JP2021066022A - インジウム蒸着保持フィルム、金属調多層フィルム、インジウム蒸着保持フィルムの製造方法、金属調多層フィルムの製造方法およびエンブレム - Google Patents

Abstract

【課題】ミリ波帯の透過性と可視領域における反射性について、より高い性能を満たすことのできる、インジウム蒸着保持フィルム、金属調多層フィルム、インジウム蒸着保持フィルムの製造方法、金属調多層フィルムの製造方法およびエンブレムを提供する。【解決手段】インジウム蒸着保持フィルム７０は、インジウム蒸着層２０が、保持フィルム層３０にインジウムが島状に点在する海島構造を有し、インジウムが蒸着する方向と垂直な方向における、インジウム蒸着層の表面において、島状のインジウムは１５０×１０6個／ｃｍ2以上存在し、表面において、島状のインジウムの外周の長さの合計が１００×１０6μｍ／ｃｍ2以上であり、インジウム蒸着保持フィルムのミリ波透過減衰量は、−１．０ｄＢ以内であり、インジウム蒸着保持フィルムの全光線透過率は、１．３％〜３０％である、インジウム蒸着保持フィルム。【選択図】図１

Description

本発明は、インジウム蒸着保持フィルム、金属調多層フィルム、インジウム蒸着保持フィルムの製造方法、金属調多層フィルムの製造方法およびエンブレムに関する。

バイクや自動車等の車の周囲の障害物の検出には、ミリ波レーダ等のセンサが用いられている。ミリ波レーダは、波長が１〜１０ｍｍの電波を障害物に照射し、障害物から反射して戻ってくる時間を計測し、障害物との距離を測定する装置である。ミリ波レーダは雨天や霧等の天候による影響を受けにくく、遠方の障害物を検出できるため、多くの自動車メーカーで導入されている。

自動車用のミリ波レーダでは、７６〜７７ＧＨｚの領域のミリ波帯が用いられており、ミリ波レーダの装置本体は、例えば自動車の車体前面の中央部にあるエンブレムの背後に搭載され、ミリ波は装置本体よりエンブレムを透過して障害物へ照射される。

例えば、このようなエンブレムに用いることのできるレーダ装置ビーム経路内用光輝装飾成形品として、特許文献１には、透明樹脂層からなる基体と、該基体裏面に設けられ着色されたプライマー層（アンダーコート層）と、該プライマー層（アンダーコート層）裏面に設けられたインジウム層、インジウム合金層、錫層、及び錫合金層の１層以上からなる金属層とを有するレーダ装置ビーム経路内用光輝装飾成形品が開示されている。

特開２００６−２６４５９３号公報

エンブレムとしては、装飾性の点から金属光沢を有するものが用いられており、背後にミリ波レーダの装置本体が設置されるエンブレムには、ミリ波帯の透過性に加え、金属光沢が視認できるよう可視領域における反射性が要求される。ミリ波帯の透過性と可視領域における反射性は、相反する性質といえるが、最近ではこれらの性質に対して、自動車メーカー等からより高い性能を有することが、エンブレムの採用条件として求められる場合がある。

例えば、エンブレムの材料として適用可能な金属調の多層フィルムの性能としては、ミリ波帯の透過性の目安としてミリ波透過減衰量が−１．０ｄＢであり、かつ、可視領域における反射性の目安として全光線透過率が１．３％〜３０％以下であることが、求められる。

ただし、従来の金属調の多層フィルムでは、ミリ波帯の透過性と可視領域における反射性について、このような高い性能を満たすことはできなかった。

上記問題点に鑑み、本発明は、ミリ波帯の透過性と可視領域における反射性について、より高い性能を満たすことのできる、インジウム蒸着保持フィルム、金属調多層フィルム、インジウム蒸着保持フィルムの製造方法、金属調多層フィルムの製造方法およびエンブレムを提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明のインジウム蒸着保持フィルムは、インジウム蒸着層と、前記インジウム蒸着層を保持する保持フィルム層とを備える、インジウム蒸着保持フィルムであって、前記インジウム蒸着層は、前記保持フィルム層にインジウムが島状に点在する海島構造を有し、前記インジウムが蒸着する方向と垂直な方向における、前記インジウム蒸着層の表面において、前記島状の前記インジウムは１５０×１０⁶個／ｃｍ²以上存在し、前記表面において、前記島状の前記インジウムの外周の長さの合計が１００×１０⁶μｍ／ｃｍ²以上であり、前記インジウム蒸着保持フィルムのミリ波透過減衰量は、−１．０ｄＢ以内であり、前記インジウム蒸着保持フィルムの全光線透過率は、１．３％〜３０％である。

前記表面において、前記島状の前記インジウムの面積が０．０１μｍ²〜０．４μｍ²であってもよい。

前記保持フィルム層は、厚みが５μｍ〜５０μｍのポリエチレンテレフタレート系樹脂層であってもよい。

また、上記課題を解決するために、本発明の金属調多層フィルムは、順に、ベースフィルム層と、前記ベースフィルム層と積層するインジウム蒸着層と、当該インジウム蒸着層を保持する保持フィルム層とを備える、上記した本発明のインジウム蒸着保持フィルムと、前記保持フィルム層と積層する保護フィルム層と、が積層する金属調多層フィルムであって、前記金属調多層フィルムのミリ波透過減衰量は、−１．０ｄＢ以内であり、前記金属調多層フィルムの全光線透過率は、１．３％〜３０％である。

前記ベースフィルム層は、厚みが５０μｍ〜１０００μｍのポリカーボネート系樹脂層であり、前記保護フィルム層は、厚みが５０μｍ〜２００μｍのポリカーボネート系樹脂層であってもよい。

本発明の金属調多層フィルムは、前記ベースフィルム層と前記インジウム蒸着層を接合する第１ポリウレタン系接着層と、前記保持フィルム層と前記保護フィルム層を接合する第２ポリウレタン系接着層と、を備えてもよい。

また、上記課題を解決するために、本発明のインジウム蒸着保持フィルムの製造方法は、上記した本発明のインジウム蒸着保持フィルムの製造方法であって、１．３３×１０^-3Ｐａ〜１．３３×１０^-2Ｐａの圧力条件下で、温度が−５℃〜５℃のロールに沿った前記保持フィルム層をインジウム蒸気流中に露出させて、前記保持フィルム層に前記インジウム蒸着層を形成する蒸着工程と、前記蒸着工程によって得られた前記インジウム蒸着層と前記保持フィルム層との積層体の全光線透過率を測定する測定工程と、前記測定工程により得られる前記積層体の全光線透過率が１．３％〜３０％となるように、前記インジウム蒸着層の形成速度を制御する制御工程と、を含む。

また、上記課題を解決するために、本発明の金属調多層フィルムの製造方法は、上記した本発明のインジウム蒸着保持フィルムの製造方法により得た、前記インジウム蒸着保持フィルムの前記インジウム蒸着層と、前記ベースフィルム層を積層する第１積層工程と、前記インジウム蒸着保持フィルムの前記保持フィルム層と、前記保護フィルム層を積層する第２積層工程と、を含む。

また、上記課題を解決するために、本発明のエンブレムは、本発明の金属調多層フィルムを備える。

本発明によれば、ミリ波帯の透過性と可視領域における反射性について、より高い性能を満たすことのできる、インジウム蒸着保持フィルム、金属調多層フィルム、インジウム蒸着保持フィルムの製造方法、金属調多層フィルムの製造方法およびエンブレムを提供することができる。

本発明の金属調多層フィルム１００の一実施形態の側面断面を示す概略図である。 インジウム蒸着層２０の側面断面を撮影したＳＥＭ画像である。 インジウムが蒸着する方向と平行な方向より、実施例２のインジウム蒸着層２０の表面を撮影したＳＥＭ画像である。 真空蒸着装置２００の概略図である。 エンブレム３００の製造工程の一例を示す概略図である。 インジウムが蒸着する方向と平行な方向より、比較例２のインジウム蒸着層の表面を撮影したＳＥＭ画像である。

以下、本発明に係るインジウム蒸着保持フィルム、金属調多層フィルム、インジウム蒸着保持フィルムの製造方法、金属調多層フィルムの製造方法およびエンブレムについて、図面を参照しつつ説明する。なお、本発明は以下の例に限定されない。

図１に、本発明の金属調多層フィルムの一実施形態の概略図として、金属調多層フィルム１００の側面の断面を示す。金属調多層フィルム１００は、順に、ベースフィルム層１０と、インジウム蒸着保持フィルム層７０と、保護フィルム層４０と、が積層する。インジウム蒸着保持フィルム層７０は、インジウム蒸着層２０と、インジウム蒸着層２０を保持する保持フィルム層３０とを備える。

