JP2021060420A5 - - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 32
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 claims description 21
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 7
- 238000000418 atomic force spectrum Methods 0.000 claims description 4
- 230000003121 nonmonotonic effect Effects 0.000 description 2
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012887 quadratic function Methods 0.000 description 1
Description
例示の実施態様では、本方法は、公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルと、スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、スケール調整率を、オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はオフセットされた測定表面プロファイルに適用すること；及びスケール調整率、オフセット、及び統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較することをさらに含んでもよい。
例示の実施態様では、本方法は、公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルと、スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、非球面（又は傾き補正）を、スケール調整された、オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルに適用すること；及び回転、スケール調整率、オフセット、及び統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較することをさらに含んでもよい。
例示の実施態様では、公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルは、半弦に沿って複数のピーク及び/又は谷を有してもよい。
例示の実施態様では、公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルは、半弦に沿って少なくとも2、3、4、5、6、7、8、9、又は10のピーク及び/又は谷を有してもよい。
例示の測定プロファイルを図1に示す。屈折力プロファイルを測定した後、次のステップは、測定屈折力プロファイルを公称屈折力プロファイルと比較するために、１以上の対象領域を選択することである。図2は、選択された対象領域が、半弦上の0.5ｍｍ～3.5ｍｍである、図1に示す屈折力プロファイルの例示図である。図2に例示した例は、0.5ｍｍ～3.5ｍｍ（半弦）として対象領域を示すが、例示の実施態様では、対象領域は、完全な半弦又は任意の他の関連領域であってもよい。例えば、対象領域は、0～3.5ｍｍ、0～3ｍｍ、0～2.5ｍｍ、0～2ｍｍ、0～1.5ｍｍ、0～1ｍｍ、0～0.5ｍｍ、0.5～3.5ｍｍ、0.5～3ｍｍ、0.5～2.5ｍｍ、0.5～2ｍｍ、0.5～1.5ｍｍ、0.5～1ｍｍ、1～3.5ｍｍ、1～3ｍｍ、1～2.5ｍｍ、1～2ｍｍ、1～1.5ｍｍ、1.5～3.5ｍｍ、1.5～3ｍｍ、1.5～2.5ｍｍ、1.5～2ｍｍ、2～3.5ｍｍ、2～3ｍｍ、2～2.5ｍｍ、2.5～3.5ｍｍ、2.5～3ｍｍ、又は3～3.5ｍｍであってもよい。
オフセットを適用した後、測定プロファイルにさらなる調整を行い、得られた差分二乗和を算出してもよい。例えば、図4は、測定プロファイルが、0.75ジオプターオフセットを有し、半弦軸に沿って1.09だけスケール調整されている、図1に示す屈折力プロファイルの例示図である。例示の実施態様では、スケールは、差分二乗和を最小にする（又は少なくともおおよそ最小にする）ように選択してもよい。例示の実施態様では、スケール調整率を選択するプロセスは反復してもよい。言い換えると、スケールを選択した後、得られた差分二乗和を算出してもよい。このプロセスは、差分二乗和の最小値が認定されるまで反復してもよい。例示の実施態様では、スケールは、対象領域全体に対して単一オフセットであってもよく、差分二乗和は、複数の測定点で算出してもよい。スケールは、オフセットが適用された後に適用されているように示されているが、別の順序を許容してもよく、異なる組み合わせのパラメーターを利用してもよい。例示の実施態様では、オフセットは、半弦に沿ってもよい。例示の実施態様では、オフセットは、横方向にシフトしたオフセットであってもよい。
オフセットを適用し、スケール調整した後、測定プロファイルをさらに調整してもよい。例えば、図5は、測定プロファイルが、0.75ジオプターオフセットを有し、1.09だけスケール調整されており、-0.65ジオプターの非球面性が適用される、図1に示す屈折力プロファイルの例示図である。例示の実施態様では、非球面性（又は傾き補正）は、二次関数を微分プロファイル（公称屈折力プロファイル-測定屈折力プロファイル）にフィッティングすることによって算出してもよい。当業者であれば容易に理解されるように、非球面性は、水和中の物質の異方性膨張挙動により、コンタクトレンズに導入してもよい。
例示の実施態様では、メトリクス/変数は、以下の表のメトリクスの組み合わせを含んでもよい。
本発明の実施態様を示し、本明細書で説明したが、このような実施態様は、あくまで一例として与えられることは当業者には明らかであろう。以下の特許請求の範囲は、本発明の範囲を定義し、特許請求の範囲内に含まれる方法及び構造、並びにそれらの均等物をこれによって網羅することを目的とするものである。
本件出願は、以下の構成の発明を提供する。
（構成１）
製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルと、該製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルが基づいている対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルとの間の類似性を評価する方法であって、
製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルを測定すること；
製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルから１以上の対象領域を認定すること；
該対応する公称屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルと、オフセットされた測定屈折力プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルへの少なくとも1つのオフセット（X及び/又はY）を判断すること；
該オフセット及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること；及び
該比較に少なくとも部分的に基づいて、該測定屈折力プロファイルが該予め定められた品質管理メトリクスを満たしているかどうかを判断すること
を含む、前記方法。
（構成２）
