JP2021063979A - 光学フィルム及びフレキシブル表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高い化学的安定性を有する光学フィルムを提供する。【解決手段】ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含む光学フィルムであって、該光学フィルムの飛行時間型二次イオン質量分析法により得られる、ＣＨ３のイオン強度（ＩＣＨ３）に対するアルカリ金属のイオン強度（ＩＡ）の割合（ＩＡ／ＩＣＨ３）が０．２以上であり、かつ、ＣＨ３のイオン強度（ＩＣＨ３）に対するＳｉのイオン強度（ＩＳｉ）の割合（ＩＳｉ／ＩＣＨ３）が０．０５以上である、光学フィルム。【選択図】なし

Description

本発明は、光学フィルム及びフレキシブル表示装置に関する。

現在、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置は、携帯電話やスマートウォッチといった種々の用途で広く活用されている。このような画像表示装置の前面板としてはガラスが用いられてきたが、ガラスは非常に剛直であり、割れやすいため、例えばフレキシブル表示装置の前面板材料としての利用は難しい。そのため、ガラスに代わる材料の一つとして高分子材料の活用が検討され、例えばポリイミド系樹脂を用いる光学フィルムが検討されている（例えば特許文献１）。

特開２０１８−１１９１３２号公報

このようなフレキシブル表示装置の前面板材料として利用される光学フィルムは、さらにハードコート層などの機能層を積層させた積層体として表示装置に組み込まれる場合が多い。光学フィルムへの機能層の積層は、機能層を形成する樹脂の溶液を光学フィルムに塗工する工程を経て行われる場合がある。ここで、樹脂溶液に使用する溶媒の種類、光学フィルムと樹脂溶液との接触時間によっては、溶媒等による化学的な影響により光学フィルムの特性が変化する可能性がある。

また、光学フィルムは、高い外観品位が要求され、特に異物や欠陥が少ないことも求められる。異物や欠陥を低減することを目的として、生産工程において、製造設備をエタノール等の有機溶剤で清掃することが行われる。しかし、例えばガイドロール等の製造設備を有機溶剤で清掃後、製造設備に残留する有機溶剤と光学フィルムとが接触することにより、光学フィルムの外観品位が低下する場合がある。

そのため本発明は、上記のような溶媒等との接触による影響を受けにくい、高い化学的安定性を有する光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく、樹脂フィルム中に含まれる成分の種類と量に着目し、鋭意検討を行った。その結果、光学フィルムにおける、飛行時間型二次イオン質量分析法により得られるＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するアルカリ金属のイオン強度（Ｉ_Ａ）の割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上であり、かつ、ＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するＳｉのイオン強度（Ｉ_Ｓｉ）の割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上である場合、驚くべきことに、光学フィルムの化学的安定性を高めやすいことを見出し、本発明を完成させるに至った。

すなわち、本発明は、以下の好適な態様を包含する。
〔１〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含む光学フィルムであって、該光学フィルムの飛行時間型二次イオン質量分析法により得られる、ＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するアルカリ金属のイオン強度（Ｉ_Ａ）の割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上であり、かつ、ＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するＳｉのイオン強度（Ｉ_Ｓｉ）の割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上である、光学フィルム。
〔２〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は芳香族系の樹脂である、前記〔１〕に記載の光学フィルム。
〔３〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂における全構成単位に対する芳香族系モノマーに由来する構成単位の割合が６０モル％以上である、前記〔１〕又は〔２〕に記載の光学フィルム。
〔４〕厚さが１０〜１００μｍであり、全光線透過率が８０％以上である、前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔５〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量が２００，０００以上である、前記〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔６〕ポリイミド系樹脂はポリアミドイミド樹脂である、前記〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔７〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂はテレフタル酸に由来する構成単位を含む、前記〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔８〕フレキシブル表示装置の前面板用のフィルムである、前記〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔９〕前記〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。
〔１０〕タッチセンサをさらに備える、前記〔９〕に記載のフレキシブル表示装置。
〔１１〕偏光板をさらに備える、前記〔９〕又は〔１０〕に記載のフレキシブル表示装置。

本発明によれば、高い化学的安定性を有する光学フィルムを提供することができる。

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更をすることができる。

本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含む光学フィルムであって、該光学フィルムの飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）により得られる、ＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するアルカリ金属のイオン強度（Ｉ_Ａ）の割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上であり、かつ、ＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するＳｉのイオン強度（Ｉ_Ｓｉ）の割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上である。

本発明の光学フィルムにおいて、Ｉ_ＣＨ３に対するＩ_Ａの割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）及びＩ_ＣＨ３に対するＩ_Ｓｉの割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）は、飛行時間型二次イオン質量分析法（Ｔｉｍｅ−ｏｆ−Ｆｌｉｇｈｔ Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ：本明細書において「ＴＯＦ−ＳＩＭＳ」とも称する）により、光学フィルムのＩ_ＣＨ３、Ｉ_Ａ及びＩ_Ｓｉを測定し、Ｉ_Ａ及びＩ_ＳｉのそれぞれをＩ_ＣＨ３で除することにより算出される。なお、本明細書において、飛行時間型二次イオン質量分析法により測定されるＩ_ＣＨ３とは、測定データにおいてＣＨ_３イオンに帰属されるピークの積分値とし、Ｉ_Ａとは、測定データにおいてアルカリ金属イオンに帰属されるピークの積分値とし、Ｉ_Ｓｉとは、測定データにおいてＳｉイオンに帰属されるピークの積分値とする。なお、光学フィルムに１種類のアルカリ金属が含まれる場合には、当該アルカリ金属イオンに帰属されるピークの積分値をＩ_Ａとし、光学フィルムに２種類以上のアルカリ金属が含まれる場合には、各アルカリ金属イオンに帰属されるピークの積分値を合計して、Ｉ_Ａとしてよい。

ＴＯＦ−ＳＩＭＳは質量分析法の一種であり、ＴＯＦ−ＳＩＭＳによれば、試料の最表面に存在する元素あるいは分子種を非常に高い検出感度で得ることができ、また、試料の最表面に存在する元素あるいは分子種の分布も調べることができる。

ＴＯＦ−ＳＩＭＳは、高真空中で一次イオンからなるイオンビームを試料に照射し、表面から放出されるイオンを、その飛行時間差を利用して質量分離する手法である。一次イオンを照射すると、正又は負の電荷を帯びた二次イオンが試料表面から放出されるが、軽いイオン程速く、重いイオン程遅く飛行するため、二次イオンが発生してから検出されるまでの飛行時間を測定すれば、発生した二次イオンの質量を計算することができる。

ＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定において、ＣＨ_３イオンは質量１５．０２ｕ付近に、アルカリ金属イオンのうち、例えばＮａイオンは質量２２．９９ｕ付近、Ｋイオンは質量３８．９６ｕ付近、Ｌｉイオンは質量７．０２ｕ付近、Ｒｂイオンは質量８４．９１ｕ付近、Ｃｓイオンは質量１３２．９１ｕ付近に検出される。また、Ｓｉイオンは質量２７．９７ｕ付近に検出される。これらのイオンは、正（ポジティブ）イオン分析と、負（ネガティブ）イオン分析のどちらにおいても検出されるイオンである。本発明において、Ｉ_ＣＨ３に対するＩ_Ａの割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）、及び、Ｉ_ＣＨ３に対するＩ_Ｓｉの割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）は、正イオン分析で検出された割合であってもよいし、負イオン分析で検出された割合であってもよい。本発明における割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）について、正イオン分析で検出された割合及び負イオン分析で検出された割合の少なくとも一方の割合が０．２以上であれば、本発明における割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上であるという要件を満たす。また、本発明における割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）について、正イオン分析で検出された割合及び負イオン分析で検出された割合の少なくとも一方の割合が０．０５以上であれば、本発明における割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上であるという要件を満たす。より高い検出感度が得られる観点からは、正イオン分析を用いた条件が好ましい。

ＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定は、光学フィルムについて、飛行時間型二次イオン質量分析装置を用いて、一次イオンがＢｉ^３＋＋、一次イオンの加速電圧が２５ｋＶ、照射イオン電流が０．２３ｐＡ、測定範囲が２００μｍ×２００μｍの条件で、正イオン分析又は負イオン分析により実施できる。ＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定は、例えば実施例に記載の方法に従って行うことができる。光学フィルムの表面又は断面の少なくとも一部について測定された前記割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）及び割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が前記範囲内であればよいが、光学フィルム内部の組成が光学フィルムの機械的強度に、より影響しやすいと推察されることから、光学フィルムの断面について測定された割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）及び割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が上記の範囲内であることが好ましい。

飛行時間型二次イオン質量分析法により得られる、Ｉ_ＣＨ３に対するＩ_Ａの割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上であり、かつ、Ｉ_ＣＨ３に対するＩ_Ｓｉの割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上である本発明の光学フィルムによれば、驚くべきことに、光学フィルムの化学的安定性を向上させることができる。ここで、飛行時間型二次イオン質量分析法により得られる、Ｉ_ＣＨ３、Ｉ_Ａ、及び、Ｉ_Ｓｉとは、光学フィルム中に存在する炭素原子及び／又は炭素イオンの量と、アルカリ金属原子及び／又はアルカリ金属イオンの量と、ケイ素原子及び／又はケイ素イオンの量とを相対的に表している。上記割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上であることは、光学フィルム中に存在する炭素原子及び／又は炭素イオンの総量に対して一定量以上の少なくとも１種のアルカリ金属原子及び／又はアルカリ金属イオンが存在することを表している。上記割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上であることは、光学フィルム中に存在する炭素原子及び／又は炭素イオンの総量に対して一定量以上のケイ素原子及び／又はケイ素イオンが存在することを表している。なお、炭素原子及び炭素イオンがＣＨ_３イオンとして検出される理由は、飛行時間型二次イオン質量分析法において、発生した各種二次イオンはプロトン付加体の形でも検出されるという特徴があり、炭素原子においてはプロトン付加体としてＣＨ_３イオンが同時に発生するためである。

アルカリ金属原子及び／又はアルカリ金属イオン、並びに、ケイ素原子及び／又はケイ素イオンが一定量以上存在することにより、光学フィルムの化学的安定性が向上する理由は明らかではなく、本発明は後述するメカニズムに何ら限定されないが、例えば次のようなメカニズムにより化学的安定性が向上すると考えられる。なお、本明細書において、光学フィルムを飛行時間型二次イオン質量分析した際にＩ_Ａとして検出されると考えられる、光学フィルムに含まれ得るアルカリ金属原子を含む化合物、アルカリ金属及び／又はアルカリ金属イオンを、「アルカリ金属含有成分」とも称する。なお、アルカリ金属原子を含む化合物とは、少なくとも１種のアルカリ金属原子を分子の構成原子として含む化合物である。また、光学フィルムを飛行時間型二次イオン質量分析した際にＩ_Ｓｉとして検出されると考えられる、光学フィルムに含まれ得るケイ素原子を含む化合物、ケイ素及び／又はケイ素イオンを、「ケイ素含有成分」とも称する。なお、ケイ素原子を含む化合物とは、ケイ素原子を分子の構成原子として含む化合物である。

本発明の光学フィルムを製造する際、ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂を含む組成物中に少なくとも１種のアルカリ金属含有成分、言い換えるとアルカリ金属原子を含む化合物、アルカリ金属及び／又はアルカリ金属イオンが含まれることによって、該樹脂に含まれるイミド結合及び／又はアミド結合、好ましくはポリイミド系樹脂に含まれるイミド結合と、アルカリ金属含有成分との間に、何らかの相互作用、例えば、イミド結合やアミド結合のカルボニル基とアルカリ金属イオンとの間の静電的な相互作用が生じると考えられる。また、該組成物中にさらにケイ素含有成分、言い換えるとケイ素原子を含む化合物、ケイ素及び／又はケイ素イオンが含まれることにより、上記相互作用が生じた状態のポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の隙間にケイ素含有成分が入り込むと考えられる。その結果、得られた光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂が、アルカリ金属含有成分と相互作用した状態でフィルム中に存在しているか、又は、アルカリ金属成分とポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂との相互作用に起因して該樹脂の配向状態が変わり、光学フィルム自体の強度が向上すると共に、さらにケイ素含有成分が樹脂の隙間に入り込むことにより光学フィルムの自由体積が減少し、有機物質による光学フィルム中への浸食を抑制し、光学フィルムの化学的安定性が向上すると考えられる。なお、上記の考察は、何ら本発明を限定するものではない。ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂のイミド結合及び／又はアミド結合と相互作用しやすいと考えられる観点からは、アルカリ金属含有成分は、イオン化した状態であることが好ましい。

Ｉ_ＣＨ３に対するＩ_Ａの割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）は、０．２以上であり、光学フィルムの化学的安定性を高めやすい観点からは、好ましくは０．９５以上、より好ましくは１．０以上、さらに好ましくは１．２以上、さらにより好ましくは１．４以上、とりわけ好ましくは１．５以上、とりわけより好ましくは３以上、とりわけさらに好ましくは５以上、ことさら好ましくは７以上、ことさらより好ましくは１０以上、最も好ましくは１２以上である。割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）の上限は、ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂を含むワニスの成膜性を高めやすく、光学フィルムの均一性を高めやすい観点から、好ましくは１００以下、より好ましくは５０以下、さらに好ましくは３０以下、さらにより好ましくは２５以下、とりわけ好ましくは２０以下である。