［インジウム蒸着保持フィルム層７０］
インジウム蒸着保持フィルム層７０のミリ波透過減衰量は、−１．０ｄＢ以内である。ミリ波透過減衰量が−１．０ｄＢ以内であれば、ミリ波帯の透過性に極めて優れる。そのため、例えばミリ波レーダの装置本体が照射する電波がインジウム蒸着保持フィルム層７０を透過する際や、この照射された電波が障害物により反射してインジウム蒸着保持フィルム層７０を透過する際において、ミリ波の減衰量を低く抑えることができる。その結果として、ミリ波の照射経路上および反射経路上にインジウム蒸着保持フィルム層７０が配置される場合であっても、ミリ波レーダの電波の検出感度を高水準に維持することができる。

ミリ波透過減衰量の上限は０ｄＢであることが理想だが、現状では−０．２ｄＢ程度が上限である。なお、ミリ波透過減衰量が−１．０ｄＢよりも低いと、ミリ波の照射経路上および反射経路上にインジウム蒸着保持フィルム層を配置した場合において、ミリ波レーダの電波の検出感度を高水準に維持することができないおそれがある。

また、インジウム蒸着保持フィルム層７０の全光線透過率は、３０％以下である。全光線透過率が３０％以下であれば、インジウム蒸着保持フィルム層７０の金属光沢を視認でき、装飾性や意匠性を満足することができる。全光線透過率はより低いことが好ましいが、ミリ波帯の透過性能を満足させることが困難となるおそれがあり、現状では全光線透過率の下限は１．３％である。

なお、全光線透過率が３０％を超えると、金属光沢の視認性に影響し、装飾性や意匠性を満足しないおそれがある。

〈インジウム蒸着層２０〉
インジウム蒸着保持フィルム層７０が備えるインジウム蒸着層２０は、インジウムを蒸着させることで形成される層であり、装飾部分に用いられるメッキ部分や、金属材料からなる部品等と同等の装飾性や意匠性を付与することが出来るよう、充分な金属光沢をインジウム蒸着保持フィルム層７０や金属調多層フィルム１００に付与することができる層である。

また、インジウムの蒸着によって層を形成することで、深絞りがあり、かつ、曲率半径の極めて小さい立体成形を行う場合に有利であり、インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００を光輝装飾成形品の材料とした場合における、光輝装飾成形品の種々の形状に追従しつつ、光輝装飾成形品に装飾性や意匠性を付与することができる。

（インジウム蒸着層２０の厚さ）
インジウム蒸着層２０の厚さは、装飾性や意匠性を考慮すると、１５ｎｍ〜１３０ｎｍであることが好ましい。インジウム蒸着層２０の厚さが１５ｎｍ未満である場合には、インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００に充分な金属光沢を付与できないおそれがあり、装飾性や意匠性を満足しないおそれがある。一方、インジウム蒸着層２０の厚さが１３０ｎｍを超える場合には、装飾性や意匠性への影響は飽和し、さらにインジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００の製造コストの上昇を引き起こすおそれがあり、また、海島構造とならないことでミリ波が透過できないインジウム蒸着層となるおそれがある。なお、インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００と、バックライトとの構成により、インジウム蒸着層２０を介して光を透過させることで、装飾性や意匠性を演出する場合がある。このような場合は、インジウム蒸着層２０の厚さが１５ｎｍ〜５０ｎｍであれば、装飾性や意匠性等を満足することができる。通常は、インジウム蒸着層２０の厚さは５０ｎｍ程度であり、例えば、インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える光線透過用の金属調多層フィルム１００の場合には、インジウム蒸着層２０の厚さは２５ｎｍ程度に設定することができる。

図２に、インジウム蒸着層２０の側面断面を撮影したＳＥＭ画像を示す。図２では、下から保持フィルム層３０、インジウム蒸着層２０、第１ポリウレタン系接着層５０の順に積層した側面断面を撮影したものである。インジウム蒸着層２０は、蒸発したインジウム粒子が保持フィルム層３０の表面に衝突して、平べったく潰れた形状となって保持フィルム層３０に付着している。また、符号Ａで示す領域は、インジウム粒子と他のインジウム粒子との間の領域（以下、「領域Ａ」とする場合がある）であるが、図２右側の領域Ａように、インジウム粒子が付着せずに保持フィルム層３０が露出しているか、または図２左側の領域Ａのように、隣のインジウム粒子と一体化して凹部を形成している場合がある。

そのため、インジウム蒸着層２０の膜厚は一定ではないが、本明細書において、インジウム蒸着層２０の厚さは、保持フィルム層３０の表面３１と平らに潰れたインジウム粒子の表面２１との距離Ｌとする。特に、インジウム蒸着層２０は、優れた装飾性や意匠性を付与するための重要な層であり、均一で薄い層であることが好ましい。

（インジウム蒸着層２０の海島構造）
インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００は、優れた装飾性や意匠性を付与すると共に、波長が３．９０〜３．９５ｍｍで周波数が７６〜７７ＧＨｚの領域の電波を良好に透過する電波透過性を有することが要求される。特に、インジウム蒸着層２０は、インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００が優れた装飾性や意匠性を満足するための重要な層であると共に、優れた電波透過性を有するためにも重要な層である。

そのため、インジウム蒸着保持フィルム層７０が備えるインジウム蒸着層２０は、保持フィルム層３０にインジウムが島状に点在する海島構造、すなわち、平らに潰れたインジウム粒子が保持フィルム層３０の表面に付着した島部分と、インジウム粒子が付着せずに保持フィルム層３０が露出しており、島部分が互いに離れた隙間となっている海部分とを有する海島構造を有することが重要となる。

海島構造について具体的に説明するべく、図３に、インジウムが蒸着する方向と平行な方向より、インジウム蒸着層２０の表面を撮影したＳＥＭ画像を示す。図３に示すインジウム蒸着層２０の表面は、インジウムが蒸着する方向と垂直な方向における表面となる。図３において、周囲の全てが海部分Ｓで囲まれており、隣接するインジウム粒子とは一体化せずに島状となっている部分が島部分Ｉであり、複数存在する。

ここで、インジウムが蒸着する方向と垂直な方向における、インジウム蒸着層２０の表面において、島状のインジウム（すなわち島部分Ｉ）は１５０×１０⁶個／ｃｍ²以上存在する。さらに、前記表面において、島状のインジウムの外周の長さ（すなわち島部分Ｉの周囲であり、島部分Ｉを囲む海部分Ｓの長さ）の合計が１００×１０⁶μｍ／ｃｍ²以上である。

インジウム蒸着層２０の表面１ｃｍ²当たりの島部分Ｉの個数、および島部分Ｉの外周の長さが、上記の条件を満たすことにより、優れた装飾性や意匠性を付与する性質を維持しつつ、特に波長が３．９０〜３．９５ｍｍで周波数が７６〜７７ＧＨｚの領域の電波の透過性に優れる。その結果として、インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００のミリ波透過減衰量を−１．０ｄＢ以内に抑え、全光線透過率を１．３％以上の範囲内とすることができる。

上記の条件を満たさない場合には、ミリ波が透過しやすい海部分Ｓが少なくなったり、島部分Ｉを囲む海部分Ｓの長さが短くなったりすることで、ミリ波が減衰して透過性が低くなるおそれがある。また、島部分Ｉが少ないということは、すなわち隣接するインジウム粒子との一体化が進んでインジウムの連続層が形成されることとなり、この連続層が導電性を有してミリ波を吸収してしまい、ミリ波の透過性が低くなる。一方、上記の条件を満たしていても、全光線透過率が３０％を超えると装飾性や意匠性を付与する性質が低下するおそれがある。

インジウム蒸着層２０が、上記の条件を満たす海島構造を有することにより、深絞りの立体成形を行っても、白化現象等を防止し、金属光沢を保持することができるため、優れた装飾性や意匠性を付与することができる。さらに、波長が３．９０〜３．９５ｍｍで周波数が７６〜７７ＧＨｚの領域の電波を良好に透過する電波透過性を有することができる。

また、前記表面において、島状のインジウムの面積が０．０１μｍ²〜０．４μｍ²であることで、インジウム蒸着層２０の表面１ｃｍ²当たりの島部分Ｉの個数、および島部分Ｉの外周の長さが、上記の条件を満たす。その結果として、優れた装飾性や意匠性を付与する性質を維持しつつ、特に波長が３．９０〜３．９５ｍｍで周波数が７６〜７７ＧＨｚの領域の電波の透過性に優れ、インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００のミリ波透過減衰量を、−１．０ｄＢ以内に抑えることができる。

