CN107110740B - 用于确定制造的光学器件的质量的系统和方法 - Google Patents

用于确定制造的光学器件的质量的系统和方法 Download PDF

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Abstract

用于评估制造的光学器件的功率分布和所制造的光学器件的功率分布所基于的标称功率分布之间的相似度的方法。该方法包括测量制造的光学器件的功率分布；从制造的光学器件的测量的功率分布中确认相关区域；以及对所测量的功率分布施加偏移量，以使统计量词实质上最小化，从而量化该标称功率分布和偏移的测量的功率分布之间的相似度。该方法进一步包括将该偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较；至少部分地基于该比较来确定所测量的功率分布是否满足该预定的质量控制度量。在示例性实施方式中，该方法可以进一步包括：如果所测量的功率分布没有满足该预定的质量控制度量，则确定是否将所制造的光学器件与另一标称功率分布相关联。

Description

用于确定制造的光学器件的质量的系统和方法
相关申请的交叉引用
本申请要求2014年11月11日提交的美国临时申请号62/078,310的优先权。本申请的全部内容通过引用并入本文。
本申请还涉及2013年10月4日提交的美国申请号14/046,356；2013 年4月5日提交的美国申请号13/857,613；2013年4月5日提交的国际申请号PCT/AU2013/000354；2013年4月5日提交的澳大利亚申请号2013202664；以及2012年10月17日提交的澳大利亚申请号2012904541。这些申请中每一个的全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本披露涉及用于确定制造的光学器件上功率分布和/或表面轮廓的质量的系统和方法。此外，本披露还涉及通过使用制造的光学器件的参数描述符来分析和比较所制造的光学器件的复杂功率分布和/或复杂表面轮廓与标称功率分布和/或标称表面轮廓，而确定所制造的光学器件上的该功率分布和/或表面轮廓的质量。
发明背景
通常，制造的光学器件(如隐形眼镜)的功率分布已经相对简单。例如，该功率分布可以是球面或线性函数。在这种情况下，制造技术能够在制造的器件中复制所期望的(标称)功率分布。由于该功率分布相对简单，有时并不需要测试所制造的器件来确定该器件的功率分布是否与该标称功率分布足够接近。
如果需要进行测试，要确定所制造的光学器件是否与该标称功率分布足够接近通常也是很简单的。例如，该测试可以包括使用焦度计对光学功率进行验证。
然而，功率分布正变得愈加复杂。例如，较复杂的功率分布可以包括变化增加、多个峰值、多级(例如，初级、二级和三级)球面像差模式。具有这些较复杂特征的光学器件的制造可能更复杂，这使得对该器件的测试更加相关。然而，用于具有较简单功率分布的光学器件的简单测试程序对于具有较复杂功率分布的光学器件来说，可能是不可接受的。用于相对简单的光学器件的典型测试程序包括选择几个光学器件并离线测试，以确保该批次产品是可接受的。这些程序还可以包括在特定制造运行期间对光学器件进行采样，并离线测试所采样的产品，以确保该器件的质量不会生变。对于较复杂的功率分布，这些程序可能是不可接受的。此外，通常用于制造光学器件的高速生产线使得该光学器件的实时测试更难了。
因此，人们期望有这样的系统和方法，其能够确定这些制造的功率分布较复杂的光学器件的质量。在示例性实施方式中，可能期望基本上实时地和/或在高速生产线上进行质量确定。如将在本文的讨论中变得显而易见的，本披露旨在克服和/或改善现有技术的至少一个或多个缺点。如本文所讨论的，本披露还提供了其他优点和/或改进。
发明概述
