JP2021040022A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2021040022A5
JP2021040022A5 JP2019160218A JP2019160218A JP2021040022A5 JP 2021040022 A5 JP2021040022 A5 JP 2021040022A5 JP 2019160218 A JP2019160218 A JP 2019160218A JP 2019160218 A JP2019160218 A JP 2019160218A JP 2021040022 A5 JP2021040022 A5 JP 2021040022A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
device surface
polishing
cleaning
cleaning mechanism
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019160218A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7406943B2 (ja
JP2021040022A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2019160218A priority Critical patent/JP7406943B2/ja
Priority claimed from JP2019160218A external-priority patent/JP7406943B2/ja
Priority to PCT/JP2020/023328 priority patent/WO2021044694A1/ja
Priority to TW109123683A priority patent/TW202112496A/zh
Publication of JP2021040022A publication Critical patent/JP2021040022A/ja
Publication of JP2021040022A5 publication Critical patent/JP2021040022A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7406943B2 publication Critical patent/JP7406943B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2019160218A 2019-09-03 2019-09-03 研磨装置、研磨方法、および基板処理装置 Active JP7406943B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019160218A JP7406943B2 (ja) 2019-09-03 2019-09-03 研磨装置、研磨方法、および基板処理装置
PCT/JP2020/023328 WO2021044694A1 (ja) 2019-09-03 2020-06-15 研磨装置、研磨方法、および基板処理装置
TW109123683A TW202112496A (zh) 2019-09-03 2020-07-14 研磨裝置、研磨方法、及基板處理裝置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019160218A JP7406943B2 (ja) 2019-09-03 2019-09-03 研磨装置、研磨方法、および基板処理装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2021040022A JP2021040022A (ja) 2021-03-11
JP2021040022A5 true JP2021040022A5 (enExample) 2022-08-29
JP7406943B2 JP7406943B2 (ja) 2023-12-28

Family

ID=74847361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019160218A Active JP7406943B2 (ja) 2019-09-03 2019-09-03 研磨装置、研磨方法、および基板処理装置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7406943B2 (enExample)
TW (1) TW202112496A (enExample)
WO (1) WO2021044694A1 (enExample)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023111564A (ja) * 2022-01-31 2023-08-10 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理方法および基板処理装置
JP2024090389A (ja) * 2022-12-23 2024-07-04 株式会社荏原製作所 基板処理装置、および基板処理方法
CN117260515B (zh) * 2023-11-22 2024-02-13 北京特思迪半导体设备有限公司 抛光机的动态联动控制方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004273961A (ja) * 2003-03-12 2004-09-30 Ebara Corp 金属配線形成基板の洗浄処理装置
JP4507967B2 (ja) * 2005-04-20 2010-07-21 セイコーエプソン株式会社 基板の洗浄装置
JP6210935B2 (ja) * 2013-11-13 2017-10-11 東京エレクトロン株式会社 研磨洗浄機構、基板処理装置及び基板処理方法
JP2017108113A (ja) * 2015-11-27 2017-06-15 株式会社荏原製作所 基板処理装置および基板処理方法ならびに基板処理装置の制御プログラム
JP7148349B2 (ja) * 2017-11-14 2022-10-05 株式会社荏原製作所 基板処理装置および基板処理方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100789358B1 (ko) 연마장치의 연마면 세정방법 및 세정장치
KR102033791B1 (ko) 기판 세정 방법 및 기판 세정 장치
JP2021040022A5 (enExample)
JP2002043267A (ja) 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び基板処理装置
CN207681142U (zh) 一种玻璃清洗机
CN106312780B (zh) 抛光设备
TWI604509B (zh) 基板處理裝置及基板處理裝置之控制方法
CN101844328A (zh) 用于清洗研磨布的装置和方法
JP7534142B2 (ja) ドレッシング装置及び研磨装置
JP6449097B2 (ja) 基板処理方法及び基板処理装置並びに基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
KR20100050397A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 세정 방법
JP2001138211A5 (enExample)
JP2010052090A5 (enExample)
JPH10335283A (ja) 洗浄設備及び洗浄方法
JPH0555267B2 (enExample)
JP7406943B2 (ja) 研磨装置、研磨方法、および基板処理装置
JP2016055408A (ja) 研磨装置
JP2010083342A (ja) 無接触洗車方法
KR20080093540A (ko) 간이 세차장치
JP4126704B2 (ja) 洗浄装置
KR20060114994A (ko) 화학적 기계적 연마 장치의 컨디셔너 세정 장치 및 그 세정방법
EP2716373B1 (en) Methods for cleaning a contaminated surface
JP3720451B2 (ja) ポリッシング装置及びその運転方法
JPH10256199A (ja) 吸着支持面の洗浄装置
CN113118100B (zh) 一种晶圆清洗装置及清洗方法