なお、島状のインジウムの面積は、ＳＥＭにより観察して算出することができるが、島状のインジウムが非常に小さい場合には、ＳＥＭの精度によってはＳＥＭの画像がぼやけてしまうことで、上記面積が特定できない場合がある。そのため、島状のインジウムの面積が０．０１μｍ²〜０．４μｍ²であることは、必ずしも必要な条件ではない。

〈保持フィルム層３０〉
インジウム蒸着保持フィルム層７０が備える保持フィルム層３０は、その片面にインジウム蒸着層２０を保持するフィルムである。保持フィルム層３０は、例えば、透明性を有し、融点が２３０℃〜２５０℃である変性ポリエチレンテレフタレートのような熱可塑性樹脂を含む。なお、保持フィルム層３０の融点は、例えばＪＩＳ Ｋ ７１２１に準拠し、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて特定した融解温度を融点とすることができる。

保持フィルム層３０の全光線透過率は、インジウム蒸着層２０が視認できれば問題ないが、例えば、全光線透過率が８５％以上であれば、インジウム蒸着層２０が与える装飾性や意匠性を満足することができる。より好ましくは、保持フィルム層３０の全光線透過率が、８８％以上であることにより、金属材料と同様の装飾性や意匠性を満足することができる。全光線透過率が８５％未満の場合には、インジウム蒸着層２０の視認性が低下する場合があり、装飾性や意匠性を満足しないおそれがある。また、全光線透過率が１００％であっても、透明性に問題は生じない。なお、保持フィルム層３０の全光線透過率の上限は、９９％程度であることが一般的である。

また、保持フィルム層３０のヘイズは、インジウム蒸着層２０が視認できれば問題ないが、保持フィルム層３０のヘイズの下限は、０．１％であることが一般的である。また、ヘイズが８０％より大きい場合には、光が拡散することでインジウム蒸着層２０の視認性が低下するおそれがあり、装飾性や意匠性を満足しない場合がある。

上記の全光線透過率やヘイズを制御して、保持フィルム層３０の透明性を適宜調整することにより、金属調多層フィルム１００についてミリ波透過性を満足しつつ、所望の装飾性や意匠性を付与することができる。

インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００を用いて、光輝装飾成形品を加熱して成形する場合において、保持フィルム層３０の融点が２３０℃〜２５０℃である変性ポリエチレンテレフタレートのような熱可塑性樹脂を用いることにより、金属調多層フィルム１００の耐熱性を向上させるとともに、金属調多層フィルム１００の成形が可能な可塑性を発現する温度の幅が広くなる。その結果として、金属調多層フィルム１００の温度制御がより容易となり、成形性が向上して良好な歩留まりを維持することができる。融点が２３０℃未満の変性ポリエチレンテレフタレートの場合、金属調多層フィルム１００が成形可能な可塑性を発現する温度から白化現象等が生じるまでの温度の幅が非常に狭くなる場合があり、すなわち成形可能な温度範囲が非常に狭くなるおそれがある。なお、保持フィルム層３０としての変性ポリエチレンテレフタレートの融点の上限は、２５０℃であることが一般的である。

保持フィルム層３０に用いられる変性ポリエチレンテレフタレートのような熱可塑性樹脂は、結晶性を有してもよい。結晶性を有する熱可塑性樹脂は、薄膜で厚み精度が高く、剛性、滑り性を有していることから、インジウムを蒸着するための保持フィルム層３０に適している。結晶性を有しない熱可塑性樹脂は、温度変化に応じて軟化や硬化する。そのため、保持フィルム層３０に用いた場合に、加熱によりインジウム蒸着層２０のインジウムが移動して白化現象等が生じるおそれがある。

保持フィルム層３０は、変性ポリエチレンテレフタレートのような熱可塑性樹脂の場合、加熱により軟化してドローダウンするフィルムであり、前記フィルムがドローダウンから回復した温度と溶融により垂れ下がりを開始する温度との温度差が９５℃〜１２０℃であってもよい。

ドローダウンは、熱成形する際に、フィルムやシートが軟化して垂れ下がる現象である。ドローダウンが発生している状態では、金属調多層フィルムの成形は非常に困難であり、また、この状態で成形すると、金属調多層フィルムの破れや皺が発生する場合がある。

保持フィルム層３０として変性ポリエチレンテレフタレートのような熱可塑性樹脂を用いる場合は、ドローダウンした後に例えば軟化点以上に加熱されると、樹脂分子の熱運動が激しくなり、熱収縮を起こしてピンと張った状態になる。この状態となった時の保持フィルム層３０の温度をドローダウンから回復した温度とする。そして、ドローダウンから回復した保持フィルム層３０はさらに温度が上がることによって、保持フィルム層３０の溶融により保持フィルム層３０が垂れ下がり始める。この垂れ下がりを開始する温度は、保持フィルム層３０の融点よりやや低い温度であり、保持フィルム層３０が融点に達すると、穴が開いてフィルム形状を保持することが困難となる場合がある。

保持フィルム層３０がドローダウンから回復した温度と、溶融により垂れ下がりを開始する温度との温度差が、９５℃〜１２０℃であることにより、保護フィルム層４０やインジウム蒸着層２０およびベースフィルム層１０等と組み合わせて金属調多層フィルム１００とした場合において、光輝装飾成形品の成形が可能な可塑性を発現する温度の幅が広くなる。その結果として、金属調多層フィルム１００の温度制御がより容易となり、成形性が向上して良好な歩留まりを維持することができる。すなわち、前記温度差が大きくなれば、金属調多層フィルム１００の成形が容易な温度の幅も広くなるため、光輝装飾成形品への加工が容易となる。

前記温度差が９５℃未満である場合、インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００が成形可能な可塑性を発現する温度から白化現象等が生じるまでの温度の幅が、狭くなる。そのため、成形可能な温度範囲が狭くなるおそれがあり、温度制御や変形加工が難しくなることで、成形が困難となる場合や白化現象等が発生する場合がある。また、前記温度差は１２０℃より大きくても問題ないが、保持フィルム層３０としては、１２０℃が温度差の上限である。

前記熱可塑性樹脂としては、変性ポリエチレンテレフタレートの他、ポリエステル系樹脂および／またはポリオレフィン系樹脂を用いることができる。ポリオレフィン系樹脂としては、低密度のポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂、環状オレフィン樹脂等を用いることができる。ポリプロピレン樹脂には、ホモポリマー、ブロックコポリマーおよびランダムコポリマー等が挙げられるが、特に限定されない。また、前記熱可塑性樹脂として、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリウレタン樹脂、およびこれらの共重合体、アロイ等を用いることができる。

特に、インジウム蒸着層２０との密着性に優れるポリエステル系樹脂を用いることができる。また、ポリエステル系樹脂は、インジウム蒸着層２０の金属光沢を十分に付与することができるため、金属材料と同等の装飾性や意匠性を満足することができる。また、ポリエステル系樹脂は、取り扱い性に優れるため、例えば保持フィルム層３０を用いて金属調多層フィルム１００を製造する場合において、保持フィルム層３０と他の層との貼り合わせの際に、しわが発生することを防止できる。また、ポリエステル系樹脂であれば、保持フィルム層３０の過剰な伸びによる、インジウム蒸着層２０にむらが発生することを防止できる。ポリエステル系樹脂としては、アモルファスポリエチレンテレフタレート（「ＡＰＥＴ」）樹脂や変性ポリエチレンテレフタレート（ＭＰＥＴ）樹脂等の、通常のポリエチレンテレフタレート樹脂等を用いることができる。成形性に着目すると、特に、深絞りの成形物に対応できる点で、変性ポリエチレンテレフタレート（ＭＰＥＴ）樹脂を用いることができる。

また、熱可塑性樹脂としてＭＰＥＴ樹脂を用いることにより、インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００の金属光沢感が、特に鮮やかで、装飾性や意匠性を十分に満足することができる。また、インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００を用いて光輝装飾成形品を製造する場合において、ＭＰＥＴ樹脂であれば、光輝装飾成形品において曲率半径の極めて小さな角部であっても、白化現象等の発生を防止することができる。