示例性实施方式可以提供一种用于评估制造的光学器件、模具和/或空腔的功率分布和/或表面轮廓与制造的光学器件、模具和/或空腔的该功率分布和/或该表面轮廓所基于的相应的标称功率分布和/或标称表面轮廓之间的相似度的方法，该方法包括：测量制造的光学器件、模具和/或空腔的该功率分布和/或表面轮廓；从制造的光学器件、模具和/或空腔的所测量的功率分布和/或所测量的表面轮廓中确认一个或多个相关区域；确定相对于所测量的功率分布和/或所测量的表面轮廓的至少一个偏移量，以使统计量词(statistical quantifier)实质上最小化，该统计量词用于量化该标称功率分布和/或该标称表面轮廓和偏移的测量的功率分布和/或偏移的测量的表面轮廓之间的相似度；将该偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较；至少部分地基于该比较来确定所测量的功率分布和/或所测量的表面轮廓是否满足该预定的质量控制度量。
在示例性实施方式中，该方法可以进一步包括：如果所测量的功率分布和/或所测量的表面轮廓没有满足该预定的质量控制度量，则确定是否将所制造的光学器件、模具和/或空腔与另一标称功率分布、功率和/或另一标称表面轮廓相关联。
在示例性实施方式中，该方法可以进一步包括将比例因子应用于该偏移的测量的功率分布和/或偏移的测量的表面轮廓，以使统计量词实质上最小化，该统计量词用于量化该标称功率分布和/或标称表面轮廓与缩放和偏移的测量的功率分布和/或缩放和偏移的测量的表面轮廓的相似度；以及将该比例因子、偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较。
在示例性实施方式中，该方法可以进一步包括将非球面度(或斜率校正)应用于该缩放和偏移的测量的功率分布和/或缩放和偏移的测量的表面轮廓，以使统计量词实质上最小化，该统计量词用于量化该标称功率分布和/或标称表面轮廓与该缩放和偏移的测量的功率分布和/或缩放和偏移的测量的功率分布之间的相似度；以及将旋光度、比例因子、偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较。
在示例性实施方式中，该统计量词可以是在该相关区域上所算得的平方差之和。在示例性实施方式中，该统计量词可以是绝对差之和除以定义该相关区域的点的总数，其提供了绝对差的平均和。在示例性实施方式中，该统计量词可以是通过从该标称功率分布中减去所测量的功率分布而获得的曲线下的面积。
在示例性实施方式中，该方法可以在所制造的光学器件、模具和/或空腔的制造过程期间执行。
在示例性实施方式中，该方法可以基本上实时地执行。
在示例性实施方式中，所制造的光学器件、模具和/或空腔可以在高速生产线(例如，每分钟能够生产15、20、25、30、40、45、50、55、60、 65、70、75、80、85、90、95或100个光学器件的生产线)上制造。
在示例性实施方式中，该标称功率分布和/或标称表面轮廓可以具有显著量的变化。
在示例性实施方式中，该标称功率分布和/或标称表面轮廓可以包括阶梯轮廓、方形轮廓和/或三角形轮廓。
在示例性实施方式中，该标称功率分布和/或标称表面轮廓可以沿着半弦，具有多个峰和/或谷。
在示例性实施方式中，该标称功率分布和/或标称表面轮廓可以沿着半弦，具有至少2、3、4、5、6、7、8、9或10个峰和/或谷。
在示例性实施方式中，该标称功率分布和/或标称表面轮廓可以具有至少两个球面像差项。
在示例性实施方式中，该标称功率分布和/或标称表面轮廓可以具有至少两个球面像差项和散焦项。
在示例性实施方式中，该标称功率分布和/或标称表面轮廓可以具有至少三个球面像差项。
在示例性实施方式中，该标称功率分布和/或标称表面轮廓可以具有至少4、5、6、7或8个球面像差项。
在示例性实施方式中，该标称功率分布和/或标称表面轮廓可以是非单调的。
根据以下结合附图的说明，其他方面、特征和优点将变得显而易见，该附图是本披露的一部分并且以举例的方式，说明了本文披露的实施方式的原理。
附图说明
尽管有可能落入本文所阐述的本披露的范围内的其他形式，现在将通过示例并参考附图来描述具体的实施方式，其中：
图1是标称功率分布和所得的针对制造的光学器件的功率分布的示例性说明；
图2是图1所示的功率分布的示例性说明，其中所选择的相关区域为 0.5mm至3.5mm；
图3是图1所示的功率分布的示例性说明，其中所测量的分布具有0.75 屈光度(D)偏移量；
图4是图1所示的功率分布的示例性说明，其中所测量的分布具有0.75 屈光度偏移量并且按1.09缩放；
