CN116641035A - 一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，涉及光学件镀膜技术领域，所述方法包括以下具体步骤：A1、将腹腔镜光学件放置在镀膜机中，确保腹腔镜光学件的表面干净无油；A2、在镀膜机中加入镀膜材料，并对其进行加热处理；A3、分别测量镀膜材料加热时的温度、腹腔镜光学件表面的温度，镀膜机里的实时气压，腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率；A4、构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型；A5、根据不同腹腔镜光学件品质的要求，通过所述模型对镀膜机中的温度、气压进行实时预测并自适应调节。
Description
技术领域
本发明涉及光学件镀膜技术领域，特别是涉及一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法。
背景技术
随着镀膜技术的不断更新迭代，对于镀膜膜层的精准把控，提高光学件的光线透射率成为了关注的焦点。但镀膜层的厚度与基材表面的形状、材质、温度、气压等因素有很大的关系。因此在实际生产过程中，很难控制镀膜层的厚度。
如申请公开号为CN113774363A的中国专利公开了镀膜设备及镀膜方法，所述镀膜装置，用于涂覆一基材，包括：一腔室体，具有一反应腔；一支撑架，其具有一支撑区，以供支撑所述基材于所述腔室体的所述反应腔；一单体释放源，具有一释放进口，以供引入一膜层形成材料进入所述腔室体的所述反应腔；以及一等离子激发源，其被放置于所述腔室体的所述反应腔，以供激发所述膜层形成材料，其中所述支撑架可移动地设置在所述反应腔中，并且该基材随着所述支撑架一起移动以形成该基材的一移动路径，其中在至少一部分所述移动路径期间，该基材位于所述单体释放源与所述等离子激发源之间，使得所述膜层被均匀地形成于所述基材的表面，且沉积速度加快。
如申请公开号为CN113387593A的中国专利公开了一种镀膜方法，该镀膜方法包括：提供基材，在基材的第一面形成第一镀膜层，在第一镀膜层远离基材的一侧形成防污层，将基材的第一面固定于镀膜设备上，其中，防污层位于镀膜设备和基材之间，在基材与第一面相对的第二面形成第二镀膜层，去除防污层。本发明实施例通过在镀膜设备和已经形成第一镀膜层的基材之间增镀防污层，以更改基材第一面的特性，降低基材的粘合力度，避免残胶、胶印等残留到基材上，保证基材表面的干净。
如申请公开号为CN114262876A的中国专利公开了一种镀膜装置以及镀膜方法。该装置包括：镀膜材料发生装置，所述镀膜材料发生装置被构造为用于产生镀膜材料；承载装置，所述镀膜材料发生装置与所述承载装置相对，所述承载装置被构造为用于承载待镀膜件；遮挡部，所述遮挡部位于所述承载装置与所述镀膜材料发生装置之间；以及移动装置，所述移动装置被构造为用于移动所述遮挡部，以使所述遮挡部能够遮挡待镀膜件的不同部位。
以上专利都存在本背景技术提出的问题：没有考虑到镀膜机内的温度、气压等因素对镀膜时膜层品质的影响。为解决这一问题，本发明提出了一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明的主要目的是提供一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，能够有效解决背景技术中的问题。本发明的具体技术方案如下：
一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，包括以下具体步骤：
A1、将腹腔镜光学件放置在镀膜机中，确保腹腔镜光学件的表面干净无油；
A2、在镀膜机中加入镀膜材料，并对其进行加热处理；
A3、分别测量镀膜材料加热时的温度、腹腔镜光学件表面的温度，镀膜机里的实时气压，腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率；
A4、构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型；
A5、根据不同腹腔镜光学件品质的要求，通过所述模型对镀膜机中的温度、气压进行实时预测并自适应调节。
本发明的进一步改进在于，所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型包括采集所述影响模型的训练集，所述训练集用于通过对训练集中的数据进行处理分析构建并优化所述影响模型，所述训练集采集的数据类型包括镀膜过程中的镀膜机控制温度、镀膜过程中的镀膜机控制气压/>、腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率/>。
本发明的进一步改进在于，所述训练集具体包括四组数据：
次镀膜机镀膜时的控制温度集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制温度；
次镀膜机镀膜时的控制气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制气压；
次镀膜机镀膜时的实际气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的实际气压；
次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率集合/>，其中/>为第/>次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
本发明的进一步改进在于，所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型还包括：计算温度对膜层品质的主影响函数、气压对膜层品质的主影响函数和温度对气压的影响函数。
本发明的进一步改进在于，所述温度对气压的影响函数包括温度对气压的影响函数的计算策略，所述温度对气压的影响函数的计算策略用于计算不同的镀膜机控制温度下，镀膜机内的实际气压值，包括以下具体步骤：