ＭＰＥＴ樹脂は、エチレングリコールとテレフタル酸を基本モノマーとし、さらに変性用モノマーを用いて脱水縮合させてエステル結合を形成することにより、ポリマー化させて得ることができる。変性用モノマーとしては、１，３‐プロパンジオール、１，４‐ブタンジオール、１，４‐シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール、イソフタル酸、２，６‐ナフタレンジカルボン酸等が挙げられる。特に、ネオペンチルグリコールを変性用モノマーとして用いることにより、融点が高く、ドローダウンから回復した温度と溶融により垂れ下がりを開始する温度との温度差を大きくすることができると共に、２軸延伸処理をしてもフィルムの結晶化が抑制されるため、成形性に優れる。そのため、保持フィルム層３０を金属調多層フィルム１００に適用した場合に、金属調多層フィルム１００の温度制御がより容易となり、成形性が向上して良好な歩留まりを維持することができる。さらに、優れた金属蒸着性、耐光性、耐薬品性を併せ持つことができ、特に金属調多層フィルム１００としての金属光沢感が鮮やかである。また、金属調多層フィルム１００を用いて光輝装飾成形品を製造する場合において、光輝装飾成形品において曲率半径の極めて小さな角部であっても、白化現象等の発生を防止することができるとともに、一般のものよりもフィルムの厚さを薄くすることが容易にできる。そのため、生産性が向上し、製造コストが削減できると云う効果をも併せ持つことができ、また、複雑な形状の表面に対しても、容易に金属光沢を付与し、装飾性や意匠性を高めることができる。

変性用モノマーの割合は、ポリエチレンテレフタレートの特性を損なうことなく、変性の効果を付与できるよう、任意の割合とすることができる。たとえば、ＭＰＥＴ中の変性用モノマー全体の割合を５モル％〜５０モル％とすることで、インジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００の温度制御がより容易となり、成形性が向上して良好な歩留まりを維持することができる。また、変性モノマー各種の混合比も、ポリエチレンテレフタレートの特性を損なうことなく、変性の効果を付与できるよう、任意の比とすることができる。例えば、ジオール成分として、エチレングリコールとネオペンチルグリコールを質量比で９５：５〜５０：５０の混合比として、カルボン酸成分としてテレフタル酸とイソフタル酸を質量比で９５：５〜５０：５０の混合比として、変性することができる。また、ネオペンチルグリコールのみを変性することができる。なお、ジオール成分とカルボン酸成分の混合割合は、例えば水酸基とカルボキシル基が同数となるように、任意に決定することができる。

保持フィルム層３０に用いることのできる熱可塑性樹脂としては、例えばペレット状やフレーク状の形状のものを入手することが可能である。そして、熱可塑性樹脂をカレンダー法、押し出し法またはその他の公知の方法で、２軸延伸処理等を行うことでフィルム化することにより、保持フィルム層３０を得ることができる。

保持フィルム層３０としては、熱可塑性樹脂に加え、安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、難燃剤、顔料および染料等の添加物を含んでもよい。

保持フィルム層３０の厚さは、薄くすることにより１ロールあたりの巻き長さをより長くすることが可能であり、これにより高い生産性と充分な低コスト効果を得ることができる。例えば、保持フィルム層３０の厚さを１００μｍ以下とすることができ、より高い生産性と低コスト効果を考慮すれば、４０μｍ以下がより好ましく、２５μｍ以下であることが更に好ましい。保持フィルム層３０の厚さの下限は、インジウム蒸着層２０の保持や、金属調多層フィルム１００を形成するための取り扱いに充分であれば、特に限定されない。例えば、保持フィルム層３０の厚さを３μｍ以上、より好ましくは５μｍ以上とすることができる。

（ポリエチレンテレフタレート系樹脂層）
特に、エンブレムの材料として用いられるインジウム蒸着保持フィルム層７０を備える金属調多層フィルム１００の場合には、保持フィルム層３０は、厚みが５μｍ〜５０μｍのポリエチレンテレフタレート系樹脂層であることが好ましい。

なお、ポリエチレンテレフタレート系樹脂としては、主成分がポリエチレンテレフタレートである樹脂組成物を挙げることができ、例えば上記のＡＰＥＴやＭＰＥＴも含まれる。ポリエチレンテレフタレート系樹脂層は、このようなポリエチレンテレフタレート系樹脂により形成された層である。

保持フィルム層３０は、その表面にサンドマット加工、エッチング加工および／またはヘアライン加工がされていてもよい。これらの加工により、インジウム蒸着層２０の保持効果が向上する場合があり、また、マット調等の所望の意匠を表現することができる。例えば、これらの加工を保持フィルム層３０のインジウム蒸着層２０を保持する面に処理することにより、所望の意匠を得ることができる。

［金属調多層フィルム１００］
金属調多層フィルム１００のミリ波透過減衰量は、−１．０ｄＢ以内である。ミリ波透過減衰量が−１．０ｄＢ以内であれば、ミリ波帯の透過性に極めて優れる。そのため、例えばミリ波レーダの装置本体が照射する電波が金属調多層フィルム１００を透過する際や、この照射された電波が障害物により反射して金属調多層フィルム１００を透過する際において、ミリ波の減衰量を低く抑えることができる。その結果として、ミリ波の照射経路上および反射経路上に金属調多層フィルム１００が配置される場合であっても、ミリ波レーダの電波の検出感度を高水準に維持することができる。

ミリ波透過減衰量の上限は０ｄＢであることが理想だが、現状では−０．２ｄＢ程度が上限である。なお、ミリ波透過減衰量が−１．０ｄＢよりも低いと、ミリ波の照射経路上および反射経路上に金属調多層フィルムを配置した場合において、ミリ波レーダの電波の検出感度を高水準に維持することができないおそれがある。

また、金属調多層フィルム１００の全光線透過率は、３０％以下である。全光線透過率が３０％以下であれば、金属調多層フィルム１００の金属光沢を視認でき、装飾性や意匠性を満足することができる。全光線透過率はより低いことが好ましいが、ミリ波帯の透過性能を満足させることが困難となるおそれがあり、現状では全光線透過率の下限は１．３％である。

なお、全光線透過率が３０％を超えると、金属光沢の視認性に影響し、装飾性や意匠性を満足しないおそれがある。

〈ベースフィルム層１０〉
ベースフィルム層１０は、金属調多層フィルム１００の最下層に配される層であり、エンブレム等の光輝装飾成形品を製造する際の温度に耐えられるものである。また、透明性が要求されない光輝装飾成形品に用いられる場合には、透明性等の色彩、透明度などに関しても通常特に要求されない。ただし、ベースフィルム層の色調が光輝装飾成形品の表面における金属光沢への色調に影響を与えるおそれがある。また、光輝装飾成形品とバックライトとの構成により、金属層を介して光を透過させることで、装飾性や意匠性を演出する場合があり、この場合には、ベースフィルム層も透明性が要求される。

透明性の目安としては、全光線透過率やヘイズが重要となる。全光線透過率が８５％以上であれば、インジウム蒸着層２０を介して光を透過させることで装飾性や意匠性を演出することが可能となり、８８％以上であることがより好ましい。全光線透過率が８５％未満の場合には、装飾性や意匠性を満足しないおそれがある。

また、ヘイズは、インジウム蒸着層２０が与える装飾性や意匠性を満足することができれば問題なく、ヘイズの下限は、０．１％であることが一般的である。なお、ヘイズが８０％より大きい場合には、光が拡散することで、インジウム蒸着層２０を介して光を透過させることが不十分となり、装飾性や意匠性を満足できない場合がある。

上記の全光線透過率やヘイズを制御して、ベースフィルム層１０の透明性を適宜調整することにより、金属調多層フィルム１００についてミリ波透過性を満足しつつ、所望の装飾性や意匠性を付与することができる。

ベースフィルム層１０としては、インジウム蒸着層２０が与える装飾性や意匠性への影響を考慮し、用途に応じてポリ塩化ビニル系、ポリオレフィン系、ポリスチレン系、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリアミド系、ポリカーボネート系、アクリロニトリル‐ブタジエン‐スチレン共重合体系等の樹脂から、光輝装飾成形品に成形する時の温度に対する耐熱性、インサート射出成形における射出成形樹脂等との相溶性等を考慮して、ベースフィルム層１０用の材料を適宜選択することができる。

