JP2021066896A - 蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 110
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 59
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 228
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 228
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 107
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 107
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 claims description 39
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 32
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 7
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 305
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 description 25
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 2
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
第1面と前記第1面とは反対側にある第2面とを有する第1金属層を準備する工程と、
前記第1金属層の前記第1面の上に、凸部を有する樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層の上及び前記第1金属層の前記第1面の上に、第2金属層を形成する工程と、
前記第2金属層を前記第1金属層と反対側から研磨する工程と、
前記第1金属層の前記第2面の上に、平面視において少なくとも部分的に前記樹脂層と重なる開口を有するレジスト層を形成する工程と、
前記第1金属層をエッチングして、前記開口から前記樹脂層に達する孔を形成する工程と、
前記樹脂層及び前記レジスト層を除去する工程と、を備えた蒸着マスクの製造方法、である。
前記樹脂層の上及び前記第1金属層の前記第1面の上にシード層を形成する工程と、
前記シード層の上に電解めっき法又は無電解めっき法により本体層を形成する工程と、を含んでもよい。
孔を有する第1金属層と、
貫通孔を有し平面視において前記孔と重なる有効領域、及び、前記有効領域の周囲に位置し前記有効領域の最小厚さよりも大きい厚さを有する周囲領域、を有する第2金属層と、を備えた蒸着マスク、である。
第1面と前記第1面とは反対側にある第2面とを有する第1金属層を準備する工程と、
前記第1金属層の前記第1面の上に、凸部を有する樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層の上及び前記第1金属層の前記第1面の上に、第2金属層を形成する工程と、
前記第2金属層を前記第1金属層と反対側から研磨する工程と、
前記第1金属層の前記第2面の上に、平面視において少なくとも部分的に前記樹脂層と重なる開口を有するレジスト層を形成する工程と、
前記第1金属層をエッチングして、前記開口から前記樹脂層に達する孔を形成する工程と、
前記樹脂層及び前記レジスト層を除去する工程と、を備えた蒸着マスクの製造方法、である。
前記樹脂層の上及び前記第1金属層の前記第1面の上にシード層を形成する工程と、
前記シード層の上に電解めっき法又は無電解めっき法により本体層を形成する工程と、を含んでもよい。
孔を有する第1金属層と、
複数の貫通孔を有し平面視において前記孔と重なる有効領域、及び、前記有効領域の周囲に位置し前記有効領域の最小厚さよりも大きい厚さを有する周囲領域、を有する第2金属層と、を備えた蒸着マスク、である。
Claims (15)
- 第1面と前記第1面とは反対側にある第2面とを有する第1金属層を準備する工程と、
前記第1金属層の前記第1面の上に、凸部を有する樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層の上及び前記第1金属層の前記第1面の上に、第2金属層を形成する工程と、
前記第2金属層を前記第1金属層と反対側から研磨する工程と、
前記第1金属層の前記第2面の上に、平面視において少なくとも部分的に前記樹脂層と重なる開口を有するレジスト層を形成する工程と、
前記第1金属層をエッチングして、前記開口から前記樹脂層に達する孔を形成する工程と、
前記樹脂層及び前記レジスト層を除去する工程と、を備えた蒸着マスクの製造方法。 - 前記第1金属層は、鉄−ニッケル系合金を含む、請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第2金属層は、鉄−ニッケル系合金を含む、請求項1又は2に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記樹脂層は、ポジレジストを含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第1金属層は、15μm以上100μm以下の厚さを有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第2金属層は、5μm以上30μm以下の最小厚さを有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記樹脂層は、フォトリソグラフィー又はナノインプリントにより形成される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第2金属層を形成する工程は、電解めっき法、無電解めっき法、物理蒸着法、スパッタ法、化学気相成長法からなるグループから選択される少なくとも1つにより行われる、請求項1〜7のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記第2金属層を形成する工程は、
前記樹脂層の上及び前記第1金属層の前記第1面の上にシード層を形成する工程と、
前記シード層の上に電解めっき法又は無電解めっき法により本体層を形成する工程と、を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 前記孔を形成する工程において、前記第1金属層が塩化第二鉄溶液又は塩酸によりエッチングされる、請求項1〜9のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 孔を有する第1金属層と、
貫通孔を有し平面視において前記孔と重なる有効領域、及び、前記有効領域の周囲に位置し前記有効領域の最小厚さよりも大きい厚さを有する周囲領域、を有する第2金属層と、を備えた蒸着マスク。 - 前記第1金属層は、鉄−ニッケル系合金を含む、請求項11に記載の蒸着マスク。
- 前記第2金属層は、鉄−ニッケル系合金を含む、請求項11又は12に記載の蒸着マスク。
- 前記第1金属層は、15μm以上100μm以下の厚さを有する、請求項11〜13のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
- 前記第2金属層は、5μm以上30μm以下の最小厚さを有する、請求項11〜14のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019190517A JP7413713B2 (ja) | 2019-10-17 | 2019-10-17 | 蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019190517A JP7413713B2 (ja) | 2019-10-17 | 2019-10-17 | 蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021066896A true JP2021066896A (ja) | 2021-04-30 |
JP7413713B2 JP7413713B2 (ja) | 2024-01-16 |
Family
ID=75636753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019190517A Active JP7413713B2 (ja) | 2019-10-17 | 2019-10-17 | 蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7413713B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116511842A (zh) * | 2023-04-27 | 2023-08-01 | 寰采星科技(宁波)有限公司 | 一种精密金属掩模板的制作方法及精密金属掩模板 |
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---|---|---|---|---|
JP2005314787A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Kenseidou Kagaku Kogyo Kk | メタルマスクの製作方法 |
WO2018092531A1 (ja) * | 2016-11-18 | 2018-05-24 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク |
-
2019
- 2019-10-17 JP JP2019190517A patent/JP7413713B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN116511842A (zh) * | 2023-04-27 | 2023-08-01 | 寰采星科技(宁波)有限公司 | 一种精密金属掩模板的制作方法及精密金属掩模板 |
CN116511842B (zh) * | 2023-04-27 | 2023-10-03 | 寰采星科技(宁波)有限公司 | 一种精密金属掩模板的制作方法及精密金属掩模板 |
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JP7413713B2 (ja) | 2024-01-16 |
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