アルカリ金属としては、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、リチウム（Ｌｉ）、ルビジウム（Ｒｂ）、セシウム（Ｃｓ）及びフランシウム（Ｆｒ）が挙げられる。本発明の光学フィルムは、少なくとも１種のアルカリ金属含有成分を含み、該アルカリ金属は、好ましくは、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ、Ｒｂ、Ｃｓ及びＦｒからなる群から選択される。ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂のイミド結合及び／又はアミド結合と相互作用しやすいと考えられる観点からは、アルカリ金属含有成分におけるアルカリ金属は、好ましくはＮａ、Ｋ及びＬｉからなる群から選択される少なくとも１種であり、より好ましくはＮａ及びＫからなる群から選択される少なくとも１種であり、さらにより好ましくＫである。また、光学フィルムの化学的安定性を高めやすいと共に、耐衝撃性も向上させやすい観点からは、アルカリ金属は、好ましくはＮａ及びＫからなる群から選択される少なくとも１種である。本発明の光学フィルムの耐衝撃性を高めやすい観点からは、Ｉ_Ａは、好ましくはＩ_ＮａとＩ_ＫとＩ_Ｌｉとの合計であり、より好ましくはＩ_ＮａとＩ_Ｋとの合計であり、さらに好ましくはＩ_Ｋである。なお、例えばＩ_ＡがＩ_ＮａとＩ_ＫとＩ_Ｌｉとの合計である場合、Ｎａ、Ｋ及びＬｉの全てが本発明の光学フィルムに含まれていることを意味せず、これらのイオンの強度の和が所定の範囲内であればよい。また、例えばＩ_ＡがＩ_ＮａとＩ_ＫとＩ_Ｌｉとの合計であることを特定する場合、これらのイオンの強度の和が所定の範囲内となることを特定するにすぎず、Ｎａ、Ｋ及びＬｉ以外のＲｂ等のアルカリ金属が本発明の光学フィルムに含まれていてもよい。

Ｉ_Ａは、Ｎａのイオン強度（Ｉ_Ｎａ）、Ｋのイオン強度（Ｉ_Ｋ）、Ｌｉのイオン強度（Ｉ_Ｌｉ）、Ｒｂのイオン強度（Ｉ_Ｒｂ）、Ｃｓのイオン強度（Ｉ_Ｃｓ）及びＦｒのイオン強度（Ｉ_Ｆｒ）の合計である。なお、Ｉ_Ａが上記の各イオン強度の合計であるとは、これらのイオンの全てが本発明の光学フィルムに含まれていることを意味するものではなく、アルカリ金属含有成分としてこれらのアルカリ金属の少なくとも１種の成分が含まれていればよい。アルカリ金属含有成分におけるアルカリ金属が、Ｎａ、Ｋ及びＬｉからなる群から選択される少なくとも１種である本発明の好ましい一態様において、Ｉ_Ａは、Ｉ_Ｎａ、Ｉ_Ｋ及びＩ_Ｌｉの合計であってよく、アルカリ金属がＮａ及びＫからなる群から選択される少なくとも１種である本発明の好ましい一態様において、Ｉ_Ａは、Ｉ_Ｎａ及びＩ_Ｋの合計であってよく、アルカリ金属がＫである本発明の好ましい一態様において、Ｉ_ＡはＩ_Ｋであってよい。

Ｉ_ＣＨ３に対するＩ_Ｓｉの割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）は、０．０５以上であり、光学フィルムの化学的安定性を高めやすい観点から、好ましくは０．０８以上、より好ましくは０．１以上、さらに好ましくは０．１５以上、さらにより好ましくは０．１８以上、とりわけ好ましくは０．２以上、最も好ましくは０．２５以上である。割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）の上限は、ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂を含む光学フィルムの機械的強度を高めやすく、光学フィルムの表面に機能層を設ける場合の機能層の密着性を高めやすい観点から、好ましくは１００以下、より好ましくは５０以下、さらに好ましくは２０以下、さらにより好ましくは１５以下、とりわけ好ましくは１０以下、最も好ましくは５以下である。

割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）及び割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）を上記の範囲に調整する方法は特に限定されないが、ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂を含む本発明の光学フィルムにおける、アルカリ金属含有成分、例えばナトリウム含有成分、言い換えるとナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及び／又はナトリウムイオン、カリウム含有成分、言い換えると、カリウム原子を含む化合物、カリウム及び／又はカリウムイオン等の含有量を調整する方法、ケイ素含有成分の含有量を調整する方法、ならびに、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の含有量を調整する方法が挙げられる。具体的には、光学フィルムにおけるアルカリ金属含有成分の含有量を大きくすると、該光学フィルムのＴＯＦ−ＳＩＭＳにより得られるアルカリ金属のイオン強度（Ｉ_Ａ）も大きくなる。また、光学フィルムにおけるケイ素含有成分の含有量を大きくすると、該光学フィルムのＴＯＦ−ＳＩＭＳにより得られるＳｉのイオン強度（Ｉ_Ｓｉ）も大きくなる。光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の含有量を大きくすると、該光学フィルムのＴＯＦ−ＳＩＭＳにより得られるＩ_ＣＨ３も大きくなる。そのため、光学フィルムにおけるアルカリ金属含有成分の含有量を増やすと、割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）の値は大きくなり、光学フィルムにおけるケイ素含有成分の含有量を増やすと、割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）の値は大きくなり、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の含有量を大きくすると、割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）及び割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）の値は小さくなる。上記の方法により、割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）及び割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）を所望の範囲に調整することができる。

本発明の光学フィルムにおいて、ＴＯＦ−ＳＩＭＳによるＩ_ＣＨ３、Ｉ_Ａ及びＩ_Ｓｉは特に限定されず、割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）及び割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）の値が上記の範囲となればよいが、ＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定の精度を確保しやすい観点から、Ｉ_Ａ及びＩ_Ｓｉが、好ましくは１００以上、より好ましくは３００以上、さらに好ましくは５００以上となる条件で測定を行うことが好ましい。

割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上であり、かつ、割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上である本発明の光学フィルムは、高い化学的安定性を有する。本発明において、化学的安定性とはケトン系溶剤などの溶剤との接触によりフィルムの特性（例えば物理的特性又は光学的特性）が変化しにくいことを表す。具体的には、本願実施例に記載の方法に従い溶剤と接触させる前後の光学フィルムについて、例えば実施例に記載するような耐溶剤性試験により凹み量を測定した場合、その変化率は、好ましくは０．７以上１．３以下、より好ましくは０．７５以上１．２５以下、さらにより好ましくは０．８以上１．２以下である。なお、凹み量の変化率は、溶剤と接触後の凹み量を、溶剤と接触前の凹み量で除した値である。溶剤と接触後の光学フィルムの凹み量が接触前と比較して小さくなる場合、溶剤との接触により光学フィルムが硬くなったことを表す。溶剤との接触により光学フィルムが硬くなる原因は明らかではないが、溶剤との接触により、光学フィルムの表面が荒れ、硬化した層が生じたことによると考えられる。溶剤との接触により光学フィルムが硬くなりすぎない、例えば変化率が０．７以上であると、光学フィルムの十分な屈曲性が得られる傾向がある。溶剤との接触後の光学フィルムの凹み量が接触前と比較して大きくなる場合、溶剤との接触により光学フィルムが柔らかくなったことを表す。溶剤との接触により光学フィルムが柔らかくなりすぎない、例えば変化率が１．３以下であると、光学フィルムの強度が不足しがたい傾向がある。また、光学フィルムの表面にハードコート層を設ける場合、表面の鉛筆硬度を高めやすい傾向がある。光学フィルムの表面に後述の機能層を設ける場合には、機能層の密着性を高める観点から、前記凹み量の変化率は、好ましくは０．７以上０．９８以下又は１．０２以上１．３以下である。

本発明の好ましい一態様において、Ｉ_Ａが、好ましくはＩ_ＮａとＩ_ＫとＩ_Ｌｉとの合計、より好ましくはＩ_ＮａとＩ_Ｋとの合計である、さらに好ましくはＩ_Ｋである場合、光学フィルムの化学的安定性を高めやすいと共に、光学フィルムの耐衝撃性を向上させやすい。ここで、耐衝撃性とは、光学フィルムの表面に周囲の物体が衝突しても、光学フィルムに凹み等の傷が生じにくい、及び／又は、残存しにくいことを表す。光学フィルムの耐衝撃性が高い場合、光学フィルムの表面に凹み等の傷が生じにくい、及び／又は、残存しにくいことにより、光学フィルムの光学特性や視認性の低下を抑制しやすい。また、本発明の光学フィルムにおいては、特に集中荷重を受けた際の耐衝撃性を向上させることができ、光学フィルムの特性が悪化する起点となる微小な凹みの発生も抑制できる。光学フィルムの耐衝撃性は、例えば実施例に記載するような耐溶剤性試験における凹み量の測定から評価することができる。本発明の好ましい一態様において、本願明細書の実施例に記載の耐溶剤性試験における方法により測定した光学フィルムの凹み量、すなわち凹みの深さは、好ましくは２９μｍ以下、より好ましくは２７μｍ以下である。また、本発明の光学フィルムは、好ましくは上記の範囲の凹み量を有し、かつ、実施例に記載するような溶剤処理を行った後の光学フィルムの凹み量の、溶剤処理前の凹み量に対する変化率が、好ましくは０．７以上１．３以下、より好ましくは０．７５以上１．２５以下、さらにより好ましくは０．８以上１．２以下である。

本発明の光学フィルムの全光線透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、さらに好ましくは８８％以上、さらにより好ましくは８９％以上、とりわけ好ましくは９０％以上、最も好ましくは９１％以上であり、通常１００％以下である。全光線透過率が上記の下限以上であると、光学フィルムを、特に前面板として、画像表示装置に組み込んだ際に視認性を高めやすい。本発明の光学フィルムは通常、高い全光線透過率を示すので、例えば、透過率の低いフィルムを用いた場合と比べて、一定の明るさを得るために必要な表示素子等の発光強度を抑えることが可能となる。このため、消費電力を削減することができる。例えば、本発明の光学フィルムを画像表示装置に組みこむ場合、バックライトの光量を減らしても明るい表示を得られる傾向があり、エネルギーの節約に貢献できる。なお、全光線透過率は、例えばＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１又はＪＩＳ Ｋ ７３６１−１：１９９７に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定できる。また、全光線透過率は、後述する光学フィルムの厚さの範囲における全光線透過率であってよい。

本発明の光学フィルムのヘーズは、好ましくは３％以下、より好ましくは２．５％以下、さらに好ましくは１．５％以下、さらにより好ましくは１．０％以下、とりわけ好ましくは０．５％以下、最も好ましくは０．２％以下であり、通常０．０１％以上である。光学フィルムのヘーズが上記の上限以下であると、光学フィルムを、特に前面板として、画像表示装置に組み込んだ際に、視認性を高めやすい。また、ヘーズの下限は通常０．０１％以上である。なお、ヘーズは、ＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１又はＪＩＳ Ｋ ７１３６：２０００に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定できる。

本発明の光学フィルムの黄色度（以下、ＹＩ値とも称する）は、好ましくは３．０以下、より好ましくは２．５以下、さらに好ましくは２．２以下であり、好ましくは−５以上、より好ましくは−２以上である。光学フィルムのＹＩ値が上記の上限以下であると、透明性が良好となり、画像表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。なお、ＹＩ値は紫外可視近赤外分光光度計を用いて３００〜８００ｎｍの光に対する透過率測定を行い、３刺激値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を求め、ＹＩ＝１００×（１．２７６９Ｘ−１．０５９２Ｚ）／Ｙの式に基づいて算出できる。

割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上であり、かつ、割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上である本発明の光学フィルムの弾性率は、好ましくは５．０ＧＰａ以上、より好ましくは５．１ＧＰａ以上、さらに好ましくは５．２ＧＰａ以上であり、通常１００ＧＰａ以下である。弾性率は、引張試験機（例えば、チャック間距離５０ｍｍ、引張速度１０ｍｍ／分の条件）を用いて測定できる。

本発明の光学フィルムの明度Ｌ^＊値は、光学フィルムの透明性、視認性を高めやすい観点から、好ましくは９０以上、より好ましくは９３以上、さらに好ましくは９５以上である。Ｌ^＊値の上限は特に限定されず、１００以下であればよい。上記の明度Ｌ^＊値は、分光光度計を用いて測定することができる。具体的には、分光光度計を用い、サンプルがない状態でバックグランド測定を行った後、光学フィルムをサンプルホルダーにセットして、波長３００〜８００ｎｍの光に対する透過率測定を行い測定することができる。

本発明の光学フィルムの厚さは、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、さらに好ましくは２５μｍ以上、さらにより好ましくは３０μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下、さらに好ましくは６０μｍ以下であり、これらの上限と下限の組合せであってよい。光学フィルムの厚さが上記範囲内であると、光学フィルムの耐衝撃性をより高めやすい。なお、光学フィルムの厚さは、マイクロメーターを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。

本発明の光学フィルムにおける、耐屈曲性試験における曲率半径Ｒが１ｍｍのときの屈曲回数は、好ましくは１５０，０００回以上、より好ましくは１８０，０００回以上、さらに好ましくは２００，０００回以上である。屈曲回数が上記の下限以上であると、フレキシブル表示装置等の前面板材料として十分な耐屈曲性を有する。なお、耐屈曲性試験における屈曲回数は、折り曲げ試験機を用いて、屈曲半径（曲率半径と称されることがある）Ｒが１ｍｍの条件で、光学フィルムの繰り返し折り曲げを行い、該フィルムに割れが生じる時点までの往復の折り曲げ回数（ここでは、１往復を１回とする）を示す。

＜ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂＞
本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂を含む。本明細書において、ポリイミド系樹脂とは、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド前駆体樹脂、及び、ポリアミドイミド前駆体樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を表す。ポリイミド樹脂は、イミド基を含む繰返し構成単位を含有する樹脂であり、ポリアミドイミド樹脂は、イミド基及びアミド基の両方を含む繰返し構成単位を含有する樹脂である。ポリイミド前駆体樹脂及びポリアミドイミド前駆体樹脂は、それぞれ、イミド化によりポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂を与える、イミド化前の前駆体であり、ポリアミック酸とも称される樹脂である。また、本明細書において、ポリアミド系樹脂は、アミド基を含む繰返し構成単位を含有する樹脂である。本発明の光学フィルムは、１種類のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を含んでいてもよいし、２種以上のポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂を組合せて含んでいてもよい。本発明の光学フィルムは、光学フィルムの化学的安定性と耐衝撃性を両立しやすい観点から、ポリイミド系樹脂を含むことが好ましく、該ポリイミド系樹脂は、好ましくはポリイミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂であり、より好ましくはポリアミドイミド樹脂である。

本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムの化学的安定性と耐衝撃性をより高めやすい観点から、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は芳香族系の樹脂であることが好ましい。本明細書において、芳香族系の樹脂とは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂に含まれる構成単位が主に芳香族系の構成単位である樹脂を表す。

