JP2021048529A - バッキング部材、超音波探触子 - Google Patents

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Abstract

【課題】圧電素子からの超音波のノイズを低減できるバッキング部材を提供する。【解決手段】バッキング部材1は、樹脂層50と、樹脂層50に埋設され、樹脂層50の一方の面(上面)50uから一方の面50uの反対面である他方の面50(下面)wに貫通する複数の線状導体であるリード20と、を有する。各々のリード20は、超音波を遮音する性質を有する金属材料を含有し、少なくとも1箇所の屈曲部又は湾曲部を有する。【選択図】図4

Description

本発明は、バッキング部材、超音波探触子に関する。
従来、超音波を使って被写体内を映像化することにより診断を行う超音波診断装置がある。超音波診断装置には、超音波の送受信を行う部分である超音波探触子が備えられている。診断時には、被写体に超音波探触子を当てて超音波を発生させ、反射した超音波を受信して画像データとして処理し、被写体内の様子を可視化する。
超音波探触子では、圧電素子によって超音波が送信され、圧電素子の下には後方への超音波の伝搬を吸収するためのバッキング部材が配置される。バッキング部材は、樹脂層及び樹脂層に埋設されたリードを備え、圧電素子からの超音波のノイズを低減するために、超音波に対する遮音効果の高い材料(タングステン等)をフィラーとして樹脂層の中に含有している(例えば、特許文献1参照)。
特開2017−208772号公報
しかしながら、バッキング部材の樹脂層の中にリードを埋設する形態の場合では、バッキング部材の作製時にフィラーが均一に分散されない、またはフィラーが樹脂層の底部に沈殿してしまい、フィラーとリードで不要な導通が生じるおそれがある。そのため、添加できるフィラー量が限られ、圧電素子からの超音波のノイズを低減できない場合があった。
そこで、圧電素子からの超音波のノイズを低減するために、樹脂層の中にフィラーを含有する従来の対策に代えて、或いは樹脂層の中にフィラーを含有する従来の対策に加えて、新たな対策が望まれている。
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、圧電素子からの超音波のノイズを低減できるバッキング部材を提供することを課題とする。
本バッキング部材は、樹脂層と、前記樹脂層に埋設され、前記樹脂層の一方の面から前記一方の面の反対面である他方の面に貫通する複数の線状導体と、を有し、各々の前記線状導体は、超音波を遮音する性質を有する金属材料を含有し、各々の前記線状導体は、少なくとも1箇所、屈曲部又は湾曲部を有する。
開示の技術によれば、圧電素子からの超音波のノイズを低減できるバッキング部材を提供できる。
第1実施形態に係るバッキング部材を有する超音波探触子を例示する斜視図である。 第1実施形態に係るバッキング部材を有する超音波探触子を例示する平面図である。 第1実施形態に係るバッキング部材を有する超音波探触子を例示する断面図である。 第1実施形態に係るバッキング部材を例示する断面斜視図である。 屈曲部又は湾曲部を有するリードの他の例を示す部分断面図である。 隣接するリードの好ましい位置関係について説明する図である。 第1実施形態に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その1)である。 第1実施形態に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その2)である。 第1実施形態に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その3)である。 第1実施形態に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その4)である。 第1実施形態に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その5)である。 第1実施形態に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その6)である。 第1実施形態に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その7)である。 第1実施形態に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その8)である。 第1実施形態に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その9)である。 第1実施形態に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その10)である。 第1実施形態の変形例に係るバッキング部材を例示する断面斜視図である。 第1実施形態の変形例に係るリードの方向別の断面形状について説明する部分断面図である。 第1実施形態の変形例に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その1)である。 第1実施形態の変形例に係るバッキング部材の製造工程を例示する図(その2)である。
