JP2021041623A - 箔転写装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】被転写物の配置の自由度が高い箔転写装置を提供する。【解決手段】箔転写装置10は、被転写物80を載置可能に形成された支持台20と、被転写物80および熱転写箔82を押圧すると共に熱転写箔82に向けて光を照射可能に構成された押圧体66とを有し、平面視で矩形状に形成された転写領域TA内を移動可能に構成された転写用ツール60と、転写用ツール60を支持台20に対して相対的に移動させる押圧体移動機構30と、支持台20に着脱自在に構成され、支持台20に取り付けられたときに平面視で転写領域TAと重なり、押圧体66の有無を検出するために用いられる検出用治具70と、転写用ツール60および押圧体移動機構30を制御する制御装置90と、を備えている。【選択図】図5
Description
本発明は、箔転写装置に関する。
従来から、意匠性の向上等を目的として、熱転写箔(熱転写シートともいう)を利用した熱転写法による装飾加工が行われている。熱転写箔は、大まかには、基材と、装飾層と、接着層とがこの順に積層されて構成されている。そして転写に際しては、被転写物上に、接着層側が当接するように熱転写箔を重ね、光(例えばレーザー光)を照射する光源および熱転写箔を押圧する押圧体を備えた転写用ツールで熱転写箔を上から押圧しながら光を照射して熱転写箔を加熱する。これにより、熱転写箔のうち押圧されている部分の接着層が溶融され、被転写物の表面に付着したのち、放熱により硬化する。その結果、被転写物から熱転写箔の基材を剥離することで、箔押しした部分に対応する形状の装飾層を接着層とともに被転写物に付着させることができる。これにより、被転写物の表面に、任意の形状(例えば図形や文字)を有する装飾が施される。
例えば、特許文献1には、レーザー光を照射する転写用ツールを用いて被転写物に箔を転写する技術が開示されている。
ところで、箔転写装置において熱転写箔を転写する前には、転写用ツールに押圧体が装着されていることを確認する作業が行われる。従来では、箔転写装置の所定の位置に固定された検出用治具に、転写用ツールを接触させることによって押圧体の有無が検出されていた。ところが、熱転写箔を転写しようとする被転写物の中には、その配置の仕方によって検出用治具が配置されている周辺において熱転写箔を転写することが制限されていた。即ち、被転写物のうち検出用治具の下方に位置する部分は、検出用治具と転写用ツールとが干渉するため、押圧体によって押圧することができない。このため、被転写物の配置を変更したり転写用のデータ(即ち箔画像のデータ)を変更したりする必要があった。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、被転写物の配置の自由度が高い箔転写装置を提供することである。
本発明に係る箔転写装置は、被転写物を載置可能に形成された支持台と、ケース本体と、前記被転写物および前記被転写物上に配置された熱転写箔を押圧すると共に前記熱転写箔に向けて光を照射可能に構成されかつ前記ケース本体の下面から下方に向けて突出する押圧体とを有し、平面視で矩形状に形成された転写領域内を移動可能に構成された転写用ツールと、前記転写用ツールを前記支持台に対して相対的に移動させる移動機構と、前記支持台に着脱自在に構成され、前記支持台に取り付けられたときに平面視で前記転写領域と重なり、前記押圧体の有無を検出するために用いられる検出用治具と、前記転写用ツールおよび前記移動機構を制御する制御装置と、を備えている。前記制御装置は、前記押圧体の下端から前記ケース本体の下面までの上下方向の長さである基準長さを記憶する記憶部と、平面視で前記押圧体が前記検出用治具と重なる第1位置において、前記転写用ツールを下降させて、前記転写用ツールの一部と前記検出用治具とが接触したときの前記転写用ツールの上下方向の第1高さ位置を検出する第1検出部と、平面視で前記押圧体が前記検出用治具と重ならずかつ平面視で前記ケース本体の少なくとも一部が前記検出用治具と重なる第2位置において、前記転写用ツールを下降させて、前記転写用ツールの一部と前記検出用治具とが接触したときの前記転写用ツールの上下方向の第2高さ位置を検出する第2検出部と、前記基準長さと、前記第1高さ位置および前記第2高さ位置とに基づいて、前記押圧体の有無を判断する判断部と、を備えている。
本発明の箔転写装置によると、押圧体の有無を検出するために用いられる検出用治具は、支持台に取り付けられたときに平面視で転写領域と重なる。このため、被転写物のうち検出用治具の下方に位置する部分には熱転写箔を転写することができない。ところが、検出用治具は、支持台に着脱自在に構成されているため、被転写物の形状や箔画像のデータに応じて支持台の任意の位置に検出用治具を取り付けることができる。これにより、例えば、被転写物のうち熱転写箔が転写されない部分の上方に検出用治具を配置することができる。このように、検出用治具の位置を変更することができるため、被転写物の配置の自由度を向上させることができる。
本発明によれば、被転写物の配置の自由度が高い箔転写装置を提供することができる。
以下、適宜図面を参照しながら、本発明の一実施形態について説明する。なお、ここで説明される実施形態は、当然ながら特に本発明を限定することを意図したものではない。また、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付し、重複する説明は適宜省略または簡略化する。
<第1実施形態>
