔵弾性率の比（２５℃における貯蔵弾性率／５０℃における貯蔵弾性率）が３以上である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学用粘着剤組成物。
13. ２５℃における貯蔵弾性率が１ＭＰａ以上であり、５０℃における貯蔵弾性率が０．５ＭＰａ以下である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学用粘着剤組成物。
14. 請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光学用粘着剤組成物により形成される光学用粘着剤層。
15. 請求項１４に記載の光学用粘着剤層を有する光学用粘着シート。
16. 光学部材からなる第１の基板と、
    主面に段差を有する光学部材からなる第２の基板と、
    請求項１４に記載の光学用粘着剤層とを有する光学部材積層体であって、
    前記光学用粘着剤層が、前記第１の基板の任意の主面と、前記第２の基板の前記段差を有する主面との間に積層された、光学部材積層体。
17. 前記第１の基板が主面に段差を有し、
    前記光学用粘着剤層が、前記第１の基板の前記段差を有する主面と、前記第２の基板の前記段差を有する主面との間に積層された、請求項１６に記載の光学部材積層体。
18. 前記第２の基板が有する段差が、主面上に設けられた穴による段差である、請求項１６又は１７に記載の光学部材積層体。
19. 前記第２の基板が偏光板である、請求項１８に記載の光学部材積層体。
20. 前記第１の基板が有する段差が、主面上に設けられた印刷段差である、請求項１７〜１９のいずれか１項に記載の光学部材積層体。
21. 前記第２の基板が有する段差が、基板上に設けられたＬＥＤチップによる段差である、請求項１６に記載の光学部材積層体。
22. 前記第２の基板がＬＥＤパネルである、請求項２１に記載の光学部材積層体。
23. 請求項１６〜２２の何れか１項に記載の光学部材積層体を備える光学製品。
24. 請求項１６〜２２の何れか１項に記載の光学部材積層体の製造方法であって、
    前記第２の基板の前記段差を有する主面に請求項１５に記載の光学用粘着シートを貼り付ける工程と、
    前記第１の基板の任意の主面を、前記光学用粘着シートの光学用粘着剤層の上に積層し、５０℃以上で加熱加圧する工程と、
    を含むことを特徴とする光学部材積層体の製造方法。