以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。なお、各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
〈第1実施形態〉
[超音波探触子]
まず、第1実施形態に係るバッキング部材1を有する超音波探触子について説明する。
図1は、第1実施形態に係るバッキング部材を有する超音波探触子を例示する斜視図である。図2は、第1実施形態に係るバッキング部材を有する超音波探触子を例示する平面図である。図3は、第1実施形態に係るバッキング部材を有する超音波探触子を例示する断面図であり、図2のA−A線に沿う断面を示している。
図1〜図3に示すように、超音波探触子2は、バッキング部材1と、バッキング部材1の上に配置された圧電素子60と、圧電素子60の上に配置された音響整合層62と有する。又、音響整合層62の上に不図示の音響レンズが搭載される。バッキング部材1は、樹脂層50と、樹脂層50の中に埋設された複数のリード20とを備えている。
なお、本実施形態において、平面視とは対象物を樹脂層50の上面50uの法線方向から視ることを指し、平面形状とは対象物を樹脂層50の上面50uの法線方向から視た形状を指すものとする。
又、本実施形態において、平面視において、行列状に配列された複数のリード20の第1の配列方向(行方向)をX方向、第2の配列方向(列方向)をY方向、X方向及びY方向に垂直な方向をZ方向としている。つまり、Z方向は、各々のリード20の長手方向であり、樹脂層50の厚さ方向である。図1〜図3の例では、平面視において、複数のリード20が12行12列で配列されている。
圧電素子60は多数に分割されて2次元的に配置されている。圧電素子60は超音波振動子であり、圧電素子60によって超音波の送受信が行われる。
圧電素子60の上に配置された音響整合層62は、圧電素子60から効率よく被写体内に超音波を入射させるために形成される。音響整合層62は、分割された各圧電素子60に対応するように多数に分割されて2次元的に配置されている。
更に、超音波探触子2の下に配線基板70が配置されている。配線基板70に圧電素子60の駆動回路等の電子部品が搭載されていてもよいし、或いは、配線基板70は単なる中継基板であってもよい。
又、圧電素子60の下に配置されたバッキング部材1は、圧電素子60から後方(音響整合層62と反対方向)へ伝搬する超音波を遮音し、余分な振動を抑制して超音波のパルス幅を短くして画像の距離分解能を向上させる機能がある。これにより、ノイズの少ない超音波探触子2を実現できる。
バッキング部材1において、樹脂層50内に配列された各々のリード20は、少なくとも1箇所、屈曲部又は湾曲部(Z方向に対して非平行な部分)を有する。各々のリード20の上側の先端面が圧電素子60の下面に電気的に接続されている。又、各々のリード20の下側の先端面が配線基板70の接続電極72に電気的に接続されている。
配線基板70からバッキング部材1の各々のリード20を介して各々の圧電素子60に電圧が供給され、各々の圧電素子60から被写体に超音波が送信される。
[バッキング部材]
次に、第1実施形態に係るバッキング部材について説明する。
図4は、第1実施形態に係るバッキング部材を例示する断面斜視図である。図4に示すように、バッキング部材1は、樹脂層50と、樹脂層50の中に埋設された複数のリード20とを備えている。図4の例では、樹脂層50は直方体で形成されているが、円柱などの各種の立体形状で形成してもよい。
樹脂層50内にはフィラー52が含有されている。例えば、樹脂層50はエポキシ樹脂等から形成され、フィラー52はタングステン、アルミナ、中空ガラス球、ウレタンやシリコーンなどの樹脂材等から形成される。
各リード20は、線状導体であり、樹脂層50の上面50u(一方の面)から下面50w(他方の面)に貫通して配置されている。ここで、線状導体とは、幅に対して長さが十分に長い細長形状の導体を意味する。
各々のリード20の上側の先端面が樹脂層50の上面50uから露出している。各々のリード20の上側の先端面は、例えば、樹脂層50の上面50uと面一である。同様に、各々のリード20の下側の先端面が樹脂層50の下面50wから露出している。各々のリード20の下側の先端面は、例えば、樹脂層50の下面50wと面一である。
バッキング部材1では、樹脂層50にフィラー52を含有させることにより、超音波の散乱吸収を図ることができる。
各々のリード20のX方向の間隔及びY方向の間隔は、フィラー52の平均粒径よりも広く設定することが好ましい。これにより、バッキング部材1の樹脂層50の概ね全体にわたってフィラー52を分散できるため、十分な超音波の散乱吸収の機能を得ることができる。
なお、図4の例では、バッキング部材1の樹脂層50の上面50uと下面50wとは略平行な水平面となっている。但し、これには限定されず、例えば、コンベックス型の超音波探触子を製造する場合は、圧電素子60が配置される樹脂層50の上面50uを凸状曲面にしてもよい。
この場合は、各リード20の上側の先端面と樹脂層50の上面50uとが同じ凸状曲面になるように研削加工される。