图5是图1所示的功率分布的示例性说明，其中所测量的分布具有0.75 屈光度偏移量，按1.09缩放，并且应用-0.65屈光度的非球面度；
图6是用于确定所制造的光学器件是否满足预定的质量控制度量的过程的示例性流程图；
图7A-7C是示例性功率分布，当该术语在本文使用时，其通常被认为是简单的功率分布；以及
图8A-8W是示例性功率分布，当该术语在本文使用时，其通常被认为是复杂的功率分布。
发明详述
诸如隐形眼镜之类的制造的光学器件可以包括描述不同位置处该器件的校正功率的功率分布和/或表面轮廓。通常，对该功率分布和/或表面轮廓进行设计/选择，并且使制造的光学器件(例如，隐形眼镜、眼内镜片)包含所期望的(标称)功率分布和/或复杂的表面轮廓。在某些情况下，制造过程可以包含模具/空腔的生产，然后将该模具/空腔用于制造具有所期望的 (标称)功率分布和/或表面轮廓的光学器件。本领域普通技术人员将容易理解的是，所制造的光学器件的功率分布和/或表面轮廓不太可能与该标称功率分布和/或标称表面轮廓相同。这可能是与该制造过程有关的各种因素导致。例如，在某些情况下，制造设备可能不够精确和/或该功率分布和/ 或表面轮廓可能比该设备在一致和/或可靠的基础上所能够处理的更加复杂。
本文的说明通常讨论所制造的光学器件的功率分布，本领域的普通技术人员应当普遍理解的是，也可以应用等效和/或基本上等效的方法和系统来确定制造的光学器件的表面轮廓的质量。
虽然所制造的光学器件的功率分布有变化是可接受的，但是通常不期望有太大的变化。在某些实施方式中，该标称功率分布越复杂，愈加不能容忍有变化。图7和图8示出了相对简单的功率分布和较为复杂的功率分布之间的一些差异。因此，对所制造的器件的功率分布进行测试以确定其是否在该标称功率分布的可接受的变化范围内是可取的。
虽然本文的说明通常讨论所制造的光学器件的功率分布，本领域的普通技术人员应当普遍理解的是，也可以将等效和/或基本上等效的方法和系统应用于制造的模具和/或空腔，例如用于制造光学器件的模具和/或空腔。
在示例性实施方式中，对所制造的光学器件的功率分布的测试可以通过测量所制造的器件的功率分布并将在相关区域中所测量的功率分布与该标称功率分布比较来进行。在示例性实施方式中，这两个功率分布的比较可以包含使用所测量的功率分布的参数描述符。在示例性实施方式中，该参数描述符可以用来使该标称功率分布和该测量的功率分布之间的差异的统计量词最小化(或使其至少减小或实质上减小)。在示例性实施方式中，该统计量词可以是在相关区域中，该测量的功率分布和该标称功率分布之间的该平方差之和。该参数描述符的一个或多个可以与该统计量词组合使用来确定所制造的光学器件是否符合某些预定标准。
图1是标称功率分布和所得的针对制造的光学器件的功率分布的示例性说明。从图示可以看出，所制造的光学器件的该测量的功率分布与该标称功率分布并不相同。本文描述的示例性实施方式包含用于确定该测量的功率分布与该标称功率分布是否足够接近以符合为所制造的产品建立的质量控制指南的方法和系统。在示例性实施方式中，如果该测量的功率分布不符合该质量控制指南，则所制造的光学器件可能会在质量控制过程中不合格并被丢弃或可能被重新分类。在示例性实施方式中，可以选取根本原因分析/细节情况以了解该测量的分布之所以不合格的原因以及要解决问题可能需要做的事情。
为了实现这一点，在示例性实施方式中，初始步骤可以是测量所制造的光学器件的功率分布。该功率分布可以以各种方式进行测量。例如，可以使用市售功率映射仪器，其基于，例如相移施利伦(Schlieren)方法、Shack Hartmann波前传感器、叠层成像(ptychography)或其他合适的市售或定制的功率映射技术。也可以使用这些仪器的组合。
示例性的测量的分布在图1中示出。在测量该功率分布后，下一步是选择一个或多个相关区域，以将所测量的功率分布与该标称功率分布进行比较。图2是图1所示的功率分布的图示，其中所选择的相关区域在半弦上为0.5mm至3.5mm。尽管图2中所示的实例示出了该相关区域为0.5mm 至3.5mm(半弦)，但是，在示例性实施方式中，该相关区域可以是整个半弦或任何其他相关区域。例如，该相关区域可以是0-3.5mm、0-3mm、 0-2.5mm、0-2mm、0-1.5mm、0-1mm、0-0.5mm、0.5-3.5mm、0.5-3mm、0.5-2.5mm、0.5-2mm、0.5-1.5mm、0.5-1mm、1-3.5mm、1-3mm、1-2.5mm、 1-2mm、1-1.5mm、1.5-3.5mm、1.5-3mm、1.5-2.5mm、1.5-2mm、2-3.5mm、 2-3mm、2-2.5mm、2.5-3.5mm、2.5-3mm或3-3.5mm。