該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルが、該予め定められた品質管理メトリクスを満たしていない場合、該製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞を、別の公称屈折力プロファイル、屈折力、及び/又は表面プロファイルと関連付けるかどうかを判断することをさらに含む、構成1記載の方法。
（構成３）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、スケール調整され、かつ、オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、スケール調整率を、前記オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記オフセットされた測定表面プロファイルに適用すること；及び
該スケール調整率、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること
をさらに含む、構成1又は2記載の方法。
（構成４）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、補正され、スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は補正され、スケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、非球面補正（又は傾き補正）を、該スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルに適用すること；及び
回転、スケール調整率、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること
をさらに含む、構成1～3のいずれか１記載の方法。
（構成５）
前記統計的数量子が、前記対象領域にわたって算出された差分二乗和である、構成1～4のいずれか１記載の方法。
（構成６）
前記方法が、前記製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の製造プロセス中に行われる、構成1～5のいずれか１記載の方法。
（構成７）
前記方法が、実質的にリアルタイムに行われる、構成1～6のいずれか１記載の方法。
（構成８）
前記光学デバイスが、高速製造ライン上で製造され、前記方法が、実質的にリアルタイムに行われる、構成1～7のいずれか１記載の方法。
（構成９）
前記方法が、前記製造ラインの出力を1%、2%、3%、4%、5%、10%、又は15%未満だけ減少させる、構成1～8のいずれか１記載の方法。
（構成１０）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、著しい変化量を有する（例えば、前記屈折力プロファイルが、単一直線又は単一円錐断面で記述することができず、及び/又は平均屈折力から少なくとも±0.25～0.30ジオプターの屈折力変動がある）、構成1～9のいずれか１記載の方法。
（構成１１）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、半弦に沿って複数のピーク及び/又は谷を有する、構成1～10のいずれか１記載の方法。
（構成１２）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、半弦に沿って少なくとも3、4、又は5つのピーク及び/又は谷を有する、構成1～11のいずれか１記載の方法。
（構成１３）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも2つの球面収差項を含む、構成1～12のいずれか１記載の方法。
（構成１４）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも2つの球面収差項及びデフォーカス項を含む、構成1～13のいずれか１記載の方法。
（構成１５）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも3つの球面収差項を含む、構成1～14のいずれか１記載の方法。
（構成１６）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも4、5、6、7、又は8つの球面収差項を含む、構成1～15のいずれか１記載の方法。
（構成１７）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、非単調である、構成1～16のいずれか１記載の方法。
（構成１８）
製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルと、該製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルが基づいている対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルとの間の類似性を評価するシステムであって、
該製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルを受信するためのインプット；及び
製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の測定屈折力プロファイル及び/又は測定表面プロファイルから少なくとも1つの対象領域を認定し；
該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルへの少なくとも1つのオフセット（X及び/又はY）を判断して、該公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルと、該オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にし；
該オフセット及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較し；
及び
該比較に少なくとも部分的に基づいて、該測定屈折力プロファイルが該予め定められた品質管理メトリクスを満たすかどうかを判断するように構成されたプロセッサ
を含む、前記システム。
（構成１９）
前記プロセッサが、該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルが、該予め定められた品質管理メトリクスを満たしていない場合、該製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞を、別の公称屈折力プロファイル、屈折力、及び/又は表面プロファイルと関連付けるかどうかを判断するようにさらに構成されている、構成18記載のシステム。
（構成２０）
前記プロセッサが、前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、スケール調整率を、前記オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記オフセットされた測定表面プロファイルに適用し、該スケール調整率、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較するようにさらに構成されている、構成18又は19記載のシステム。
（構成２１）
前記プロセッサが、前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、補正され、スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は補正され、スケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、非球面補正（又は傾き補正）を、該スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルに適用し、回転、スケール調整率、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較するようにさらに構成されている、構成18～20のいずれか１記載のシステム。