各々のリード20は、超音波(例えば、5MHz)を遮音する性質を有する金属材料を含有している。ここで、超音波を遮音する性質とは、超音波を吸収、反射、及び/又は散乱する性質である。超音波を遮音する性質を有する金属材料は、例えば、比重が10以上の金属材料であり、具体的には、タングステン、金、白金、パラジウム、ルテニウムが挙げられる。超音波を遮音する性質を有する金属材料は、これらのうちの何れか2つ以上を含んでもよい。
各々のリード20は、超音波を遮音する性質を有する金属材料自体から形成されてもよい。各々のリード20は、例えば、タングステンを含む材料により形成できる。タングステンを含む材料としては、例えば、タングステンそのもの、銅タングステン、炭化タングステン、タングステンカリウム、アルミニウム−カリウム−シリケート−タングステン、タングステンランタン、タングステンセリア、タングステンレニウム等が挙げられる。
各々のリード20は、表面が超音波を遮音する性質を有する金属材料を含むめっき膜により被覆されていてもよい。超音波を遮音する性質を有する金属材料を含むめっき膜としては、例えば、ニッケルタングステンめっき膜、ニッケルボロンタングステンめっき膜、鉄−タングステンめっき膜、鉄−ニッケル−タングステンめっき膜等が挙げられる。この場合、各々のリード20のめっき膜以外の部分は、超音波を遮音する性質を有する金属材料を含まなくてもよい。各々のリード20の表面以外の部分の材料としては、例えば、銅、銅合金等が挙げられる。
各々のリード20は、少なくとも1箇所、屈曲部又は湾曲部(Z方向に対して非平行な部分)を有する。ここで、屈曲部とは曲率半径を持たずに1点で折れ曲がる部分を指し、湾曲部とは所定の曲率半径を持って徐々に折れ曲がる部分を指す。但し、両者を明確に区別しなくてもよい。
各々のリード20が超音波を遮音する性質を有する金属材料を含有し、かつ、少なくとも1箇所、屈曲部又は湾曲部を有することで、リード20自体で超音波のノイズを遮音できる。
樹脂層50に含有されたフィラー52による遮音効果に、リード20自体の遮音効果が加わるため、バッキング部材1の遮音効果を一層向上できる。但し、バッキング部材1に対する要求仕様が、リード20自体の遮音効果で十分な場合には、樹脂層50はフィラー52を含有しなくてもよい。
バッキング部材1が超音波探触子2に用いられたときに、各々のリード20が圧電素子60から後方(音響整合層62と反対方向)へ伝搬する超音波を吸収、反射、及び/又は散乱できる。その結果、超音波探触子2において、超音波の余分な振動を抑制して超音波のパルス幅を短くし、画像の距離分解能を向上させることができる。
各々のリード20は、複数の屈曲部又は湾曲部を有することが好ましい。これにより、各々のリード20が超音波のノイズを遮音する性能を向上できる。各々のリード20は、同一形状であることが好ましい。これにより、リード20のピッチが狭くなってもショートし難くなる。
各々のリード20は、例えば、屈曲部を複数箇所(図4の例では9カ所)有するジグザグ状に形成できる。但し、これには限定されず、リード20は図5に示す形態を含む様々な形態であってよい。
図5は、屈曲部又は湾曲部を有するリードの他の例を示す部分断面図である。図5(a)の例のように、各々のリード20は、湾曲部を複数箇所(図5(a)の例では9カ所)有する波状に形成されてもよい。
又、リード20をジグザグ状に形成する場合、図4の例のように、Z方向に対して所定方向に傾斜する部分と所定方向とは反対方向に傾斜する部分とが連結して屈曲部を形成してもよいが、これには限定されない。例えば、図5(b)の例のように、Z方向に対して垂直な部分と平行な部分とが連結して屈曲部を形成してもよい。
又、図5(c)の例のように、各々のリード20は屈曲部を少なくとも1箇所有していればよい。或いは、図5(d)の例のように、各々のリード20は湾曲部を少なくとも1箇所有していればよい。又、屈曲部や湾曲部や直線部は、必要に応じて混在してもよい。
図6は、隣接するリードの好ましい位置関係について説明する図である。図6では、便宜上、左側のリードをリード20、右側のリードをリード20としている。又、図6において、直線Sは、リード20のリード20側の頂点を結んだ線である。
図6において、リード20の各頂点の近傍は、リード20が有する屈曲部の凸領域である。一方、リード20の斜辺と直線Sで囲まれた各々の三角形の領域は、リード20が有する屈曲部の凹領域である。
図6(a)では、リード20が有する屈曲部の凸領域が、リード20が有する屈曲部の凹領域に入り込んでいる。これに対して、図6(b)では、リード20が有する屈曲部の凸領域が、リード20が有する屈曲部の凹領域に入り込んでいない。
隣接するリードが図6(b)に示す位置関係にある場合、圧電素子60から後方へ伝搬する超音波が矢印Tの近傍を通り抜けてしまう。すなわち、矢印Tの近傍では、圧電素子60から後方へ伝搬する超音波が何れのリード20にも達しないため、リード20による遮音効果が発現できない。
従って、このような問題を回避できるように、隣接するリードが図6(a)に示す位置関係にあることが好ましい。すなわち、隣接するリード20の一方が有する屈曲部又は湾曲部の凸領域が、隣接するリード20の他方が有する屈曲部又は湾曲部の凹領域に入り込んでいることが好ましい。
[バッキング部材の製造方法]
図7〜図16は、第1実施形態に係るバッキング部材の製造工程を例示する図である。
