JP2021004793A - 光散乱検出装置および光散乱検出方法 - Google Patents
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 130
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 title claims abstract description 120
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 58
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims abstract description 39
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 34
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 13
- 238000000569 multi-angle light scattering Methods 0.000 description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 3
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 3
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000001542 size-exclusion chromatography Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001641 gel filtration chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001448 refractive index detection Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
Images
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume, or surface-area of porous materials
- G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
- G01N15/0205—Investigating particle size or size distribution by optical means, e.g. by light scattering, diffraction, holography or imaging
- G01N15/0211—Investigating a scatter or diffraction pattern
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/49—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid
- G01N21/51—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid inside a container, e.g. in an ampoule
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
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- G01N2021/4711—Multiangle measurement
Abstract
Description
<第1実施形態>
図1は、本発明の光散乱検出装置の第1実施形態を示す平面図である。図2は、図1に示す光散乱検出装置を用いた場合の各配置角度における各検出器が受光する散乱光強度の相対値を示すグラフである。図3は、本発明の光散乱検出方法の工程順番を示すフローチャートである。なお、以下では、説明の都合上、水平方向のうちの一方向を「X軸方向」といい、水平方向のうちのX軸方向と直交する方向を「Y軸方向」といい、鉛直方向、すなわち、X軸方向とY軸方向とに直交する方向を「Z軸方向」という。また、各軸方向の矢印側を「正側」といい、矢印と反対側を「負側」ということがある。また、図2、図6、図9、図12に示すグラフは、いずれも、セル中心(x=0)で発生する散乱光を受光する光強度を1とし、受光する散乱光強度相対値のセル位置依存性(x依存性)を計算した結果である。
液体試料封入工程では、試料チャンネル22内に、液体試料Qを封入する。この封入作業は、例えば、封入装置によって自動的に行われてもよいし、作業者によって手作業で行われてもよい。
なお、光散乱検出装置1では、集光レンズ6に代えて、複数の複合レンズや集光ミラーを組み合わせて構成した集光光学系を配置してもよい。この集光光学系でも、集光レンズ6と同様に、試料セル2に入射するコヒーレント光L1を収束することができる。
また、検出器4としては、本実施形態ではフォトダイオードを採用しているが、これに限定されず、例えば、2次元CMOS等のアレイ検出器を採用してもよい。
散乱光受光工程では、散乱光L2を試料セル2の中心軸O21をXY平面上で中心とする同一の円周上に配置された複数の検出器4によって受光することができる。
そして、散乱光受光工程は、試料セル2と各検出器4の間に配される複数のアパーチャ5の開口幅W51によって、各検出器4に入射する散乱光L2を制限する散乱光制限工程を含んでいる(図3参照)。