また、ベースフィルム層１０の厚さとしては、金属調多層フィルム１００として一般的な厚さとすることができ、例えば５０μｍ〜１０００μｍとすることができる。ベースフィルム層１０の厚さが５０μｍ未満の場合には、例えば後述する第１ポリウレタン系接着層５０によって、ベースフィルム層１０とインジウム蒸着層２０を接合する時に、しわ等の瑕疵が発生しやすく、また、光輝装飾成形品の成形加工時に金属調多層フィルム１００が破断しやすくなる場合がある。一方、ベースフィルム層１０の厚さが１０００μｍを超えると、光輝装飾成形品の成形性が低下するおそれがある。

（ポリカーボネート系樹脂層）
特に、エンブレムの材料として用いられる金属調多層フィルム１００の場合には、ベースフィルム層１０は、厚みが５０μｍ〜１０００μｍであり、射出密着性の高いポリカーボネート系樹脂層であることが好ましい。

なお、ポリカーボネート系樹脂としては、主成分がポリカーボネートである樹脂組成物を挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂としては、ビスフェノールとアセトンから合成されるビスフェノールＡから、界面重合法、エステル交換法、ピリジン法等によって製造されるもの、ビスフェノールＡとジカルボン酸誘導体、例えばテレ（イソ）フタル酸ジクロリド等との共重合体により得られるポリエステルカーボネート、ビスフェノールＡの誘導体、例えばテトラメチルビスフェノールＡ等の重合により得られるものが挙げられる。ポリカーボネート系樹脂層は、このようなポリカーボネート系樹脂により形成された層である。また、ポリカーボネート系樹脂層としては、透明性を有する層や黒色の層を適宜使用することができる。

〈インジウム蒸着保持フィルム７０〉
金属調多層フィルム１００が備えるインジウム蒸着保持フィルム７０については、［インジウム蒸着保持フィルム７０］の項目において説明したとおりであり、ここでは説明を省略する。

〈保護フィルム層４０〉
保護フィルム層４０は、金属調多層フィルム１００の最上層に配される層であり、インジウム蒸着層２０が視認できるよう透明性を有し、光輝装飾成形品を成形する際の温度に耐えられるものである。

保護フィルム層４０の全光線透過率は、インジウム蒸着層２０が視認できれば問題ないが、例えば、全光線透過率が８５％以上であれば、インジウム蒸着層２０が与える装飾性や意匠性を満足することができる。より好ましくは、保護フィルム層４０の全光線透過率が、８８％以上であることにより、金属材料と同様の装飾性や意匠性を満足することができる。全光線透過率が８５％未満の場合には、インジウム蒸着層２０の視認性が低下する場合があり、装飾性や意匠性を満足しないおそれがある。また、全光線透過率が１００％であっても、透明性に問題は生じない。なお、保護フィルム層４０の全光線透過率の上限は、９９％程度であることが一般的である。

また、保護フィルム層４０のヘイズは、インジウム蒸着層２０が視認できれば問題ないが、保護フィルム層４０のヘイズの下限は、０．１％であることが一般的である。また、ヘイズが８０％より大きい場合には、光が拡散することでインジウム蒸着層２０の視認性が低下するおそれがあり、装飾性や意匠性を満足しない場合がある。

上記の全光線透過率やヘイズを制御して、保護フィルム層４０の透明性を適宜調整することにより、金属調多層フィルム１００についてミリ波透過性を満足しつつ、所望の装飾性や意匠性を付与することができる。

保護フィルム層４０は、透明度や色調等を調整するべく、各種の色素や顔料等を含んでもよく、また、染料によって染色されていても良い。さらに、保護フィルム層４０には予め所望の印刷がされてあっても良い。この場合、保護フィルム層４０が外部と接触する面に印刷することができるが、外部と接触する面とは反対側の面である、例えば後述する第２ポリウレタン系接着層６０と接触する面に印刷されることで、印刷の耐久性を向上させることができる。

保護フィルム層４０の材料としては、例えば、ポリ塩化ビニル系、ポリオレフィン系、ポリスチレン系、ポリアクリル系、ポリウレタン系、ポリアミド系、ポリカーボネート系、フッ素樹脂系等の樹脂が挙げられる。これらの樹脂から、透明性、成形時の温度に対する耐熱性、経済性等を考慮して、保護フィルム層４０の材料を適宜選択することができる。

例えば、光輝装飾成形品の表面として、表現性に優れた成形品が得られること、および、耐擦傷性の点で、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のアクリル系の樹脂フィルムを保護フィルム層４０として用いることができる。この場合には、光輝装飾成形品を成形するにあたり、優れた成形性が得られる。また、成形後の光輝装飾成形品の表面にハードコート層を設けることが不要となり、低コスト化が可能となる。さらに、絞りの大きい成形物に応用した場合であっても、光輝装飾成形品の全表面において、高い耐擦傷性が得られる。

なお、アクリル系樹脂フィルムを用いた場合の上記の効果に加えて、優れた耐候性をも同時に成形品に賦与したい場合には、フッ素系樹脂とアクリル系樹脂とのアロイフィルムや、フッ素系樹脂層とアクリル系樹脂層とからなる２層フィルム等を用いることで対応することができる。

ただし、このようなアロイフィルムを用いた場合には、接着性に劣る場合があり、高い接着性を得たい場合には、フッ素樹脂成分の多いフッ素系樹脂とアクリル系樹脂とのアロイフィルム層と、フッ素樹脂成分の少ないフッ素系樹脂とアクリル系樹脂とのアロイフィルム層とからなる複合アロイフィルムを用いることができる。そして、この複合アロイフィルムにおいて、フッ素樹脂成分の少ないフッ素系樹脂とアクリル系樹脂とのアロイフィルム層側に第２ポリウレタン系接着層６０を設けることにより、アクリル系樹脂の良好な密着性とフッ素系樹脂の優れた耐候性とを併せて得ることができる。また、アクリル系樹脂フィルムを保護フィルム層として用いた場合、高い耐擦傷性が得られる。

また、ポリカーボネート系の樹脂は、透明性、耐熱性、耐衝撃性、成形性に優れ、密着性が高いことから、保護フィルム層４０の材料として用いることができる。

保護フィルム層４０の厚さは、通常は１０μｍ以上とすることが好ましく、取り扱い性を考慮すると２５μｍ以上であることがより好ましい。一方、成形性、可撓性および経済性を考慮すると、保護フィルム層４０の厚さは３００μｍ以下とすることが好ましい。一般的には、７５μｍ〜１２５μｍの厚さの保護フィルム層４０を用いることができる。

（ポリカーボネート系樹脂層）
特に、エンブレムの材料として用いられる金属調多層フィルム１００の場合には、保護フィルム層４０は、厚みが５０μｍ〜２００μｍであり、射出密着性の高いポリカーボネート系樹脂層であることが好ましい。

なお、ポリカーボネート系樹脂としては、主成分がポリカーボネートである樹脂組成物を挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂としては、ビスフェノールとアセトンから合成されるビスフェノールＡから、界面重合法、エステル交換法、ピリジン法等によって製造されるもの、ビスフェノールＡとジカルボン酸誘導体、例えばテレ（イソ）フタル酸ジクロリド等との共重合体により得られるポリエステルカーボネート、ビスフェノールＡの誘導体、例えばテトラメチルビスフェノールＡ等の重合により得られるものが挙げられる。ポリカーボネート系樹脂層は、このようなポリカーボネート系樹脂により形成された層である。

（ポリウレタン系接着層）
金属調多層フィルム１００は、ベースフィルム層１０とインジウム蒸着層２０を接合する第１ポリウレタン系接着層５０と、保持フィルム層３０と保護フィルム層４０を接合する第２ポリウレタン系接着層６０と、を備えてもよい（図１）。

（第１ポリウレタン系接着層５０）
第１ポリウレタン系接着層５０は、インジウム蒸着層２０および／またはベースフィルム層１０にポリウレタン系接着剤を塗布することにより形成することができる。ポリウレタン系接着剤は、インジウム蒸着層２０およびベースフィルム層１０との接着性に優れており、また、透明性や接着性、成形時の温度に耐えられる耐熱性等を満足することができる。透明性の目安としての全光線透過率やヘイズについては、上記したとおりであるため、説明を省略する。ポリウレタン系接着剤の使用に際しては、適宜溶剤を用いて、あるいは、エマルジョンとして、グラビアコーター、ダイコーター、リバースコーター、ナイフコーター、ロールコーター等の公知の手段により、インジウム蒸着層２０および／またはベースフィルム層１０に適量を塗布し、必要により乾燥して、第１ポリウレタン系接着層５０を形成することができる。

また、第１ポリウレタン系接着層５０の厚さとしては、金属調多層フィルム１００として一般的な厚さとすることができる。例えば、１μｍ〜２０μｍの厚さとすることができ、接着性や乾燥時間、コスト等を考慮すると、２μｍ〜８μｍの厚さとすることができる。