図1は、一実施形態に係る箔転写装置10を示す斜視図である。以下の説明では、左、右、上、下とは、箔転写装置10の正面にいるユーザが箔転写装置10を見た場合の左、右、上、下をそれぞれ意味することとする。また、上記ユーザが箔転写装置10に近づく方を後方、遠ざかる方を前方とする。図面中の符号F、Rr、L、R、U、Dは、それぞれ前、後、左、右、上、下を表す。本実施形態に係る箔転写装置10は、相互に直交する軸をX軸、Y軸およびZ軸としたときに、X軸とY軸とで構成される平面に置かれるものとする。ここでは、X軸は、左右方向に延びる。Y軸は、前後方向に延びる。X軸とY軸とで構成される平面は、ここでは水平面である。Z軸は、上下方向に延びる。ただし、これらは説明の便宜上の方向に過ぎず、箔転写装置10の設置態様を何ら限定するものではない。
図1は、一実施形態に係る箔転写装置10を示す斜視図である。以下の説明では、左、右、上、下とは、箔転写装置10の正面にいるユーザが箔転写装置10を見た場合の左、右、上、下をそれぞれ意味することとする。また、上記ユーザが箔転写装置10に近づく方を後方、遠ざかる方を前方とする。図面中の符号F、Rr、L、R、U、Dは、それぞれ前、後、左、右、上、下を表す。本実施形態に係る箔転写装置10は、相互に直交する軸をX軸、Y軸およびZ軸としたときに、X軸とY軸とで構成される平面に置かれるものとする。ここでは、X軸は、左右方向に延びる。Y軸は、前後方向に延びる。X軸とY軸とで構成される平面は、ここでは水平面である。Z軸は、上下方向に延びる。ただし、これらは説明の便宜上の方向に過ぎず、箔転写装置10の設置態様を何ら限定するものではない。
図1に示すように、箔転写装置10は、被転写物80にシート状の熱転写箔82と光吸収フィルム84とを重ねた状態で、後述する転写用ツール60によって熱転写箔82および光吸収フィルム84を押圧および加熱することにより、被転写物80の表面に熱転写箔82中の装飾層を付与(転写という)する装置である。熱転写箔82は、光吸収フィルム84を介して転写用ツール60に間接的に押圧される。なお、被転写物80および熱転写箔82の材料、形状および構成などによっては、光吸収フィルム84を用いなくてもよい場合がある。また、箔転写装置10に搭載されるレーザー発振器の種類によっては、光吸収フィルム84を用いなくてもよい場合がある。例えば、レーザー発振器が熱転写箔82を被転写物80に転写するのに十分な熱量を有するレーザー光を出力できる場合には、光吸収フィルム84を用いなくてもよい。
被転写物80を構成する材料や形状は、特に限定されない。被転写物80は、例えば、金、銀、銅、プラチナ、真鍮、アルミ、鉄、チタン、ステンレス等の金属類であってもよいし、アクリル、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)等の樹脂材料、普通紙、画用紙、和紙等の紙類、ゴム類等であってもよい。また、本革(即ち天然皮革)や上記樹脂材料等を少なくとも一部に含む人造皮革(例えば合成皮革や人工皮革)であってもよい。
熱転写箔82としては、例えば、熱転写用に一般に市販されている転写箔を特に限定なく用いることができる。熱転写箔82は、一般的には、基材と、装飾層と、接着層とがこの順に積層されている。熱転写箔82は、例えば、金箔、銀箔等のメタリック箔や、ハーフメタリック箔、顔料箔、多色印刷箔、ホログラム箔、静電気破壊対策箔等を包含する。熱転写箔82は、帯状やシート状に形成されている。熱転写箔82は、被転写物80上に載置される。熱転写箔82の接着層が被転写物80と接触するように、熱転写箔82は被転写物80上に載置される。なお、熱転写箔82は、基材と、装飾層との間に光吸収層を備えていてもよい。熱転写箔82が光吸収層を備える場合には、基材は、透明の材料から形成される。光吸収層の構成は、後述する光吸収フィルム84と同様である。熱転写箔82が光吸収層を有する場合には、箔転写装置10は光吸収フィルム84を備えていなくてもよい場合がある。なお、熱転写箔82が光吸収層を有していても、箔転写装置10は光吸収フィルム84を備えているとよい。
使用する熱転写箔82の構成によっては、後述する転写用ツール60のレーザー発振器62(図3参照)から照射される光に対する光吸収性を有さないか、あるいは光吸収性の低いものが存在し得る。そのような場合、熱転写箔82の上面側に光吸収フィルム84を載置する。光吸収フィルム84とは、転写用ツール60のレーザー発振器62から照射される所定の波長帯のレーザー光を効率よく吸収して、光エネルギーを熱エネルギーに変換可能なように構成されたシートである。光吸収フィルム84は、100〜200℃での耐熱性を有している。光吸収フィルム84は、例えばポリイミドのような樹脂で構成されている。光吸収フィルム84は、単色である。光吸収フィルム84の色相は、光エネルギーを効率よく熱エネルギーへと変換する観点から、レーザー発振器62から照射されるレーザー光の色と補色関係にあることが好ましい。例えば、レーザー発振器62から照射されるレーザー光が青色である場合には、光吸収フィルム84は黄色であることが好ましい。なお、光吸収フィルム84には、必要に応じて強度を高めるためのサポートフィルムを設けてもよい。サポートフィルムは、光吸収フィルム84に比べて光吸収性が著しく低い。また、サポートフィルムは、光吸収フィルム84に比べて光透過性が高い。サポートフィルムは、レーザー発振器62から発せられるレーザー光を透過する材料から形成されている。サポートフィルムは、例えば透明である。サポートフィルムは、例えばポリエステルのようなプラスチックフィルムである。
図1に示すように、箔転写装置10は箱状に形成されている。箔転写装置10は、前方および上方が開口された筐体11と、筐体11内に配置された押圧体移動機構30と、転写用ツール60と、被転写物80を載置可能に形成された支持台20とを備えている。筐体11の開口部には、開閉式のカバーが設けられているが、ここでは図示を省略する。筐体11は、底壁部12と、左側壁部13と、右側壁部14と、上壁部15と、後壁部16とを備えている。
