JP2021005042A - 光位相変調器 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、本開示の技術を実現する実施形態について、図面を参照して説明する。なお、作用、機能が同じ働きを担う構成要素及び処理には、全図面を通して同じ符合を付与し、重複する説明を適宜省略する場合がある。
実施形態の光位相変調器1の構成を詳述することに先立ち、光位相変調器の原理について説明する。
〈梁部の構成〉
図1〜図3に戻り、実施形態の光位相変調器1では、梁部2Aは、可動部20と、固定部21、22とを有する。梁部2Bは、可動部23と、固定部24、25とを有する。
可動部20、23は、図1に示されるように、入射光60が入射する(透過しようとする)Z軸方向と交差するY軸方向に伸びる板状の部材である。可動部20、23は、図1及び図2に示されるように、相互に対峙する側面20A、23A(Y軸方向に沿う平面であるYZ平面に平行な面)に、金属膜M(例えば、金。以下、同じ。)が形成されている。可動部20は、図1及び図2に示されるように、固定電極部3Aの側面30Aと対峙する側面20Bにも、金属膜Mが形成されている。同様に、可動部23は、図1及び図2に示されるように、固定電極部3Bの側面31Aと対峙する側面23Bにも、金属膜Mが形成されている。
梁部2Aの固定部21、22は、図1から明らかであるように、梁部2Aの可動部20を両持ち形式で支持する。より具体的には、梁部2Aの固定部21は、梁部2Aの可動部20が、上記したように、X軸方向に変位することができるようにすべく、その一端が可動部20の一端を保持し、その他端が基板4(図2に図示。)に固定されている。梁部2Aの固定部22は、梁部2Aの固定部21と同様に、梁部2Aの可動部20が、X軸方向に変位することができるようにすべく、その一端が可動部20の他端を保持し、その他端が基板4(図2に図示。)に固定されている。
固定電極部3Aは、図1及び図2に示されるように、梁部2Aと対峙している。固定電極部3Aは、少なくとも、梁部2Aの側面20Bと対峙する側面30A(YZ平面に平行な面)に、金属膜Mが形成されている。
上記した機能を確保すべく、制御部5は、例えば、図1に示されるように、梁部2A及び固定電極部3Bに、電圧(電圧Vcnt、接地電圧GND)を印加する。当該電圧の印加のために、制御部5は、電源PS及びスイッチSWを有する。
図2に戻り、梁部2A、2Bの可動部20、23は、絶縁材料40(例えば、SiO2)から構成されている。可動部20、可動部23の表面には、金属膜Mとは異なる他の金属膜41(例えば、Cr)が被覆されている。
基板4は、図2に示されるように、入射光60を透過させるべく、例えば、ガラスで構成されている。
図1に示されるように、梁部2Aの可動部20、及び、梁2Bの可動部23について、Y軸方向(入射光60の透過方向であるZ軸方向と交差する方向)の長さは、可動部20、23がX軸方向(及び逆方向)に変位することを容易にすべく、X軸方向の長さより長いことが望ましい。
光位相変調器1の上面図である図3(A)に一例として示されるように、円状の光透過有効領域ARが、仮想的に存在する。光透過有効領域ARは、光位相変調器1へ照射される光のうち、移動部の変位によって位相変調の対象として有効な透過光の光束を規定する予め定めた領域である。例えば、光透過有効領域ARは、図4(A)〜(C)を用いて説明した、可動部20の側面20A及び可動部23の側面23AがX軸方向(及び逆方向の少なくとも一方向)に変位可能な範囲(空間)が、XY平面(入射光60の透過方向であるZ軸方向と交差する平面)に投影されていると定義される。換言すれば、可動部20、23は、入射光60が光透過有効領域ARに照射されるような位置に設けられている。
光位相変調器の上面図である図3(B)に示されるように、遮光板6の外形は、概ね矩形である。遮光板6には、穴arが設けられている。穴arの中心ccのXY座標上の位置は、光透過有効領域ARの中心CCのXY座標上の位置と一致する。穴arの半径は、固定領域AR1の半径の長さ以上であり、かつ、可動領域AR2の半径の長さ以下である。
〈梁部の変位〉
図5(A)〜(G)は、実施形態の光位相変調器の動作(詳細)を示す上面図である。図5(B)〜(G)の光位相変調器1における梁部2A、2Bの位置は、図5(A)の光位相変調器1における梁部2A、2Bの位置を基準とする。
梁部2A及び固定電極部3Bが、制御部5から電圧Vcnt及び接地電圧GNDの印加を何ら受けていないとき、又は基準電圧が印加されたとき、即ち、図5(A)に示されるように、梁部2A、2Bが静止しているとき、Y軸方向の中心線YCから梁部2Aの側面20Aまでの距離LAと、Y軸方向の中心線YCから梁2Bの側面23Aまでの距離LBとは同一である。換言すれば、梁部2A、2Bは、Y軸方向の中心線YCについて、線対称の位置にある。このとき、スリットSの幅は、W(=LA+LB)である。
制御部5によって、(1)梁部2Aと固定電極部3Aと間に、相互に引き合うための電圧差(第1の電圧差)が印加され、(2)梁部2Bと固定電極部3Bとの間に、相互に引き合うための電圧差(第2の電圧差)が印加され、(3)梁部2Aに印加される電圧と、梁部2Bに印加される電圧との間に、電圧差が無く、(4)第1の電圧差と第2の電圧差とが同一であるとき、梁部2Aと梁部2Bとは、相互に離間する方向に変位する。