（第２ポリウレタン系接着層６０）
第２ポリウレタン系接着層６０は、保護フィルム層４０および／または保持フィルム層３０にポリウレタン系接着剤を塗布することにより形成することができる。第２ポリウレタン系接着層６０は、着色されていてもよく、第２ポリウレタン系接着層６０の透明度や色調等を調整するべく、種々の色素、顔料および／または染料等を含んでもよく、金属粉末、金属箔粉末および／またはマイカ等が含まれてもよい。

ポリウレタン系接着剤は、保護フィルム層４０および保持フィルム層３０との接着性に優れており、また、インジウム蒸着層２０を視認できる透明性や接着性、成形時の温度に耐えられる耐熱性、屋外で使用される用途に耐えられる耐候性等を満足することができる。透明性の目安としての全光線透過率やヘイズについては、上記したとおりであるため、説明を省略する。ポリウレタン系接着剤の使用に際しては、適宜溶剤を用いて、あるいは、エマルジョンとして、グラビアコーター、リバースコーター、ナイフコーター、ロールコーター等の公知の手段により、保護フィルム層４０および／または保持フィルム層３０に適量を塗布し、必要により乾燥して、第２ポリウレタン系接着層６０を形成することができる。

また、第２ポリウレタン系接着層６０の厚さとしては、金属調多層フィルム１００として一般的な厚さとすることができる。例えば、１μｍ〜２０μｍの厚さとすることができ、接着性や透明性、乾燥時間、コスト等を考慮すると、２μｍ〜８μｍの厚さとすることができる。

なお、ポリウレタン系接着剤としては、主剤がポリエステルポリオールまたはポリエーテルポリオールであり、硬化剤がイソシアネートよりなる、二液硬化型溶液タイプ、無溶剤タイプの接着剤や湿硬タイプの接着剤が挙げられる。適宜これらの接着剤を使用し、ポリウレタン系接着層を形成することができる。

（その他の構成）
金属調多層フィルム１００は、上記の構成に加え、更なる構成を備えてもよい。例えば、金属調多層フィルム１００を用いてエンブレム等の光輝装飾成形品を製造するまでの間、保護フィルム層４０やベースフィルム層１０の表面を清浄な状態に維持し、汚れが付くのを防止するため、剥離の容易な保護フィルム等を保護フィルム層４０やベースフィルム層１０の表面に備えることができる。

なお、本発明の金属調多層フィルム１００は、エンブレムの材料として有用であるが、これに限定されず、ミリ波帯の透過性と可視領域における反射性について、より高い性能が要求されるフロントグリル、ドアミラー、ヘッドランプリフレクター、リアランプリフレクター、ガーニッシュ、バンパーモール等の光輝装飾成形品の材料として有用である。

［インジウム蒸着保持フィルム７０の製造方法］
上記したインジウム蒸着層２０は、いわゆる真空蒸着法によって形成され、インジウム蒸着保持フィルム７０が製造される。以下、真空蒸着法によるインジウム蒸着保持フィルム７０の製造方法について、図４に示す真空蒸着装置２００の概略図を参照しつつ、説明する。

（真空蒸着装置２００）
真空蒸着装置２００は、隔壁２１０によって隔てられた上室２２０と下室２３０を備えている。上室２２０には、蒸着対象となる保持フィルム３０ａが繰り出される繰出しロール２４０と、蒸着された保持フィルム３０ｂが巻き取られる巻取りロール２５０と、繰出しロール２４０より送られた保持フィルム３０ａを冷却して蒸着させ、蒸着された保持フィルム３０ｂを巻取りロール２５０へ送る冷却ロール２６０の上部が配されている。下室２３０には、隔壁２１０で隔てられた冷却ロール２６０の下部と、インジウムを入れる蒸発源るつぼ２７０が配されており、蒸発源るつぼ２７０よりインジウムが気化して下室２３０においてインジウムの蒸気流が発生し、この蒸気流が冷却ロール２６０で冷却された保持フィルムの表面に付着する原理となっている。上室２２０および下室２３０は、それぞれ開口部２２１、２３１より未図示のポンプによって減圧される。

特に、本発明のインジウム蒸着保持フィルム７０の製造方法では、以下の蒸着工程、測定工程および制御工程が必須となる。

〈蒸着工程〉
本工程は、１．３３×１０^-3Ｐａ〜１．３３×１０^-2Ｐａの圧力条件下で、温度が−５℃〜５℃のロールに沿った保持フィルム層をインジウム蒸気流中に露出させて、保持フィルム層にインジウム蒸着層を形成する工程である。真空蒸着装置２００では、下室２３０の室内圧力を１．３３×１０^-3Ｐａ〜１．３３×１０^-2Ｐａの圧力条件下に制御し、冷却ロール２６０の温度を−５℃〜５℃に制御する。そして、蒸発源るつぼ２７０よりインジウムを気化させて、下室２３０内にインジウムの蒸気流を発生させる。この状態で繰出しロール２４０から保持フィルム３０ａを冷却ロール２６０へ送り出し、保持フィルム３０ａの温度を−５℃〜５℃に冷却し、更に下室２３０へ侵入させる。下室２３０へ侵入した保持フィルム３０ａの表面にインジウムの蒸気流が付着し、インジウムが冷却されてインジウム蒸着層２０が形成される。

本工程では、２．０×１０^-2Ｐａ〜１．３３×１０^-2Ｐａの圧力条件下に制御することで、インジウムの蒸着をより厳密に制御することが可能となり、海島構造を有する、より均一な膜厚のインジウム蒸着層２０を得ることができる。

〈測定工程〉
本工程は、蒸着工程によって得られたインジウム蒸着層と保持フィルム層との積層体の全光線透過率を測定する工程である。真空蒸着装置２００では、蒸着工程により蒸着された保持フィルム３０ｂ（インジウム蒸着層２０と保持フィルム層３０との積層体）は、冷却ロール２６０より巻取りロール２５０へ送られて、巻取りロール２５０に巻き取られる。例えば、透過率測定器２８０を冷却ロール２６０と巻取りロール２５０の間に配置することで、保持フィルム３０ｂの全光線透過率を測定することができる。

〈制御工程〉
本工程は、測定工程により得られる積層体の全光線透過率が１．３％〜３０％となるように、インジウム蒸着層の形成速度を制御する工程である。真空蒸着装置２００では、透過率測定器２８０によって測定された保持フィルム３０ｂの全光線透過率が１．３％〜３０％である場合には、下室２３０の圧力条件、冷却ロール２６０の温度、および保持フィルム３０ａを下室２３０へ送る送り速度、蒸発源るつぼ２７０内のインジウムの温度等の蒸着条件が維持できるよう、真空蒸着装置２００を制御する。一方で、保持フィルム３０ｂの全光線透過率が１．３％〜３０％ではない場合には、全光線透過率が１．３％〜３０％となるように、上記の蒸着条件を適宜制御する。例えば、全光線透過率が１．３％〜３０％の範囲で予め定められた値になるように、主として保持フィルム３０ａの送り速度を制御し、他の条件は固定することができる。所望の意匠や演出を実現させるインジウム蒸着層の膜厚となるよう、全光線透過率をセンサで常時監視し、このデータをフィードバックして送り速度を制御することができる。

なお、上室２２０は、１．３３×１０^-2Ｐａ〜１．３３×１０^-1Ｐａ、好ましくは、６．６７×１０^-1Ｐａ〜４．００×１０^-1Ｐａの圧力条件下に制御することで、インジウムの蒸着をより厳密に制御することが可能となり、海島構造を有する、より均一な膜厚のインジウム蒸着層２０を得ることができる。

［金属調多層フィルム１００の製造方法］
以下、上記した金属調多層フィルム１００の製造方法の一例について、説明する。

（第１積層工程）
本工程は、上記した本発明のインジウム蒸着保持フィルム７０の製造方法により得た、インジウム蒸着保持フィルム７０のインジウム蒸着層２０と、ベースフィルム層１０を積層する工程である。例えば、インジウム蒸着層２０および／またはベースフィルム層１０にポリウレタン系接着剤を塗布することにより、第１ポリウレタン系接着層５０を介して、インジウム蒸着層２０とベースフィルム層１０を積層することができる。また、保持フィルム層３０とベースフィルム層１０を積層しても良い。