上記の好ましい一実施形態において、光学フィルムの化学的安定性と耐衝撃性をより高めやすい観点から、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂に含まれる全構成単位に対する芳香族系モノマーに由来する構成単位の割合は、好ましくは６０モル％以上、より好ましくは７０モル％以上、さらに好ましくは８０モル％以上、さらにより好ましくは８５モル％以上である。ここで、芳香族系モノマーに由来する構成単位とは、芳香族系の構造、例えば芳香環を少なくとも一部に含むモノマーに由来し、芳香族系の構造、例えば芳香環を少なくとも一部に含む構成単位である。芳香族系モノマーとしては、例えば芳香族テトラカルボン酸化合物、芳香族ジアミン、芳香族ジカルボン酸等が挙げられる。

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式（１）：

［式（１）中、Ｙは４価の有機基を表し、Ｘは２価の有機基を表し、＊は結合手を表す］
で表される構成単位を有するポリイミド樹脂であるか、又は、式（１）で表される構成単位及び式（２）：

［式（２）中、Ｚ及びＸは、互いに独立に、２価の有機基を表し、＊は結合手を表す］
で表される構成単位を有するポリアミドイミド樹脂であることが好ましい。また、ポリアミド系樹脂は、式（２）で表される構成単位を有するポリアミド樹脂であることが好ましい。以下において式（１）及び式（２）について説明するが、式（１）についての説明は、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関し、式（２）についての説明は、ポリアミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関する。

式（１）で表される構成単位は、テトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位であり、式（２）で表される構成単位は、ジカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位である。

式（２）において、Ｚは、２価の有機基であり、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基（これらの基における水素原子はハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）で置換されていてもよい）で置換されていてもよい、炭素数４〜４０の２価の有機基であり、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基（これらの基における水素原子は、ハロゲン原子、好ましくはフッ素原子で置換されていてもよい）で置換されていてもよい、環状構造を有する炭素数４〜４０の２価の有機基である。なお、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基の例としては、後述する式（３）中のＲ^３ａ及びＲ^３ｂに関する例示が同様にあてはまる。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。Ｚの有機基として、式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）：

［式（２０）〜式（２９）中、Ｗ^１は、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−Ａｒ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、−Ｏ−Ａｒ−Ｏ−、−Ａｒ−Ｏ−Ａｒ−、−Ａｒ−ＣＨ_２−Ａｒ−、−Ａｒ−Ｃ（ＣＨ_３）_２−Ａｒ−又は−Ａｒ−ＳＯ_２−Ａｒ−を表し、ここで、Ａｒは、互いに独立に、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、例えばフェニレン基を表し、＊は結合手を表す］
で表される基の結合手のうち、隣接しない２つが水素原子に置き換わった基及び炭素数６以下の２価の鎖式炭化水素基が例示され、Ｚのヘテロ環構造としてはチオフェン環骨格を有する基が例示される。光学フィルムのＹＩ値を低減しやすい観点から、式（２０）〜式（２９）で表される基、及び、チオフェン環骨格を有する基が好ましく、式（２６）、式（２８）及び式（２９）で表される基がより好ましい。

Ｚの有機基としては、式（２０’）、式（２１’）、式（２２’）、式（２３’）、式（２４’）、式（２５’）、式（２６’）、式（２７’）、式（２８’）及び式（２９’）：

［式（２０’）〜式（２９’）中、Ｗ^１及び＊は、式（２０）〜式（２９）において定義した通りである］
で表される２価の有機基がより好ましい。なお、式（２０）〜式（２９）及び式（２０’）〜式（２９’）における環上の水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基（これらの基における水素原子はハロゲン原子、好ましくはフッ素原子で置換されていてもよい）で置換されていてもよい。

ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂が、式（２）中のＺが上記の式（２０’）〜式（２９’）のいずれかで表される構成単位を有する場合、特に式（２）中のＺが後述する式（３’）で表される構成単位を有する場合、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、該構成単位に加えて、次の式（ｄ１）：

［式（ｄ１）中、Ｒ^２４は後述する式（３）中のＲ^３ａについて定義する基もしくは水素原子であり、Ｒ^２５は、Ｒ^２４又は−Ｃ（＝Ｏ）−＊を表し、＊は結合手を表す］
で表されるカルボン酸由来の構成単位をさらに有することが、ワニスの成膜性を高めやすく、光学フィルムの均一性を高めやすい観点から好ましい。構成単位（ｄ１）としては、具体的には、Ｒ^２４及びＲ^２５がいずれも水素原子である構成単位（ジカルボン酸化合物に由来する構成単位）、Ｒ^２４がいずれも水素原子であり、Ｒ^２５が−Ｃ（＝Ｏ）−＊を表す構成単位（トリカルボン酸化合物に由来する構成単位）等が挙げられる。

ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、式（２）中のＺとして複数種のＺを含んでよく、複数種のＺは、互いに同一であっても異なっていてもよい。特に、本発明の光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性を高めやすく、かつ、光学特性を高めやすい観点から、式（２）中のＺが好ましくは式（３）：

［式（３）中、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂは、互いに独立に、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Ｗは、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＳＯ_２−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−Ｎ（Ｒ^９）−を表し、Ｒ^９は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の１価の炭化水素基を表し、
ｓは０〜４の整数であり、ｔは０〜４の整数であり、ｕは０〜４の整数であり、＊は結合手を表す］
、より好ましくは式（３’）：

［式（３’）中、Ｒ^３ａ、Ｒ^３ｂ、ｓ、ｔ、ｕ、Ｗ及び＊は、式（３）において定義した通りである］
で表される構成単位を少なくとも有することが好ましい。なお、本明細書において、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂が式（２）中のＺが式（３）で表される構成単位を有することと、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド系樹脂が式（２）中のＺとして式（３）で表される構造を有することとは、同様の意味を有し、ポリアミド系樹脂又はポリアミドイミド樹脂に含まれる複数の式（２）で表される構成単位のうち、少なくとも一部の構成単位におけるＺが式（３）で表されることを意味する。当該記載は、他の同様の記載にもあてはまる。

式（３）及び式（３’）において、Ｗは、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＳＯ_２−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−Ｎ（Ｒ^９）−を表し、光学フィルムの耐屈曲性の観点から、好ましくは−Ｏ−又は−Ｓ−、より好ましくは−Ｏ−を表す。
Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂは、互いに独立に、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。炭素数１〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メチル−ブチル基、３−メチルブチル基、２−エチル−プロピル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数６〜１２のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。光学フィルムの表面硬度及び柔軟性の観点から、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂは、互いに独立に、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜３のアルキル基を表す。ここで、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｒ^９は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の１価の炭化水素基を表す。炭素数１〜１２の１価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メチル−ブチル基、３−メチルブチル基、２−エチル−プロピル基、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。

式（３）及び式（３’）中のｔ及びｕは、互いに独立に、０〜４の整数であり、好ましくは０〜２の整数、より好ましくは０又は１、さらにより好ましくは０である。

式（３）中及び式（３’）中のｓは０〜４の範囲の整数であり、ｓがこの範囲内であると、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を向上しやすい。式（３）及び式（３’）中のｓは、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性をより向上しやすい観点から、好ましくは０〜３の範囲の整数、より好ましくは０〜２の範囲の整数、さらに好ましくは０又は１、さらにより好ましくは０である。ｓが０である式（３）又は式（３’）で表される構成単位は、例えばテレフタル酸又はイソフタル酸に由来する構成単位であり、該構成単位は特に、式（３）又は式（３’）中のｓが０及びｕが０である構成単位であることが好ましい。光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を向上しやすい観点から、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂はテレフタル酸に由来する構成単位を含むことが好ましい。ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂はＺにおいて、式（３）又は式（３’）で表される構成単位を１種又は２種類以上含んでいてもよい。光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性の向上、ＹＩ値低減の観点からは、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂はＺにおいて、式（３）中又は式（３’）中のｓの値が異なる２種類以上の構成単位を含むことが好ましく、式（３）又は式（３’）中のｓの値が異なる２種類又は３種類の構成単位を含むことがより好ましい。この場合、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、光学フィルムのＹＩ値を低減しやすい観点から、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂が式（２）で表される構成単位におけるＺとして、ｓが０である式（３）で表される構造を含有し、該構造を含む構成単位に加えてｓが１である式（３）で表される構造を含む構成単位をさらに含有することがさらに好ましい。また、ｓが０である式（３）で表されるＺを有する式（２）で表される構成単位に加えて、上記の式（ｄ１）で表される構成単位をさらに有することも好ましい。

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂は、式（３）又は式（３’）で表される構成単位として、ｓ＝０であり、かつｕ＝０である構成単位を有する。本発明のより好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂は、式（３）又は式（３’）で表される構成単位として、ｓ＝０であり、かつｕ＝０である構成単位と、式（３’’）：

で表される構成単位を有する。この場合、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を向上させやすいと共に、ＹＩ値を低減しやすい。

ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂が、式（３）又は式（３’）で表される構成単位を有する場合、その割合は、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂の式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計を１００モル％としたときに、好ましくは２０モル％以上、より好ましくは３０モル％以上、さらに好ましくは４０モル％以上、さらにより好ましくは５０モル％以上、とりわけ好ましくは６０モル％以上であり、好ましくは９０モル％以下、より好ましくは８５モル％以下、さらに好ましくは８０モル％以下である。式（３）又は式（３’）で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。式（３）又は式（３’）で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式（３）由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。

また、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂がｓ＝１〜４である式（３）又は式（３’）で表される構成単位を有する場合、ｓが１〜４である式（３）又は式（３’）で表される構成単位の割合は、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂の式（１）で表される構成単位及び式（２）で表される構成単位の合計を１００モル％としたときに、好ましくは３モル％以上、より好ましくは５モル％以上、さらに好ましくは７モル％以上、さらにより好ましくは９モル％以上であり、好ましくは９０モル％以下、より好ましくは７０モル％以下、さらに好ましくは５０モル％以下、さらにより好ましくは３０モル％以下である。ｓが１〜４である式（３）又は式（３’）で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。ｓが１〜４である式（３）で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式（３）又は式（３’）で表される構成単位由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお、式（１）、式（２）、式（３）又は式（３’）で表される構成単位の割合は、例えば^１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂中のＺの、好ましくは３０モル％以上、より好ましくは４０モル％以上、さらに好ましくは４５モル％以上、さらにより好ましくは５０モル％以上が、ｓが０〜４である式（３）又は式（３’）で表される構成単位である。Ｚの上記の下限以上が、ｓが０〜４である式（３）又は式（３’）で表される構成単位であると、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。また、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂中のＺの１００モル％以下が、ｓが０〜４である式（３）又は式（３’）で表される構成単位であればよい。なお、樹脂中の、ｓが０〜４である式（３）又は式（３’）で表される構成単位の割合は、例えば^１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂中のＺの、好ましくは５モル％以上、より好ましくは８モル％以上、さらに好ましくは１０モル％以上、さらにより好ましくは１２モル％以上が、ｓが１〜４である式（３）又は式（３’）で表される。ポリアミドイミド樹脂又はポリアミド系樹脂のＺの上記の下限以上が、ｓが１〜４である式（３）又は式（３’）で表される場合、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。また、Ｚの、好ましくは９０モル％以下、より好ましくは７０モル％以下、さらに好ましくは５０モル％以下、さらにより好ましくは３０モル％以下が、ｓが１〜４である式（３）又は式（３’）で表される。Ｚの上記の上限以下が、ｓが１〜４である式（３）で表される場合、ｓが１〜４である式（３）又は式（３’）で表される構成単位由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお樹脂中のｓが１〜４である式（３）又は式（３’）で表される構成単位の割合は、例えば^１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。

式（１）及び式（２）において、Ｘは、互いに独立に、２価の有機基、好ましくは炭素数４〜４０の２価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数４〜４０の２価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは１〜８である。本発明の一実施形態において、本発明のポリアミドイミド樹脂は、複数種のＸを含み得、複数種のＸは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘとしては、式（１０）、式（１１）、式（１２）、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）、式（１７）及び式（１８）で表される基；該式（１０）〜式（１８）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。

式（１０）〜式（１８）中、＊は結合手を表し、
Ｖ^１、Ｖ^２及びＶ^３は、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−又は−Ｎ（Ｑ）−を表す。ここで、Ｑはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の１価の炭化水素基を表す。炭素数１〜１２の１価の炭化水素基としては、Ｒ^９について上記に述べた基が挙げられる。
１つの例は、Ｖ^１及びＶ^３が単結合、−Ｏ−又は−Ｓ−であり、かつ、Ｖ^２が−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−又は−ＳＯ_２−である。Ｖ^１とＶ^２との各環に対する結合位置、及び、Ｖ^２とＶ^３との各環に対する結合位置は、互いに独立に、各環に対して好ましくはメタ位又はパラ位、より好ましくはパラ位である。

式（１０）〜式（１８）で表される基の中でも、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）及び式（１７）で表される基が好ましく、式（１４）、式（１５）及び式（１６）で表される基がより好ましい。また、Ｖ^１、Ｖ^２及びＶ^３は、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び柔軟性を高めやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、−Ｏ−又は−Ｓ−、より好ましくは単結合又は−Ｏ−である。

本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂及びポリイミド系樹脂は、式（１）中のＸ又は式（２）中のＸとして、式（４）：

［式（４）中、Ｒ^１０〜Ｒ^１７は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ^１０〜Ｒ^１７に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、＊は結合手を表す］
で表される構造を含む。式（１）及び式（２）で表される複数の構成単位中のＸの少なくとも一部が式（４）で表される構造であると、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び透明性を高めやすい。

式（４）において、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基としては、式（３）における炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基として例示した基が挙げられる。Ｒ^１０〜Ｒ^１７は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、ここで、Ｒ^１０〜Ｒ^１７に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ^１０〜Ｒ^１７は、互いに独立に、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率、透明性及び耐屈曲性の観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基を表し、さらにより好ましくはＲ^１０、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５及びＲ^１６が水素原子、Ｒ^１１及びＲ^１７が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基を表し、とりわけ好ましくはＲ^１１及びＲ^１７がメチル基又はトリフルオロメチル基を表す。

本発明の好ましい一実施形態において、式（４）で表される構成単位は式（４’）：

で表される構成単位であり、すなわち、式（１）及び式（２）で表される複数の構成単位中のＸの少なくとも一部は、式（４’）で表される構成単位である。この場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。