図4は、本発明の光散乱検出装置の第2実施形態を示す平面図である。図5は、図2に示す光散乱検出装置を移動機構停止状態で用いた場合の各配置角度における各検出器が受光する散乱光強度の相対値を示すグラフである。図6は、図2に示す光散乱検出装置を移動機構作動状態で用いた場合の各配置角度における各検出器が受光する散乱光強度の相対値を示すグラフである。
以下、これらの図を参照して本発明の光散乱検出装置および光散乱検出方法の第2実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
本実施形態は、第1のアパーチャ板を移動させる移動機構を備えること以外は前記第1実施形態と同様である。
移動機構71は、第1のアパーチャ板5A−1に連結され、例えば、モータ、ボールねじ、リニアガイド等で構成されている。この移動機構71は、第1のアパーチャ板5A−1を、第2のアパーチャ板5A−2に対して平行に、かつ水平方向、すなわち、試料セル2の外周面211と、検出器4Aに向かう散乱光L2の光軸との交点における外周面211上の接線方向に移動させることができる。
制御部72は、記憶部73から分析対象となる液体試料Q中の溶媒の屈折率情報を抽出する。そして、制御部72は、抽出した溶媒の屈折率情報に基づいて、移動機構71を作動させて、第1のアパーチャ板5A−1の移動量(移動距離)を制御する。
なお、散乱光制限工程では、液体試料Q中の溶媒の屈折率情報に基づいて、第1のアパーチャ板5A−1を、第2のアパーチャ板5A−2に対して平行に、かつ水平方向に移動させることができる。
図7は、本発明の光散乱検出装置の第3実施形態を示す平面図である。
以下、この図を参照して本発明の光散乱検出装置および光散乱検出方法の第3実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
本実施形態は、移動ユニットによる移動対象が異なること以外は前記第2実施形態と同様である。
なお、散乱光制限工程では、液体試料Q中の溶媒の屈折率情報に基づいて、第2のアパーチャ板5A−2および検出器4Aを、第1のアパーチャ板5A−1に対して平行に、かつ水平方向に移動させることができる。
図8は、本発明の光散乱検出装置の第4実施形態を示す平面図である。図9は、図8に示す光散乱検出装置を用いた場合の各配置角度における各検出器が受光する散乱光強度の相対値を示すグラフである。
以下、これらの図を参照して本発明の光散乱検出装置および光散乱検出方法の第4実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
本実施形態は、移動ユニットに代えて、回動ユニットを備えること以外は前記第2実施形態と同様である。
光線調整部材84は、回動軸O84回りに回動することにより、第1のアパーチャ板5A−1から第2のアパーチャ板5A−2に向かう散乱光L2(光線)の位置を調整することができる。また、光線調整部材84が、平行平板ガラスからなる。これにより、光線調整部材84を簡単な構成とすることができ、よって、例えば、光線調整部材84の製造コストを抑えることができる。
制御部82は、記憶部83から分析対象となる液体試料Q中の溶媒の屈折率情報を抽出する。そして、制御部82は、抽出した溶媒の屈折率情報に基づいて、回動機構81を作動させて、光線調整部材84の回動量(回動角度)を制御する。
なお、散乱光制限工程では、液体試料Q中の溶媒の屈折率情報に基づいて、光線調整部材を水平方向に回動させることができる。
上述した複数の例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
液体試料中の微粒子を検出するための光散乱検出装置であって、
前記液体試料を保持する透明な試料セルと、
前記試料セルにコヒーレント光を照射する光源と、
前記試料セルから周囲に異なる散乱角を以て散乱する散乱光を受光する複数の検出器と、
前記試料セルと前記各検出器の間に配され、開口幅によって前記検出器に入射する前記散乱光を制限する複数のアパーチャと、
を備え、
前記試料セルは、該試料セルを直線的に貫くように形成され、前記液体試料が封入された試料チャンネルを有し、
前記光源は、前記コヒーレント光が前記試料チャンネルの一端側から入射して前記試料チャンネル内を通過するように配され、
前記複数の検出器は、鉛直方向に延びる前記試料セルの中心軸を中心とする同一の円周上に配されており、
前記各アパーチャの開口幅は、前記試料セルへの前記コヒーレント光の入射方向に対する配置角度が90°のところで最大となり、配置角度が90°から離れるにつれて小さくなる。
前記各アパーチャの開口幅は、前記試料セルの中心軸から各検出器までの距離と、各検出器の配置角度の正弦値と、を乗じた値である。
前記各アパーチャは、前記試料セル側に配置される第1のアパーチャ板と、前記検出器側に配置される第2のアパーチャ板と、を有する。
前記第1のアパーチャ板を、前記第2のアパーチャ板に対して平行に、かつ水平方向に移動させる移動機構を備える。
前記移動機構は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記第1のアパーチャ板を移動させる。
前記第2のアパーチャ板及び前記検出器を、前記第1のアパーチャ板に対して平行に、かつ水平方向に移動させる移動機構を備える。
前記移動機構は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記第2のアパーチャ板及び前記検出器を移動させる。
前記各アパーチャは、
前記第1のアパーチャ板と前記第2のアパーチャ板との間に配置され、前記第1のアパーチャ板から前記第2のアパーチャ板に向かう光線の位置を調整する光線調整部材と、
前記光線調整部材を、水平方向に回動させる回動機構と、
を有する。
前記回動機構は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記光線調整部材を回動させる。