まず、図7に示すように、金属板10を用意する。なお、図7(a)は平面図、図7(b)は図7(a)のB−B線に沿う断面図、図7(c)は図7(a)のC−C線に沿う断面図である。
金属板10は、例えば、リードフレームに使用される銅合金板を用いることができる。金属板10の厚さは、例えば、150μm程度である。図7では、2本のリードが配置される領域の金属板10が部分的に描かれている。
次に、金属板10に複数のリードを形成するために、金属板10の上面に第1レジスト層12aを形成し、金属板10の下面に第2レジスト層12bを形成する。第1レジスト層12a及び第2レジスト層12bは、フォトリソグラフィ技術に基づいて露光及び現像を行うことによりパターン化されて形成される。各々のリードは金属板10から得られる外枠に繋がった状態で形成される。
図7(a)及び図7(b)に示すように、金属板10の上面に形成される第1レジスト層12aは、外枠のみに対応するパターンで形成される。つまり、金属板10の上面では、各リードが配置される領域には、第1レジスト層12aが形成されず、一括して開口された状態となる。
一方、図7(a)及び図7(c)に示すように、金属板10の下面に形成される第2レジスト層12bは、外枠及びそれに繋がるリードの全体に対応するパターンで形成される。
なお、図7の例とは逆に、金属板10の下面に第1レジスト層12aを形成し、金属板10の上面に第2レジスト層12bを形成してもよい。すなわち、金属板10の一方の面に第1レジスト層12aを形成し、金属板10の他方の面に第2レジスト層12bを形成すればよい。
次に、図8に示すように、金属板10の上面及び下面から第1レジスト層12a及び第2レジスト層12bをマスクにして、金属板10をウェットエッチングし、その後、第1レジスト層12a及び第2レジスト層12bを除去する。なお、図8(a)は平面図、図8(b)は図8(a)のD−D線に沿う断面図、図8(c)は図8(a)のE−E線に沿う断面図である。
ウェットエッチングとしては、例えば、スプレーエッチングが採用される。又、エッチング液としては、例えば、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、又は過硫酸アンモニウム水溶液などが使用される。
スプレーエッチングの場合、金属板10の上面及び下面にエッチング液がスプレーされ、金属板10の上面及び下面から厚み方向に同時にハーフエッチングされて、金属板10が貫通加工される。
このようにして、外枠14に連結する複数のリード20が形成される。スプレーエッチングでのスプレー圧力などを調整することにより、金属板10の上面側及び下面側でエッチングレートを調整できる。図8の例では、リード20の厚みを外枠14の厚みの半分より薄くするため、金属板10の上面側でのエッチングレートを高く設定している。
なお、ウェットエッチングに代えて、レーザ加工法やプレス加工法等を用いてもよい。
リード20の幅W1は、例えば、40〜80μm程度である。又、リード20の厚みT1は、例えば、40〜80μm程度である。リード20のピッチは、例えば、100〜300μm程度である。なお、リード20の断面形状は、例えば、台形に類似する四角状に形成される。
図9には、前述した方法で多数のリード20を形成した一枚のリードフレーム5の全体の様子が示されている。図9に示すリードフレーム5の例では、4つの製品領域Rにリード20が縦方向に並んで配置されている。各製品領域Rにおいて、リード20が外枠14に連結されて支持されている。又、リードフレーム5の四隅には、ガイドピンを挿入して位置決めするためのガイド穴5xが形成されている。
リードフレーム5が銅合金等からなり、タングステン等の超音波を遮音する性質を有する金属材料を含有していない場合には、図9の状態で、リードフレーム5の表面に超音波を遮音する性質を有する金属材料を含有するめっき膜を形成する。
例えば、電解めっき法により、リードフレーム5の表面に、タングステン等の超音波を遮音する性質を有する金属材料を含有するめっき膜(具体的には、例えば、ニッケルタングステンめっき膜)を形成する。電解めっき法に代えて、無電解めっき法を用いてもよい。めっき膜の厚さは、例えば、0.1μm〜2μm程度とすることができる。めっき膜の厚さが0.1μm以上であればピンホールができにくく、めっき膜の厚さが2μm以下であれば電解めっき法により容易に形成できる。
なお、リードフレーム5が超音波を遮音する性質を有する金属材料自体(例えば、タングステン)から形成されている場合には、リードフレーム5の表面にめっき膜を形成しなくてもよい。
次に、図9に示すリードフレーム5を使用して、バッキング部材1を構築する方法について説明する。図10に示すように、まず、図9に示すリードフレーム5を複数枚で用意する。図10では、3枚のリードフレーム5が描かれている。
又、下側支持板30及び上側支持板32を用意する。上側支持板32には樹脂を注入するための開口部32aが形成されている。上側支持板32の開口部32aはリードフレーム5の製品領域Rに対応して配置されている。
又、上側支持板32の四隅には、リードフレーム5のガイド穴5xに対応するガイド穴32xが形成されている。