本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂中のＸの、好ましくは３０モル％以上、より好ましくは５０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上が式（４）、特に式（４’）で表される。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂における上記範囲内のＸが式（４）、特に式（４’）で表される場合、得られる光学フィルムは、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性も向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂中のＸの１００モル％以下が式（４）、特に式（４’）で表される。上記樹脂中のＸは式（４）、特に式（４’）であってもよい。上記樹脂中のＸの式（４）で表される構成単位の割合は、例えば^１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。

式（１）において、Ｙは、４価の有機基、好ましくは炭素数４〜４０の４価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数４〜４０の４価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられ、耐衝撃性及び弾性率を高めやすい観点からは、好ましくは芳香環が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは１〜８である。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のＹを含み得、複数種のＹは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｙとしては、以下の式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基；該式（２０）〜式（２９）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに４価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。

式（２０）〜式（２９）中、＊は結合手を表し、Ｗ^１は、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−Ａｒ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、−Ｏ−Ａｒ−Ｏ−、−Ａｒ−Ｏ−Ａｒ−、−Ａｒ−ＣＨ_２−Ａｒ−、−Ａｒ−Ｃ（ＣＨ_３）_２−Ａｒ−又は−Ａｒ−ＳＯ_２−Ａｒ−を表す。Ａｒは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。

式（２０）〜式（２９）で表される基の中でも、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式（２６）、式（２８）又は式（２９）で表される基が好ましく、式（２６）で表される基がより好ましい。また、Ｗ^１は、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすいと共に、光学フィルムのＹＩ値を低減しやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−又は−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、より好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−又は−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、さらに好ましくは単結合、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−又は−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、最も好ましくは単結合又は−Ｃ（ＣＦ_３）_２−である。

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のＹの、好ましくは５０モル％以上、より好ましくは６０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上が、式（２６）で表される。ポリイミド系樹脂における上記範囲内のＹが式（２６）、好ましくはＷ^１が単結合、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−又は−Ｃ（ＣＦ_３）_２−である式（２６）、より好ましくはＷ^１が単結合又は−Ｃ（ＣＦ_３）_２−である式（２６）で表されると、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすいと共に、光学フィルムのＹＩ値を低減しやすい。ポリイミド系樹脂中のＹが式（２６）で表される構成単位の割合は、例えば^１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。

本発明の好ましい一実施形態において、複数の式（１）中のＹの少なくとも一部は、式（５）：

［式（５）中、Ｒ^１８〜Ｒ^２５は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ^１８〜Ｒ^２５に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、＊は結合手を表す］
及び／又は式（９）

［式（９）中、Ｒ^３５〜Ｒ^４０は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ^３５〜Ｒ^４０に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、＊は結合手を表す］
で表される。複数の式（１）中のＹの少なくとも一部が式（５）で表される、及び／又は、式（９）で表されると、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び光学特性を向上させやすい。

式（５）において、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４及びＲ^２５は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基としては、式（３）における炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。Ｒ^１８〜Ｒ^２５は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、ここで、Ｒ^１８〜Ｒ^２５に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ^１８〜Ｒ^２５は、互いに独立に、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基を表し、さらにより好ましくはＲ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２３、Ｒ^２４及びＲ^２５が水素原子、Ｒ^２１及びＲ^２２が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基を表し、とりわけ好ましくはＲ^２１及びＲ^２２がメチル基又はトリフルオロメチル基を表す。

式（９）において、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、Ｒ^３５〜Ｒ^４０は、好ましくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。ここで、Ｒ^３５〜Ｒ^４０に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ^３５〜Ｒ^４０における炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数６〜１２のアリール基としては、それぞれ上記に例示のものが挙げられる。

本発明の好ましい一実施形態においては、式（５）は式（５’）で表され、式（９）は式（９’）：

で表される。すなわち、複数のＹの少なくとも一部は、式（５’）及び／又は式（９’）で表される。この場合、光学フィルムの耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。さらに、式（５）が式（５’）で表される場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のＹの、好ましくは５０モル％以上、より好ましくは６０モル％以上、さらに好ましくは７０モル％以上が、式（５）、特に式（５’）で表される。ポリイミド系樹脂における上記範囲内のＹが式（５）、特に式（５’）で表されると、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂中のＹの１００モル％以下が式（５）、特に式（５’）で表される。ポリイミド系樹脂中のＹは式（５）、特に式（５’）であってもよい。ポリイミド系樹脂中のＹの式（５）で表される構成単位の割合は、例えば^１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。

本発明の好ましい一実施形態において、式（１）で表される複数の構成単位は、Ｙが式（５）で表される構成単位に加えて、Ｙが式（９）で表される構成単位をさらに含むことが好ましい。Ｙが式（９）で表される構成単位をさらに含む場合、光学フィルムの耐衝撃性及び弾性率をさらに向上させやすい。

ポリイミド系樹脂は、式（３０）で表される構成単位及び／又は式（３１）で表される構成単位を含むものであってもよく、また式（１）及び場合により式（２）で表される構成単位の他に、式（３０）で表される構成単位及び／又は式（３１）で表される構成単位を含むものであってもよい。

式（３０）において、Ｙ^１は４価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｙ^１としては、式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基、該式（２０）〜式（２９）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに４価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のＹ^１を含み得、複数種のＹ^１は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

式（３１）において、Ｙ^２は３価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｙ^２としては、上記の式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）、式（２６）、式（２７）、式（２８）及び式（２９）で表される基の結合手のいずれか１つが水素原子に置き換わった基、及び３価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のＹ^２を含み得、複数種のＹ^２は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

式（３０）及び式（３１）において、Ｘ^１及びＸ^２は、互いに独立に、２価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｘ^１及びＸ^２としては、上記の式（１０）、式（１１）、式（１２）、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）、式（１７）及び式（１８）で表される基；該式（１０）〜式（１８）で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。

本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式（１）及び／又は式（２）で表される構成単位、並びに場合により式（３０）及び／又は式（３１）で表される構成単位からなる。また、光学フィルムの光学特性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、上記ポリイミド系樹脂において、式（１）及び式（２）で表される構成単位の割合は、式（１）及び式（２）、並びに場合により式（３０）及び式（３１）で表される全構成単位に基づいて、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは９０モル％以上、さらに好ましくは９５モル％以上である。なお、ポリイミド系樹脂において、式（１）及び式（２）で表される構成単位の割合は、式（１）及び式（２）、並びに場合により式（３０）及び／又は式（３１）で表される全構成単位に基づいて、通常１００％以下である。なお、上記割合は、例えば、^１Ｈ−ＮＭＲを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。

本発明の一実施形態において、光学フィルム中におけるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の含有量は、光学フィルム１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上、より好ましくは３０質量部以上、さらに好ましくは５０質量部以上であり、好ましくは９９．５質量部以下、より好ましくは９５質量部以下である。ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の含有量が上記範囲内であると、光学フィルムの化学的安定性、光学特性、耐衝撃性及び弾性率を向上させやすい。

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、標準ポリスチレン換算で、好ましくは２００，０００以上、より好ましくは２３０，０００以上、さらに好ましくは２５０，０００以上、さらにより好ましくは２７０，０００以上、とりわけ好ましくは２８０，０００以上である。また、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、該樹脂の溶媒に対する溶解性を向上しやすいと共に、光学フィルムの延伸性及び加工性を向上しやすい観点から、好ましくは１，０００，０００以下、より好ましくは８００，０００以下、さらに好ましくは７００，０００以下、さらにより好ましくは５００，０００以下である。重量平均分子量は、例えばＧＰＣ測定を行い、標準ポリスチレン換算によって求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出してよい。

ポリアミドイミド樹脂において、式（２）で表される構成単位の含有量は、式（１）で表される構成単位１モルに対して、好ましくは０．１モル以上、より好ましくは０．５モル以上、さらに好ましくは１．０モル以上、さらにより好ましくは１．５モル以上であり、好ましくは６．０モル以下、より好ましくは５．０モル以下、さらに好ましくは４．５モル以下である。式（２）で表される構成単位の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの耐衝撃性及び弾性率を高めやすい。また、式（２）で表される構成単位の含有量が上記の上限以下であると、式（２）中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、光学フィルムの加工性を向上させやすい。

本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂は、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂がハロゲン原子を含む場合、光学フィルムの弾性率を向上させ、かつＹＩ値を低減させやすい。光学フィルムの弾性率が高いと、傷及びシワ等の発生を抑制しやすい。また、光学フィルムのＹＩ値が低いと、該フィルムの透明性及び視認性を向上させやすくなる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。ポリイミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、それぞれ、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは１〜４０質量％、より好ましくは５〜４０質量％、さらに好ましくは５〜３０質量％である。ハロゲン原子の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの弾性率をより向上させ、吸水率を下げ、ＹＩ値をより低減し、透明性及び視認性をより向上させやすい。ハロゲン原子の含有量が上記の上限以下であると、合成がしやすくなる。

ポリイミド系樹脂及びポリアミドイミド樹脂のイミド化率は、好ましくは９０％以上、より好ましくは９３％以上、さらに好ましくは９６％以上である。光学フィルムの光学特性を高めやすい観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。また、イミド化率の上限は１００％以下である。イミド化率は、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の２倍の値に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリイミド系樹脂がトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の２倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。また、イミド化率は、ＩＲ法、ＮＭＲ法などにより求めることができる。

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂として、市販品を使用してもよい。ポリイミド樹脂の市販品としては、例えば三菱瓦斯化学（株）製ネオプリム（登録商標）、河村産業（株）製ＫＰＩ−ＭＸ３００Ｆ等が挙げられる。

本発明において、光学フィルムは、ポリアミド系樹脂を含んでいてもよい。本実施形態に係るポリアミド系樹脂は、式（２）で表される繰り返し構成単位を主とする重合体である。ポリアミド系樹脂における式（２）中のＺの好ましい例及び具体例は、ポリイミド系樹脂におけるＺの好ましい例及び具体例と同じである。前記ポリアミド系樹脂は、Ｚが異なる２種類以上の式（２）で表される繰り返し構成単位を含んでいてもよい。

（樹脂の製造方法）
ポリイミド樹脂及びポリイミド前駆体樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミドイミド樹脂及びポリアミドイミド前駆体樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミド樹脂は、例えば、ジアミン化合物及びジカルボン酸化合物を主な原料として製造できる。ここで、ジカルボン酸化合物は少なくとも式（３”）で表される化合物を含むことが好ましい。

［式（３”）中、Ｒ^１〜Ｒ^８は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ^１〜Ｒ^８に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Ａは、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＳＯ_２−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−Ｎ（Ｒ^９）−を表し、
Ｒ^９は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の１価の炭化水素基を表し、
ｍは０〜４の整数であり、
Ｒ^３１及びＲ^３２は、互いに独立に、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基又は塩素原子を表す。］

本発明の好ましい一実施形態において、ジカルボン酸化合物は、ｍが０である、式（３”）で表される化合物である。ジカルボン酸化合物として、ｍが０である式（３”）で表される化合物に加えて、Ａが酸素原子である式（３”）で表される化合物を使用することがより好ましい。また、別の好ましい一実施形態においては、ジカルボン酸化合物は、Ｒ^３１及びＲ^３２が塩素原子である、式（３”）で表される化合物である。また、ジアミン化合物に代えて、ジイソシアネート化合物を用いてもよい。

樹脂の製造に使用されるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環が例示される。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。

脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。

芳香族ジアミンとしては、例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、２，４−トルエンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、１，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジアミノナフタレン等の、芳香環を１つ有する芳香族ジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢと記載することがある）、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−クロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−フルオロフェニル）フルオレン等の、芳香環を２つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。

芳香族ジアミンは、好ましくは４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルであり、より好ましくは４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニルである。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。

上記ジアミン化合物の中でも、光学フィルムの高弾性率、高透明性、高柔軟性、高屈曲耐性及び低着色性の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる１種以上を用いることが好ましい。２，２’−ジメチルベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル及び４，４’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる１種以上を用いることがより好ましく、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノジフェニル（ＴＦＭＢ）を用いることがよりさらに好ましい。

樹脂の製造に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物；及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡと記載することがある）、１，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、４，４’−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物、４，４’−（ｍ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば１，２，４，５−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。

これらの中でも、好ましくは４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）、１，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、４，４’−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物及び４，４’−（ｍ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物及び４，４’−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は２種以上を組合せて使用できる。

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び１，２，３，４−ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は２種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。

上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、光学フィルムの高耐衝撃性、高弾性率、高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高屈曲耐性、及び低着色性の観点から、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましく、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及び４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物がより好ましく、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物（６ＦＤＡ）及び３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）がさらに好ましい。

樹脂の製造に用いられるジカルボン酸化合物としては、好ましくはテレフタル酸、イソフタル酸、４，４’−オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物が用いられる。テレフタル酸、イソフタル酸、４，４’−オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物に加えて、他のジカルボン酸化合物が用いられてもよい。他のジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、２種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、イソフタル酸；ナフタレンジカルボン酸；４，４’−ビフェニルジカルボン酸；３，３’−ビフェニルジカルボン酸；炭素数８以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び２つの安息香酸が単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＳＯ_２−若しくはフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロリド化合物が挙げられる。具体例としては、４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド）、テレフタロイルクロリド又はイソフタロイルクロリドが好ましく、４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド）とテレフタロイルクロリドとを組合せて用いることがさらに好ましい。

なお、上記ポリイミド系樹脂は、光学フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記テトラカルボン酸化合物に加えて、テトラカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体をさらに反応させたものであってもよい。

テトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、２種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、１，２，４−ベンゼントリカルボン酸の無水物；１，３，５−ベンゼントリカルボン酸の無水物；２，３，６−ナフタレントリカルボン酸−２，３−無水物；フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＳＯ_２−若しくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及び／又はジカルボン酸化合物の使用量は、所望とするポリイミド系樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば５〜３５０℃、好ましくは２０〜２００℃、より好ましくは２５〜１００℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば３０分〜１０時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。好ましい態様では、反応は、常圧及び／又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒；及びそれらの組合せ、すなわち混合溶媒などが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。