図1に示すように、底壁部12には、支持台20が設けられている。底壁部12のX軸方向の長さは、底壁部12のY軸方向の長さより短い。底壁部12の前方の領域は、支持台20が設けられる第1領域12aである。底壁部12の後方の領域は、支持台20に載置された被転写物80が支持台20を越えて載置可能な第2領域12bである。
図1に示すように、左側壁部13は、底壁部12の左端において上方に延びている。左側壁部13は、底壁部12に対して垂直に設けられている。右側壁部14は、底壁部12の右端において上方に延びている。右側壁部14は、底壁部12に対して垂直に設けられている。後壁部16は、底壁部12の後端において上方に延びている。後壁部16は、左側壁部13の後端および右側壁部14の後端に接続されている。後壁部16には、後述する制御装置90が収容されている。上壁部15は、左側壁部13の後部の上端、右側壁部14の後部の上端および後壁部16の上端に接続されている。底壁部12と左側壁部13と右側壁部14と上壁部15と後壁部16とに囲まれた領域が、筐体11の内部空間である。
図1に示すように、筐体11の内部空間は、被転写物80に熱転写箔82を転写する空間である。内部空間には、押圧体移動機構30が設けられている。即ち、押圧体移動機構30は、筐体11に収容されている。押圧体移動機構30は、移動機構の一例である。押圧体移動機構30は、転写用ツール60を保持する第1キャリッジ31と、第1キャリッジ31を保持する第2キャリッジ32と、第2キャリッジ32を保持する第3キャリッジ33と、第1キャリッジ31をZ軸方向に移動させるZ軸方向移動機構36(図2参照)と、第1キャリッジ31および第2キャリッジ32をX軸方向に移動させるX軸方向移動機構40と、第1キャリッジ31および第2キャリッジ32および第3キャリッジ33をY軸方向に移動させるY軸方向移動機構44とを備えている。押圧体移動機構30は、転写用ツール60を三次元方向に移動させる。転写用ツール60は、Z軸方向移動機構36、X軸方向移動機構40およびY軸方向移動機構44により、支持台20(即ち被転写物80)に対して相対的に移動可能に構成されている。即ち、押圧体移動機構30は、転写用ツール60の押圧体66を支持台20に対して相対的に移動させる。Z軸方向移動機構36、X軸方向移動機構40およびY軸方向移動機構44は、いずれも底壁部12よりも上方に配置されている。第1キャリッジ31の下部には転写用ツール60が設けられている。
図2に示すように、Z軸方向移動機構36は、第2キャリッジ32に設けられている。Z軸方向移動機構36は、転写用ツール60の押圧体66をZ軸方向に移動させる機構である。第2キャリッジ32は、Y軸方向およびX軸方向に延びる第1部分32aと、第1部分32aの下方に位置しかつY軸方向およびX軸方向に延びる第2部分32bと、第1部分32aの後端と第2部分32bの後端とを接続しかつZ軸方向に延びる第3部分32cとを有する。Z軸方向移動機構36は、第1Z軸シャフト37aと、第2Z軸シャフト37bと、台形ネジ39と、第1モータ38とを備えている。第1Z軸シャフト37a、第2Z軸シャフト37bおよび台形ネジ39は、Z軸方向に延びる。第1Z軸シャフト37aおよび第2Z軸シャフト37bは、第2キャリッジ32の第1部分32aと第2部分32bとに支持されている。台形ネジ39は、第2キャリッジ32の第1部分32aを貫通している。台形ネジ39の上端は、第1モータ38に連結されている。台形ネジ39の下端は、第1キャリッジ31に接続されている。第1モータ38は、台形ネジ39を回転させる。第1モータ38は、第2キャリッジ32の第1部分32a上に配置されている。第1モータ38は、電動モータである。第1モータ38は、制御装置90(図9も参照)に制御される。第1Z軸シャフト37aおよび第2Z軸シャフト37bには、第1キャリッジ31がZ軸方向に摺動可能に設けられている。第1モータ38が駆動されると、第1キャリッジ31は、台形ネジ39の回転により、第1Z軸シャフト37aおよび第2Z軸シャフト37bに沿ってZ軸方向に移動する。
図1に示すように、X軸方向移動機構40は、第3キャリッジ33に設けられている。X軸方向移動機構40は、転写用ツール60の押圧体66をX軸方向に移動させる機構である。第3キャリッジ33は、箱型状に形成されている。第3キャリッジ33は、上壁部15より下方かつ底壁部12より上方に配置されている。第3キャリッジ33は、左側壁部13から右側壁部14に延びる。X軸方向移動機構40は、第1X軸シャフト41aと、第2X軸シャフト41bと、左側のプーリ43aと、右側のプーリ43bと、左側のプーリ43aおよび右側のプーリ43bに巻かれたワイヤー43cと、左側のプーリ43aに接続された第2モータ42(図9参照)とを備えている。第1X軸シャフト41aおよび第2X軸シャフト41bは、X軸方向に延びる。第1X軸シャフト41aおよび第2X軸シャフト41bは、第3キャリッジ33に支持されている。左側のプーリ43a、右側のプーリ43bおよびワイヤー43cは、第3キャリッジ33に設けられている。ワイヤー43cは、第1X軸シャフト41aの下方かつ第2X軸シャフト41bの上方に配置されている。ワイヤー43cは、第1X軸シャフト41aおよび第2X軸シャフト41bより後方に配置されている。ワイヤー43cの一部は、第2キャリッジ32に接続されている。第2モータ42は、左側のプーリ43aを回転させる。第2モータ42は、第3キャリッジ33に配置されている。第2モータ42は、電動モータである。第2モータ42は、制御装置90(図9も参照)に制御される。第1X軸シャフト41aおよび第2X軸シャフト41bには、第2キャリッジ32がX軸方向に摺動可能に設けられている。第2モータ42が駆動されると、第2キャリッジ32は、ワイヤー43cの走行により、第1X軸シャフト41aおよび第2X軸シャフト41bに沿ってX軸方向に移動する。