S201、设镀膜机启动前的机内温度为，在温度对气压的影响函数中，自变量为镀膜过程中镀膜机控制温度/>与机内温度/>的差值/>，因变量为镀膜机内的实际气压与控制气压/>的差值/>；
S202、对所述训练集中次镀膜机镀膜时的控制温度集合/>分别与镀膜机启动前的机内温度/>作差，得到关于/>次温度差值的集合；
S203、对所述训练集中次镀膜机镀膜时的实际气压集合/>分别与/>次镀膜机镀膜时的控制气压集合/>作差，得到关于/>次气压差值的集合/>；
S204、设温度对气压的影响函数中残差，其中残差/>用于使温度对气压的影响函数中的误差最小化，/>为温度对气压的影响函数中的参数；
S205、对残差求偏导数，得到：/>；
S206、根据步骤S205求得；
S207、则关于温度对气压的影响函数。
本发明的进一步改进在于，所述温度对膜层品质的主影响函数包括温度对膜层品质的主影响函数的计算策略，所述温度对膜层品质的主影响函数的计算策略包括以下具体步骤：
S301、设腹腔镜光学件镀膜前的光线透射率为，在温度对膜层品质的主影响函数中，自变量为镀膜过程中镀膜机控制温度/>与机内温度/>的差值/>，因变量为腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率与镀膜前的光线透射率的差值/>；
S302、对所述训练集中次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率集合分别与腹腔镜光学件镀膜前的光线透射率/>作差，得到关于/>次光线透射率差值的集合/>；
S303、设温度对膜层品质的主影响函数中残差，其中残差/>用于使温度对膜层品质的主影响函数中的误差最小化，/>为温度对膜层品质的主影响函数中的参数；
S304、对残差求偏导数，得到：/>；
S305、根据步骤S304求得；
S306、则温度对膜层品质的主影响函数，其中/>为在温度影响下腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
本发明的进一步改进在于，所述气压对膜层品质的主影响函数包括气压对膜层品质的主影响函数的计算策略，所述气压对膜层品质的主影响函数的计算策略包括以下具体步骤：
S401、在气压对膜层品质的主影响函数中，自变量为镀膜机内的实际气压与控制气压/>的差值/>，因变量为腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率与镀膜前的光线透射率的差值/>；
S402、设气压对膜层品质的主影响函数中残差，其中残差/>用于使气压对膜层品质的主影响函数中的误差最小化，/>为气压对膜层品质的主影响函数中的参数；
S403、对残差求偏导数，得到：
；
S404、根据步骤S403求得；
S405、则气压对膜层品质的主影响函数，其中/>为在气压影响下腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
本发明的进一步改进在于，所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型还包括建立关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的权重方程，所述权重方程用于作为关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型的具体运算公式，通过所述权重方程对温度、气压进行调节，以满足对膜层品质的优化。
本发明的进一步改进在于，所述建立的关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的权重方程为，其中/>为所述权重方程的权重系数，/>为所述权重方程的误差项，其中/>或/>或/>，当/>时，；当/>时，/>；当/>时，，/>通过所述温度对气压的影响函数和气压对膜层品质的主影响函数求得。
本发明的进一步改进在于，所述通过所述温度对气压的影响函数和气压对膜层品质的主影响函数求得的具体步骤包括：
501、设；
502、得：。
一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该计算机程序被处理器执行时，实现一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法。
一种设备，包括：
存储器，用于存储指令；
处理器，用于执行所述指令，使得所述设备执行实现一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法的操作。
与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：
c1、本发明能够对影响膜层品质的多个因素进行分析计算，从而建立一种对膜层品质精确把控的模型，提高了对腹腔镜光学件进行镀膜的效率，使腹腔镜成像更加清晰；
c2、本发明能够根据不同光学件的光线透射率的要求，通过模型对镀膜时的控制温度和控制气压进行自适应调节，从而能够满足不同腹腔镜的成像效果。
附图说明
图1为本发明一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法的工作流程图；
图2为本发明一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法中所述镀膜机的镀膜过程示意图；
图3为本发明一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法中所述腹腔镜光学件镀膜前的效果图；
图4为本发明一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法中所述腹腔镜光学件镀膜后的效果图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合说明书附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
