JP2020537627A - 立方晶窒化ホウ素多結晶体 - Google Patents
立方晶窒化ホウ素多結晶体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020537627A JP2020537627A JP2020522361A JP2020522361A JP2020537627A JP 2020537627 A JP2020537627 A JP 2020537627A JP 2020522361 A JP2020522361 A JP 2020522361A JP 2020522361 A JP2020522361 A JP 2020522361A JP 2020537627 A JP2020537627 A JP 2020537627A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boron nitride
- cubic boron
- gpa
- grains
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/064—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/583—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on boron nitride
- C04B35/5831—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on boron nitride based on cubic boron nitrides or Wurtzitic boron nitrides, including crystal structure transformation of powder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62645—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
- C04B35/62675—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering characterised by the treatment temperature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62645—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
- C04B35/6268—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering characterised by the applied pressure or type of atmosphere, e.g. in vacuum, hydrogen or a specific oxygen pressure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/64—Burning or sintering processes
- C04B35/645—Pressure sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
- C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
- C01P2002/76—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by a space-group or by other symmetry indications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
- C01P2002/82—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by IR- or Raman-data
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/03—Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/20—Particle morphology extending in two dimensions, e.g. plate-like
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/38—Non-oxide ceramic constituents or additives
- C04B2235/3852—Nitrides, e.g. oxynitrides, carbonitrides, oxycarbonitrides, lithium nitride, magnesium nitride
- C04B2235/386—Boron nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5436—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
- C04B2235/604—Pressing at temperatures other than sintering temperatures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
- C04B2235/61—Mechanical properties, e.g. fracture toughness, hardness, Young's modulus or strength
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
- C04B2235/6567—Treatment time
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/72—Products characterised by the absence or the low content of specific components, e.g. alkali metal free alumina ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/72—Products characterised by the absence or the low content of specific components, e.g. alkali metal free alumina ceramics
- C04B2235/721—Carbon content
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/72—Products characterised by the absence or the low content of specific components, e.g. alkali metal free alumina ceramics