在选择该相关区域之后，可以对所测量的功率分布进行调整，并且可以测量该平方差之和。在示例性实施方式中，也可以利用其他统计量词(如普氏距离)。例如，图3是具有0.75屈光度偏移的所测量的轮廓的示例性说明。在示例性实施方式中，该偏移量可以选择以使该平方差之和最小化 (或至少大致最小化)。在示例性实施方式中，选择偏移量的过程可以是迭代的。换句话说，可以选择偏移量，然后可以计算所得的该平方差之和。该过程可以迭代，直到确定该平方差之和的最小值。在示例性实施方式中，该偏移量可以是针对整个相关区域的单个偏移量，以及可以计算多个测量点处的该平方差之和。
在应用该偏移量之后，可以对所测量的分布做进一步的调整，以及可以计算所得的该平方差之和。例如，图4是图1所示的功率分布的示例性说明，其中所测量的分布具有0.75屈光度偏移量并且沿着半弦轴按1.09缩放。在示例性实施方式中，可以选择比例以使该平方差之和最小化(或至少大致最小化)。在示例性实施方式中，选择比例因子的过程可以是迭代的。换句话说，可以选择比例，然后可以计算所得的该平方差之和。该过程可以迭代，直到确认该平方差之和的最小值。在示例性实施方式中，比例可以是针对整个相关区域的单个偏移量，以及可以计算多个测量点处的该平方差之和。虽然缩放的施加被示为在施加了偏移量之后，但是替代性的命令也是可以接受的，并且可以使用不同的参数组合。在示例性实施方式中，该偏移量也可以沿着半弦。在示例性实施方式中，该偏移量可以是横向移位的偏移量。
在施加了该偏移量和缩放之后，可以对所测量的分布做进一步的调整。例如，图5是图1所示的功率分布的示例性说明，其中所测量的分布具有 0.75屈光度偏移量，按1.09缩放，并且应用了-0.65屈光度的非球面度。在示例性实施方式中，该非球面度(或斜率校正)可以通过将二次函数拟合到差分分布(标称功率分布-测量的功率分布)来计算。如本领域普通技术人员可以容易地理解的，由于材料在水合期间的各向异性膨胀行为，非球面度可能被引入隐形眼镜。
在获得所期望的参数，以及相关联的统计量词之后，可以利用该参数和统计量词的各种组合来确定所制造的光学产品是否通过质量控制检查。在示例性实施方式中，如果所制造的光学产品没有通过该质量控制检查，则该产品可以被丢弃或重新分类。例如，在示例性实施方式中，该偏移量和相应的该平方差之和可以用于确定所制造的光学器件是否满足预定的质量标准。该标准可以以如下方式进行量化：如果该偏移量小于0.25屈光度以及相应的该平方差之和小于4D2，则该器件通过了该标准。观察图3中所测量的功率分布，该偏移量为0.75屈光度。因此，即使该平方差之和小于4D2，该器件也不会通过该质量标准，因此镜片可能被丢弃。替代性地，该镜片可以被重新分类。在这种情况下，可能存在该产品可能足够接近的另一种所期望的标称功率分布。在这种情况下，该偏移量的标准可以是：如果该偏移量大于0.25屈光度，则该产品不合格，但如果该偏移量为 0.75-1.25屈光度，则重新分类。在图3中的功率分布的情况下，该器件可以被重新分类，因为它与另一种所期望的分布足够接近。
在示例性实施方式中，可以利用该偏移、该比例、该非球面度(或斜率校正)和相应的统计量词(例如该平方差之和)的各种组合来确定所制造的光学器件是否满足某些预定的质量控制要求。
在示例性实施方式中，不符合要求的器件可以在制造的质量控制阶段不合格；或者可以被重新分类为替代产品。在示例性实施方式中，该方法可以向所制造的光学器件分配标记功率(如屈光度)。例如，如果该器件不符合该质量控制阶段的要求，该方法则可以分配标记功率或重新分配标记功率。