其次，此处所称的“一个实施例”或“实施例”是指可包含于本发明至少一个实现方式中的特定特征、结构或特性。在本说明书中不同地方出现的“在一个实施例中”并非均指同一个实施例，也不是单独的或选择性的与其他实施例互相排斥的实施例。
实施例1
本实施例通过使用一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法根据镀膜机内温度计算出镀膜机内的实际气压，具体方案为，如图1所示，一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，包括以下具体步骤：
A1、将腹腔镜光学件放置在镀膜机中，确保腹腔镜光学件的表面干净无油；
A2、在镀膜机中加入镀膜材料，并对其进行加热处理；
A3、分别测量镀膜材料加热时的温度、腹腔镜光学件表面的温度，镀膜机里的实时气压，腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率；
A4、构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型；
A5、根据不同腹腔镜光学件品质的要求，通过所述模型对镀膜机中的温度、气压进行实时预测并自适应调节。
在本实施例中，所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型包括采集所述影响模型的训练集，所述训练集用于通过对训练集中的数据进行处理分析构建并优化所述影响模型，所述训练集采集的数据类型包括镀膜过程中的镀膜机控制温度、如图2所示的镀膜过程中的镀膜机控制气压/>、腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率/>。
在本实施例中，所述训练集具体包括四组数据：
次镀膜机镀膜时的控制温度集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制温度；
次镀膜机镀膜时的控制气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制气压；
次镀膜机镀膜时的实际气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的实际气压；
次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率集合/>，其中/>为第/>次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
在本实施例中，所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型还包括：计算温度对膜层品质的主影响函数、气压对膜层品质的主影响函数和温度对气压的影响函数。
在本实施例中，所述温度对气压的影响函数包括温度对气压的影响函数的计算策略，所述温度对气压的影响函数的计算策略用于计算不同的镀膜机控制温度下，镀膜机内的实际气压值，包括以下具体步骤：
S201、设镀膜机启动前的机内温度为，在温度对气压的影响函数中，自变量为镀膜过程中镀膜机控制温度/>与机内温度/>的差值/>，因变量为镀膜机内的实际气压与控制气压/>的差值/>；
S202、对所述训练集中次镀膜机镀膜时的控制温度集合/>分别与镀膜机启动前的机内温度/>作差，得到关于/>次温度差值的集合；
S203、对所述训练集中次镀膜机镀膜时的实际气压集合/>分别与/>次镀膜机镀膜时的控制气压集合/>作差，得到关于/>次气压差值的集合/>；
S204、设温度对气压的影响函数中残差，其中残差/>用于使温度对气压的影响函数中的误差最小化，/>为温度对气压的影响函数中的参数；
S205、对残差求偏导数，得到：/>；
S206、根据步骤S205求得；
S207、则关于温度对气压的影响函数。
通过本实施例能够实现：使用一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法根据镀膜机内温度计算出镀膜机内的实际气压。
实施例2
本实施例通过使用一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法建立温度对膜层品质的主影响函数，具体方案为，如图1所示，一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，包括以下具体步骤：
A1、将腹腔镜光学件放置在镀膜机中，确保腹腔镜光学件的表面干净无油；
A2、在镀膜机中加入镀膜材料，并对其进行加热处理；
A3、分别测量镀膜材料加热时的温度、腹腔镜光学件表面的温度，镀膜机里的实时气压，腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率；
A4、构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型；
A5、根据不同腹腔镜光学件品质的要求，通过所述模型对镀膜机中的温度、气压进行实时预测并自适应调节。
在本实施例中，所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型包括采集所述影响模型的训练集，所述训练集用于通过对训练集中的数据进行处理分析构建并优化所述影响模型，所述训练集采集的数据类型包括镀膜过程中的镀膜机控制温度、镀膜过程中的镀膜机控制气压/>、腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率/>。
在本实施例中，所述训练集具体包括四组数据：
次镀膜机镀膜时的控制温度集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制温度；
次镀膜机镀膜时的控制气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制气压；