前記光線調整部材が、平行平板ガラスからなる。
液体試料中の微粒子を検出するための光散乱検出方法であって、
前記液体試料を保持する透明な試料セルを直線的に貫くように形成された試料チャンネル内に、前記液体試料を封入する工程と、
光源からのコヒーレント光が前記試料チャンネル内を通過するように、該コヒーレント光を前記試料チャンネルの一端側から照射する工程と、
前記試料セルから周囲に異なる散乱角を以て散乱する散乱光を、鉛直方向に延びる前記試料セルの中心軸を中心とする同一の円周上に配置された複数の検出器によって受光する工程と、
を含み、
前記散乱光を受光する工程は、前記試料セルと前記各検出器の間に配される複数のアパーチャの開口幅によって、前記各検出器に入射する前記散乱光を制限する工程を含み、
前記各アパーチャの開口幅は、前記試料セルへの前記コヒーレント光の入射方向に対する配置角度が90°のところで最大となり、配置角度が90°から離れるにつれて小さくなる。
前記各アパーチャの開口幅が、前記試料セルの中心軸から各検出器までの距離と、各検出器の配置角度の正弦値と、を乗じた値である。
前記各アパーチャが、前記試料セル側に配置される第1のアパーチャ板と、前記検出器側に配置される第2のアパーチャ板と、を有する。
前記散乱光を制限する工程は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記第1のアパーチャ板を、前記第2のアパーチャ板に対して平行に、かつ水平方向に移動させる。
前記散乱光を制限する工程は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記第2のアパーチャ板及び前記検出器を、前記第1のアパーチャ板に対して平行に、かつ水平方向に移動させる。
前記各アパーチャは、
前記第1のアパーチャ板と前記第2のアパーチャ板との間に配置され、前記第1のアパーチャ板から前記第2のアパーチャ板に向かう光線の位置を調整する光線調整部材を有し、
前記散乱光を制限する工程は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記光線調整部材を、水平方向に回動させる。
前記光線調整部材が、平行平板ガラスからなる。
2…試料セル
21…円柱状部
211…外周面
22…試料チャンネル
221…一端
222…他端
3…光源
4、4A、4B…検出器
5…アパーチャ
5A−1、5B−1…第1のアパーチャ
5A−2、5B−2…第2のアパーチャ
51…開口
6…集光レンズ
61…凸面
62…平面
7A、7B…移動ユニット
71…移動機構
72…制御部
73…記憶部
74…ベース
8A、8B…回動ユニット
81…回動機構
82…制御部
83…記憶部
84…光線調整部材
1000…多角度光散乱検出装置
1001…透孔
1002…セル
1003…光源
1004、1004A、1004B…検知器
1005…開口部
1006…アパーチャ
1006A−1、1006B−1…第1のアパーチャ
1006A−2、1006B−2…第2のアパーチャ
1007…集光レンズ
BM…ビーム
L1…コヒーレント光
L2…散乱光
O21…中心軸
O84…回動軸
Q…液体試料
R…半径
W51…開口幅
θ、θ1、θ2…配置角度
Claims (17)
- 液体試料中の微粒子を検出するための光散乱検出装置であって、
前記液体試料を保持する透明な試料セルと、
前記試料セルにコヒーレント光を照射する光源と、
前記試料セルから周囲に異なる散乱角を以て散乱する散乱光を受光する複数の検出器と、
前記試料セルと前記各検出器の間に配され、開口幅によって前記検出器に入射する前記散乱光を制限する複数のアパーチャと、
を備え、
前記試料セルは、該試料セルを直線的に貫くように形成され、前記液体試料が封入された試料チャンネルを有し、
前記光源は、前記コヒーレント光が前記試料チャンネルの一端側から入射して前記試料チャンネル内を通過するように配され、
前記複数の検出器は、鉛直方向に延びる前記試料セルの中心軸を中心とする同一の円周上に配されており、
前記複数の検出器は、前記試料セルへの前記コヒーレント光の入射方向に対する角度が90°の位置を基準位置として、前記基準位置により近い位置に配置された第1検出器と、前記基準位置により遠い位置に配置された第2検出器とを含み、
前記第1検出器のアパーチャの開口幅は、前記第2検出器のアパーチャの開口幅よりも大きい、光散乱検出装置。 - 前記各アパーチャの開口幅は、前記試料セルの中心軸から各検出器までの距離と、各検出器の配置角度の正弦値と、を乗じた値である請求項1に記載の光散乱検出装置。
- 前記各アパーチャは、前記試料セル側に配置される第1のアパーチャ板と、前記検出器側に配置される第2のアパーチャ板と、を有する請求項1又は請求項2に記載の光散乱検出装置。
- 前記第1のアパーチャ板を、前記第2のアパーチャ板に対して平行に、かつ水平方向に移動させる移動機構を備える請求項3に記載の光散乱検出装置。
- 前記移動機構は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記第1のアパーチャ板を移動させる請求項4に記載の光散乱検出装置。
- 前記第2のアパーチャ板および前記検出器を、前記第1のアパーチャ板に対して平行に、かつ水平方向に移動させる移動機構を備える請求項3に記載の光散乱検出装置。
- 前記移動機構は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記第2のアパーチャ板および前記検出器を移動させる請求項6に記載の光散乱検出装置。
- 前記各アパーチャは、
前記第1のアパーチャ板と前記第2のアパーチャ板との間に配置され、前記第1のアパーチャ板から前記第2のアパーチャ板に向かう光線の位置を調整する光線調整部材と、