（第２積層工程）
本工程は、インジウム蒸着保持フィルム７０の保持フィルム層３０と、保護フィルム層４０を積層する工程である。例えば、保護フィルム層４０および／または保持フィルム層３０にポリウレタン系接着剤を塗布することにより、第２ポリウレタン系接着層６０を介して、保持フィルム層３０と保護フィルム層４０を積層することができる。また、インジウム蒸着層２０と保護フィルム層４０を積層しても良い。

なお、第１積層工程と第２積層工程の順番は、特に限定されず、第１積層工程の後に第２積層工程を実施することや、第２積層工程の後に第１積層工程を実施することができる。また、例えばインジウム蒸着層２０と保持フィルム層３０にポリウレタン系接着剤を塗布し、ベースフィルム層１０と保護フィルム層４０を同時に積層するという態様も可能であり、すなわち第１積層工程と第２積層工程を同時に実施することができる。

（その他の工程）
本発明の金属調多層フィルム１００の製造方法は、上記の工程の他、更なる工程を含んでもよい。例えば、剥離の容易な保護フィルム等を保護フィルム層４０やベースフィルム層１０の表面に積層する工程を備えることができる。この工程により、保護フィルム層４０やベースフィルム層１０の表面を清浄な状態に維持し、汚れが付くのを防止することができる。

［エンブレム］
本発明のエンブレムは、上記の本発明の金属調多層フィルムを備えるエンブレムである。以下、本発明のエンブレムの製造方法の一例について、図５に示すエンブレム３００の製造工程の一例を示す概略図を参照しつつ、説明する。

〈エンブレム３００の製造方法の一例〉
図５（ａ）の金属調多層フィルム１００の保護フィルム層４０の表面に、所定の図形や色の組み合わせとなるように、印刷により模様層３１０を形成する。印刷方法は特に限定されず、例えば、金属調多層フィルム１００が枚葉フィルムの場合にはスクリーン印刷すればよく、金属調多層フィルム１００がロール状の場合にはグラビア印刷すればよい。

模様層３１０を印刷後、金属調多層フィルム１００をエンブレム３００の形状となるように予備賦形する（図５（ｂ））。次に、エンブレム３００の形状に合わせて、余分な周辺部分をトリミングする（図５（ｃ））。そして、金属調多層フィルム１００のベースフィルム層１０の表面に、射出成型によって黒色のポリカーボネート系樹脂層３２０を形成する（図５（ｄ））。また、保護フィルム層４０および模様層３１０の表面に、これらの表面の保護および美観の向上のため、射出成型によって無色透明のポリカーボネート系樹脂層３３０を形成する（図５（ｅ））。更に、ポリカーボネート系樹脂層３３０の表面にアクリルシリコン系樹脂のクリヤー塗料を塗装し、膜厚５μｍ〜１０μｍのトップコート層３４０を形成し（図５（ｆ））、エンブレム３００が製造される。

以下、本発明について、実施例を用いてさらに具体的に説明する。ただし、本発明は、以下の実施例に何ら限定されるものではない。

［インジウム蒸着保持フィルム７０の製造］
真空蒸着装置２００を使用し、保持フィルム３０ａにインジウム蒸着層２０を蒸着した。まず、保持フィルム３０ａを繰出しロール２４０に取り付け、冷却ロール２６０を介して巻取りロール２５０につないだ。次に、真空ポンプを用いて、上室２２０の圧力を１．３３×１０^-2〜１．３３×１０^-1Ｐａに調製し、下室２３０の圧力を１．３３×１０^-3〜１．３３×１０^-2Ｐａに調製した。そして、高周波誘導加熱用コイルで、下室２３０の蒸発源るつぼ２７０中のインジウムを徐々に加熱し、インジウムがその蒸発温度である２１００℃〜２２００℃に達してから、保持フィルム３０ａを繰出しロール２４０から−５℃〜５℃に冷却した冷却ロール２６０に沿わせながら巻取りロール２５０に巻きとり、下室２３０で保持フィルム３０ａをインジウム蒸気流中に露出させてインジウムを蒸着し、保持フィルム３０ａの表面にインジウム蒸着層２０を形成した。

保持フィルム３０ａは繰出しロール２４０から巻取りロール２５０まで一定の速度で走行させながら、インジウム蒸着層２０を形成した。また、蒸着された保持フィルム３０ｂの全光線透過率を、巻取りロール２５０に巻き取られる前に透過率測定器２８０で連続して測定し、保持フィルム３０ｂの全光線透過率が、実施例１〜６および比較例１〜３においてそれぞれ所定の値となるように、保持フィルム３０ａの走行速度を調節した。

保持フィルム３０ａとしては、厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム（帝人フィルムソリューション株式会社製テレフレックスＦＴ−３）を使用した。

［金属調多層フィルム１００の形成］
ベースフィルム層１０にポリウレタン系接着剤を塗布し、インジウム蒸着保持フィルム７０のインジウム蒸着層２０とベースフィルム層１０を接着した。また、保護フィルム層４０にポリウレタン系接着剤を塗布し、インジウム蒸着保持フィルム７０の保持フィルム層３０と保護フィルム層４０を接着した。以上により、金属調多層フィルム１００を形成した。

ベースフィルム層１０としては、厚み１２５μｍのポリカーボネート系樹脂フィルム（株式会社シャインテクノ製シャインテックＰＣ１１Ｕ）を使用した。そして、保護フィルム層４０としては、厚み１２５μｍのポリカーボネート系樹脂フィルム（株式会社シャインテクノ製シャインテックＰＣ１１Ｕ）を使用した。また、ポリウレタン系接着剤としては主剤（東洋紡株式会社製 バイロン ＵＲ１７００）１８質量部、硬化剤（旭化成株式会社製 デュラネート ＴＰＡ−１００）１２質量部、酢酸エチル１１重量部の混合物を使用し、第１ポリウレタン系接着層５０および第２ポリウレタン系接着層６０の厚みはそれぞれ２．５μｍとした。

［海島構造の評価］
走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、インジウムが蒸着する方向と垂直な方向におけるインジウム蒸着層２０の表面の画像を撮影し、以下の方法により、島部分Ｉの個数、面積、外周長さの合計を算出した。

（島部分Ｉの個数）
倍率３万倍としたＳＥＭ画像中にある島部分Ｉの個数を数え、ＳＥＭ画像の面積で割ることにより、島部分Ｉの個数（個／ｃｍ²）を算出した。

（島部分Ｉの面積）
倍率５万倍としたＳＥＭ画像中にある島部分Ｉのうち、最大面積の島部分Ｉと最小面積の島部分Ｉを目視で選択し、それらの島部分Ｉの面積を、タマヤ計測システム株式会社製デジタルプラニメーターＰＬＡＮＩＸ５を使用して測定した。

（島部分Ｉの外周長さの合計）
株式会社マイゾックス製マップメジャー（キルビメーター）を使用し、倍率３万倍としたＳＥＭ画像中にある島部分Ｉの外周となる海部分Ｓの総延長距離を測定し、ＳＥＭ画像の面積で割ることにより、島部分Ｉの外周長さの合計（μｍ／ｃｍ²）を算出した。なお、海部分Ｓの総延長距離の測定において、島部分Ｉが隣り合うことにより、２つ以上の島部分Ｉが外周として共有する海部分Ｓについては、１度のみ距離を測定し、重複して測定しなかった。

［インジウム蒸着層２０の膜厚の測定］
走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、金属調多層フィルム１００の側面断面の画像を撮影した。保持フィルム層３０の表面３１と平らに潰れたインジウム粒子の表面２１との距離Ｌを測定し、最も長い距離Ｌをインジウム蒸着層２０の膜厚とした。

［全光線透過率の測定］
透過率測定器を使用し、金属調多層フィルム１００の全光線透過率を測定した。

［ミリ波透過減衰量の測定］
ＫＥＹＣＯＭ社製ＲＡＳ（ＳＭ５８９９）を使用して、金属調多層フィルム１００における、周波数７６．５ＧＨｚのミリ波のミリ波透過減衰量を測定した。金属調多層フィルム１００は、ミリ波がベースフィルム層１０から保護フィルム層４０へ透過するように装置へセットされた。測定は、ベースフィルム層１０から保護フィルム層４０への１方向のみについて２５０回行い、２５０回の測定値の平均値をミリ波透過減衰量とした。

［視認性の評価］
金属調多層フィルム１００の外観を目視観察した。金属光沢の視認性に問題はなく、装飾性や意匠性を満足する外観であるものを「〇」、金属光沢の視認性に問題があり、装飾性や意匠性を満足しない外観であるものを「×」と評価した。