在示例性实施方式中，该质量控制过程可以在所制造的光学产品的制造过程期间实施。在示例性实施方式中，所有制造的光学产品可以在制造之后或在制造过程的某个阶段进行测试。在示例性实施方式中，所制造的光学产品的大部分可以在制造之后或在制造过程中的某个阶段进行测试。在示例性实施方式中，所制造的光学产品的一部分可以在制造之后或在制造过程中的某个阶段进行测试。在示例性实施方式中，1000个中至少1个、500个中至少1个、250个中至少1个、100个中至少1个可以在制造之后或在制造过程中的某个阶段进行测试。在示例性实施方式中，可以交替测试该产品。在示例性实施方式中，该产品可以以随机(或伪随机)方式进行测试。在示例性实施方式中，约5个镜片中的1个可以进行测试。例如， 2个中至少1个、3个中至少1个、4个中至少1个、5个中至少1个、6个中至少1个、7个中至少1个、8个中至少1个、9个中至少1个或10个中至少1个镜片可以进行测试。在示例性实施方式中，该质量控制过程可以实时或基本实时地或其他实施该质量控制过程的合适时间发生。在示例性实施方式中，单个镜片可以基本上实时地进行检查。
此外，该光学产品可以在高速生产线(例如，每分钟能够生产15、20、 25、30、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95或100个光学器件的生产线)上制造。在这种情况下，该测试可以基本上实时地执行，而不会显著影响该生产线的速度，也可以不执行。例如，在制造的情况下，增加本文所述的测试程序可能会使该生产线的输出量减少了不到1％、2％、3％、4％、5％、10％或15％等。
图6是用于确定所制造的光学器件是否满足了预定的质量控制度量的过程的示例性流程图。在示例性实施方式中，可以使用Lambda-X NIMO TR1504来测量所制造的光学器件。测量后，可将分布加载到比较系统中。该系统可以执行初始检查以确定所测量的分布是否有效。如果该系统确定该分布有效，则选择所测量的分布并将其与标称功率分布进行比较。在比较之后，该系统确定所测量的分布是否与该标称分布足够相似(例如，在一定的公差内)以满足所定义的质量参数。如果没有满足该质量控制标准，该过程则审核设计和功率是否设置正确。如果是，所制造的器件则没有通过质量检查。如果该参数不正确，则重新设置并重新进行比较。如果所制造的光学器件确实符合该质量控制标准，则通过该质量检查。
在示例性实施方式中，该系统可以包括被编程为使用MATLAB或类似软件来执行本文所描述的比较的处理器。在示例性实施方式中，用户界面可以是图形用户界面。
在示例性实施方式中，该系统可以将来自Lambda-X NIMO仪器的测量值与针对镜片轮廓的标称光功率分布进行比较，以及确定该测量值是否在标称值的公差内，从而报告合格/不合格结果以及标记功率。
如本文所讨论的，在示例性实施方式中，用于质量控制的标准可以是所测量的分布和标称分布之间的平方差之和(SSD)(例如，如果SSD大于25D2、20D2、15D2、10D2、或5D2)。该标准可以通过将SSD结果除以求和点数来使其独立于一个或多个所选择的相关区域来修改。替代性地，可以计算一个或多个该相关区域上的所测量的分布和标称分布之间的面积。然后可以将该面积除以沿着一个或多个所选择的区域的直径的总距离以获得单位为度数的平均误差。对于这些实施方式中的任一个，可以应用，例如对于沿直径范围的某些区域给予更多权重的权重因子。在示例性实施方式中，该系统还可以返回与该标称功率分布相比的所测量的功率分布之内，比例(例如，当与该标称分布相比时，沿着所测量的分布的直径进行的拉伸或收缩或偏移)、非球面度(或斜率校正)(如所测量的分布和标称分布之间的线性(倾斜)或椭圆误差)和/或峰谷比数据的适当组合的度量。在示例性实施方式中，可以确定等间距(如0.005、0.0075、0.01、0.015 或0.02mm)采样点处的度量。
在示例性实施方式中，该度量/变量可以包括下表中的度量的组合。
在示例性实施方式中，该度量/变量可以包括下表中的度量的组合。
Figure BDA0001342032200000091
Figure BDA0001342032200000101
在示例性实施方式中，用户也许不能改变比较计算。然而，比较中的某些参数可以由该用户来配置。例如，在示例性实施方式中，该标记功率可以从该标称功率或目标功率调整±0.10、0.20、0.25、0.30、0.40或0.50D。