図1に示すように、Y軸方向移動機構44は、筐体11に設けられている。Y軸方向移動機構44は、転写用ツール60の押圧体66をY軸方向に移動させる機構である。Y軸方向移動機構44は、左側壁部13および右側壁部14のそれぞれに、Y軸シャフト45と、前側のプーリ47aと、後側のプーリ47bと、前側のプーリ47aおよび後側のプーリ47bに巻かれたワイヤー47cとを備えている。Y軸方向移動機構44は、右側壁部14に配置された後側のプーリ47bに接続された第3モータ46(図9参照)を備えている。第3モータ46は、右側壁部14に設けられている。Y軸シャフト45は、Y軸方向に延びる。Y軸シャフト45は、左側壁部13および右側壁部14にそれぞれ支持されている。前側のプーリ47a、後側のプーリ47bおよびワイヤー47cは、左側壁部13および右側壁部14にそれぞれ設けられている。ワイヤー47cは、Y軸シャフト45の上方に配置されている。第3モータ46は、右側壁部14に設けられた後側のプーリ47bを回転させる。第3モータ46は、電動モータである。第3モータ46は、制御装置90(図9も参照)に制御される。Y軸シャフト45には、第3キャリッジ33に接続された摺動部材33aがY軸方向に摺動可能に設けられている。摺動部材33aは、第3キャリッジ33と一体となって移動する。ワイヤー47cの一部は、摺動部材33aに接続されている。第3モータ46が駆動されると、第3キャリッジ33は、ワイヤー47cの走行により、Y軸シャフト45に沿ってY軸方向に移動する。
図3に示すように、転写用ツール60は、被転写物80上に載置された熱転写箔82を押圧すると共に熱転写箔82に向けて光(例えばレーザー光)を照射可能に構成された装置である。なお、光吸収フィルム84が用いられる場合には、光吸収フィルム84は転写用ツール60に押圧される。転写用ツール60は、被転写物80上に載置された熱転写箔82や光吸収フィルム84に光を照射し、熱転写箔82に熱を供給する装置である。転写用ツール60は、支持台20より上方に配置されている。転写用ツール60は、レーザー発振器62と、ケース本体61と、ケース本体61の下端に着脱自在に保持された押圧体66とを備えている。転写用ツール60は、転写領域TA(図4参照)内を移動可能に構成されている。レーザー発振器62は、光源の一例である。
図2に示すように、ケース本体61は、第1キャリッジ31に保持されている。図3に示すように、ケース本体61は、長尺の円筒形状に形成されている。ケース本体61の内部には、レーザー発振器62に接続された光ファイバ64の一部が収容される。ケース本体61は、押圧体66を保持するホルダ68を備えている。ホルダ68には、上下方向に貫通する貫通孔Pが形成されている。押圧体66は、貫通孔Pと重なるように保持される。光ファイバ64の端部は、貫通孔Pと重なる。これにより、ホルダ68は、レーザー光の光路LPに干渉しない。
図3に示すように、押圧体66は、ケース本体61の下面61B(即ちホルダ68の下面に相当)から下方に向けて突出する。押圧体66は、被転写物80および被転写物80上に配置された熱転写箔82を押圧する。光吸収フィルム84が用いられる場合には、押圧体66は光吸収フィルム84を押圧する。押圧体66は、熱転写箔82に向けて光を照射可能に構成されている。なお、熱転写箔82上に光吸収フィルム84が配置されている場合には、押圧体66は光吸収フィルム84に光を照射することになるが、この動作は、光の照射先に光吸収フィルム84を介して熱転写箔82が位置する場合には、熱転写箔82に向けて光を照射することを意味する。後述するように、レーザー発振器62において生成されたレーザー光は、押圧体66を透過して外部に照射される。押圧体66は、例えば、ガラスにより構成することができる。本実施形態における押圧体66は、合成石英ガラスにより構成されている。押圧体66は、レンズの機能を果たす。
レーザー発振器62は、レーザー光を生成する。レーザー発振器62によって生成されたレーザー光は、光ファイバ64を通って押圧体66に到達する。押圧体66に到達したレーザー光は、押圧体66を透過してケース本体61の外部に照射される。本実施形態におけるレーザー発振器62は、レーザー光を照射するレーザーダイオード(半導体レーザー)および光学系等により構成されている。レーザー発振器62は、制御装置90に制御される。レーザー発振器62は、筐体11内に配置されている。
図1に示すように、支持台20には被転写物80が載置される。支持台20の表面20Aは、底壁部12より上方に位置する。図4に示すように、支持台20は、X軸方向の長さがY軸方向の長さよりも長い矩形状に形成されている。なお、支持台20は、X軸方向の長さがY軸方向の長さよりも長くてもよく、X軸方向の長さとY軸方向の長さが同一であってもよい。転写領域TAは、支持台20に設けられている。転写領域TAは、平面視で矩形状に形成されている。転写領域TAは、X軸方向の長さがY軸方向の長さよりも長い矩形状に形成されている。なお、転写領域TAは、X軸方向の長さがY軸方向の長さよりも長くてもよく、X軸方向の長さとY軸方向の長さが同一であってもよい。転写領域TAとは、転写用ツール60の押圧体66が移動可能な領域である。即ち、被転写物80に熱転写箔82を転写することができる領域である。支持台20の表面20Aには、複数の貫通孔20Hが形成されている。貫通孔20Hには、図示しない位置合わせ用のピンが挿入される。位置合わせ用のピンに被転写物80を当てつけることで、被転写物80の位置決めが容易に行われる。