次镀膜机镀膜时的实际气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的实际气压；
次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率集合/>，其中/>为第/>次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
在本实施例中，所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型还包括：计算温度对膜层品质的主影响函数、气压对膜层品质的主影响函数和温度对气压的影响函数。
在本实施例中，所述温度对膜层品质的主影响函数包括温度对膜层品质的主影响函数的计算策略，所述温度对膜层品质的主影响函数的计算策略包括以下具体步骤：
S301、设腹腔镜光学件镀膜前的光线透射率为，在温度对膜层品质的主影响函数中，自变量为镀膜过程中镀膜机控制温度/>与机内温度/>的差值/>，因变量为腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率与镀膜前的光线透射率的差值/>；
S302、对所述训练集中次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率集合分别与腹腔镜光学件镀膜前的光线透射率/>作差，得到关于/>次光线透射率差值的集合/>；
S303、设温度对膜层品质的主影响函数中残差，其中残差/>用于使温度对膜层品质的主影响函数中的误差最小化，/>为温度对膜层品质的主影响函数中的参数；
S304、对残差求偏导数，得到：/>；
S305、根据步骤S304求得；
S306、则温度对膜层品质的主影响函数，其中/>为在温度影响下腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
通过本实施例能够实现：使用一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法建立温度对膜层品质的主影响函数。
实施例3
本实施例通过使用一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法建立气压对膜层品质的主影响函数，具体方案为，如图1所示，一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，包括以下具体步骤：
A1、将腹腔镜光学件放置在镀膜机中，确保腹腔镜光学件的表面干净无油；
A2、在镀膜机中加入镀膜材料，并对其进行加热处理；
A3、分别测量镀膜材料加热时的温度、腹腔镜光学件表面的温度，镀膜机里的实时气压，腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率；
A4、构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型；
A5、根据不同腹腔镜光学件品质的要求，通过所述模型对镀膜机中的温度、气压进行实时预测并自适应调节。
在本实施例中，所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型包括采集所述影响模型的训练集，所述训练集用于通过对训练集中的数据进行处理分析构建并优化所述影响模型，所述训练集采集的数据类型包括镀膜过程中的镀膜机控制温度、镀膜过程中的镀膜机控制气压/>、腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率/>。
在本实施例中，所述训练集具体包括四组数据：
次镀膜机镀膜时的控制温度集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制温度；
次镀膜机镀膜时的控制气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制气压；
次镀膜机镀膜时的实际气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的实际气压；
次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率集合/>，其中/>为第/>次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
在本实施例中，所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型还包括：计算温度对膜层品质的主影响函数、气压对膜层品质的主影响函数和温度对气压的影响函数。
在本实施例中，所述气压对膜层品质的主影响函数包括气压对膜层品质的主影响函数的计算策略，所述气压对膜层品质的主影响函数的计算策略包括以下具体步骤：
S401、在气压对膜层品质的主影响函数中，自变量为镀膜机内的实际气压与控制气压/>的差值/>，因变量为腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率与镀膜前的光线透射率的差值/>；
S402、设气压对膜层品质的主影响函数中残差，其中残差/>用于使气压对膜层品质的主影响函数中的误差最小化，/>为气压对膜层品质的主影响函数中的参数；
S403、对残差求偏导数，得到：/>；
S404、根据步骤S403求得；
S405、则气压对膜层品质的主影响函数，其中/>为在气压影响下腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
通过本实施例能够实现：使用一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法建立气压对膜层品质的主影响函数。
实施例4