在示例性实施方式中，该标称光功率分布可以被硬编码到该系统中或者该系统能够接受由用户提供的简档。
虽然本文所述的示例性实施方式通常描述了具有某种形式的旋转对称性(其允许将整个光学区域内的功率分布减小到一维功率图)的功率分布，但是光学器件(隐形眼镜)可能不是旋转对称的。本文所述的系统、方法和器件仍然适用。例如，隐形眼镜的前表面或后表面可以是复曲面形状，从而使得基础功率在不同假想线之间变化，如图8S所示。其他更复杂的变化也可以想象。该系统、方法和器件的基本概念仍然可以应用(例如，我们将分别分析相关的不同假想线，然后结合得出整体结果)。
在示例性实施方式中，该系统可以被配置为在5、6、7、8、9、10、11、 12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24或25秒内提供该合格/不合格结果和/或该标记功率。在示例性实施方式中，该系统可以被配置为在50、60、70、80、90、100、110、120、130、140、150、160、170、 180、190、200、210、220、230、240、250、300、350、400、450或500 毫秒内提供该合格/不合格结果和/或该标记功率。
虽然本文已经示出和描述了一些实施方式，但是对于本领域技术人员显而易见的是，这些实施方式仅以示例的方式提供。意图在于，以下权利要求限定本发明的范围，并且特此涵盖在这些权利要求及其等同物的范围内的方法和结构。

Claims (59)

1.一种用于评估制造的光学器件的功率分布和/或表面轮廓与所制造的光学器件的该功率分布和/或该表面轮廓所基于的相应的标称功率分布和/或标称表面轮廓之间的相似度的方法，该方法包括：
测量制造的光学器件的功率分布和/或表面轮廓；
从制造的光学器件的所测量的功率分布和/或测量的表面轮廓中确认一个或多个相关区域；
确定相对于所测量的功率分布和/或所测量的表面轮廓的至少一个偏移量，以使统计量词实质上最小化，该统计量词用于量化该相应的标称功率分布和/或表面轮廓和偏移的测量的功率分布和/或表面轮廓之间的相似度；
将该偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较；以及
至少部分地基于该比较来确定所测量的功率分布和/或表面轮廓是否满足该预定的质量控制度量。
2.权利要求1所述的方法，其进一步包括：如果所测量的功率分布和/或所测量的表面轮廓没有满足该预定的质量控制度量，则确定是否将所制造的光学器件与另一标称功率分布、功率和/或表面轮廓相关联。
3.权利要求1或2所述的方法，其进一步包括将比例因子应用于该偏移的测量的功率分布和/或偏移的测量的表面轮廓，以使统计量词实质上最小化，该统计量词用于量化该标称功率分布和/或标称表面轮廓与所缩放和偏移的测量的功率分布和/或缩放和偏移的测量的表面轮廓的相似度；以及将该比例因子、偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较。
4.权利要求3所述的方法，其进一步包括：
将非球面度校正应用于该缩放和偏移的测量的功率分布和/或缩放和偏移的测量的表面轮廓，以使统计量词实质上最小化，该统计量词用于量化该标称功率分布和/或标称表面轮廓与所校正、缩放和偏移的测量的功率分布和/或所校正、缩放和偏移的测量的表面轮廓之间的相似度；以及
将旋光度、比例因子、偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较。
5.权利要求1所述的方法，其中该统计量词是在该相关区域上所算得的平方差之和。
6.权利要求1所述的方法，其中该方法在所制造的光学器件的制造过程期间执行。
7.权利要求1所述的方法，其中该方法基本上实时地执行。
8.权利要求1所述的方法，其中该光学器件在高速生产线上制造以及该方法基本上实时地执行。
9.权利要求8所述的方法，其中该方法使该生产线的输出量减少了不到1％。
10.权利要求8所述的方法，其中该方法使该生产线的输出量减少了不到2％。
11.权利要求8所述的方法，其中该方法使该生产线的输出量减少了不到3％。
12.权利要求8所述的方法，其中该方法使该生产线的输出量减少了不到4％。
13.权利要求8所述的方法，其中该方法使该生产线的输出量减少了不到5％。