図5に示すように、箔転写装置10は、転写用ツール60の押圧体66の有無を検出するために用いられる検出用治具70を備えている。検出用治具70は、支持台20に着脱自在に構成されている。図4および図5に示す例では、転写領域TAの四隅のうちの左奥の隅である第1検出位置TP1および右手前の隅である第2検出位置TP2にそれぞれ検出用治具70が着脱自在に設けられている。第1検出位置TP1とは、転写用ツール60が待機位置HP(図1参照)に位置するときに平面視で転写用ツール60と重なる領域である。ここで、待機位置HPとは、箔押待機時、すなわち、被転写物80に熱転写箔82が転写されていないときに、転写用ツール60が待機する位置である。本実施形態では、待機位置HPは、第1X軸シャフト41aおよび第2X軸シャフト41bの左端部かつY軸シャフト45の後端部に設けられている。第2検出位置TP2とは、第1検出位置TP1の対角に位置する。図4に示すように、検出用治具70は、支持台20に取り付けられたときに平面視で転写領域TAと重なる。図6Aに示すように、検出用治具70は、正面視で略L字形状に形成されている。検出用治具70は、L字形状に形成された本体部70Aと、本体部70Aの上端から前方に延びかつ転写用ツール60と接触する接触部70Bと、本体部70Aの下端から前方に延びかつ支持台20の表面20Aと接触する支持部70Cと、本体部70Aの左端から前方および下方に延びかつ支持台20にネジ72を介して固定される固定部70Dとを有する。検出用治具70の接触部70Bが平面視で転写領域TAと重なる。
図4および図5に示す例では、第1検出位置TP1および第2検出位置TP2にそれぞれ検出用治具70が取り付けられているが、検出用治具70の取り付け位置は、これらに限定されない。例えば、転写領域TAの四隅のうちの右奥の隅や左手前の隅に取り付けてもよい。また、転写領域TAの四隅を除く各辺上に取り付けてもよい。また、検出用治具70は、支持台20に少なくとも1つ取り付けられていればよい。即ち、図4に示す例では、検出用治具70は、被転写物80の形状等に応じて、第1検出位置TP1または第2検出位置TP2に取り付ければよい。さらに、検出用治具70を取り付ける位置に応じて、検出用治具70の上下方向の長さ(即ち接触部70Bの支持台20からの高さ)を変更してもよい。
箔転写装置10の全体の動作は、制御装置90によって制御されている。図9に示すように、制御装置90は、押圧体移動機構30と、転写用ツール60のレーザー発振器62と通信可能に接続されており、それらを制御可能に構成されている。制御装置90は、第1モータ38と、第2モータ42と、第3モータ46とに通信可能に接続されており、それらを制御可能に構成されている。制御装置90は、典型的にはコンピュータである。制御装置90は、例えば、ホストコンピュータ等の外部機器からの印刷データ等を受信するインターフェイス(I/F)と、制御プログラムの命令を実行する中央演算処理装置(CPU)と、CPUが実行するプログラムを格納したROMと、プログラムを展開するワーキングエリアとして使用されるRAMと、上記プログラムや各種データを格納するメモリなどの記憶装置とを備えている。
図9に示すように、制御装置90は、記憶部90Aと、第1検出部91と、第2検出部92と、第3検出部93と、第4検出部94と、判断部95と、通知部96と、光制御部97とを備えている。制御装置90の各部の機能は、プログラムによって実現されている。このプログラムは、例えばCDやDVDなどの記録媒体から読み込まれる。なお、このプログラムは、インターネットを通じてダウンロードされるものであってもよい。また、制御装置90の各部の機能は、プロセッサおよび/または回路などによって実現可能なものであってもよい。なお、これら各部の具体的な機能については後述する。
記憶部90Aは、転写用ツール60の押圧体66の下端66Bからケース本体61の下面61Bまでの上下方向の長さである基準長さLB(図2参照)を記憶する。記憶部90Aは、箔画像データを記憶する。箔画像データは、ユーザが外部のコンピュータにインストールされたソフトウェアを用いることによって任意に作成することができる。記憶部90Aは、検出用治具70が支持台20のどこに取り付けられているかを記憶する。
第1検出部91は、平面視で押圧体66が検出用治具70と重なる第1位置H1(図6B参照)において、転写用ツール60を下降させて、転写用ツール60の一部と検出用治具70とが接触したときの転写用ツール60の上下方向の第1高さ位置を検出する。図6Aに示すように、転写用ツール60に押圧体66が取り付けられている場合には、転写用ツール60を下降させると、押圧体66(より詳細には下端66B)と検出用治具70(より詳細には接触部70B)とが接触する。このときの第1高さ位置は、例えば、支持台20の表面20Aからケース本体61の下面61Bまでの上下方向の長さZ1として算出される。第1検出部91は、第1モータ38、第2モータ42および第3モータ46を制御する。
第2検出部92は、平面視で押圧体66が検出用治具70と重ならずかつ平面視でケース本体61の少なくとも一部が検出用治具70と重なる第2位置H2(図7B参照)において、転写用ツール60を下降させて、転写用ツール60の一部と検出用治具70とが接触したときの転写用ツール60の上下方向の第2高さ位置を検出する。図7Aに示すように、転写用ツール60に押圧体66が取り付けられている場合には、転写用ツール60を下降させると、ケース本体61(より詳細には下面61B)と検出用治具70(より詳細には接触部70B)とが接触する。このときの第2高さ位置は、例えば、支持台20の表面20Aからケース本体61の下面61Bまでの上下方向の長さZ2として算出される。第2検出部92は、第1モータ38、第2モータ42および第3モータ46を制御する。