本实施例通过使用一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型，具体方案为，如图1所示，一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，包括以下具体步骤：
A1、将腹腔镜光学件放置在镀膜机中，确保腹腔镜光学件的表面干净无油；
A2、在镀膜机中加入镀膜材料，并对其进行加热处理；
A3、分别测量镀膜材料加热时的温度、腹腔镜光学件表面的温度，镀膜机里的实时气压，腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率；
A4、构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型；
A5、根据不同腹腔镜光学件品质的要求，通过所述模型对镀膜机中的温度、气压进行实时预测并自适应调节。
在本实施例中，所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型包括采集所述影响模型的训练集，所述训练集用于通过对训练集中的数据进行处理分析构建并优化所述影响模型，所述训练集采集的数据类型包括镀膜过程中的镀膜机控制温度、镀膜过程中的镀膜机控制气压/>、腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率/>。
在本实施例中，所述训练集具体包括四组数据：
次镀膜机镀膜时的控制温度集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制温度；
次镀膜机镀膜时的控制气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制气压；
次镀膜机镀膜时的实际气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的实际气压；
次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率集合/>，其中/>为第/>次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
在本实施例中，所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型还包括建立关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的权重方程，所述权重方程用于作为关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型的具体运算公式，通过所述权重方程对温度、气压进行调节，以满足对膜层品质的优化。
在本实施例中，所述建立的关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的权重方程为，其中/>为所述权重方程的权重系数，/>为所述权重方程的误差项，其中/>或/>或/>，当/>时，/>；当/>时，/>；当/>时，/>，/>通过所述温度对气压的影响函数和气压对膜层品质的主影响函数求得，其中在本实施例中，/>分别由实施例1、2、3得到。
在本实施例中，所述通过所述温度对气压的影响函数和气压对膜层品质的主影响函数求得的具体步骤包括：
501、设；
502、得：。
如图3、图4所示，通过本实施例中所述方法对膜层品质进行优化后，腹腔镜光学件在镀膜前后的效果对比图。通过本实施例能够实现：使用一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (12)
1.一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，其特征在于：所述方法包括以下具体步骤：
A1、将腹腔镜光学件放置在镀膜机中，确保腹腔镜光学件的表面干净无油；
A2、在镀膜机中加入镀膜材料，并对其进行加热处理；
A3、分别测量镀膜材料加热时的温度、腹腔镜光学件表面的温度，镀膜机里的实时气压，腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率；
A4、构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型；
A5、根据不同腹腔镜光学件品质的要求，通过所述模型对镀膜机中的温度、气压进行实时预测并自适应调节。
2.根据权利要求1所述的一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，其特征在于：所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型包括采集所述影响模型的训练集，所述训练集用于通过对训练集中的数据进行处理分析构建并优化所述影响模型，所述训练集采集的数据类型包括镀膜过程中的镀膜机控制温度、镀膜过程中的镀膜机控制气压/>、腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率/>。
3.根据权利要求2所述的一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，其特征在于：所述训练集具体包括四组数据：
次镀膜机镀膜时的控制温度集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制温度；
次镀膜机镀膜时的控制气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的控制气压；
次镀膜机镀膜时的实际气压集合/>，其中/>为第/>次镀膜机镀膜时的实际气压；
次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率集合/>，其中/>为第/>次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