前記光線調整部材を、水平方向に回動させる回動機構と、
を有する請求項3に記載の光散乱検出装置。 - 前記回動機構は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記光線調整部材を回動させる請求項8に記載の光散乱検出装置。
- 前記光線調整部材が、平行平板ガラスからなる請求項8又は請求項9に記載の光散乱検出装置。
- 液体試料中の微粒子を検出するための光散乱検出方法であって、
前記液体試料を保持する透明な試料セルを直線的に貫くように形成された試料チャンネル内に、前記液体試料を封入する工程と、
光源からのコヒーレント光が前記試料チャンネル内を通過するように、該コヒーレント光を前記試料チャンネルの一端側から照射する工程と、
前記試料セルから周囲に異なる散乱角を以て散乱する散乱光を、鉛直方向に延びる前記試料セルの中心軸を中心とする同一の円周上に配置された複数の検出器によって受光する工程と、
を含み、
前記散乱光を受光する工程は、前記試料セルと前記各検出器の間に配される複数のアパーチャの開口幅によって、前記各検出器に入射する前記散乱光を制限する工程を含み、
前記複数の検出器は、前記試料セルへの前記コヒーレント光の入射方向に対する角度が90°の位置を基準位置として、前記基準位置により近い位置に配置された第1検出器と、前記基準位置により遠い位置に配置された第2検出器とを含み、
前記第1検出器のアパーチャの開口幅は、前記第2検出器のアパーチャの開口幅よりも大きい、光散乱検出方法。 - 前記各アパーチャの開口幅が、前記試料セルの中心軸から各検出器までの距離と、各検出器の配置角度の正弦値と、を乗じた値である請求項11に記載の光散乱検出方法。
- 前記各アパーチャが、前記試料セル側に配置される第1のアパーチャ板と、前記検出器側に配置される第2のアパーチャ板と、を有する請求項11又は請求項12に記載の光散乱検出方法。
- 前記散乱光を制限する工程は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記第1のアパーチャ板を、前記第2のアパーチャ板に対して平行に、かつ水平方向に移動させる請求項13に記載の光散乱検出方法。
- 前記散乱光を制限する工程は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記第2のアパーチャ板および前記検出器を、前記第1のアパーチャ板に対して平行に、かつ水平方向に移動させる請求項13に記載の光散乱検出方法。
- 前記各アパーチャは、
前記第1のアパーチャ板と前記第2のアパーチャ板との間に配置され、前記第1のアパーチャ板から前記第2のアパーチャ板に向かう光線の位置を調整する光線調整部材を有し、
前記散乱光を制限する工程は、前記液体試料中の溶媒の屈折率情報に基づいて、前記光線調整部材を、水平方向に回動させる請求項13に記載の光散乱検出方法。 - 前記光線調整部材が、平行平板ガラスからなる請求項16に記載の光散乱検出方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019118673A JP7192675B2 (ja) | 2019-06-26 | 2019-06-26 | 光散乱検出装置および光散乱検出方法 |
CN202010584458.1A CN112304864A (zh) | 2019-06-26 | 2020-06-23 | 光散射检测装置以及光散射检测方法 |
US16/911,836 US20200408683A1 (en) | 2019-06-26 | 2020-06-25 | Light scattering detection device and light scattering detection method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019118673A JP7192675B2 (ja) | 2019-06-26 | 2019-06-26 | 光散乱検出装置および光散乱検出方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021004793A true JP2021004793A (ja) | 2021-01-14 |
JP7192675B2 JP7192675B2 (ja) | 2022-12-20 |
Family
ID=74044435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019118673A Active JP7192675B2 (ja) | 2019-06-26 | 2019-06-26 | 光散乱検出装置および光散乱検出方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200408683A1 (ja) |
JP (1) | JP7192675B2 (ja) |
CN (1) | CN112304864A (ja) |
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Also Published As
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---|---|
US20200408683A1 (en) | 2020-12-31 |
CN112304864A (zh) | 2021-02-02 |
JP7192675B2 (ja) | 2022-12-20 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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