- C04B2235/723—Oxygen content
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/767—Hexagonal symmetry, e.g. beta-Si3N4, beta-Sialon, alpha-SiC or hexa-ferrites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/77—Density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
- C04B2235/9646—Optical properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
- C04B2235/9646—Optical properties
- C04B2235/9653—Translucent or transparent ceramics other than alumina
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
Abstract
Description
本発明は、立方晶窒化ホウ素多結晶体及び立方晶窒化ホウ素多結晶体を製造する方法の分野に関する。
研磨コンパクトは、切断、ミリング加工、研削、掘削及びその他の研磨操作において広く使われている。それらは一般に第2相マトリックスに分散した超硬研磨粒子を含有する。マトリックスは、金属、セラミックス又はサーメットであってよい。超硬研磨粒子は、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素(cBN)、シリコンカーバイド又は窒化ケイ素及びこれらに類するものであってよい。これらの粒子は高圧高温のコンパクト製造過程の間に互いに結合し、多結晶体を形成してもよく、又は第2相材料のマトリックスを通じて結合し、焼結多結晶体を形成してもよい。そのような多結晶体は一般に多結晶ダイヤモンド又は多結晶立方晶窒化ホウ素として知られ、ダイヤモンド又はcBNを超硬研磨剤としてそれぞれ含む。ダイヤモンド及び立方晶窒化ホウ素研磨コンパクトの例が、米国特許番号第 3,745,623号及び 5,328,875号に記載されている。
PCDは、鉄鋼材料に関しては、化学的に安定ではない。このことは、PCDを鉄のような鉄鋼材料を機械加工するために用いることができないことを意味する。この場合、PcBNが典型的にはPCDの代わりに用いられる。しかしながら、PcBNはPCDほど硬い又は耐摩耗ではなく、これは主として、cBNに加えてマトリックス相から成るためである。したがって、マトリックス相を低減または完全に除くことが望ましい。
バインダー相を含まない実質的にcBNから成るPcBN体を提供することが目的である。
第1の態様に従うと、
立方晶窒化ホウ素多結晶粒、
2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒を含み、
波長1064nmにおける吸収係数が100cm-1未満である、半透明の立方晶窒化ホウ素多結晶体が提供される。
少なくとも50%の立方晶窒化ホウ素粒が双晶であってよい。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は、ディスク形状で、10mmと25mmの間から選択される直径及び4mm〜25mmから選択される高さを有してもよい。これらの寸法は、多結晶体の実際の適用範囲を、特に機械加工の分野において広げる。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は12mmと16mmの間から選択される直径及び8mm〜12mmから選択される高さを有してもよい。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は立方晶窒化ホウ素多結晶粒及び2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒から成ってもよい。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は、荷重1kgの下で3800HK1より大きいヌープ硬度、荷重1kgの下で4000HK1より大きいヌープ硬度、35GPaより大きいビッカース硬度、40GPaより大きいビッカース硬度、45GPaより大きいビッカース硬度及び50GPaより大きいビッカース硬度のいずれを有してもよい。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は、波長700nmにおける吸収係数が100cm-1未満及び波長500nmにおける吸収係数が150cm-1未満のいずれであってもよい。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は、波長1064nmにおける吸収係数が50cm-1未満、波長1064nmにおける吸収係数が30cm-1未満のいずれであってもよい。
立方晶窒化ホウ素多結晶粒、
2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒を含み、
波長350nmにおける吸収係数が100cm-1未満である、半透明の立方晶窒化ホウ素多結晶体が提供される。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は、吸収係数が、波長350nmにおいて5cm-1と100cm-1の間であってよく、波長350nmにおいて10cm-1と100cm-1の間であってよく、波長350nmにおいて20cm-1と100cm-1の間であってよい。
少なくとも50%の立方晶窒化ホウ素粒が双晶であってもよい。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は、ディスク形状で、10mmと25mmの間から選択される直径及び4mm〜25mmから選択される高さを有してもよい。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は12mmと16mmの間から選択される直径及び8mm〜12mmから選択される高さを有してもよい。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は、1.5質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒、1.0質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;0.5質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒、0.2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;及び0.1質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒のいずれかを含んでもよい。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は、荷重1kgの下で3800HK1より大きいヌープ硬度;荷重1kgの下で4000HK1より大きいヌープ硬度;35GPaより大きいビッカース硬度;40GPaより大きいビッカース硬度;45GPaより大きいビッカース硬度;及び50GPaより大きいビッカース硬度、のいずれを有してもよい。