ポリイミド系樹脂の製造におけるイミド化工程では、イミド化触媒の存在下で、イミド化することができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン；Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ−プロピルピペリジン、Ｎ−ブチルピロリジン、Ｎ−ブチルピペリジン、及びＮ−プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン（単環式）；アザビシクロ［２．２．１］ヘプタン、アザビシクロ［３．２．１］オクタン、アザビシクロ［２．２．２］オクタン、及びアザビシクロ［３．２．２］ノナン等の脂環式アミン（多環式）；並びにピリジン、２−メチルピリジン（２−ピコリン）、３−メチルピリジン（３−ピコリン）、４−メチルピリジン（４−ピコリン）、２−エチルピリジン、３−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２，４−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、３，４−シクロペンテノピリジン、５，６，７，８−テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により分離精製して単離してもよく、好ましい態様では、透明ポリアミドイミド樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。

＜アルカリ金属含有成分＞
本発明の光学フィルムは、アルカリ金属原子を含む化合物、アルカリ金属及びアルカリ金属イオンからなる群から選択される、アルカリ金属含有成分を含有する。本発明の光学フィルムにおけるアルカリ金属含有成分の含有量は、飛行時間型二次イオン質量分析により得られるＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するアルカリ金属のイオン強度（Ｉ_Ａ）の割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上となるような量であれば特に限定されず、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の種類に応じて、上記割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が所定の範囲となるように設定すればよい。

例えば、本発明の光学フィルムを作製するためのワニスにおけるアルカリ金属含有成分の含有量は、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性及び弾性率を高めやすい観点から、ワニス中に含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の総量に対して、好ましくは０．００２質量％以上、より好ましくは０．００４質量％以上、さらに好ましくは０．０１質量％以上、さらにより好ましくは０．０２質量％以上、とりわけ好ましくは０．０３質量％以上、特に好ましくは０．０４質量％以上である。本発明の光学フィルムを作製するためのワニスにおけるアルカリ金属含有成分の含有量の上限は、均質なフィルムを得やすい観点から、ワニス中に含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の総量に対して、好ましくは１質量％以下、より好ましくは０．５質量％以下、さらに好ましくは０．１質量％以下である。アルカリ金属含有成分の含有量が上記の上限以下である場合には、ワニス粘度が高まりすぎることがなく、ワニス中の樹脂固形分を高めやすいため、成膜性を向上させやすい。

また、本発明の光学フィルムにおけるアルカリ金属含有成分の含有量は、光学フィルムの化学的安定性を高めやすい観点から、光学フィルム中に含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の総量に対して、好ましくは０．００２質量％以上、より好ましくは０．００４質量％以上、さらに好ましくは０．０１質量％以上、さらにより好ましくは０．０２質量％以上、とりわけ好ましくは０．０３質量％以上、最も好ましくは０．０４質量％以上である。本発明の光学フィルムにおけるアルカリ金属含有成分の含有量の上限は、均質なフィルムを得やすい観点からは、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の総量に対して、好ましくは１質量％以下、より好ましくは０．５質量％以下、さらに好ましくは０．１質量％以下である。光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の総量に対する、アルカリ金属含有成分の含有量は、赤外吸収スペクトルなどの分光学的手法により測定してもよいし、光学フィルムを製造する際に使用したワニスにおける含有量を、光学フィルムにおける含有量としてもよい。

アルカリ金属含有成分は、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性及び弾性率を高めやすい観点から、好ましくはナトリウム含有成分、カリウム含有成分及びリチウム含有成分からなる群から選択される１種以上であり、より好ましくはナトリウム含有成分及びカリウム含有成分からなる群から選択される１種以上であり、さらにより好ましくはカリウム含有成分である。なお、アルカリ金属含有成分としてアルカリ金属原子を含む化合物を用いる場合、該化合物は、本発明の効果を損なわない範囲で、光学フィルムを製造する過程において分解等していてもよい。

アルカリ金属原子を含む化合物の種類は特に限定されない。ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂及び溶媒を少なくとも含む樹脂組成物（「ワニス」とも称する）を用いて光学フィルムを製造する場合には、該成分を樹脂組成物の溶媒へ溶解させやすく、該成分を光学フィルムに含有させやすい観点から、アルカリ金属原子を含む化合物は、好ましくは有機系アルカリ金属塩であり、より好ましくは有機系ナトリウム塩、有機系カリウム塩及び有機系リチウム塩からなる群から選択される１種以上であり、さらに好ましくは有機系ナトリウム塩及び有機系カリウム塩からなる群から選択される１種以上であり、さらにより好ましくは有機系カリウム塩である。樹脂組成物に含有させるアルカリ金属含有成分は、１種類の成分であってもよいし、２種以上の成分を組合せてもよい。

有機系アルカリ金属塩としては、炭素数１〜６のアルカリ金属アルコキシド、例えば炭素数１〜６のナトリウムアルコキシド、炭素数１〜６のカリウムアルコキシド等が挙げられる。アルカリ金属原子を含む化合物の溶解性を高め、成膜性に優れたポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂を含む樹脂組成物を得やすい観点からは、樹脂組成物の溶媒として非プロトン性極性溶媒を用いることが好ましい。非プロトン性極性溶媒を樹脂組成物の溶媒として用いる場合、例えばアルカリ金属原子を含む化合物として水酸化ナトリウム、塩化ナトリウム、水酸化カリウム、塩化カリウム等のアルカリ金属原子を含む塩を用いる場合であっても、該塩を樹脂組成物中に溶解させやすく、樹脂組成物中でポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂とアルカリ金属原子を含む化合物との相互作用を高めやすくなると考えられる。なお、樹脂組成物に添加した上記のアルカリ金属原子を含む化合物が、例えば有機系アルカリ金属塩等の形態のまま本発明の光学フィルムに含有される必要はなく、例えば樹脂組成物中に含まれ得る水分やアルコール等との加水分解、他の塩とのイオン交換反応等により、最終的な光学フィルム中で、別の塩を形成していてもよいし、アルカリ金属又はアルカリ金属イオンとして含まれていてもよい。ここで、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂は吸湿しやすい樹脂であり、これらの樹脂を含む樹脂組成物及び光学フィルムは通常、水分を含んでいる。また、前述の通り、樹脂組成物中の水分との反応で加水分解が生じていることも考えられることから、例えばナトリウムアルコキシド、カリウムアルコキシド等の有機系アルカリ金属塩の形態で樹脂組成物中に添加されたアルカリ金属含有成分は、最終的な光学フィルム中では、その少なくとも一部が塩である水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等となって存在していると考えられ、該水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等は、例えば一部がイオン化し、カルボニル基と相互作用し存在していると考えられる。

＜ケイ素含有成分＞
本発明の光学フィルムは、ケイ素原子を含む化合物、ケイ素及びケイ素イオンからなる群から選択される、ケイ素含有成分を含有する。本発明の光学フィルムにおけるケイ素含有成分の含有量は、飛行時間型二次イオン質量分析により得られるＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するケイ素のイオン強度（Ｉ_Ｓｉ）の割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上となるような量であれば特に限定されず、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の種類に応じて、上記割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が所定の範囲となるように設定すればよい。

ケイ素含有成分は、ケイ素原子を含む化合物、ケイ素及びケイ素イオンである。ケイ素原子を含む化合物としては、有機ケイ素化合物及び無機ケイ素化合物が挙げられる。有機ケイ素化合物としては、例えばシラン・シランカップリング剤、シロキサン、シラザン等が挙げられる。具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、７−オクテニルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、８−グリシドキシオクチルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、８−メタクリロキシオクチルトリメトキシシラン、３−アクロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１、３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−８−アミノオクチルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、トリス−（トリエトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、3-トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、テトラメチルシラン、ジエチルシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メトキシトリメチルシラン、エチルトリメトキシシラン、トリメトキシ（プロピル）シラン、フェニルトリメトキシシラン、ジメトキシジフェニルシラン、メトキシジメチル（フェニル）シラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、メトキシトリフェニルシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、トリメトキシ（４−メトキシフェニル）シラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルジメチルエトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、テトラプロポキシシラン、ジメチルフェニルシラン、トリメチルフェニルシラン、フェニルシラン、ジフェニルシラン、トリエチルフェニルシラン、トリメチルシリルメタノール、トリエチルシラノール、ジビニルメチルフェニルシラン、ジフェニルシランジオール、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン、ヘプタメチルジシラザン、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、１，３−ビス（４−ヒドロキシブチル）テトラメチルジシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−［（トリメチルシリル）オキシ］トリシロキサン、ヘキサメトキシジシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−３−フェニル−３−（トリメチルシリルオキシ）トリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−３−｛（トリメチルシリル）オキシ｝−３−ビニルトリシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、１，１，１，３，５，７，７，７−オクタメチルテトラシロキサン、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタメチルテトラシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、１，１，１，３，３−ぺンタメチルジシロキサン、２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシロキサン、１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジフェニルジシロキサン、１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ジフェニルトリシロキサン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシロキサン等が挙げられる。光学フィルム中の分散性を高め、化学的安定性、耐衝撃性を高めやすい観点から、有機ケイ素化合物の分子量は５００以下であり、好ましくは１００以上４００以下、より好ましくは１５０以上３５０以下である。また、光学フィルム中に含まれるポリイミド系樹脂のイミド基及び／又はポリアミド系樹脂のアミド基と、化学的、もしくは物理的な相互作用が生じやすい置換基、例えば、フェニル基、アミノ基、水酸基等を有する有機ケイ素化合物を選択することにより、化学的安定性、耐衝撃性が向上しやすい。
無機ケイ素化合物としては、例えばケイ酸、ケイ酸塩、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素等が挙げられ、好ましくは二酸化ケイ素であり、より好ましくはシリカ粒子である。
ケイ素原子を含む化合物の溶解性を高め、成膜性に優れたポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂を含む樹脂組成物を得やすい観点からは、樹脂組成物の溶媒として非プロトン性極性溶媒を用いることが好ましい。非プロトン性極性溶媒を樹脂組成物の溶媒として用いる場合、ケイ素原子を含む化合物を樹脂組成物中に溶解させやすく、樹脂組成物中でポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂とケイ素原子を含む化合物との相互作用を高めやすくなったり、樹脂間の隙間に入り込みやすくなったりすると考えられる。
なお、樹脂組成物に添加した上記のケイ素原子を含む化合物が、例えば有機ケイ素化合物等の形態のまま本発明の光学フィルムに含有される必要はなく、例えば樹脂組成物中に含まれ得る水分やアルコール等との加水分解等により、最終的な光学フィルム中で、別の形態で存在していてもよいし、ケイ素又はケイ素イオンとして含まれていてもよい。ここで、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂は吸湿しやすい樹脂であり、これらの樹脂を含む樹脂組成物及び光学フィルムは通常、水分を含んでいる。また、前述の通り、樹脂組成物中の水分との反応で加水分解が生じていることも考えられることから、例えばフェニルトリエトキシシラン等の有機ケイ素化合物の形態で樹脂組成物中に添加されたケイ素含有成分は、最終的な光学フィルム中では、その少なくとも一部がシラノールやシロキサン等となって存在していると考えられ、それらの例えば一部が樹脂の隙間に入り込んでいると考えられる。

例えば、本発明の光学フィルムを作製するためのワニスにおけるケイ素含有成分の含有量は、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性及び弾性率を高めやすい観点から、ワニス中に含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の総量に対して、ケイ素含有成分が有機ケイ素化合物、ケイ素イオン及びケイ素である場合、好ましくは０．００２質量％以上、より好ましくは０．００４質量％以上、さらに好ましくは０．０１質量％以上、さらにより好ましくは０．０２質量％以上、とりわけ好ましくは０．０３質量％以上、最も好ましくは０．０４質量％以上であり、ケイ素含有成分が無機ケイ素化合物である場合、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは１質量％以上、さらに好ましくは５質量％以上、さらにより好ましくは１０質量％以上である。本発明の光学フィルムを作製するためのワニスにおけるケイ素含有成分の含有量の上限は、光学フィルムの機械的強度を高めやすい観点から、ワニス中に含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の総量に対して、ケイ素含有成分が有機ケイ素化合物、ケイ素イオン及びケイ素である場合、好ましくは１質量％以下、より好ましくは０．５質量％以下、さらに好ましくは０．２質量％以下であり、ケイ素含有成分が無機ケイ素化合物である場合、好ましくは１５０質量％以下、より好ましくは１００質量％以下、さらに好ましくは７０質量％以下である。

また、本発明の光学フィルムにおけるケイ素含有成分の含有量は、光学フィルムの化学的安定性、耐衝撃性及び弾性率を高めやすい観点から、光学フィルム中に含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の総量に対して、ケイ素含有成分が有機ケイ素化合物、ケイ素イオン又はケイ素である場合、好ましくは０．００２質量％以上、より好ましくは０．００４質量％以上、さらに好ましくは０．０１質量％以上、さらにより好ましくは０．０２質量％以上、とりわけ好ましくは０．０３質量％以上、最も好ましくは０．０４質量％以上であり、ケイ素含有成分が無機ケイ素化合物である場合、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは１質量％以上、さらにより好ましくは５質量％以上、とりわけ好ましくは１０質量％以上である。本発明の光学フィルムにおけるケイ素含有成分の含有量の上限は、均質なフィルムを得やすい観点からは、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の総量に対して、ケイ素含有成分が有機ケイ素化合物、ケイ素イオン又はケイ素である場合、好ましくは１質量％以下、より好ましくは０．５質量％以下、さらに好ましくは０．２質量％以下であり、ケイ素含有成分が無機ケイ素化合物である場合、好ましくは１５０質量％以下、より好ましくは１００質量％以下、さらに好ましくは７０質量％以下、さらにより好ましくは５０質量％以下である。光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂の総量に対する、ケイ素含有成分の含有量は、赤外吸収スペクトルなどの分光学的手法により測定してもよいし、光学フィルムを製造する際に使用したワニスにおける含有量を、光学フィルムにおける含有量としてもよい。