4.根据权利要求3所述的一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，其特征在于：所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型还包括：计算温度对膜层品质的主影响函数、气压对膜层品质的主影响函数和温度对气压的影响函数。
5.根据权利要求4所述的一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，其特征在于：所述温度对气压的影响函数包括温度对气压的影响函数的计算策略，所述温度对气压的影响函数的计算策略用于计算不同的镀膜机控制温度下，镀膜机内的实际气压值，包括以下具体步骤：
S201、设镀膜机启动前的机内温度为，在温度对气压的影响函数中，自变量为镀膜过程中镀膜机控制温度/>与机内温度/>的差值/>，因变量为镀膜机内的实际气压/>与控制气压/>的差值/>；
S202、对所述训练集中次镀膜机镀膜时的控制温度集合/>分别与镀膜机启动前的机内温度/>作差，得到关于/>次温度差值的集合/>；
S203、对所述训练集中次镀膜机镀膜时的实际气压集合/>分别与/>次镀膜机镀膜时的控制气压集合/>作差，得到关于/>次气压差值的集合；
S204、设温度对气压的影响函数中残差，其中残差/>用于使温度对气压的影响函数中的误差最小化，/>为温度对气压的影响函数中的参数；
S205、对残差求偏导数，得到：
；
S206、根据步骤S205求得；
S207、则关于温度对气压的影响函数。
6.根据权利要求5所述的一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，其特征在于：所述温度对膜层品质的主影响函数包括温度对膜层品质的主影响函数的计算策略，所述温度对膜层品质的主影响函数的计算策略包括以下具体步骤：
S301、设腹腔镜光学件镀膜前的光线透射率为，在温度对膜层品质的主影响函数中，自变量为镀膜过程中镀膜机控制温度/>与机内温度/>的差值/>，因变量为腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率与镀膜前的光线透射率的差值/>；
S302、对所述训练集中次腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率集合/>分别与腹腔镜光学件镀膜前的光线透射率/>作差，得到关于/>次光线透射率差值的集合；
S303、设温度对膜层品质的主影响函数中残差，其中残差/>用于使温度对膜层品质的主影响函数中的误差最小化，/>为温度对膜层品质的主影响函数中的参数；
S304、对残差求偏导数，得到：
；
S305、根据步骤S304求得；
S306、则温度对膜层品质的主影响函数，其中/>为在温度影响下腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
7.根据权利要求6所述的一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，其特征在于：所述气压对膜层品质的主影响函数包括气压对膜层品质的主影响函数的计算策略，所述气压对膜层品质的主影响函数的计算策略包括以下具体步骤：
S401、在气压对膜层品质的主影响函数中，自变量为镀膜机内的实际气压与控制气压/>的差值/>，因变量为腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率与镀膜前的光线透射率的差值/>；
S402、设气压对膜层品质的主影响函数中残差，其中残差/>用于使气压对膜层品质的主影响函数中的误差最小化，/>为气压对膜层品质的主影响函数中的参数；
S403、对残差求偏导数，得到：
；
S404、根据步骤S403求得；
S405、则气压对膜层品质的主影响函数，其中/>为在气压影响下腹腔镜光学件镀膜后的光线透射率。
8.根据权利要求7所述的一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，其特征在于：所述构建关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型还包括建立关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的权重方程，所述权重方程用于作为关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的影响模型的具体运算公式，通过所述权重方程对温度、气压进行调节，以满足对膜层品质的优化。
9.根据权利要求8所述的一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，其特征在于：所述建立的关于温度、气压对腹腔镜光学件膜层品质的权重方程为，其中为所述权重方程的权重系数，/>为所述权重方程的误差项，其中/>或或/>，当/>时，/>；当/>时，；当/>时，/>，/>通过所述温度对气压的影响函数和气压对膜层品质的主影响函数求得。
10.根据权利要求9所述的一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法，其特征在于：所述通过所述温度对气压的影响函数和气压对膜层品质的主影响函数求得的具体步骤包括：
501、设；
502、得：。
11.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该计算机程序被处理器执行时，实现如权利要求1-10中任一项所述的一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法。
12.一种设备，其特征在于，包括：
存储器，用于存储指令；
处理器，用于执行所述指令，使得所述设备执行实现如权利要求1-10任一项所述的一种用于腹腔镜光学件的镀膜方法的操作。
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