下側支持板30は、注入された樹脂をせき止めるため開口部は形成されておらず、一枚の板状になっている。又、下側支持板30は、注入された樹脂が容易に剥離できるように表面にフッ素樹脂加工が施されている。或いは、フッ素樹脂加工に代えて、下側支持板30の上にフッ素樹脂シート又はポリエチレンシート等を配置してもよい。
下側支持板30の四隅には、リードフレーム5のガイド穴5xに対応するガイド穴30xが形成されている。
更に、複数枚のスペーサ40を用意する。スペーサ40には樹脂を注入するための開口部40aがそれぞれ形成されている。スペーサ40の各開口部40aは前述したリードフレーム5の製品領域Rに対応して配置されている。
スペーサ40は、積層されたリードフレーム5のリード20の積層方向の配置ピッチを決めるために配置される。スペーサ40は弾性体から形成され、好適には、樹脂スポンジ又は弾性ゴムなどの弾性樹脂が使用される。スペーサ40を圧縮させて所望の厚みに設定することにより、リード20の積層方向の配置ピッチを調整できる。
スペーサ40の四隅には、前述したリードフレーム5のガイド穴5xに対応するガイド穴40xが形成されている。
そして、下側支持板30と上側支持板32との間にスペーサ40を介してリードフレーム5を積層する。
図10の例を詳しく説明すると、下側支持板30と下側のリードフレーム5との間にスペーサ40が配置される。又、下側のリードフレーム5と中間のリードフレーム5との間にスペーサ40が配置される。
又、中間のリードフレーム5と上側のリードフレーム5との間にスペーサ40が配置される。更に、上側のリードフレーム5と上側支持板32との間にスペーサ40が配置される。
そして、上側支持板32のガイド穴32xからスペーサ40の各ガイド穴40x及びリードフレーム5の各ガイド穴5xを通して下側支持板30のガイド穴30xまでガイドピン(不図示)を挿通させる。
これにより、上側支持板32の開口部32a及びスペーサ40の各開口部40aと、リードフレーム5の製品領域Rとの位置合わせが行われる。
このようにして、下側支持板30と上側支持板32との間に、複数のリードフレーム5がスペーサ40を介して積層された積層体6が配置される。
実際には、20枚〜40枚程度のリードフレーム5がスペーサ40を介して積層される。
更に、図11に示すように、下側支持板30と上側支持板32とで挟まれた積層体6を圧縮して、弾性体からなるスペーサ40を所望の厚みにした状態で固定する。
例えば、図11に示す構造体がステージ(不図示)の上に配置され、加圧部材(不図示)によって上側支持板32を下側に加圧する。或いは、図11に示す構造体を加圧部材で挟んで上下側から加圧してもよい。
これにより、積層されたリードフレーム5のリード20の積層方向の間隔は圧縮されたスペーサ40の厚みで決定される。
下側支持板30と上側支持板32とで挟まれた積層体6を所望の厚みにする方法としては、高さ調整ストッパを使用する方法がある。
例えば、図12に示すように、下側支持板30と上側支持板32とで挟まれる積層体6に貫通穴7を形成しておく。又、リードフレーム5を積層する際に、貫通穴7の内に高さ調整ストッパ34を配置する。
そして、図13に示すように、上側支持板32を下側に加圧して、上側支持板32を高さ調整ストッパ34の上端に当接させる。高さ調整ストッパ34の高さを調整することにより、下側支持板30と上側支持板32とで挟まれた積層体6の厚みを所望の厚みに調整できる。
これにより、積層体6のスペーサ40の厚みが調整されるため、積層されたリードフレーム5のリード20の積層方向の配置ピッチを調整できる。
このようにして、リード20の水平方向及び垂直方向の配置ピッチを共に300μm程度以下に精度よく設定可能になる。
このように、複数のリード20が形成されたリードフレーム5をスペーサ40を介して積層することにより、水平方向及び垂直方向にリード20を小さい配置ピッチで精度よく配置できる。又、リードフレーム5には複数の製品領域Rを形成できるため、複数のバッキング部材を同時に製造でき、低コスト化を図ることができる。
次いで、図14に示すように、上側支持板32の開口部32aからリードフレーム5のリード20が積層された製品領域Rの中空部分にフィラー52を含有する樹脂50aを注入する。樹脂50aとしては、エポキシ樹脂が好適に使用される。
樹脂50aの注入は真空中で行われ、樹脂50aを注入する際に発生する泡が真空脱泡される。その後に、150℃の温度で、2時間、加熱処理を行って樹脂50aを硬化させて樹脂層50を得る。これにより、複数の製品領域Rに水平方向及び垂直方向に並んで配置された多数のリード20が樹脂層50に中に埋設された状態になる。
このとき、下側支持板30と上側支持板32との間に挟まれた積層体6への加圧力を開放しても、積層されたリード20が樹脂層50で固定された状態となり、圧縮された時点の積層体6の厚みが維持される。
ここで、樹脂層50に含有されたフィラー52について言及する。フィラー52を含有する樹脂層50が超音波の散乱吸収の機能を発揮するためには、フィラー52として、樹脂層50の音響インピーダンスと大きく異なる音響インピーダンスを有する材料が使用される。
このため、フィラー52として、タングステン又はアルミナなどの音響インピーダンスが大きな材料、或いは、中空ガラス球またはウレタンやシリコーンなどの樹脂材のような音響インピーダンスが小さな材料が使用される。