本発明の光学フィルムは、好ましい一態様において、ケイ素含有成分としてシリカ粒子を含んでよい。本発明の光学フィルムがシリカ粒子を含有する場合、該シリカ粒子の平均一次粒子径は、通常１ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは１５ｎｍ以上、さらにより好ましくは２０ｎｍ以上であり、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは９０ｎｍ以下、さらに好ましくは８０ｎｍ以下、さらにより好ましくは７０ｎｍ以下、とりわけ好ましくは６０ｎｍ以下、とりわけより好ましくは５０ｎｍ以下、最も好ましくは４０ｎｍ以下である。シリカ粒子の平均一次粒子径が上記範囲内であると、シリカ粒子の凝集を抑制し、得られる光学フィルムの光学特性を向上しやすい。フィラーの平均一次粒子径は、ＢＥＴ法により測定できる。なお、透過型電子顕微鏡や走査型電子顕微鏡の画像解析により、平均一次粒子径を測定してもよい。
本発明の好ましい一態様において、光学フィルムの化学的安定性及び耐衝撃性を向上させやすい観点から、光学フィルムはシリカ粒子を含有する。光学フィルムがシリカ粒子を含有する場合、割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）を上記の所望の範囲に調整しやすく、光学フィルムの化学的安定性及び耐衝撃性を向上させやすい観点からは、シリカ粒子の含有量は、光学フィルム１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上、より好ましくは１質量部以上、さらに好ましくは５質量部以上、さらにより好ましくは１０質量部以上であり、好ましくは６０質量部以下、より好ましくは５０質量部以下、さらに好ましくは４０質量部以下である。シリカ粒子の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの化学的安定性を向上させやすく、かつ、光学フィルムの弾性率を向上しやすい。また、シリカ粒子の含有量が上記の上限以下であると、光学フィルムの光学特性や耐屈曲性を向上しやすい。

＜添加剤＞
本発明の光学フィルムは、上記のシリカ粒子とは異なる他のフィラーを含んでもよい。フィラーとしては、例えば有機粒子、無機粒子などが挙げられ、好ましくは無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、ジルコニア、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物粒子、フッ化マグネシウム、フッ化カリウム等の金属フッ化物粒子などが挙げられる。フィラーは、光学フィルムの弾性率を高めやすく、光学フィルムの耐衝撃性を向上しやすい観点から、好ましくは、ジルコニア粒子、アルミナ粒子である。これらのフィラーは単独又は２種以上を組合せて使用できる。

フィラーの平均一次粒子径は、通常１ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは１５ｎｍ以上、さらにより好ましくは２０ｎｍ以上であり、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは９０ｎｍ以下、さらに好ましくは８０ｎｍ以下、さらにより好ましくは７０ｎｍ以下、とりわけ好ましくは６０ｎｍ以下、とりわけより好ましくは５０ｎｍ以下、最も好ましくは４０ｎｍ以下である。シリカ粒子の平均一次粒子径が上記範囲内であると、シリカ粒子の凝集を抑制し、得られる光学フィルムの光学特性を向上しやすい。フィラーの平均一次粒子径は、ＢＥＴ法により測定できる。なお、透過型電子顕微鏡や走査型電子顕微鏡の画像解析により、平均一次粒子径を測定してもよい。

本発明の光学フィルムがフィラーを含有する場合、フィラーの含有量は、光学フィルム１００質量部に対して、通常０．１質量部以上、好ましくは１質量部以上、より好ましくは５質量部以上、さらに好ましくは１０質量部以上、さらによりに好ましくは２０質量部以上、とりわけ好ましくは３０質量部以上であり、好ましくは６０質量部以下である。フィラーの含有量が上記の下限以上であると、得られる光学フィルムの弾性率を向上しやすい。また、フィラーの含有量が上記の上限以下であると、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。

本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤をさらに含有してもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、４００ｎｍ以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。紫外線吸収剤は単独又は二種以上を組合せて使用できる。光学フィルムが紫外線吸収剤を含有することにより、樹脂の劣化が抑制されるため、得られる光学フィルムを画像表示装置等に適用した場合に視認性を高めることができる。本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。

光学フィルムが紫外線吸収剤を含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、光学フィルム１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上、より好ましくは２質量部以上、さらに好ましくは３質量部以上であり、好ましくは１０質量部以下、より好ましくは８質量部以下、さらに好ましくは６質量部以下である。好適な含有量は用いる紫外線吸収剤により異なるが、４００ｎｍの光線透過率が２０〜６０％程度になるように紫外線吸収剤の含有量を調節すると、光学フィルムの耐光性が高められるとともに、透明性を高めやすい。

本発明の光学フィルムは、フィラー、紫外線吸収剤以外の他の添加剤をさらに含有していてもよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、ｐＨ調整剤、シリカ分散剤、滑剤、増粘剤、及びレベリング剤等が挙げられる。他の添加剤を含有する場合、その含有量は、光学フィルム１００質量部に対して、好ましくは０．００１〜２０質量部、より好ましくは０．０１〜１５質量部、さらに好ましくは０．１〜１０質量部であってよい。

（光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムの製造方法は、特に限定されないが、例えば以下の工程：
（ａ）前記ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と、少なくとも１種のアルカリ金属含有成分と、少なくとも１種のケイ素含有成分と、溶媒とを少なくとも含む樹脂組成物（以下において、「ワニス」とも称する）を調製する工程（ワニス調製工程）、ここで、該アルカリ金属含有成分は、アルカリ金属原子を含む化合物、アルカリ金属及びアルカリ金属イオンからなる群から選択され、該ケイ素含有成分は、ケイ素原子を含む化合物、ケイ素及びケイ素イオンからなる群から選択される、
（ｂ）ワニスを支持材に塗布して塗膜を形成する工程（塗布工程と称することがある）、及び
（ｃ）前記塗膜を乾燥させて、光学フィルムを形成する工程（光学フィルム形成工程と称することがある）
を少なくとも含む製造方法であってよい。本発明は、本発明の光学フィルムを製造するに適した、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と、少なくとも１種のアルカリ金属含有成分と、少なくとも１種のケイ素含有成分と、溶媒とを少なくとも含む樹脂組成物を用いる上記製造方法も提供する。

ワニス調製工程において、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と、少なくとも１種のアルカリ金属含有成分と、少なくとも１種のケイ素含有成分とを溶媒に溶解させ、必要に応じて、前記フィラー、紫外線吸収剤等の添加剤を添加して撹拌混合することによりワニスを調製する。なお、ケイ素含有成分としてシリカ粒子を用いる場合、シリカ粒子を含むシリカゾルの分散液を、前記樹脂が溶解可能な溶媒、例えば下記のワニスの調製に用いられる溶媒で置換したシリカゾルを樹脂に添加してもよい。

ワニスの調製に用いる溶媒は、前記樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下、ＤＭＡｃと称することがある）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと称することがある）等のアミド系溶媒；γ−ブチロラクトン（以下、ＧＢＬと称することがある）、γ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒；ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒；及びそれらの組合せが挙げられる。これらの中でも、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ワニスには水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。ワニスの固形分濃度は、好ましくは１〜２５質量％、より好ましくは５〜２０質量％、さらに好ましくは５〜１５質量％である。
ここで、ポリイミド系樹脂及び／又はポリアミド系樹脂とアルカリ金属含有成分及び／又はケイ素含有成分との相互作用を高めやすい観点からは、ワニスの調製にこれらを溶解可能な溶媒を使用することが好ましい。例えば樹脂の溶解性の観点からは、上記の溶媒が好ましく、アルカリ金属含有成分及び／又はケイ素含有成分の溶解性の観点からは、非プロトン性極性溶媒が好ましく、アミド系溶媒及びラクトン系溶媒からなる群から選択される非プロトン性極性溶媒がより好ましい。なお、上記の溶媒は大気中の水分を取り込みやすいため、ワニス中に水を意図的に添加していなくとも、水がワニス中に含まれている場合が多いと考えられる。さらに、ワニス中でアルカリ金属イオンとなっているアルカリ金属含有成分の一部が、樹脂と相互作用すると、アルカリ金属含有成分がイオン化する方向に平衡が進むとも考えられる。したがって、ワニスの状態で一定の時間放置することによって、樹脂とアルカリ金属含有成分との相互作用を促進することも可能である。

樹脂と、アルカリ金属含有成分と、ケイ素含有成分と、溶媒とを含む樹脂組成物の粘度は、アルカリ金属含有成分及びケイ素含有成分を加える前の組成物の粘度と比較して高いことが確認されている。このような粘度の上昇は、アルカリ金属含有成分及びケイ素含有成分の添加によって、樹脂と、アルカリ金属含有成分と、ケイ素含有成分との相互作用が生じているためであると考えられる。具体的には、粘度計を用い、例えば実施例に記載するような条件で樹脂組成物の粘度を測定すると、アルカリ金属含有成分の添加、及び／又は、ケイ素含有成分の添加によって粘度が高くなることが確認できる。アルカリ金属含有成分が、このような相互作用を有すると共に、ケイ素含有成分が樹脂の隙間に入り込むことによって、樹脂間のパッキングをより強めていることが予想される。

塗布工程において、公知の塗布方法により、支持材上にワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、流涎成形法等が挙げられる。

フィルム形成工程において、塗膜を乾燥し、支持材から剥離することによって、光学フィルムを形成することができる。剥離後にさらに光学フィルムを乾燥する工程を設けてもよい。塗膜の乾燥は、通常５０〜３５０℃の温度にて行うことができる。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において塗膜の乾燥を行ってよい。なお、得られる光学フィルムには、ワニスに含まれていた溶媒の一部がわずかに残存していてもよい。光学フィルムに含まれる溶媒の量は、光学フィルムの質量に対して、好ましくは１．５％以下、より好ましくは１．２％以下、さらに好ましくは１．１％以下、さらにより好ましくは１．０％以下である。溶媒の量の下限は、好ましくは０％以上、より好ましくは０．０２％以上、さらに好ましくは０．１％以上、さらにより好ましくは０．３％以上である。光学フィルム中の残存溶媒量が上記範囲内であると、光学フィルムの化学的安定性を向上させやすく、ＹＩ値をより低減しやすい。なお、光学フィルム中の残存溶媒量は、塗膜の乾燥条件で調整可能である。

支持材の例としては、金属系であれば、ＳＵＳ板、樹脂系であればＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム、ポリアミド系樹脂フィルム、他のポリイミド系樹脂フィルム、シクロオレフィン系ポリマーフィルム、アクリル系フィルム等が挙げられる。中でも、平滑性、耐熱性に優れる観点から、ＰＥＴフィルム、シクロオレフィン系ポリマーフィルム等が好ましく、さらに光学フィルムとの密着性及びコストの観点から、ＰＥＴフィルムがより好ましい。

（機能層）
本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面には、１以上の機能層が積層されていてもよい。機能層としては、例えば紫外線吸収層、ハードコート層、プライマー層、ガスバリア層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などが挙げられる。機能層は単独又は二種以上を組合せて使用できる。光学フィルムが該機能層を有する場合には、光学フィルムの断面にてＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定を行うことが好ましい。
本発明の光学フィルムは高い化学的安定性を有するため、該機能層を設ける際の溶媒等による化学的な影響による光学フィルムの特性変化が生じにくく、機械的特性及び光学的特性に優れた積層体が得られる。また、光学フィルムを含む積層体断面も高い化学的安定性を有するため、溶剤等での洗浄を要する場合であっても、該断面において前記特性に変化が生じにくく、該断面を含む積層体全体の外観品位にも優れる。

本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面には、ハードコート層が設けられていてもよい。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、２〜１００μｍであってもよい。前記ハードコート層の厚さが前記の範囲にあると、耐衝撃性をより高めることができると共に、耐屈曲性が低下しにくく、硬化収縮によるカール発生の問題が発生し難い傾向がある。ハードコート層は、活性エネルギー線照射、或いは熱エネルギー付与により架橋構造を形成し得る反応性材料を含むハードコート組成物を硬化させて形成することができ、活性エネルギー線照射によるものが好ましい。活性エネルギー線は、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義され、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線などが挙げられ、好ましくは紫外線が挙げられる。前記ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有する。

前記ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素‐炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が２個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。前記ラジカル重合性化合物が１分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは２以上である。前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、好ましくは（メタ）アクリロイル基を有する化合物が挙げられ、具体的には１分子中に２〜６個の（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートと称される分子内に数個の（メタ）アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーが挙げられ、好ましくはエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）アクリレートから選択された１種以上が挙げられる。

前記カチオン重合性化合物は、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が１分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは２以上であり、より好ましくは３以上である。
また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも１種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、低毒性であり、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。
エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂；脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル（メタ）アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦや水添ビスフェノールＡ等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。

前記ハードコート組成物は重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等があげられる。
活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるＴｙｐｅ１型ラジカル重合開始剤と、３級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するＴｙｐｅ２型ラジカル重合開始剤があり、それらは単独で又は併用して使用される。
カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄（ＩＩ）錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射又は加熱のいずれかあるいはいずれでもカチオン重合を開始することができる。

前記重合開始剤は、前記ハードコート組成物全体１００質量％に対して好ましくは０．１〜１０質量％を含むことができる。前記重合開始剤の含量が前記の範囲にあると、硬化を十分に進行させることができ、最終的に得られる塗膜の機械的物性や密着力を良好な範囲とすることができ、また、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生し難くなる傾向がある。

前記ハードコート組成物は、溶剤及び添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。
前記溶剤は、前記重合性化合物及び重合開始剤を溶解又は分散させることができるもので、本技術分野のハードコート組成物の溶剤として知られている溶剤であれば、本発明の効果を阻害しない範囲で、使用することができる。
前記添加剤は、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。

紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。

粘着層は、粘着性の機能を有する層であり、光学フィルムを他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。この場合、事後的にエネルギーを供給することで樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。

粘着層は、感圧型接着剤（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ａｄｈｅｓｉｖｅ、ＰＳＡと略されることがある）と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」（ＪＩＳ Ｋ ６８００）である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜（マイクロカプセル）に内容し、適当な手段（圧力、熱等）によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」（ＪＩＳ Ｋ ６８００）であるカプセル型接着剤であってもよい。

色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、光学フィルムを含む積層体を目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料；アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物、及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料；硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等の体質顔料；並びに塩基性染料、酸性染料、及び媒染染料等の染料を挙げることができる。

屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、例えば光学フィルムとは異なる屈折率を有し、光学積層体に所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。該顔料の平均一次粒子径は、０．１μｍ以下であってもよい。顔料の平均一次粒子径を０．１μｍ以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。