14.权利要求8所述的方法，其中该方法使该生产线的输出量减少了不到10％。
15.权利要求8所述的方法，其中该方法使该生产线的输出量减少了不到15％。
16.权利要求1所述的方法，其中该功率分布不能用单个直线或单个圆锥截面来描述和/或与平均功率相比，有至少+0.25或至少-0.25屈光度的功率变化。
17.权利要求1所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓沿着半弦，具有多个峰和/或谷。
18.权利要求17所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓沿着该半弦，具有至少3个峰和/或谷。
19.权利要求17所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓沿着该半弦，具有至少4个峰和/或谷。
20.权利要求17所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓沿着该半弦，具有至少5个峰和/或谷。
21.权利要求1所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓具有至少两个球面像差项。
22.权利要求1所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少两个球面像差项和散焦项。
23.权利要求1所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少三个球面像差项。
24.权利要求1所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少4个球面像差项。
25.权利要求1所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少5个球面像差项。
26.权利要求1所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少6个球面像差项。
27.权利要求1所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少7个球面像差项。
28.权利要求1所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少8个球面像差项。
29.权利要求1所述的方法，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓是非单调的。
30.一种用于评估制造的光学器件的功率分布和/或表面轮廓与所制造的光学器件的该功率分布和/或表面轮廓所基于的相应的标称功率分布和/或表面轮廓之间的相似度的系统，该系统包括：
输入设备，其用于接收所制造的光学器件的该功率分布和/或表面轮廓；以及
处理器，其被配置成：
从制造的光学器件的所测量的功率分布和/或测量的表面轮廓中确认至少一个相关区域；
确定相对于所测量的功率分布和/或所测量的表面轮廓的至少一个偏移量，以使统计量词实质上最小化，该统计量词用于量化该标称功率分布和/或标称表面轮廓和偏移的测量的功率分布和/或偏移的测量的表面轮廓之间的相似度；
将该偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较；以及
至少部分地基于该比较来确定所测量的功率分布和/或表面轮廓是否满足该预定的质量控制度量。
31.权利要求30所述的系统，其中该处理器被进一步配置成：如果所测量的功率分布和/或所测量的表面轮廓没有满足该预定的质量控制度量，则确定是否将所制造的光学器件与另一标称功率分布、功率和/或表面轮廓相关联。
32.权利要求30或31所述的系统，其中该处理器被进一步配置成：将比例因子应用于该偏移的测量的功率分布和/或偏移的测量的表面轮廓，以使统计量词实质上最小化，该统计量词用于量化该标称功率分布和/或标称表面轮廓与所缩放和偏移的测量的功率分布和/或缩放和偏移的测量的表面轮廓的相似度；以及将该比例因子、该偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较。