又、エポキシ樹脂などの母材の音速は、2000m/秒程度である。又、超音波の周波数は2MHz〜20MHzであり、人体の奥部を診断する用途には吸収の少ない低い周波数が使用される。
超音波の周波数が5MHzの場合は、波長は400μm程度になる。フィラーの粒径が波長に近づくと反射が大きくなり、診断の際にノイズとなる。逆に、フィラーの粒径が小さすぎる場合は超音波の散乱が十分になされない。このため、フィラーの粒径は超音波の波長の1/5〜1/10程度の大きさに設定されることが望ましい。
従って、超音波の周波数が5MHzの場合は、フィラーの平均粒径は40μm〜80μmに設定されることが好ましい。
例えば、リード20の水平方向と垂直方向の配置ピッチが200μmで、リード20の幅及び厚みを60μmにする場合は、リード20の間隔は140μmとなる。このように、隣接するリード20の間隔がフィラー52の平均粒径よりも広く設定される。
これにより、リード20の水平方向及び垂直方向の隙間にフィラー52を均一よく注入できるようになる。このため、超音波を十分に吸収できる高性能なバッキング部材を構築できる。
以上のように、図14の工程で、積層されたリードフレーム5の製品領域Rにフィラー52を含有する樹脂50aを注入する際に、リード20の水平方向及び垂直方向の隙間にフィラー52が均一に分散される。
なお、超音波の周波数が比較的高い場合は、上記したフィラーの粒径よりも小さい平均粒径のフィラーを使用できるため、上記した例よりもリードの間隔を狭くできる。
しかし、フィラーを製造する際に粒径が大きくばらつくため、平均粒径の2倍程度のものがかなりの分量で含まれていることを考慮する必要がある。
近年では、圧電素子の小型化及び配置の高密度化が進み、これに伴って、リードの配置ピッチも狭くなる傾向がある。
しかし、上記したように、超音波の反射によるノイズを防止するために樹脂層に含有されるフィラーの粒径は超音波の波長に依存するため、リードの配線ピッチが狭くなっても、フィラーの粒径を小さくできない。
このような観点から、リード20の断面積を小さくすることで、リード20の間隔を大きく確保できる。これにより、圧電素子の配置ピッチの狭小化に対応できるようになる。
更に、リード20の配置ピッチを狭くしても、リード20の幅及び厚みを小さくしているため、リード20同士が接触しづらくなると共に、リード20間の浮遊容量が小さくなり、クロストークが少なくなる。
次いで、図15に示すように、下側支持板30及び上側支持板32を積層体6から取り外す。このとき、下側支持板30の上面はフッ素樹脂加工が施されているため、下側支持板30を樹脂層50から容易に剥離できる。
更に、図15の破線で示されているように、複数のリード20が積層された製品領域Rが得られるように、最上のスペーサ40から最下のスペーサ40まで積層体6を厚み方向に切断する。
これにより、図16に示すように、積層体6から各リードフレーム5の外枠14に対応する領域が除去され、積層体6の複数の製品領域Rが個々の積層部材1aに分割される。積層部材1aでは、リード20の両側の各先端面が樹脂層50の両側面から露出した状態となる。
図16に示すように、図14の積層体6を切断した直後の積層部材1aでは、各リード20の延在方向が水平方向を向いて配置されている。
その後に、図16の部分拡大断面図に示すように、樹脂層50から露出するリード20の両端側の先端面に、無電解めっき法等よりコンタクト層21を形成する。これにより、図4に示すバッキング部材1が完成する。
コンタクト層21としては、例えば、リード20の先端面側から順に、ニッケル(Ni)層21a/パラジウム(Pd)層21b/金(Au)層21cが形成される。例えば、ニッケル層21aの厚みは3μm〜6μmであり、パラジウム層21bの厚みは0.1μmであり、金層21cの厚みは0.05μmである。
〈第1実施形態の変形例〉
第1実施形態の変形例では、リードの端部を拡幅する例を示す。なお、第1実施形態の変形例において、既に説明した実施形態と同一構成部品についての説明は省略する場合がある。
図17は、第1実施形態の変形例に係るバッキング部材を例示する断面斜視図である。図17に示すように、バッキング部材3は、リード20がリード20Aに置換された点が、バッキング部材1(図4等参照)と相違する。
リード20Aは、長手方向の中央部に配置された配線部24と、配線部24の両端に繋がる端子部22とを備えている。
リード20Aの配線部24は、リード20と同様に、超音波を遮音する性質を有する金属材料を含有し、かつ、少なくとも1箇所、屈曲部又は湾曲部を有する。これにより、リード20Aの配線部24は、リード20と同様に、超音波のノイズを遮音できる。
図18(a)は図17のリード20AをY方向(正面方向)から視た部分拡大断面図、図18(b)は図17のリード20AをX方向(横方向)から視た部分拡大断面図である。
図18(a)に示すように、リード20Aの配線部24の幅W1は端子部22の幅W2より小さく設定されている。又、図18(b)に示すように、リード20Aの配線部24の厚みT1は端子部22の厚みT2より小さく設定されている。
このようにして、リード20Aの配線部24の断面積が端子部22の断面積よりも小さく設定されている。
リード20Aの配線部24の断面形状は、例えば、四角状である(後述の図20(c)参照)。又、端子部22の断面形状は、例えば、両側面の中央部に突起が配置された六角状である(後述の図20(b)参照)。