（構成２２）
前記統計的数量子が、前記対象領域にわたって算出された差分二乗和である、構成18～21のいずれか１記載のシステム。
（構成２３）
前記比較が、前記製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の製造プロセス中に行われる、構成18～22のいずれか１記載のシステム。
（構成２４）
前記比較が、実質的にリアルタイムに行われる、構成18～23のいずれか１記載のシステム。
（構成２５）
前記光学デバイスが、高速製造ライン上で製造され、前記比較が、実質的にリアルタイムに行われる、構成18～24のいずれか１記載のシステム。
（構成２６）
前記比較が、前記製造ラインの出力を1%、2%、3%、4%、5%、10%、又は15%未満だけ減少させる、構成18～25のいずれか１記載のシステム。
（構成２７）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、著しい変化量を有する（例えば、前記屈折力プロファイルが、単一直線又は単一円錐断面で記述することができず、及び/又は平均屈折力から少なくとも±0.25～0.30ジオプターの屈折力変動がある）、構成18～26のいずれか１記載のシステム。
（構成２８）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、半弦に沿って複数のピーク及び/又は谷を有する、構成18～27のいずれか１記載のシステム。
（構成２９）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、半弦に沿って少なくとも3、4、又は5つのピーク及び/又は谷を有する、構成18～28のいずれか１記載のシステム。
（構成３０）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも2つの球面収差項を含む、構成18～29のいずれか１記載のシステム。
（構成３１）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも2つの球面収差項及びデフォーカス項を含む、構成18～30のいずれか１記載のシステム。
（構成３２）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも3つの球面収差項を含む、構成18～31のいずれか１記載のシステム。
（構成３３）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも4、5、6、7、又は8つの球面収差項を含む、構成18～32のいずれか１記載のシステム。
（構成３４）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、非単調である、構成18～33のいずれか１記載のシステム。
本件出願は、以下の構成の発明を提供する。
（構成１）
製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルと、該製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルが基づいている対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルとの間の類似性を評価する方法であって、
製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルを測定すること；
製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルから１以上の対象領域を認定すること；
該対応する公称屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルと、オフセットされた測定屈折力プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルへの少なくとも1つのオフセット（X及び/又はY）を判断すること；
該オフセット及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること；及び
該比較に少なくとも部分的に基づいて、該測定屈折力プロファイルが該予め定められた品質管理メトリクスを満たしているかどうかを判断すること
を含む、前記方法。
（構成２）
該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルが、該予め定められた品質管理メトリクスを満たしていない場合、該製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞を、別の公称屈折力プロファイル、屈折力、及び/又は表面プロファイルと関連付けるかどうかを判断することをさらに含む、構成1記載の方法。
（構成３）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、スケール調整され、かつ、オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、スケール調整率を、前記オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記オフセットされた測定表面プロファイルに適用すること；及び
該スケール調整率、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること
をさらに含む、構成1又は2記載の方法。
（構成４）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、補正され、スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は補正され、スケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、非球面補正（又は傾き補正）を、該スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルに適用すること；及び
回転、スケール調整率、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること
をさらに含む、構成1～3のいずれか１記載の方法。
（構成５）
前記統計的数量子が、前記対象領域にわたって算出された差分二乗和である、構成1～4のいずれか１記載の方法。
（構成６）
前記方法が、前記製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の製造プロセス中に行われる、構成1～5のいずれか１記載の方法。
（構成７）
前記方法が、実質的にリアルタイムに行われる、構成1～6のいずれか１記載の方法。
（構成８）
前記光学デバイスが、高速製造ライン上で製造され、前記方法が、実質的にリアルタイムに行われる、構成1～7のいずれか１記載の方法。
（構成９）
前記方法が、前記製造ラインの出力を1%、2%、3%、4%、5%、10%、又は15%未満だけ減少させる、構成1～8のいずれか１記載の方法。
（構成１０）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、著しい変化量を有する（例えば、前記屈折力プロファイルが、単一直線又は単一円錐断面で記述することができず、及び/又は平均屈折力から少なくとも±0.25～0.30ジオプターの屈折力変動がある）、構成1～9のいずれか１記載の方法。