判断部95は、記憶部90Aに記憶されている基準長さLB(図2参照)と、第1検出部91によって検出された第1高さ位置および第2検出部92によって検出された第2高さ位置とに基づいて、押圧体66の有無を判断する。即ち、判断部95は、第1高さ位置と第2高さ位置との差の絶対値(例えば|Z1−Z2|)が基準長さLBと等しいかを判断する。判断部95は、第1高さ位置と第2高さ位置との差の絶対値が基準長さLBと等しい場合には、押圧体66が有ると判断する。一方、判断部95は、第1高さ位置と第2高さ位置との差の絶対値が基準長さLBと等しくない場合には、押圧体66が無いと判断する。例えば、図8に示すように、転写用ツール60に押圧体66が取り付けられていない合には、第1位置H1において転写用ツール60を下降させると、ケース本体61(より詳細には下面61B)と検出用治具70(より詳細には接触部70B)とが接触する。即ち、このときの第1高さ位置は第2高さ位置と等しくなり、第1高さ位置と第2高さ位置との差の絶対値は基準長さLBと等しくない。
通知部96は、判断部95によって押圧体66が無いと判断されたときに、押圧体66がケース本体61に取り付けられていないことを通知する。なお、通知方法は特に限定されず、例えば、視覚的な表示、音声等による通知が挙げられる。本実施形態では、通知部96は、筐体11の外部に設けられた図示しないLEDライト通じて視覚的にユーザに対する通知を行う。
光制御部97は、レーザー発振器62からのレーザー光の照射を制御する。光制御部97は、判断部95によって押圧体66が有ると判断されたときには、レーザー発振器62からレーザー光を照射可能に構成されている。光制御部97は、判断部95によって押圧体66が無いと判断されたときには、レーザー発振器62からレーザー光を照射不能に構成されている。
以上のように、本実施形態の箔転写装置10によれば、押圧体66の有無を検出するために用いられる検出用治具70は、支持台20に取り付けられたときに平面視で転写領域TAと重なる。このため、被転写物80のうち検出用治具70の下方に位置する部分には熱転写箔82を転写することができない。ところが、検出用治具70は、支持台20に着脱自在に構成されているため、被転写物80の形状や箔画像のデータに応じて支持台20の任意の位置に検出用治具70を取り付けることができる。これにより、例えば、被転写物80のうち熱転写箔82が転写されない部分の上方に検出用治具70を配置することができる。このように、検出用治具70の位置を変更することができるため、被転写物80の配置の自由度を向上させることができる。
本実施形態の箔転写装置10によれば、検出用治具70は、転写領域TAの四隅のうちの一隅でありかつ転写用ツール60が待機位置HPに位置するときに平面視で転写用ツール60と重なる第1検出位置TP1と、転写領域TAの四隅のうちの他の一隅でありかつ第1検出位置TP1の対角に位置する第2検出位置TP2に着脱自在に構成されている。検出用治具70を第1検出位置TP1に取り付けた場合には、第1検出位置TP1と待機位置HPとが比較的近いため、押圧体66の有無を検出した後に直ちに熱転写箔82の転写を開始することができる。一方、検出用治具70を第2検出位置TP2に取り付けた場合には、第1検出位置TP1に取り付けた場合と比較して転写領域TAを広く使用することができるため、被転写物80の配置の自由度がより高い。
本実施形態の箔転写装置10によれば、制御装置90は、判断部95によって押圧体66が無いと判断されたときに、押圧体66がケース本体61に取り付けられていないことを通知する通知部96を有している。これにより、ユーザは押圧体66がケース本体61に取り付けられていないことを認識することができる。
本実施形態の箔転写装置10によれば、光制御部97は、判断部95によって押圧体66が有ると判断されたときには、レーザー発振器62からレーザー光を照射可能に構成され、かつ、判断部95によって押圧体66が無いと判断されたときには、レーザー発振器62からレーザー光を照射不能に構成されている。これにより、押圧体66がケース本体61に取り付けられていない場合には、レーザー発振器62から光が照射されることが防止される。
<第2実施形態>
図10および図11に示すように、箔転写装置10は、転写用ツール60の押圧体66の有無を検出するために用いられる補助支持台170を備えている。補助支持台170は、検出用治具の一例である。補助支持台170は、支持台20に着脱自在に構成されている。補助支持台170は、支持台20の表面20Aに取り付けられる。補助支持台170は、被転写物80が載置される載置面170Aを有する。載置面170Aは、支持台20より上方に位置する。即ち、補助支持台170は、被転写物80を転写用ツール60に対して上下方向により近づけるため(かさ上げ用)に用いられる。
図10および図11に示すように、箔転写装置10は、転写用ツール60の押圧体66の有無を検出するために用いられる補助支持台170を備えている。補助支持台170は、検出用治具の一例である。補助支持台170は、支持台20に着脱自在に構成されている。補助支持台170は、支持台20の表面20Aに取り付けられる。補助支持台170は、被転写物80が載置される載置面170Aを有する。載置面170Aは、支持台20より上方に位置する。即ち、補助支持台170は、被転写物80を転写用ツール60に対して上下方向により近づけるため(かさ上げ用)に用いられる。
図10および図11に示す例では、転写領域TAの四隅のうちの左奥の隅である第3検出位置TP3に第1切り欠き部172Aが形成され、転写領域TAの四隅のうちの右手前の隅である第4検出位置TP4に第2切り欠き部172Bが形成されている。第1切り欠き部172Aおよび第2切り欠き部172Bは、載置面170Aに形成されている。本実施形態の第1切り欠き部172Aおよび第2切り欠き部172Bは、載置面170Aを上下方向に貫通する貫通孔である。第1切り欠き部172Aおよび第2切り欠き部172Bは、押圧体66の直径よりも大きくかつケース本体61の下面61Bの直径よりも小さい。第3検出位置TP3とは、転写用ツール60が待機位置HP(図1参照)に位置するときに平面視で転写用ツール60と重なる領域である。第3検出位置TP3は、例えば、第1検出位置TP1(図4参照)と同じ位置である。第4検出位置TP4とは、第3検出位置TP3の対角に位置する。第4検出位置TP4は、例えば、第2検出位置TP2(図4参照)と同じ位置である。図10に示すように、補助支持台170は、支持台20に取り付けられたときに平面視で転写領域TAと重なる。