リード20Aの上側の端子部22の側面の全体が樹脂層50に埋め込まれている。リード20Aの上側の端子部22の先端面が樹脂層50の上面50uから露出している。そして、リード20Aの上側の端子部22の先端面と樹脂層50の上面50uとが面一になっている。
同様に、リード20Aの下側の端子部22の側面の全体が樹脂層50に埋め込まれている。リード20Aの下側の端子部22の先端面が樹脂層50の下面50wから露出している。そして、リード20Aの下側の端子部22の先端面と樹脂層50の下面50wとが面一になっている。
又、リード20Aの配線部24は、端子部22の断面内の厚み方向の下部に繋がっている(後述の図20(c)参照)。更に、図18(b)に示すように、配線部24の厚み方向の下面S1と端子部22の厚み方向の下面S2とが面一になっている。
このような連結構造で、配線部24の幅及び厚みが端子部22の幅及び厚みよりも小さくなっている。
又、リード20Aの端子部22の断面積は十分な大きさを有するため、圧電素子及び配線基板と信頼性よく電気的に接続できる。
又、バッキング部材3では、図18(b)に示したように、複数のリード20Aが各々の配線部24及び端子部22の厚み方向の下面S1及びS2が同一方向を向いて積層されている。
このようなリード20Aの積層構造とすることにより、複数のリード20Aの間の領域に最も均一にフィラー52を分散させることができる。
但し、上記したリード20Aの積層構造以外の構造を採用してもよい。例えば、図17のリード20AのY方向で、複数のリード20Aが、各々の配線部24及び端子部22の厚み方向の下面S1及びS2(図18(b))が対向するように積層されてもよい。
この態様では、前述した図10の工程でリードフレーム5を積層する際に、リードフレーム5間でリード20Aの配線部24及び端子部22の厚み方向の下面S1及びS2が対向するように積層すればよい。
このように、リード20Aを採用することにより、リード20Aの積層構造によらず、隣接するリード20Aの間にフィラー52を配置できるため、従来技術と比較して超音波の散乱吸収の性能を向上させることができる。
又、図17の例では、各リード20AのX方向の配列は、ストレート形状で平行に配置されているが、X方向で各リード20Aを扇状に形成して配置ピッチを変換するようにしてもよい。前述した図9のリードフレーム5を形成する際に、各リード20Aを扇状に形成すればよく、扇状以外にも各種のリードパターンを容易に形成できる。
同様に、図17の例では、各リード20AのY方向の配列は、ストレート形状で平行に配置されているが、Y方向で配置ピッチを変換するようにしてもよい。
この場合は、前述した図11の積層体6を加圧する際に、下側支持板30及び上側支持板32の側面形状が一端側と他端側で厚みが異なるテーパー状にすることにより、Y方向の一端側と他端側でリード20Aの配置ピッチを変えることができる。
又、図17の例では、リード20Aの配線部24の幅及び厚みが両側の端子部22の両者の幅及び厚みよりも小さくなるように設定している。この他に、バッキング部材の各種の接続の態様に合わせて、リード20Aの配線部24の幅及び厚みが両側の端子部22のうちの少なくとも一方の幅及び厚みよりも小さく設定されていればよい。
例えば、リード20Aの配線部24の幅及び厚みを上側の端子部22の幅及び厚みより小さく設定し、下側の端子部22の幅及び厚みは配線部24と同じに設定してもよい。
リード20Aを作製するには、前述の図7の工程において、第1レジスト層12a及び第2レジスト層12bの配置を図19のように変更すれば良い。なお、図19(a)は平面図、図19(b)は図19(a)のF−F線に沿う断面図、図19(c)は図19(a)のG−G線に沿う断面図である。
すなわち、図19(a)の平面図及び図19(b)の断面図に示すように、金属板10の上面に形成される第1レジスト層12aは、外枠及びそれに繋がるリードの両端側の端子部のみに対応するパターンで形成される。金属板10の上面では、各リードの配線部が配置される領域には、第1レジスト層12aが形成されず、一括して開口された状態となる。
一方、図19(a)の平面図及び図19(c)の断面図に示すように、金属板10の下面に形成される第2レジスト層12bは、外枠及びそれに繋がるリードの全体に対応するパターンで形成される。
なお、図19の例とは逆に、金属板10の下面に第1レジスト層12aを形成し、金属板10の上面に第2レジスト層12bを形成してもよい。つまり、金属板10の一方の面に第1レジスト層12aを形成し、金属板10の他方の面に第2レジスト層12bを形成すればよい。
次に、図20に示すように、金属板10の上面及び下面から第1レジスト層12a及び第2レジスト層12bをマスクにして、金属板10をウェットエッチングし、その後、第1レジスト層12a及び第2レジスト層12bを除去する。ウェットエッチングの方法やエッチング液は、第1実施形態と同様とすることができる。なお、図20(a)は平面図、図20(b)は図20(a)のH−H線に沿う断面図、図20(c)は図20(a)のI−I線に沿う断面図である。