本発明の光学フィルムは、単層であっても、積層体であってもよく、例えば上記のようにして製造される光学フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムとの積層体として使用してもよい。飛行時間型二次イオン質量分析により得られる、ＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するアルカリ金属のイオン強度（Ｉ_Ａ）の割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上であり、かつ、ＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するＳｉのイオン強度（Ｉ_Ｓｉ）の割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上である本発明の光学フィルムは、高い化学的安定性を有し、画像表示装置等における光学フィルムとして有用なフィルムである。

本発明の好ましい一実施形態において、本発明の光学フィルムは、画像表示装置の前面板、中でもフレキシブル表示装置の前面板（ウィンドウフィルムと称されることがある）、特にローラブルディスプレイやフォルダブルディスプレイの前面板として非常に有用である。フレキシブル表示装置は、例えば、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する光学フィルムを有する。すなわち、フレキシブル表示装置の前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層、例えばフレキシブルディスプレイ内の画像表示素子を保護する機能を有する。なお、フレキシブル表示装置とは、画像表示装置を繰り返し折り曲げる、繰り返し巻く等の操作を伴い使用される表示装置である。このような繰り返しの折り曲げ操作等を伴い使用されるフレキシブル表示装置の前面板には高い耐屈曲性が求められる。また、前面板には、高い視認性も求められる。画像表示装置の内部で使用される画像表示装置の基板用のフィルムと比較して、画像表示装置の前面板、特にフレキシブル表示装置の前面板用のフィルムには、高い視認性が求められると共に、高い耐屈曲性が求められる。例えば、本発明のフィルムは、フレキシブル表示装置の前面板用に用いる場合の視認性を高めやすい観点から、上記に記載したような全光線透過率、ヘーズ及び／又はＹＩ値を有することが好ましく、また、フレキシブル表示装置の前面板として用いる場合の耐屈曲性を高めやすい観点から、上記に記載したような耐屈曲性試験における屈曲回数を満たすことが好ましい。

画像表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットＰＣ、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。フレキシブル表示装置としては、フレキシブル特性を有する全ての画像表示装置が挙げられ、例えば上記のようなローラブルディスプレイやフォルダブルディスプレイが挙げられる。ローラブルディスプレイとは、前面板を含む画像表示部分がロール状に巻き取られており、該画像表示部分を引き出して平面又は曲面にした状態で使用される画像表示装置であり、ロール状に巻き取る等の操作が使用の度に行われるような画像表示装置である。また、フォルダブルディスプレイとは、前面板を含む画像表示部分が折り曲げられており、該画像表示部分を開いて平面又は曲面にした状態で使用される画像表示装置であり、折り曲げ等の操作が使用の度に行われるような画像表示装置である。このような巻き取り、折り曲げ等の操作が繰り返し行われる画像表示装置をフレキシブル画像表示装置と称する。

［フレキシブル表示装置］
本発明は、本発明の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置も提供する。本発明の光学フィルムは、好ましくはフレキシブル表示装置において前面板として用いられ、該前面板はウィンドウフィルムと称されることがある。フレキシブル表示装置は、フレキシブル表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなり、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル表示装置用積層体は、本発明の光学フィルム、偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウィンドウフィルム、偏光板、タッチセンサ又はウィンドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサの視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、ウィンドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。

［偏光板］
本発明のフレキシブル表示装置は、偏光板、好ましくは円偏光板をさらに備えていてもよい。円偏光板は、直線偏光板にλ／４位相差板を積層することにより右円偏光成分若しくは左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ＥＬパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ＥＬの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ／４位相差板の遅相軸は理論上４５°である必要があるが、実用的には４５±１０°である。直線偏光板とλ／４位相差板とは必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ／４位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。

直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは０．５〜１００μｍである。厚さが前記の範囲にあると柔軟性が低下し難い傾向にある。
前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡと略されることがある）系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したＰＶＡ系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はＰＶＡに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はＰＶＡ系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるＰＶＡ系フィルムの厚さは好ましくは１０〜１００μｍであり、延伸倍率は好ましくは２〜１０倍である。
さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子であってもよい。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は重合性官能基を有していることも好ましい。

前記二色性色素は、前記液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、二色性色素自身が液晶性を有していてもよいし、重合性官能基を有していることもできる。液晶偏光組成物の中のいずれかの化合物は重合性官能基を有している。
前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。
液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましくは１〜５μｍであってもよい。
前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することで製造することができる。前記配向膜形成組成物は、配向剤の他に溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類を使用できる。光配向を適用する場合にはシンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量が１０，０００〜１，０００，０００程度であってもよい。前記配向膜の厚さは、配向規制力の観点から、好ましくは５〜１０，０００ｎｍ、より好ましは１０〜５００ｎｍである。前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウィンドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。

前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく、具体的には、用いられる高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン又はシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の（変性）セルロース類、メチルメタクリレート（共）重合体等のアクリル類、スチレン（共）重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン‐酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などのフィルムが挙げられ、透明性及び耐熱性に優れる点で、好ましくはポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエステル、オレフィン、アクリル又はセルロース系のフィルムが挙げられる。これらの高分子はそれぞれ単独又は２種以上混合して使用することができる。これらのフィルムは未延伸のまま、あるいは１軸又は２軸延伸したフィルムとして使用される。セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、ポリエステル系フィルムが好ましい。エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記保護フィルムの厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは１〜１００μｍである。前記保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、保護フィルムの柔軟性が低下し難い。

前記λ／４位相差板は、入射光の進行方向に直交する方向、言い換えるとフィルムの面内方向に、λ／４の位相差を与えるフィルムである。前記λ／４位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記延伸型位相差板の厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは１〜１００μｍである。厚さが前記の範囲にあるとフィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。
さらに前記λ／４位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板であってもよい。前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す性質を有する液晶性化合物を含む。液晶組成物の中の液晶性化合物を含むいずれかの化合物は重合性官能基を有している。前記液晶塗布型位相差板はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層での記載と同様に配向膜上に液晶組成物を塗布硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、通常０．５〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍであってもよい。前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウィンドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。

一般的には、短波長ほど複屈折が大きく、長波長ほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ／４の位相差を達成することはできないので、視感度の高い５６０ｎｍ付近に対してλ／４となるような面内位相差、すなわち１００〜１８０ｎｍ、好ましくは１３０〜１５０ｎｍとなるように設計されることが多い。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ／４位相差板を用いることは視認性をよくすることができるので好ましい。このような材料としては延伸型位相差板の場合は特開２００７−２３２８７３号公報等、液晶塗布型位相差板の場合には特開２０１０−３０９７９号公報に記載されているものを用いることも好ましい。
また、他の方法としてはλ／２位相差板と組合せることで広帯域λ／４位相差板を得る技術も知られている（例えば、特開平１０−９０５２１号公報）。λ／２位相差板もλ／４位相差板と同様の材料及び方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板との組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることは厚さを薄くすることができるので好ましい。
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のＣプレートを積層する方法も知られている（例えば、特開２０１４−２２４８３７号公報）。正のＣプレートも液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。厚さ方向の位相差は、通常−２００〜−２０ｎｍ、好ましくは−１４０〜−４０ｎｍである。

［タッチセンサ］
本発明のフレキシブル表示装置は、タッチセンサをさらに備えていてもよい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わない。中でも静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域、すなわち表示部に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域、すなわち非表示部に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と；前記基板の活性領域に形成された感知パターンと；前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記高分子フィルムと同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、その靱性が２，０００ＭＰａ％以上であるものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が２，０００〜３０，０００ＭＰａ％であってもよい。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる、応力（ＭＰａ）−歪み（％）曲線（Stress-strain curve）で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。

前記感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。感知パターンは周知の透明電極素材を適用することができる。例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、インジウムガリウム亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン、金属ワイヤなどを挙げることができ、これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。好ましくはＩＴＯを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、セレニウム、クロムなどを挙げることができる。これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。

ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの２種以上の合金などの金属で形成することもできる。第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターンを覆う層の構造に形成することもできる。後者の場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。前記タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と 、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができ、前記光学調節層は無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を上昇させることができる。
前記光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子は、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などを含むことができる。前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。

［接着層］
前記フレキシブル表示装置用積層体を形成する、ウィンドウフィルム、偏光板、タッチセンサなどの各層並びに各層を構成する、直線偏光板、λ／４位相差板等のフィルム部材は接着剤によって接着することができる。接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系接着剤、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型接着剤、水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤、感圧性粘着剤、再湿型接着剤等、汎用に使用されているものが使用できる。中でも水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤がよく用いられる。接着層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、例えば０．０１〜５００μｍ、好ましくは０．１〜３００μｍである。接着層は、前記フレキシブル画像表示装置用積層体には複数存在してよいが、それぞれの厚さ及び用いられる接着剤の種類は同一であっても異なっていてもよい。

前記水系溶剤揮散型接着剤としてはポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン−酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン−ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。水、前記主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは０．０１〜１０μｍ、好ましくは０．１〜１μｍであってもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び前記接着剤の種類は同一であっても異なっていてもよい。

前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物と同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物とは、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。接着層に用いられるラジカル重合性化合物としてはアクリロイル基を有する化合物が好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を含むことも好ましい。

前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物がより好ましい。接着剤組成物の粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。
活性エネルギー線組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル又はカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。

前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか又は両方に塗布後貼合し、いずれかの被着層又は両方の被着層を通して活性エネルギー線を照射して硬化させることで接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは、通常０．０１〜２０μｍ、好ましくは０．１〜１０μｍであってもよい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数層の形成に用いる場合には、それぞれの層の厚さ及び用いられる接着剤の種類は同一であっても異なっていてもよい。

前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着層又は接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記粘着剤を用いる場合の接着層の厚さは、通常１〜５００μｍ、好ましくは２〜３００μｍであってもよい。前記粘着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び用いられる粘着剤の種類は同一であっても異なっていてもよい。

［遮光パターン］
前記遮光パターンは前記フレキシブル画像表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーを有することができる。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は２種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、通常１〜１００μｍ、好ましくは２〜５０μｍである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記しない限り、それぞれ質量％及び質量部を意味する。まず始めに物性値の測定方法を説明する。

＜重量平均分子量の測定＞
樹脂の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定した。測定試料の調製方法及び測定条件は次の通りである。
（１）試料調製方法
樹脂を２０ｍｇ秤りとり、１０ｍＬのＤＭＦ（１０ｍｍｏｌ／Ｌ臭化リチウム添加）を加え、完全に溶解させた。この溶液をクロマトディスク（孔径０．４５μｍ）にてろ過し、試料溶液とした。
（２）測定条件
装置：ＨＬＣ−８０２０ＧＰＣ
カラム：ガードカラム＋ＴＳＫｇｅｌα−Ｍ（３００ｍｍ×７．８ｍｍ径）×２本＋α−２５００（３００ｍｍ×７．８ｍｍ径）×１本
溶離液：ＤＭＦ（１０ｍｍｏｌ／Ｌの臭化リチウム添加）
流量：１．０ｍＬ／分
検出器：ＲＩ検出器
カラム温度：４０℃
注入量：１００μＬ
分子量標準：標準ポリスチレン

＜全光線透過率の測定＞
光学フィルムの全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１に準拠して、スガ試験機（株）製の全自動直読ヘーズコンピュータＨＧＭ−２ＤＰにより測定した。

＜ヘーズの測定＞
光学フィルムのヘーズは、ＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１に準拠して、スガ試験機（株）製の全自動直読ヘーズコンピュータＨＧＭ−２ＤＰにより測定した。

＜厚さの測定＞
実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、ＡＢＳデジマチックインジケーター（（株）ミツトヨ製、「ＩＤ−Ｃ１１２ＢＳ」）を用いて、光学フィルムの厚さを測定した。

＜残存溶媒の測定方法＞
ＴＧ−ＤＴＡ（ＳＩＩ（株）製 ＥＸＳＴＡＲ６０００ ＴＧ／ＤＴＡ６３００）を用いて、実施例１、比較例１で得られたポリアミドイミド樹脂フィルムを３０℃から１２０℃まで昇温し、１２０℃で５分間保持し、その後５℃／分の昇温速度で４００℃まで昇温した。１２０℃における樹脂フィルムの質量に対する１２０℃から２５０℃での光学フィルムの質量減少の比を、樹脂フィルムに含まれる溶媒の含有量（残存溶媒量と称する）として算出した。樹脂フィルム中の残存溶媒量は、樹脂フィルムに含まれる溶媒の、樹脂フィルムの質量に対する割合を示す。

＜飛行時間型二次イオン質量分析（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）の測定＞
ライカマイクロシステムズ（株）製「ウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ６」を用いて、光学フィルムの断面を作製した。

作製した樹脂フィルムの断面を、ＴＯＦ−ＳＩＭＳにより分析した。分析に用いたＴＯＦ−ＳＩＭＳ装置と測定条件は、以下の通りである。
（１）装置：ＩＯＮ−ＴＯＦ社製 「ＴＯＦ．ＳＩＭＳ Ｖ」
（２）一次イオン：Ｂｉ^３＋＋
（３）一次イオンの加速電圧：２５ｋＶ
（４）照射イオン電流：０．２３ｐＡ
（５）測定条件：バンチング（高質量分解能）モードにて、正イオン・負イオンを測定
（６）測定範囲：２００μｍ×２００μｍ

ＴＯＦ−ＳＩＭＳのデータ解析は、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｌａｂを用いた。測定データのマスキャリブレーションを実施し、Ｋイオン、Ｓｉイオン及びＣＨ_３イオンに帰属されるピークそれぞれについて、ピークの積分値を算出した。Ｋイオンのピークの積分値をＫのイオン強度（Ｉ_Ｋ）、Ｓｉイオンのピークの積分値をＳｉのイオン強度（Ｉ_Ｓｉ）、ＣＨ_３イオンのピークの積分値をＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）として、比Ｉ_Ｋ／Ｉ_ＣＨ３及び比Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３を算出した。