評価結果について、表１に示す。また、実施例２および比較例２における金属調多層フィルム１００のインジウム蒸着層２０の表面のＳＥＭ画像を、それぞれ図３、６に示す。なお、実施例１は、インジウム蒸着保持フィルムの評価結果であり、実施例２〜６および比較例１〜３は金属調多層フィルムの評価結果である。また、実施例２の金属調多層フィルムは、実施例１のインジウム蒸着保持フィルムを用いて製造したフィルムである。

実施例６および比較例１のインジウム蒸着層のＳＥＭ画像は、ＳＥＭ画像の拡大可能な倍率や解像度の影響で、ぼやけてしまった。ただし、ＳＥＭ画像がぼやけた状態であっても、ＳＥＭ画像の観察により島部分Ｉと海部分Ｓが存在することは認められ、また、実施例６および比較例１の島部分Ｉは、実施例１〜５の島部分Ｉよりも小さく、いずれも０．０１μｍ²未満であることは確認できた。すなわち、表１における実施例６および比較例１のインジウム蒸着層では、島部分Ｉの個数や面積、外周の長さの合計は、測定不能という結果を示したが、実施例１〜５と比べて、島部分Ｉの個数は多く、外周の長さの合計も長いことは、目視確認できた。

実施例１の結果より、保持フィルム層にインジウムが島状に点在する海島構造のインジウム蒸着層を有し、島部分Ｉは１５０×１０⁶個／ｃｍ²以上存在し、外周の長さの合計が１００×１０⁶μｍ／ｃｍ²以上であるインジウム蒸着保持フィルムは、ミリ波透過減衰量が−１．０ｄＢ以内であり、全光線透過率は１．３％〜３０％であり、視認性も良好であった（表１）。

そして、このような実施例１のインジウム蒸着保持フィルムを用いた実施例２の金属調多層フィルムは、実施例１とほぼ同様のミリ波透過減衰量と全光線透過率を示した（表１）。すなわち、ベースフィルム層、保護フィルム層およびポリウレタン系接着剤は、インジウム蒸着保持フィルムのミリ波透過減衰量と全光線透過率にほとんど影響しなかった。

また、実施例２〜６の結果より、保持フィルム層にインジウムが島状に点在する海島構造のインジウム蒸着層を有し、島部分Ｉは１５０×１０⁶個／ｃｍ²以上存在し、外周の長さの合計が１００×１０⁶μｍ／ｃｍ²以上であるインジウム蒸着保持フィルムを用いた金属調多層フィルムであれば、ミリ波透過減衰量が−１．０ｄＢ以内であり、全光線透過率は１．３％〜３０％であり、視認性も良好であった（表１）。

一方、比較例１の金属調多層フィルムは、ミリ波透過減衰量が−１．０ｄＢ以内であるものの、全光線透過率が３８％と高く、金属光沢の視認性に問題があり、装飾性や意匠性を満足しない外観であった。

そして、比較例２、３の場合には、インジウム蒸着層において、蒸着処理により隣接するインジウム粒子との一体化が進んでインジウムの連続層が形成されたため、島部分Ｉの数が少なく、また、島部分Ｉを囲む海部分Ｓの長さが短くなり、外周の長さの合計も少ない値となった。その結果として、インジウムの連続層がミリ波を吸収してしまい、ミリ波の透過性能が低下することとなった。

また、図３と図６を見比べることにより、実施例１、２のインジウム蒸着層は、インジウムが島状に点在する海島構造を有する一方で、比較例２のインジウム蒸着層は、蒸着処理により隣接するインジウム粒子との一体化が進んでインジウムの連続層が形成され、ミリ波が透過し難い層となったことが確認できた。

［まとめ］
以上より、本発明であれば、ミリ波帯の透過性と可視領域における反射性について、より高い性能を満たすことのできる、インジウム蒸着保持フィルム、金属調多層フィルム、インジウム蒸着保持フィルムの製造方法、金属調多層フィルムの製造方法およびエンブレムを提供することができることは、明らかであり、産業上有用である。

１０ ベースフィルム層
２０ インジウム蒸着層
２１ 表面
３０ 保持フィルム層
３０ａ 保持フィルム
３０ｂ 蒸着された保持フィルム
３１ 表面
４０ 保護フィルム層
５０ 第１ポリウレタン系接着層
６０ 第２ポリウレタン系接着層
７０ インジウム蒸着保持フィルム
１００ 金属調多層フィルム
２００ 真空蒸着装置
２１０ 隔壁
２２０ 上室
２２１ 開口部
２３０ 下室
２３１ 開口部
２４０ 繰出しロール
２５０ 巻取りロール
２６０ 冷却ロール
２７０ 蒸発源るつぼ
２８０ 透過率測定器
３００ エンブレム
３１０ 模様層
３２０ ポリカーボネート系樹脂層
３３０ ポリカーボネート系樹脂層
３４０ トップコート層
Ａ 領域
Ｉ 島部分
Ｌ 距離
Ｓ 海部分

Claims (9)

1. インジウム蒸着層と、
   前記インジウム蒸着層を保持する保持フィルム層とを備える、インジウム蒸着保持フィルムであって、
   前記インジウム蒸着層は、前記保持フィルム層にインジウムが島状に点在する海島構造を有し、
   前記インジウムが蒸着する方向と垂直な方向における、前記インジウム蒸着層の表面において、前記島状の前記インジウムは１５０×１０⁶個／ｃｍ²以上存在し、
   前記表面において、前記島状の前記インジウムの外周の長さの合計が１００×１０⁶μｍ／ｃｍ²以上であり、
   前記インジウム蒸着保持フィルムのミリ波透過減衰量は、−１．０ｄＢ以内であり、
   前記インジウム蒸着保持フィルムの全光線透過率は、１．３％〜３０％である、
   インジウム蒸着保持フィルム。
2. 前記表面において、前記島状の前記インジウムの面積が０．０１μｍ²〜０．４μｍ²である、請求項１に記載のインジウム蒸着保持フィルム。
3. 前記保持フィルム層は、厚みが５μｍ〜５０μｍのポリエチレンテレフタレート系樹脂層である、請求項１または２に記載のインジウム蒸着保持フィルム。
4. 順に、
   ベースフィルム層と、
   前記ベースフィルム層と積層するインジウム蒸着層と、当該インジウム蒸着層を保持する保持フィルム層とを備える、請求項１〜３のいずれかに記載のインジウム蒸着保持フィルムと、
   前記保持フィルム層と積層する保護フィルム層と、が積層する金属調多層フィルムであって、
   前記金属調多層フィルムのミリ波透過減衰量は、−１．０ｄＢ以内であり、
   前記金属調多層フィルムの全光線透過率は、１．３％〜３０％である、
   金属調多層フィルム。
5. 前記ベースフィルム層は、厚みが５０μｍ〜１０００μｍのポリカーボネート系樹脂層であり、
   前記保護フィルム層は、厚みが５０μｍ〜２００μｍのポリカーボネート系樹脂層である、請求項４に記載の金属調多層フィルム。
6. 前記ベースフィルム層と前記インジウム蒸着層を接合する第１ポリウレタン系接着層と、
   前記保持フィルム層と前記保護フィルム層を接合する第２ポリウレタン系接着層と、を備える請求項４または５に記載の金属調多層フィルム。
7. 請求項１〜３のいずれかに記載のインジウム蒸着保持フィルムの製造方法であって、
   １．３３×１０^-3Ｐａ〜１．３３×１０^-2Ｐａの圧力条件下で、温度が−５℃〜５℃のロールに沿った前記保持フィルム層をインジウム蒸気流中に露出させて、前記保持フィルム層に前記インジウム蒸着層を形成する蒸着工程と、
   前記蒸着工程によって得られた前記インジウム蒸着層と前記保持フィルム層との積層体の全光線透過率を測定する測定工程と、
   前記測定工程により得られる前記積層体の全光線透過率が１．３％〜３０％となるように、前記インジウム蒸着層の形成速度を制御する制御工程と、
   を含む、インジウム蒸着保持フィルムの製造方法。
8. 請求項７に記載のインジウム蒸着保持フィルムの製造方法により得た、前記インジウム蒸着保持フィルムの前記インジウム蒸着層と、前記ベースフィルム層を積層する第１積層工程と、
   前記インジウム蒸着保持フィルムの前記保持フィルム層と、前記保護フィルム層を積層する第２積層工程と、
   を含む、請求項４〜６のいずれかに記載の金属調多層フィルムの製造方法。
9. 請求項４〜６のいずれかに記載の金属調多層フィルムを備えるエンブレム。

Images