エッチング時に、スプレーエッチングでのスプレー圧力などを調整することにより、金属板10の上面側及び下面側でエッチングレートを調整できる。図20の例では、リード20Aの配線部24の厚みを端子部22の厚みの半分より薄くするため、金属板10の上面側でのエッチングレートを高く設定している。
以上の方法により、外枠14に複数のリード20Aが繋がったリードフレーム5が得られる。リード20Aは、中央部に配置された配線部24と、配線部24の両端に繋がる端子部22とを備えて形成される。リード20Aの両側の端子部22は外枠14に繋がって形成される。
リード20Aの配線部24の幅W1は端子部22の幅W2よりも小さく設定されている。又、リード20Aの配線部24の厚みT1は端子部22の厚みT2よりも小さく設定されている。
このようにして、リード20Aの配線部24の断面積は端子部22の断面積よりも小さく設定される。
図20(b)の断面図に示すように、リード20Aの端子部22の断面形状は、例えば、両側面の中央に突起が配置された六角状に形成される。又、図20(c)の断面図に示すように、リード20Aの配線部24の断面形状は、例えば、台形に類似する四角状で形成さる。
第1実施形態と同様に、金属板10の両面側から1回のウェットエッチングで金属板10を貫通加工してリード20Aを形成する手法を採用している。
このため、図20(c)に示すように、配線部24は端子部22の断面内の厚み方向の下部に繋がり、配線部24の厚み方向の下面と端子部22の厚み方向の下面とが面一になる。このように、配線部24は端子部22の断面内の中心から一端側(下側)にずれた位置に配置される。
例えば、配線部24の幅W1は、例えば、40〜80μm程度である。又、配線部24の厚みT1、例えば、40〜80μm程度である。又、端子部22の幅W2は、例えば、150μm〜200μm程度である。又、端子部22の厚みT2は、例えば、150μm〜200μm程度である。配線部24のピッチは、例えば、100〜300μm程度である。
以上、好ましい実施形態等について詳説したが、上述した実施形態等に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施形態等に種々の変形及び置換を加えることができる。
例えば、上記の実施形態では、一方向(例えば、図4のY方向)から視たときにリードが屈曲部又は湾曲部を有する例を示した。しかし、これには限定されず、一方向(例えば、図4のY方向)から視たときにリードが屈曲部又は湾曲部を有すると共に、一方向に直交する他方向(例えば、図4のX方向)から視たときにリードが屈曲部又は湾曲部を有するように3次元的に形成してもよい。例えば、図9の状態で、紙面垂直方向からリードフレーム5を部分的にプレスすることで、3次元的に屈曲部又は湾曲部を有するリードを実現できる。これにより、超音波のノイズを一層遮音できる。
又、リードを螺旋状に形成することで、3次元的に屈曲部又は湾曲部を有するリードを実現できる。例えば、3Dプリンターを用いることで、リードを螺旋状に形成できる。
1、3 バッキング部材
1a 積層部材
2 超音波探触子
5 リードフレーム
5x、30x、32x、40x ガイド穴
6 積層体
7 貫通穴
10 金属板
12a 第1レジスト層
12b 第2レジスト層
14 外枠
20、20A リード
22 端子部
24 配線部
30 下側支持板
32 上側支持板
32a、40a 開口部
34 高さ調整ストッパ
40 スペーサ
50 樹脂層
52 フィラー
60 圧電素子
62 音響整合層
70 配線基板
72 接続電極

Claims (10)

  1. 樹脂層と、
    前記樹脂層に埋設され、前記樹脂層の一方の面から前記一方の面の反対面である他方の面に貫通する複数の線状導体と、を有し、
    各々の前記線状導体は、超音波を遮音する性質を有する金属材料を含有し、
    各々の前記線状導体は、少なくとも1箇所、屈曲部又は湾曲部を有するバッキング部材。
  2. 各々の前記線状導体は、複数の屈曲部又は湾曲部を有する請求項1に記載のバッキング部材。
  3. 各々の前記線状導体は、同一形状である請求項1又は2に記載のバッキング部材。
  4. 各々の前記線状導体は、ジグザグ状又は波状に形成されている請求項1乃至3の何れか一項に記載のバッキング部材。
  5. 隣接する前記線状導体の一方が有する前記屈曲部又は湾曲部の凸領域は、隣接する前記線状導体の他方が有する前記屈曲部又は湾曲部の凹領域に入り込んでいる請求項1乃至4の何れか一項に記載のバッキング部材。
  6. 前記金属材料は、タングステン、金、白金、パラジウム、ルテニウムの何れか1つ以上を含む請求項1乃至5の何れか一項に記載のバッキング部材。
  7. 各々の前記線状導体の表面は、タングステンを含むめっき膜により被覆されている請求項6に記載のバッキング部材。
  8. 前記めっき膜は、ニッケルタングステンめっき膜である請求項7に記載のバッキング部材。
  9. 各々の前記線状導体は、タングステンを含む材料により形成されている請求項6に記載のバッキング部材。
  10. 請求項1乃至9の何れか一項に記載のバッキング部材と、
    前記バッキング部材の上に配置され、各々の前記線状導体に接続された圧電素子と、
    前記圧電素子の上に配置された音響整合層と、を有する超音波探触子。
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