JP2021002612A - 基板処理装置の揺動部品用のカバー、基板処理装置の揺動部品、および、基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、一実施形態に係る基板処理装置1の全体構成を示す平面図である。
図1に示す基板処理装置1は、シリコンウェハ等の基板Wの表面を平坦に研磨する化学機械研磨(CMP)装置である。この基板処理装置1は、矩形箱状のハウジング2を備える。ハウジング2は、平面視で略長方形に形成されている。
アトマイザ27は、研磨パッド22の研磨面に残留する研磨屑や砥粒などを高圧の流体により洗い流すことで、研磨面の浄化と、機械的接触であるドレッサ26による研磨面の目立て作業、すなわち研磨面の再生を達成する。
搬送ハンド45Aは、リニアガイド機構46によって、第1搬送位置TP1から第4搬送位置TP4の間を移動する。この搬送ハンド45Aは、リフター41から基板Wを受け取り、それを第2リニアトランスポータ43に受け渡すためのパスハンドである。
基板洗浄装置31は、基板Wを水平回転させる回転機構80を備える。回転機構80は、基板Wの外周を保持して鉛直方向に延びる軸回りに回転する複数の保持ローラ80aを備える。複数の保持ローラ80aは、モータ等の電気駆動部と接続されて水平回転する。
カバー70の基端部70Bには、図4に示すように、鉛直下方に延在する第2溝92が形成されている。第2溝92は、第1溝91(第1溝91C)の下端に連なっている。
また、例えば、第1溝91は、断面視V字状の溝だけでなく、断面視凹状やU字状の溝であってよい、また、第1溝91は、カバー70の短手方向において間隔をあけて、あるいは隣接して、複数(複数列)形成してもよい。
例えば、基板洗浄装置31においては、他の洗浄形態のペンシルスポンジ型の洗浄モジュールにおいて、基板Wをスクラブ洗浄する洗浄部材が先端部に設けられたアーム本体(例えば、特開2017−147334号公報の図9、10に記載の先端部にペン型洗浄具108を設けたアーム115)に、本発明に係るカバーを取り付けてもよい。
また、例えば、図1に示す基板研磨装置21においては、トップリング24、研磨液供給ノズル25、ドレッサ26、アトマイザ27などの揺動部品において、本発明に係るカバーを取り付けてもよい。
なお、基板洗浄装置31において「処理液を使う処理領域」とは基板Wの上面(図2参照)のことであるが、基板研磨装置21において「処理液を使う処理領域」とは、研磨パッド22の上面(図1参照)のことである。
60 洗浄モジュール(揺動部品)
61 ノズル
62 アーム本体
62b 下面
62b1 側端縁
62b2 側端縁
70 カバー
70a 両側端縁
70A 先端部
70b 両側端縁
70B 基端部
71 傾斜面
72 傾斜面
73 傾斜面
90 傾斜面
91 第1溝
92 第2溝
P1 処理位置
P2 退避位置
Claims (12)
- 基板処理装置の揺動部品用のカバーであって、
前記カバーは、平面視において、長尺形状を呈し、
前記カバーの上面には、前記カバーの短手方向における両側端縁よりも低くなった第1溝が形成されている、ことを特徴とする基板処理装置の揺動部品用のカバー。 - 前記第1溝は、前記短手方向において互いに近接するに従って低くなる一対の傾斜面によって形成されている、ことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置の揺動部品用のカバー。
- 前記一対の傾斜面は、前記カバーの前記両側端縁に連設されている、ことを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置の揺動部品用のカバー。
- 前記カバーの上面は、前記カバーの長手方向における先端部から基端部に向かって、前記カバーの全体に亘り下方に傾斜している、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板処理装置の揺動部品用のカバー。
- 基板処理装置の揺動部品用のカバーであって、
前記カバーの上面は、前記カバーの長手方向における先端部から基端部に向かって、前記カバーの全体に亘り下方に傾斜している、ことを特徴とする基板処理装置の揺動部品用のカバー。 - 前記カバーの上面は、前記長手方向において複数の傾斜面が連なって形成されている、ことを特徴とする請求項4または5に記載の基板処理装置の揺動部品用のカバー。
- 前記カバーの前記基端部には、鉛直下方に延在する第2溝が形成されている、ことを特徴とする請求項4〜6のいずれか一項に記載の基板処理装置の揺動部品用のカバー。
- 基板処理装置の揺動部品であって、
前記揺動部品のアーム本体と、
前記アーム本体に取り付けられた、請求項1〜7のいずれか一項に記載のカバーと、を有する、ことを特徴とする基板処理装置の揺動部品。 - 前記アーム本体は、前記カバーから露出した下面を有し、
前記アーム本体の下面の少なくとも一部は、前記アーム本体の短手方向における一方の側端縁から他方の側端縁に向かって低くなっている、ことを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置の揺動部品。 - 前記アーム本体は、処理液を使う処理領域の上方に位置する処理位置と、前記処理領域の上方から退避する退避位置との間で移動可能であり、
前記アーム本体の下面の前記他方の側端縁は、前記アーム本体が前記退避位置に位置するとき、前記処理領域に対し、前記一方の側端縁よりも離れている、ことを特徴とする請求項9に記載の基板処理装置の揺動部品。 - 前記アーム本体には、前記処理領域に処理液を供給するノズル及び前記処理領域に配置された基板をスクラブ洗浄する洗浄部材の少なくともいずれか一方が設けられている、ことを特徴とする請求項10に記載の基板処理装置の揺動部品。
- 基板処理装置であって、
請求項8〜11のいずれか一項に記載の揺動部品を有する、ことを特徴とする基板処理装置。
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