（構成１１）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、半弦に沿って複数のピーク及び/又は谷を有する、構成1～10のいずれか１記載の方法。
（構成１２）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、半弦に沿って少なくとも3、4、又は5つのピーク及び/又は谷を有する、構成1～11のいずれか１記載の方法。
（構成１３）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも2つの球面収差項を含む、構成1～12のいずれか１記載の方法。
（構成１４）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも2つの球面収差項及びデフォーカス項を含む、構成1～13のいずれか１記載の方法。
（構成１５）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも3つの球面収差項を含む、構成1～14のいずれか１記載の方法。
（構成１６）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも4、5、6、7、又は8つの球面収差項を含む、構成1～15のいずれか１記載の方法。
（構成１７）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、非単調である、構成1～16のいずれか１記載の方法。
（構成１８）
製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルと、該製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルが基づいている対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルとの間の類似性を評価するシステムであって、
該製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルを受信するためのインプット；及び
製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の測定屈折力プロファイル及び/又は測定表面プロファイルから少なくとも1つの対象領域を認定し；
該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルへの少なくとも1つのオフセット（X及び/又はY）を判断して、該公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルと、該オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にし；
該オフセット及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較し；
及び
該比較に少なくとも部分的に基づいて、該測定屈折力プロファイルが該予め定められた品質管理メトリクスを満たすかどうかを判断するように構成されたプロセッサ
を含む、前記システム。
（構成１９）
前記プロセッサが、該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルが、該予め定められた品質管理メトリクスを満たしていない場合、該製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞を、別の公称屈折力プロファイル、屈折力、及び/又は表面プロファイルと関連付けるかどうかを判断するようにさらに構成されている、構成18記載のシステム。
（構成２０）
前記プロセッサが、前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、スケール調整率を、前記オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記オフセットされた測定表面プロファイルに適用し、該スケール調整率、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較するようにさらに構成されている、構成18又は19記載のシステム。
（構成２１）
前記プロセッサが、前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、補正され、スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は補正され、スケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、非球面補正（又は傾き補正）を、該スケール調整され、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケール調整され、かつオフセットされた測定表面プロファイルに適用し、回転、スケール調整率、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較するようにさらに構成されている、構成18～20のいずれか１記載のシステム。
（構成２２）
前記統計的数量子が、前記対象領域にわたって算出された差分二乗和である、構成18～21のいずれか１記載のシステム。
（構成２３）
前記比較が、前記製造された光学デバイス、型、及び/又は空洞の製造プロセス中に行われる、構成18～22のいずれか１記載のシステム。
（構成２４）
前記比較が、実質的にリアルタイムに行われる、構成18～23のいずれか１記載のシステム。
（構成２５）
前記光学デバイスが、高速製造ライン上で製造され、前記比較が、実質的にリアルタイムに行われる、構成18～24のいずれか１記載のシステム。
（構成２６）
前記比較が、前記製造ラインの出力を1%、2%、3%、4%、5%、10%、又は15%未満だけ減少させる、構成18～25のいずれか１記載のシステム。
（構成２７）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、著しい変化量を有する（例えば、前記屈折力プロファイルが、単一直線又は単一円錐断面で記述することができず、及び/又は平均屈折力から少なくとも±0.25～0.30ジオプターの屈折力変動がある）、構成18～26のいずれか１記載のシステム。
（構成２８）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、半弦に沿って複数のピーク及び/又は谷を有する、構成18～27のいずれか１記載のシステム。
（構成２９）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、半弦に沿って少なくとも3、4、又は5つのピーク及び/又は谷を有する、構成18～28のいずれか１記載のシステム。
（構成３０）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも2つの球面収差項を含む、構成18～29のいずれか１記載のシステム。
（構成３１）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも2つの球面収差項及びデフォーカス項を含む、構成18～30のいずれか１記載のシステム。
（構成３２）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも3つの球面収差項を含む、構成18～31のいずれか１記載のシステム。
（構成３３）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、少なくとも4、5、6、7、又は8つの球面収差項を含む、構成18～32のいずれか１記載のシステム。
（構成３４）