33.权利要求32所述的系统，其中该处理器被进一步配置成：
将非球面度校正应用于该缩放和偏移的测量的功率分布和/或缩放和偏移的测量的表面轮廓，以使统计量词实质上最小化，该统计量词用于量化该标称功率分布和/或标称表面轮廓与所校正、缩放和偏移的测量的功率分布和/或所校正、缩放和偏移的测量的表面轮廓之间的相似度；以及
将旋光度、比例因子、偏移量和该统计量词与预定的质量控制度量进行比较。
34.权利要求30-31和33任一项所述的系统，其中该统计量词是在该相关区域上所算得的平方差之和。
35.权利要求32所述的系统，其中该统计量词是在该相关区域上所算得的平方差之和。
36.权利要求30所述的系统，其中该比较在所制造的光学器件的制造过程期间执行。
37.权利要求30所述的系统，其中该比较基本上实时地执行。
38.权利要求30所述的系统，其中该光学器件在高速生产线上制造以及该比较基本上实时地执行。
39.权利要求38所述的系统，其中该比较使该生产线的输出量减少了不到1％。
40.权利要求38所述的系统，其中该比较使该生产线的输出量减少了不到2％。
41.权利要求38所述的系统，其中该比较使该生产线的输出量减少了不到3％。
42.权利要求38所述的系统，其中该比较使该生产线的输出量减少了不到4％。
43.权利要求38所述的系统，其中该比较使该生产线的输出量减少了不到5％。
44.权利要求38所述的系统，其中该比较使该生产线的输出量减少了不到10％。
45.权利要求38所述的系统，其中该比较使该生产线的输出量减少了不到15％。
46.权利要求30所述的系统，其中该功率分布不能用单个直线或单个圆锥截面来描述和/或与平均功率相比，有至少+0.25或至少-0.25屈光度的功率变化。
47.权利要求30所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓沿着半弦，具有多个峰和/或谷。
48.权利要求47所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓沿着该半弦，具有至少3个峰和/或谷。
49.权利要求47所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓沿着该半弦，具有至少4个峰和/或谷。
50.权利要求47所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓沿着该半弦，具有至少5个峰和/或谷。
51.权利要求30所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓具有至少两个球面像差项。
52.权利要求30所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少两个球面像差项和散焦项。
53.权利要求30所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少三个球面像差项。
54.权利要求30所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少4个球面像差项。
55.权利要求30所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少5个球面像差项。
56.权利要求30所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少6个球面像差项。
57.权利要求30所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少7个球面像差项。
58.权利要求30所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓包括至少8个球面像差项。
59.权利要求30所述的系统，其中该标称功率分布和/或标称表面轮廓是非单调的。
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