制御部5によって、(1)梁部2Aと固定電極部3Aと間に、相互に引き合うための電圧差(第1の電圧差)が印加され、(2)梁部2Bと固定電極部3Bとの間に、相互に引き合うための電圧差(第2の電圧差)が印加され、(3)梁部2Aに印加される電圧と、梁部2Bに印加される電圧との間に、電圧差が無く、(4)第1の電圧差が第2の電圧差より大きいとき、梁部2Aと梁部2Bとは、相互に離間する方向に変位する。
制御部5によって、(1)梁部2Aと固定電極部3Aと間に、相互に引き合うための電圧差(第1の電圧差)が印加され、(2)梁部2Aと梁部2Bとの間に、相互に引き合うための電圧差(第2の電圧差)が印加され、(3)梁部2Bに印加される電圧と、固定電極部3Bに印加される電圧との間に、電圧差が無いとき、梁部2Aと梁部2Bとは、相互に同一の方向に変位する。
制御部5によって、(1)梁部2Aと固定電極部3Aと間に、相互に引き合うための電圧差(第1の電圧差)が印加され、(2)梁部2Aと梁部2Bとの間に、相互に引き合うための電圧差(第2の電圧差)が印加され、(3)梁部2Bに印加される電圧と、固定電極部3Bに印加される電圧との間に、電圧差が無く、(4)第1の電圧差が、第2の電圧差より大きいとき、梁部2Aと梁部2Bとは、相互に同一の方向に変位する。
制御部5によって、(1)梁部2Aと梁部2Bとの間に、相互に引き合うための電圧差(第1の電圧差)が印加され、(2)梁部2Bと固定電極部3Bとの間に、相互に引き合うための電圧差(第2の電圧差)が印加され、(3)梁部2Aに印加される電圧と、固定電極部3Aに印加される電圧との間に、電圧差が無いとき、梁部2Aのみが変位する。
制御部5によって、(1)梁部2Aと固定電極3Aとの間に、相互に引き合う電圧差が印加され、(3)梁部2Aに印加される電圧と、梁部2Bに印加される電圧との間に、電圧差が無く、(3)梁部2Bに印加される電圧と固定電極部3Bに印加される電圧との間に、電圧差が無いとき、梁部2Aのみが変位する。
上述の光位相変調器1を形成するため、すなわち、側壁に金属(Au)を有する両持ち梁構造の光位相変調器1を形成するための製造プロセスの一例について説明する。
図6に示すように、犠牲層としてSi、誘電体であるSiO2、電極のためのCrをスパッタにより成膜し、電子線描画装置により構造を描画する。表面をCrエッチング、反応性イオンエッチング(RIE)により構造状に成形した後、金属(Au)をスパッタにより覆うように成膜する。Arプラズマにより異方性エッチングすることで側壁に金属(Au)を残し、最後に犠牲層をXeF6ガスにより等方性にエッチングして両持ち梁を形成する。
実施形態の光位相変調器1では、上記構成とすることで、対峙するフィンの間隔を広げたり狭めたりすることが可能となり、透過する入射光60の透過率及び位相を容易に可変することができ、高い自由度で位相を変調可能な光位相変調器を提供することができる。
2A、2B:梁部
3A、3B:固定電極部
20、23:可動部
21、22、24、25:固定部
20A、20B、23A、23B、30A、31A:側面
S:スリット
4:基板
5:制御部
Claims (6)
- 光を透過する基板と、
前記光の透過方向に沿うように面方向が形成され、かつ少なくとも一方の面に金属膜が形成されて所定硬度の板状の可動部と、前記所定硬度より大きい硬度であり、前記可動部の少なくとも一部が前記光の透過方向と交差する方向に可動可能になるように前記可動部の両端部の各々を一端で保持し、かつ他端が前記基板に固定された固定部とを、各々の前記可動部の前記光の透過方向と交差する方向に可動可能な領域が重複しないように、各々の前記金属膜の形成面が所定間隔を隔てて対向するように配置して形成される複数のフィンと、
前記複数のフィンのうちの少なくとも1つのフィンに電圧印加して、前記光が透過する方向と交差する方向に前記複数のフィンが接近又は離間するように制御する電圧印加制御部と、
を含む光位相変調器。 - 前記複数のフィンは、各々の前記可動可能な領域を含む空間を前記光の透過方向と交差する方向の面に投影した領域を光透過有効領域とし、前記光透過有効領域へ前記光が照射されるように配置された
請求項1に記載の光位相変調器。 - 前記複数のフィンが対向して配置された複数の前記金属膜の形成面により形成される空間を含む固定領域と、前記可動部の前記所定硬度及び前記固定部の前記所定硬度より大きい硬度に基づいて定められる前記可動部の可動領域と、を前記光の透過方向と交差する方向の面に投影した領域を含む光透過有効領域について、前記複数のフィンに向う光を抑制すること、及び、前記複数のフィンからの光を抑制することのいずれかを行う抑制部
を含む請求項1又は請求項2に記載の光位相変調器。 - 前記可動部は、前記光の透過方向に沿う方向の長さより前記光の透過方向と交差する方向の長さを長くした
請求項1から請求項3の何れか1項に記載の光位相変調器。 - 前記可動部の前記光の透過方向と交差する方向の長さは、45以上μmでかつ60μm以下の長さに形成される
請求項1から請求項4の何れか1項に記載の光位相変調器。 - 前記金属膜は、金を含む金属により形成された膜である
請求項1から請求項5の何れか1項に記載の光位相変調器。
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