図10および図11に示す例では、第3検出位置TP3および第4検出位置TP4に第1切り欠き部172Aおよび第2切り欠き部172Bがそれぞれ形成されているが、第1切り欠き部172Aおよび第2切り欠き部172Bの形成位置は、これらに限定されない。例えば、転写領域TAの四隅のうちの右奥の隅や左手前の隅に形成されていてもよい。また、転写領域TAの四隅を除く各辺上に形成されていてもよい。また、切り欠き部は、補助支持台170に少なくとも1つ形成されていればよい。
第3検出部93は、平面視で押圧体66が補助支持台170の載置面170Aと重なる第3位置H3(図12B参照)において、転写用ツール60を下降させて、転写用ツール60の一部と補助支持台170とが接触したときの転写用ツール60の上下方向の第3高さ位置を検出する。第3位置H3は、例えば、第1位置H1(図6B参照)と同じ位置である。図12Aに示すように、転写用ツール60に押圧体66が取り付けられている場合には、転写用ツール60を下降させると、押圧体66(より詳細には下端66B)と補助支持台170(より詳細には載置面170A)とが接触する。このときの第3高さ位置は、例えば、支持台20の表面20Aからケース本体61の下面61Bまでの上下方向の長さZ3として算出される。第3検出部93は、第1モータ38、第2モータ42および第3モータ46を制御する。
第4検出部94は、平面視で押圧体66が補助支持台170の載置面170Aと重ならずかつ平面視でケース本体61の少なくとも一部が載置面170Aと重なる第4位置H4(図13B参照)において、転写用ツール60を下降させて、転写用ツール60の一部と補助支持台170とが接触したときの転写用ツール60の上下方向の第4高さ位置を検出する。第4位置H4は、例えば、第2位置H2(図7B参照)と同じ位置である。図13Aに示すように、転写用ツール60に押圧体66が取り付けられている場合には、転写用ツール60を下降させると、ケース本体61(より詳細には下面61B)と補助支持台170(より詳細には載置面170A)とが接触する。このときの第4高さ位置は、例えば、支持台20の表面20Aからケース本体61の下面61Bまでの上下方向の長さZ4として算出される。第4検出部94は、第1モータ38、第2モータ42および第3モータ46を制御する。
判断部95は、記憶部90Aに記憶されている基準長さLB(図2参照)と、第3検出部93によって検出された第3高さ位置および第4検出部94によって検出された第4高さ位置とに基づいて、押圧体66の有無を判断する。即ち、判断部95は、第3高さ位置と第4高さ位置との差の絶対値(例えば|Z3−Z4|)が基準長さLBと等しいかを判断する。判断部95は、第3高さ位置と第4高さ位置との差の絶対値が基準長さLBと等しい場合には、押圧体66が有ると判断する。一方、判断部95は、第3高さ位置と第4高さ位置との差の絶対値が基準長さLBと等しくない場合には、押圧体66が無いと判断する。例えば、図14に示すように、転写用ツール60に押圧体66が取り付けられていない合には、第3位置H3において転写用ツール60を下降させると、ケース本体61(より詳細には下面61B)と補助支持台170(より詳細には載置面170A)とが接触する。即ち、このときの第3高さ位置は第4高さ位置と等しくなり、第3高さ位置と第4高さ位置との差の絶対値は基準長さLBと等しくない。
本実施形態の箔転写装置10によれば、補助支持台170は、検出用治具として用いられる。補助支持台170は、被転写物80が載置される面でありかつ支持台20に取り付けられたときに支持台20より上方に位置する載置面170Aを有する。補助支持台170は、載置面170Aに形成された第1切り欠き部172Aおよび第2切り欠き部172Bを有する。補助支持台170を用いることによって、被転写物80をより転写用ツール60に近づけることができる。即ち、被転写物80が比較的薄い部材(即ち上下方向の長さが短い)部材であっても、熱転写箔82を転写することができる。また、補助支持台170に第1切り欠き部172Aおよび第2切り欠き部172Bを設けることによって、上述のように押圧体66の有無を検出することができる。
本実施形態の箔転写装置10によれば、第1切り欠き部172Aおよび第2切り欠き部172Bは、載置面170Aを上下方向に貫通する貫通孔である。このように、補助支持台170に貫通孔を形成することで、押圧体66の有無を容易に検出することができる。
本実施形態の箔転写装置10によれば、切り欠き部は、転写領域TAの四隅のうちの一隅でありかつ転写用ツール60が待機位置HPに位置するときに平面視で転写用ツール60と重なる第3検出位置TP3に形成された第1切り欠き部172Aと、転写領域TAの四隅のうちの他の一隅でありかつ第3検出位置TP3の対角に位置する第4検出位置TP4に形成された第2切り欠き部172Bとを含む。第1切り欠き部172Aを用いて押圧体66の有無を検出する場合には、第3検出位置TP3と待機位置HPとが比較的近いため、押圧体66の有無を検出した後に直ちに熱転写箔82の転写を開始することができる。一方、第2切り欠き部172Bを用いて押圧体66の有無を検出する場合には、第1切り欠き部172Aを用いた場合と比較して転写領域TAを広く使用することができるため、被転写物80の配置の自由度がより高い。