前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、非単調である、構成18～33のいずれか１記載のシステム。
Claims (10)
- 製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルと、該製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルが基づいている対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルであって、半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する、前記対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルとの間の類似性を評価する方法であって、
該製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルを測定すること；
該製造された光学デバイスの該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルから1つの対象領域を認定することであって、該認定された対象領域の測定屈折力プロファイル及び/又は測定表面プロファイルが、半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する、前記認定すること；
半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する該対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルと、オフセットされた測定屈折力プロファイル及び／又はオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、対象領域全体に対して、該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルへの1つのオフセットを判断すること；
該オフセット及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること；及び
該比較に少なくとも部分的に基づいて、該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルが該予め定められた品質管理メトリクスを満たしているかどうかを判断すること
を含み、
該光学デバイスが、光学デバイスを製造するために一般に使用される高速製造ライン上で製造され、該方法が、製造状況の間に実質的にリアルタイムに行われる、前記方法。 - (i)前記測定屈折力プロファイル及び/又は前記測定表面プロファイルが、前記予め定められた品質管理メトリクスを満たしていない場合、前記製造された光学デバイスを、別の公称屈折力プロファイル、屈折力、及び/又は表面プロファイルと関連付けるかどうかを判断すること；
(ii)前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、スケールされ、かつ、オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、スケール因子を、前記オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記オフセットされた測定表面プロファイルに適用すること、及び、該スケール因子、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること；及び/又は
(iii)前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、補正され、スケールされ、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は補正され、スケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、非球面補正又は傾き補正を、前記スケールされ、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記スケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルに適用すること；及び、回転、スケール因子、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較すること
をさらに含む、請求項1記載の方法。 - 前記統計的数量子が、前記対象領域にわたって算出された差分二乗和である、請求項1又は2記載の方法。
- 前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、
(i)半コードに沿って少なくとも3、4、又は5つのピーク及び/又は谷を有し、
(ii)少なくとも2つの球面収差項を含み、かつ/又は
(iii) デフォーカス項及び少なくとも2つの球面収差項を含む、
請求項1〜3の1以上に記載の方法。 - 前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、
(a)少なくとも3つの球面収差項を含む、
(b)少なくとも4、5、6、7、又は8つの球面収差項を含む、
請求項1〜4の1以上に記載の方法。 - 製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルと、該製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルが基づいている対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルであって、半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する、前記対応する公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルとの間の類似性を評価するシステムであって、
該製造された光学デバイスの屈折力プロファイル及び/又は表面プロファイルを受信するためのインプット；及び
該製造された光学デバイスの測定屈折力プロファイル及び/又は測定表面プロファイルから1つの対象領域を認定し（ここで、該認定された対象領域の測定屈折力プロファイル及び/又は測定表面プロファイルは、半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する）；
対象領域全体に対して該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルへの1つのオフセットを判断して、半コードに沿って複数のピーク及び/又は谷を有する該公称屈折力プロファイル及び/又は公称表面プロファイルと、該オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にし；
該オフセット及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較し；及び
該比較に少なくとも部分的に基づいて、該測定屈折力プロファイル及び/又は該測定表面プロファイルが該予め定められた品質管理メトリクスを満たすかどうかを判断するように構成されたプロセッサ
を含み、
該光学デバイスが、光学デバイスを製造するために一般に使用される高速製造ライン上で製造され、該比較が、製造状況の間に実質的にリアルタイムに行われる、前記システム。 - 前記プロセッサが、
(i)前記測定屈折力プロファイル及び/又は前記測定表面プロファイルが、前記予め定められた品質管理メトリクスを満たしていない場合、前記製造された光学デバイスを、別の公称屈折力プロファイル、屈折力、及び/又は表面プロファイルと関連付けるかどうかを判断し；