＜耐溶剤性試験＞
（耐溶剤性試験用サンプルの作製）
撹拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置及び窒素導入管を備えた反応容器に、アクリル酸ｎ−ブチル ９７．０質量部、アクリル酸 １．０質量部、アクリル酸２−ヒドロキシエチル ０．５質量部、酢酸エチル ２００質量部、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル ０．０８質量部を仕込み、上記反応容器内の空気を窒素ガスで置換した。窒素雰囲気下で撹拌しながら、反応溶液を６０℃に昇温し、６時間反応させた後、室温まで冷却した。得られた溶液の一部の重量平均分子量を測定したところ、１，８００，０００の（メタ）アクリル酸エステル重合体の生成を確認した。

上記工程で得られた（メタ）アクリル酸エステル重合体 １００質量部（固形分換算値；以下同じ）と、イソシアネート系架橋剤として、トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート（東ソー（株）製、商品名「コロネート（登録商標）Ｌ」） ０．３０質量部と、シランカップリング剤として、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製，商品名「ＫＢＭ４０３」） ０．３０質量部とを混合し、十分
に撹拌して、酢酸エチルで希釈することにより、粘着剤組成物の塗工溶液を得た。
セパレータ（リンテック（株）製：ＳＰ−ＰＬＲ３８２１９０）の離型処理面（剥離層面）に、アプリケーターにより、乾燥後の厚さが２５μｍとなるように前記塗工溶液を塗工した後、１００℃で１分間乾燥し、粘着剤層のセパレータが貼合された面とは反対面に、もう１枚のセパレータ（リンテック（株）製：ＳＰ−ＰＬＲ３８１０３１）を貼合し、両面セパレータ付き粘着剤層を得た。

・溶剤処理前の試験サンプル
両面セパレータ付き粘着剤層から粘着剤層をガラスに移着することで粘着剤層を形成し、該粘着剤層上に実施例及び比較例で得られた光学フィルムを貼り合わせて、ガラス、粘着剤層、及び光学フィルムがこの順に積層された積層体（耐溶剤性試験用サンプル１）を得た。

・溶剤処理後の試験サンプル
実施例及び比較例で得た光学フィルムをＳＵＳ板にテープで固定し、２−ブタノン（富士フイルム和光純薬（株）製）に浸したＳａｖｉｎａ ＭＸ（ＫＢセーレン（株）製）で、表面を拭き、光学フィルムの表面全面が濡れるように２−ブタノンを塗布した。表面に２−ブタノンが塗布された状態で１分間放置した後に、光学フィルムを８０℃で３分間乾燥させた。次いで、両面セパレータ付き粘着剤層から粘着剤層をガラスに移着することで粘着剤層を形成し、該粘着剤層上に溶剤処理後の光学フィルムを溶剤処理した面とは反対側の面が粘着剤層と接するように貼り合わせて、ガラス、粘着剤層、及び光学フィルムがこの順に積層された積層体（耐溶剤性試験用サンプル２）を得た。

（耐溶剤性の評価）
上記のようにして得た耐溶剤性試験用サンプル１及び２について、後述する方法にしたがい凹み量を測定し、溶剤処理前後の凹み量の変化率から耐溶剤性を評価した。具体的には、上記積層体（耐溶剤性試験用サンプル）をアルミ板状に置き、積層体の光学フィルム面上に１０ｃｍの高さから重りを落下させて凹みを作製した。重りは、質量４．６ｇ、該光学フィルム面に衝突する箇所が直径０．７５ｍｍの球状で、ステンレス製である。次いで、光干渉膜厚計（（株）菱化システム社製、「Ｍｉｃｒｏｍａｐ（ＭＭ５５７Ｎ−Ｍ１００型）」）を用いて光学フィルム表面の前記凹みの形状の観察を行い、試験前の凹んでいない状態のフィルム表面を基準に、最も大きく凹んだ点の深さ（試験前の凹んでいない状態のフィルム表面から最も大きく凹んだ点までの最短距離）を計測した。測定は各積層体について３回繰り返し行い、各積層体の凹みの深さ、すなわち凹み量（μｍ）の平均値を求めた。各積層体において、耐溶剤性試験用サンプル２の凹み深さの平均値を耐溶剤性試験用サンプル１の凹み深さの平均値で除して変化率を算出し、耐溶剤性を評価した。

＜粘度の測定＞
樹脂組成物の粘度は、次の条件で測定した。
装置 ：ブルックフィールド社製粘度計（ＤＶ２ＴＨＢＣＪ０）
測定温度 ：２５℃
スピンドル ：ＣＰＡ−５２Ｚ
サンプル量 ：０．５ｍＬ
ローター回転速度 ：３ｒｐｍ

＜合成例１：ポリアミドイミド樹脂（１）の製造＞
十分に乾燥させた撹拌機と温度計を備える反応容器に、窒素を導通させ、容器内を窒素で置換した。該反応容器に、ＤＭＡｃ １９０７．２質量部を入れ、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン １１１．９４質量部と４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物 ４６．８４質量部を加えて反応させた。
次いで、４，４’−オキシビス（ベンゾイルクロリド） １０．３７質量部とテレフタロイルクロリド ４２．７９質量部を加えて反応させた。
次いで、無水酢酸 ３７．６６質量部を加え、１５分間撹拌した後、４−ピコリン １１．４５質量部を加え、反応容器を７０℃に昇温し、さらに３時間撹拌し、反応液を得た。
反応液を冷却し、メタノール ３７９４．５質量部を加え、次いでイオン交換水 １４１９．４質量部を滴下し、白色固体を析出させた。析出した白色固体を遠心ろ過により捕集し、メタノールで洗浄することにより、ポリアミドイミド樹脂を含むウェットケーキを得た。得られたウェットケーキを減圧下、７８℃で乾燥させることによりポリアミドイミド樹脂の粉体を得た。得られたポリアミドイミド樹脂（１）の重量平均分子量は４６６，０００であった。

＜カリウム含有成分を含む溶液の製造＞
カリウム含有成分として、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（以下において「ｔ−ＢｕＯＫ」とも称する、カリウム原子を含む化合物）を１モル％含む、ｔ−ＢｕＯＫのＴＨＦ溶液（富士フィルム和光純薬（株）製）をＤＭＡｃで希釈し、ｔ−ＢｕＯＫを０．２質量％の濃度で含有する溶液（以下において「ｔ−ＢｕＯＫ溶液」とも称する）を調製した。

＜ケイ素含有成分を含む溶液の製造＞
ケイ素含有成分として、フェニルトリエトキシシラン（ケイ素原子を含む化合物、信越工業(株)製）をＤＭＡｃで希釈し、フェニルトリエトキシシランを０．２質量％の濃度で含有する溶液（以下において「フェニルトリエトキシシラン溶液」とも称する）を調製した。

＜シリカゾルの製造＞
ケイ素含有成分としてシリカを用いるために、シリカゾルを調製した。具体的には、１，０００ｍｌのフラスコにメタノール分散シリカゾル（平均一次粒子径２７ｎｍ、シリカ粒子固形分３０．５％）４４２．６ｇ及びＧＢＬ ３０１．６ｇを入れ、真空エバポレータで４５℃の湯浴下、４００ｈＰａで１時間、続いて２５０ｈＰａで１時間、メタノールを蒸発させた。さらに２５０ｈＰａ下で７０℃まで昇温して３０分間加熱し、ＧＢＬ分散シリカゾル１を得た。得られたＧＢＬ分散シリカゾル１の固形分濃度は２９．１％であった。

＜実施例１〜４＞
合成例１で得たポリアミドイミド樹脂（１）及びＤＭＡｃを、樹脂組成物におけるポリアミドイミド樹脂の含有割合が９．０質量％となるような量で混合した。そこに、表１に示すＴＯＦ−ＳＩＭＳのピーク強度となるように、上記のようにして調製したｔ−ＢｕＯＫ溶液とフェニルトリエトキシシラン溶液とを添加し、ポリアミドイミド樹脂組成物（成膜用のワニス）を調製した。得られた樹脂組成物を、ポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の厚さが５５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、５０℃で３０分間、次いで１４０℃で１５分間乾燥後、得られた塗膜をポリエステル基材から剥離して、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下、２００℃で４０分間乾燥し、厚さ５０μｍのポリアミドイミド樹脂フィルムを得た。なお、実施例１で得たポリアミドイミド樹脂フィルムの残存溶媒量は、０．７％であった。

＜実施例５＞
合成例１で得たポリアミドイミド樹脂（１）及びＧＢＬを、樹脂組成物にけるポリアミドイミド樹脂の含有割合が６．０質量％となるような量で混合した。そこに、表１に示すＴＯＦ−ＳＩＭＳのピーク強度となるように、上記のようにして調製したｔ−ＢｕＯＫ溶液とＧＢＬ分散シリカゾル１とを混合し、ポリアミドイミド樹脂組成物（成膜用のワニス）を調製した。得られたポリアミドイミド樹脂組成物を、ポリエステル基材（東洋紡（株）製、商品名「Ａ４１００」）の平滑面上に自立膜の厚さが５５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、５０℃で３０分間、次いで１４０℃で１５分間乾燥後、得られた塗膜をポリエステル基材から剥離して、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下、２００℃で４０分間乾燥し、厚さ５０μｍのポリアミドイミド樹脂フィルムを得た。

＜比較例１＞
合成例１で得たポリアミドイミド樹脂（１）及びＤＭＡｃを、樹脂組成物におけるポリアミドイミド樹脂の含有割合が９．０質量％となるような量で混合した。このようにして得たポリアミドイミド樹脂組成物を用いたこと以外は実施例１と同様にして、厚さ５０μｍのポリアミドイミド樹脂フィルムを得た。比較例１で得たポリアミドイミド樹脂フィルムの残存溶媒量は、０．７％であった。

＜比較例２＞
合成例１で得たポリアミドイミド樹脂（１）及びＧＢＬを、樹脂組成物におけるポリアミドイミド樹脂の含有割合が６．０質量％となるような量で混合した。ｔ−ＢｕＯＫ溶液を混合しなかったこと以外は実施例５と同様にして、厚さ５０μｍのポリアミドイミド樹脂フィルムを得た。

実施例及び比較例で得たポリアミドイミド樹脂フィルムについて各種物性を測定した結果を表１及び表２に示す。

＜参考例６＞
合成例１で得たポリアミドイミド樹脂（１）、ＤＭＡｃ、並びに上記のようにして作製したｔ−ＢｕＯＫ溶液及びフェニルトリエトキシシラン溶液を、樹脂組成物におけるポリアミドイミド樹脂の含有割合が９．０質量％、ｔ−ＢｕＯＫの含有割合が０．１０質量％、フェニルトリエトキシシランの含有割合が０．２１質量％となるような量で混合し、ポリアミドイミド樹脂組成物を調製した

＜参考例７、８＞
フェニルトリエトキシシランの含有割合が０．１１質量％（参考例７）又は０．０４質量％（参考例８）となるような量で混合したこと以外は、参考例６と同様にして、ポリアミドイミド樹脂組成物を調製した。

＜参考例９＞
ｔ−ＢｕＯＫの含有割合が０．０１質量％、フェニルトリエトキシシランの含有割合が０．０２質量％となるような量で混合したこと以外は、参考例６と同様にして、ポリアミドイミド樹脂組成物を調製した。

参考例６〜９及び比較例１で得たポリアミドイミド樹脂組成物のそれぞれについて、上記の測定方法に従い粘度を測定した。得られた結果を表３に示す。

表１及び表２に示すように、ワニスにｔ−ＢｕＯＫとケイ素含有化合物を添加した、ＴＯＦ−ＳＩＭＳによるイオン強度の割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上であり、かつ、割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上である実施例１〜５の光学フィルムは、溶剤処理前後で比較した、耐溶剤性試験における凹み量の変化率が小さく、高い化学的安定性を有することが確認された。一方、ワニスにｔ−ＢｕＯＫとケイ素含有化合物のいずれも添加しない比較例１、並びに、ケイ素含有化合物のみを添加し、ｔ−ＢｕＯＫを添加しない比較例２の光学フィルムの場合には、溶剤処理後に評価した耐溶剤性試験における凹み量が、溶剤処理前の結果と比較して著しく低下し、十分な化学的安定性が得られなかった。また、表３に示すように、樹脂、アルカリ金属含有成分、ケイ素含有成分及び溶媒を含む、参考例６〜９の樹脂組成物の粘度は、アルカリ金属含有成分及びケイ素含有成分を含まない比較例１の樹脂組成物の粘度と比較して高いことが確認された。このことからも、樹脂組成物中で、樹脂とアルカリ金属含有成分及び／又はケイ素含有成分とが何らかの相互作用をしていると考えられる。ｔ−ＢｕＯＫ及びケイ素含有成分を一定量添加した光学フィルムの化学的安定性が高くなる原因は明らかではないが、カリウム含有成分が樹脂と何らかの相互作用をすると共に、ケイ素含有成分が樹脂の隙間に入り込むことによって、樹脂間のパッキングをより強めていることが予想される。このような作用により、得られる光学フィルムの化学的安定性の向上がもたらされると考えられるが、当該考察は、本発明を何ら限定するものではない。

Claims (11)

1. ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含む光学フィルムであって、該光学フィルムの飛行時間型二次イオン質量分析法により得られる、ＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するアルカリ金属のイオン強度（Ｉ_Ａ）の割合（Ｉ_Ａ／Ｉ_ＣＨ３）が０．２以上であり、かつ、ＣＨ_３のイオン強度（Ｉ_ＣＨ３）に対するＳｉのイオン強度（Ｉ_Ｓｉ）の割合（Ｉ_Ｓｉ／Ｉ_ＣＨ３）が０．０５以上である、光学フィルム。
2. ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は芳香族系の樹脂である、請求項１に記載の光学フィルム。
3. ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂における全構成単位に対する芳香族系モノマーに由来する構成単位の割合が６０モル％以上である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
4. 厚さが１０〜１００μｍであり、全光線透過率が８０％以上である、請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
5. ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量が２００，０００以上である、請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
6. ポリイミド系樹脂はポリアミドイミド樹脂である、請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
7. ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂はテレフタル酸に由来する構成単位を含む、請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルム。
8. フレキシブル表示装置の前面板用のフィルムである、請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルム。
9. 請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。
10. タッチセンサをさらに備える、請求項９に記載のフレキシブル表示装置。
11. 偏光板をさらに備える、請求項９又は１０に記載のフレキシブル表示装置。