上述した実施形態では、第1切り欠き部172Aおよび第2切り欠き部172Bは、載置面170Aを上下方向に貫通する貫通孔であったが、これに限定されない。第1切り欠き部172Aおよび第2切り欠き部172Bは、載置面170Aから下方に凹む凹部であってもよい。なお、凹部が形成される場合には、その深さは押圧体66の突出量よりも深い。即ち、第4位置H4において転写用ツール60が下降して押圧体66が凹部に入るときに、押圧体66と凹部とは接触しない。
以上、本発明の好適な実施形態について説明した。しかし、上述の各実施形態は例示に過ぎず、本発明は他の種々の形態で実施することができる。
図15に示すように、支持台20に着脱可能な検出用治具として、コマ型の検出用治具270であってもよい。また、図16に示すように、支持台20に着脱可能な検出用治具として、円柱型の検出用治具370であってもよい。
10 箔転写装置
20 支持台
30 押圧体移動機構
60 転写用ツール
61 ケース本体
66 押圧体
70 検出用治具
90 制御装置
90A 記憶部
91 第1検出部
92 第2検出部
95 判断部
20 支持台
30 押圧体移動機構
60 転写用ツール
61 ケース本体
66 押圧体
70 検出用治具
90 制御装置
90A 記憶部
91 第1検出部
92 第2検出部
95 判断部
Claims (7)
- 被転写物を載置可能に形成された支持台と、
ケース本体と、前記被転写物および前記被転写物上に配置された熱転写箔を押圧すると共に前記熱転写箔に向けて光を照射可能に構成されかつ前記ケース本体の下面から下方に向けて突出する押圧体とを有し、平面視で矩形状に形成された転写領域内を移動可能に構成された転写用ツールと、
前記転写用ツールを前記支持台に対して相対的に移動させる移動機構と、
前記支持台に着脱自在に構成され、前記支持台に取り付けられたときに平面視で前記転写領域と重なり、前記押圧体の有無を検出するために用いられる検出用治具と、
前記転写用ツールおよび前記移動機構を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、
前記押圧体の下端から前記ケース本体の下面までの上下方向の長さである基準長さを記憶する記憶部と、
平面視で前記押圧体が前記検出用治具と重なる第1位置において、前記転写用ツールを下降させて、前記転写用ツールの一部と前記検出用治具とが接触したときの前記転写用ツールの上下方向の第1高さ位置を検出する第1検出部と、
平面視で前記押圧体が前記検出用治具と重ならずかつ平面視で前記ケース本体の少なくとも一部が前記検出用治具と重なる第2位置において、前記転写用ツールを下降させて、前記転写用ツールの一部と前記検出用治具とが接触したときの前記転写用ツールの上下方向の第2高さ位置を検出する第2検出部と、
前記基準長さと、前記第1高さ位置および前記第2高さ位置とに基づいて、前記押圧体の有無を判断する判断部と、を備えている、箔転写装置。 - 前記検出用治具は、前記転写領域の四隅のうちの一隅でありかつ前記転写用ツールが待機位置に位置するときに平面視で前記転写用ツールと重なる第1検出位置と、前記転写領域の四隅のうちの他の一隅でありかつ前記第1検出位置の対角に位置する第2検出位置に着脱自在に構成されている、請求項1に記載の箔転写装置。
- 前記検出用治具は、前記被転写物が載置される面でありかつ前記支持台に取り付けられたときに前記支持台より上方に位置する載置面を有する補助支持台であり、
前記補助支持台は、前記載置面に形成された切り欠き部を有し、
前記制御装置は、
平面視で前記押圧体が前記載置面と重なる第3位置において、前記転写用ツールを下降させて、前記転写用ツールの一部と前記補助支持台とが接触したときの前記転写用ツールの上下方向の第3高さ位置を検出する第3検出部と、
平面視で前記押圧体が前記切り欠き部と重なりかつ平面視で前記ケース本体の少なくとも一部が前記載置面と重なる第4位置において、前記転写用ツールを下降させて、前記転写用ツールの一部と前記補助支持台とが接触したときの前記転写用ツールの上下方向の第4高さ位置を検出する第4検出部と、を有し、
前記判断部は、前記基準長さと、前記第3高さ位置および前記第4高さ位置とに基づいて、前記押圧体の有無を判断する、請求項1に記載の箔転写装置。 - 前記切り欠き部は、前記載置面を上下方向に貫通する貫通孔または前記載置面から下方に凹む凹部である、請求項3に記載の箔転写装置。
- 前記切り欠き部は、前記転写領域の四隅のうちの一隅でありかつ前記転写用ツールが待機位置に位置するときに平面視で前記転写用ツールと重なる第3検出位置に形成された第1切り欠き部と、前記転写領域の四隅のうちの他の一隅でありかつ前記第3検出位置の対角に位置する第4検出位置に形成された第2切り欠き部とを含む、請求項3または4に記載の箔転写装置。
- 前記制御装置は、前記判断部によって前記押圧体が無いと判断されたときに、前記押圧体が前記ケース本体に取り付けられていないことを通知する通知部を有している、請求項1から5のいずれか一項に記載の箔転写装置。
- 前記転写用ツールは、前記押圧体を介して前記熱転写箔に向けて光を照射する光源を有し、
前記制御装置は、前記光源からの光の照射を制御する光制御部を有し、
前記光制御部は、前記判断部によって前記押圧体が有ると判断されたときには、前記光源から光を照射可能に構成され、かつ、前記判断部によって前記押圧体が無いと判断されたときには、前記光源から光を照射不能に構成されている、請求項1から6のいずれか一項に記載の箔転写装置。
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2020
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