(ii)前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、スケールされ、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又はスケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、スケール因子を、前記オフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記オフセットされた測定表面プロファイルに適用し、該スケール因子、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較し；かつ/又は
(iii)前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルと、補正され、スケールされ、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は補正され、スケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルとの間の類似性を数値化するための統計的数量子を実質的に最小にするために、非球面補正又は傾き補正を、前記スケールされ、かつオフセットされた測定屈折力プロファイル及び/又は前記スケールされ、かつオフセットされた測定表面プロファイルに適用し、回転、スケール因子、オフセット、及び該統計的数量子を、予め定められた品質管理メトリクスと比較する
ようにさらに構成されている、請求項6記載のシステム。 - 前記統計的数量子が、前記対象領域にわたって算出された差分二乗和である、請求項6又は7記載のシステム。
- 前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、半コードに沿って少なくとも3、4、又は5つのピーク及び/又は谷を有する、請求項6〜8の1以上に記載のシステム。
- 前記公称屈折力プロファイル及び/又は前記公称表面プロファイルが、
(a)少なくとも2つの球面収差項を含み、
(b)デフォーカス項及び少なくとも2つの球面収差項を含み、
(c)少なくとも3つの球面収差項を含み、かつ/又は
(d)少なくとも4、5、6、7、又は8つの球面収差項を含む、
請求項6〜9の1以上に記載のシステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023027890A JP2023078153A (ja) | 2014-11-11 | 2023-02-27 | 複製（製造）光学デバイスの品質を判断するためのシステム及び方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201462078310P | 2014-11-11 | 2014-11-11 | |
| US62/078,310 | 2014-11-11 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017543853A Division JP2018503100A (ja) | 2014-11-11 | 2015-11-11 | 複製（製造）光学デバイスの品質を判断するためのシステム及び方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023027890A Division JP2023078153A (ja) | 2014-11-11 | 2023-02-27 | 複製（製造）光学デバイスの品質を判断するためのシステム及び方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021060420A JP2021060420A (ja) | 2021-04-15 |
| JP2021060420A5 true JP2021060420A5 (ja) | 2022-07-26 |
Family
ID=55955207
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017543853A Pending JP2018503100A (ja) | 2014-11-11 | 2015-11-11 | 複製（製造）光学デバイスの品質を判断するためのシステム及び方法 |
| JP2021000650A Pending JP2021060420A (ja) | 2014-11-11 | 2021-01-06 | 複製（製造）光学デバイスの品質を判断するためのシステム及び方法 |
| JP2023027890A Pending JP2023078153A (ja) | 2014-11-11 | 2023-02-27 | 複製（製造）光学デバイスの品質を判断するためのシステム及び方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017543853A Pending JP2018503100A (ja) | 2014-11-11 | 2015-11-11 | 複製（製造）光学デバイスの品質を判断するためのシステム及び方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023027890A Pending JP2023078153A (ja) | 2014-11-11 | 2023-02-27 | 複製（製造）光学デバイスの品質を判断するためのシステム及び方法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US10352816B2 (ja) |
| EP (1) | EP3218685B1 (ja) |
| JP (3) | JP2018503100A (ja) |
| KR (1) | KR20170080696A (ja) |
| CN (1) | CN107110740B (ja) |
| ES (1) | ES2887113T3 (ja) |
| HU (1) | HUE055799T2 (ja) |
| SG (1) | SG11201703751YA (ja) |
| TW (1) | TWI679466B (ja) |
| WO (1) | WO2016074034A2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10352816B2 (en) * | 2014-11-11 | 2019-07-16 | Brien Holden Vision Institute Limited | Systems and methods for determining the quality of a reproduced (manufactured) optic device |
| US10036685B2 (en) * | 2016-05-18 | 2018-07-31 | Jand, Inc. | Fixtureless lensmeter and methods of operating same |
| US10557773B2 (en) | 2016-05-18 | 2020-02-11 | Jand, Inc. | Fixtureless lensmeter system |
| US11488239B2 (en) | 2019-08-26 | 2022-11-01 | Warby Parker Inc. | Virtual fitting systems and methods for spectacles |
| EP4136563A4 (en) | 2020-04-15 | 2024-03-20 | Warby Parker Inc. | VIRTUAL TRY-ON SYSTEMS FOR GLASSES USING REFERENCE FRAMES |
| CA3185605A1 (en) | 2020-06-17 | 2021-12-23 | Warby Parker Inc. | System and method for measuring pupillary distance and uses thereof |
Family Cites Families (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0644411B1 (fr) * | 1993-09-17 | 1997-03-26 | ESSILOR INTERNATIONAL (Compagnie Générale d'Optique) | Procédé de mesure absolue de la structure géométrique ou optique d'un composant optique et dispositif pour sa mise en oeuvre |
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| WO2003063538A1 (en) * | 2002-01-21 | 2003-07-31 | Siemens Mobile Communications S.P.A. | Method and mobile station to perform the initial cell search in time slotted systems |
| JP4358733B2 (ja) | 2002-05-16 | 2009-11-04 | Ｈｏｙａ株式会社 | 眼鏡レンズまたは眼鏡レンズ成形用モールドの評価方法および評価装置 |
| CN1950669A (zh) * | 2004-05-10 | 2007-04-18 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 光学精密测量装置和方法 |
| JP2006105717A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高さデータ推定方法、高さデータ推定用プログラム及び３次元形状測定装置 |
| JP2007170888A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Olympus Corp | 光学素子検査装置 |
| JP2007281003A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Canon Inc | 測定方法及び装置、並びに、露光装置 |
| US7416300B2 (en) * | 2006-05-25 | 2008-08-26 | Coopervision International Holding Company, Lp | Measurement of lenses and lens molds using optical coherence tomography |
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| NZ579407A (en) * | 2007-02-14 | 2011-10-28 | Holden Brien Vision Inst | Characterization of optical systems using comparitive optical distances |
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| JP5540213B2 (ja) * | 2010-12-20 | 2014-07-02 | 東海光学株式会社 | 眼鏡レンズの評価方法 |
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| TWI588560B (zh) * | 2012-04-05 | 2017-06-21 | 布萊恩荷登視覺協會 | 用於屈光不正之鏡片、裝置、方法及系統 |
| US9201250B2 (en) * | 2012-10-17 | 2015-12-01 | Brien Holden Vision Institute | Lenses, devices, methods and systems for refractive error |
| CN108714063B (zh) * | 2012-10-17 | 2021-01-15 | 华柏恩视觉研究中心 | 用于屈光不正的镜片、装置、方法和系统 |
| EP2920568B1 (en) | 2012-11-14 | 2018-05-16 | Essilor International | Method of determining optical parameters of an opthalmic lens |
| GB2508219A (en) * | 2012-11-26 | 2014-05-28 | Taylor Hobson Ltd | Analysing and machining an optical profile |
| US10352816B2 (en) * | 2014-11-11 | 2019-07-16 | Brien Holden Vision Institute Limited | Systems and methods for determining the quality of a reproduced (manufactured) optic device |
-
2015
- 2015-11-11 US US15/526,205 patent/US10352816B2/en active Active
- 2015-11-11 HU HUE15858689A patent/HUE055799T2/hu unknown
- 2015-11-11 TW TW104137222A patent/TWI679466B/zh not_active IP Right Cessation
- 2015-11-11 ES ES15858689T patent/ES2887113T3/es active Active
- 2015-11-11 SG SG11201703751YA patent/SG11201703751YA/en unknown
- 2015-11-11 CN CN201580072477.3A patent/CN107110740B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2015-11-11 EP EP15858689.1A patent/EP3218685B1/en active Active
- 2015-11-11 JP JP2017543853A patent/JP2018503100A/ja active Pending
- 2015-11-11 KR KR1020177015920A patent/KR20170080696A/ko unknown
- 2015-11-11 WO PCT/AU2015/050700 patent/WO2016074034A2/en active Application Filing
-
2019
- 2019-06-03 US US16/430,060 patent/US10670495B2/en active Active
-
2021
- 2021-01-06 JP JP2021000650A patent/JP2021060420A/ja active Pending
-
2023
- 2023-02-27 JP JP2023027890A patent/JP2023078153A/ja active Pending
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