立方晶窒化ホウ素多結晶体は、波長700nmにおける吸収係数が100cm-1未満;及び波長500nmにおける吸収係数が150cm-1未満のいずれであってもよい。
六方晶窒化ホウ素粒子を含むグリーン体を提供する工程、該グリーン体は六方晶窒化ホウ素の理論密度の少なくとも95%の密度を有する;
該グリーン体を少なくとも7.7GPaの圧力及び少なくとも2100℃の温度で焼結プロセスに供し、六方晶窒化ホウ素を転換して立方晶窒化ホウ素多結晶材料を形成する工程、を含む。
六方晶窒化ホウ素粒子は、0.1質量以上、0.4質量%以下から選択される酸素含有量を有してよい
六方晶窒化ホウ素粒子は、0.3質量%以下及び0.2質量%以下から選択される酸素含有量を更に有してよい。
温度は2100℃と2300℃の間及び2200℃と2300℃の間のいずれから選択されてよい。
圧力は、7.7GPaから8.5GPa、及び8.0GPaから8.5GPaのいずれから選択されてよい。
該方法は、焼結工程の前に、六方晶窒化ホウ素粒子を冷間静水圧プレスし、グリーン体を高密度化する工程を含んでもよい。該冷間静水圧プレスは、圧力0.2GPaと4GPaの間の圧力において更に行われてもよい。該冷間静水圧プレスは、圧力0.4GPaより大きいと0.6GPaより大きいのいずれかの圧力において更に行われてもよい。
グリーン体は、不可避的な不純物を除いて、六方晶窒化ホウ素粒子から成ってもよい。
該方法は更に、六方晶窒化ホウ素粒子を含むグリーン体を提供する工程の前に、六方晶窒化ホウ素粒子をアンモニアガス中、900℃と1100℃の間の温度で窒化する工程を含んでもよい。この方法では、グリーン体が六方晶窒化ホウ素粒子から成る方法において不可避的な不純物が残る場合がある。
該デバイスは、機械加工工具、伸線ダイス、光伝送要素及び熱拡散要素のための任意の挿入体を更に含んでもよい。
本発明をよりよく理解し、どのように発明が実施されるかを示すため、本発明の実施形態がここに添付の図を参照しつつ、例示としてのみ記載される。
六方晶窒化ホウ素(hBN)の立方晶窒化ホウ素(cBN)への直接転換が7.7GPaを超える圧力及び2100℃を超える温度で行うことができることがわかっている。この材料はバインダー相を有さず、ほぼ全てのhBNがcBNに転換する。最終PcBN材料のhBN含有量は2質量%以下である。hBN含有量が非常に低いことから、結果として得られるPcBN材料は半透明であり、波長1064nmで100cm-1未満の吸収係数を示す。以前のhBNからcBNへの直接転換で調製されたバインダー無しPcBN材料は黒色であり、これは著しい量の転換していないhBNがcBN粒間の粒子境界に残っていることにより引き起こされたと考えられている。
S1.hBNグリーン体が提供される。これは例えば、0.2と4.0GPa間の圧力(最小圧力0.4又は0.6GPaがよりよい結果を与えよう)で冷間静水圧プレスを行うことによって調製されてよい。hBN粉末の酸素含有量が、酸素0.1質量%を超え、酸素0.4質量%以下である場合が有利であると考えられている。これは、遊離酸素又は、例えば、水又は−OH基のようなその他の形態中の酸素を含む。特定の理論に縛られることを望むものではないが、少量の酸素及び/又は水が、hBNからcBNへの転換において触媒として作用することが可能である。
S2.hBNからcBNへの直接転換は、HPHTプロセス中、少なくとも7.7GPaの圧力及び少なくとも2100℃の温度を用いて行われる。温度は2300℃まで、圧力は8.5GPaまで有効であることがわかっている。焼結プロセスは少なくとも3分間続いてよい。
上述の方法は大きなPcBN体が製造されることを可能とする。直径10mmから18mm、及び高さ4mmから15mmを有するディスクが製造される。
焼結ディスクから収集されたラマンスペクトルが、cBNの存在及びディスク中の結晶性の質をS/N比から確認するために用いた。X線回折(XRD)スペクトルもまた立方晶相の存在を確認するために用いられた。このXRDデータはまた、少量の転換されていないhBNを、図2に示されるように、明らかにした。図2のXRDスペクトルはcBN111ピークを50.75 2θ°に、少量の残渣hBNのピークを31.22 2θ°に示す。
例1から4から製造されたディスクは、その色において、不透明及び黒/ダークグレイであった。例2及び3は、高い熱伝導性を示し、(Netzsch (RTM) レーザーフラッシュ装置LFA 467 HyperFlash(登録商標)を用い25℃で測定して)200 W m-1 K-1 を超えていた。高い熱伝導性は高速精密機械加工の高度抵抗性スーパーアロイ(HRSA)への適用において望ましい性質である。機械加工プロセスにおいて生成した熱をより速やかに放散又は分散することを可能とするからである。
例1から4において当初行われた作業から、粉末Dは、結晶性が低いことを示す輪郭が不明瞭でノイズが多いラマンスペクトルを与えたことから、更なる研究からは外された。
例6について、粉末Aを例5と同じプロセスに供したが、8GPaの圧力を用いた。結果として得られたPcBNディスクは半透明であった。
例7について、粉末Bを例5で用いられたのと同じプロセスに供した。結果として得られたディスクはいくらかcBNを含有したが、多くの転換していないhBNが残った。
例8について、粉末Bを例6で用いられたのと同じプロセスに供した。結果として得られたPcBNディスクは半透明で青みがかった色調であった。
例9について、粉末Cを例5で用いられたのと同じプロセスに供した。結果として得られたPcBNディスクは半透明で黄/オレンジがかった色調であった。
例10について、粉末Eを例5で用いられたのと同じプロセスに供した。結果として得られたディスクはいくらかcBNを含有したが、多くの転換していないhBNが残った。
例5、6、8、9及び11において観察された半透明性は、全て特許請求の範囲のスコープ内であるが、これは製造されたcBNの高い純度及び残渣hBN及び多孔性のような散乱中心の減少のためである。図4に示される、これら例から取得したラマンスペクトルは、散乱の欠如から生じる良いS/N比から、転換cBNの質の良い結晶性を示す。これらディスクの表面から取られたXRDスペクトルからもまた、これらサンプルにおいては立方晶相が支配的であり、hBNはほとんど残っていないことを確認した。
これら例の微細構造はまた、識別可能な多孔性がないこと及びcBN粒中の多量の双晶を示した。図5の走査電子顕微鏡(SEM)画像は、例6について大量の双晶粒を示し、図6のSEM画像は同様に例8の大量の双晶粒を示す。双晶はヌープ微小硬度を増加させるため、多くの機械加工への適用において有利である。平均粒子サイズ200nmから1000nmが観察された。
PcBN焼結ディスクの半透明性は、UV−可視光吸収によって定量することができる。例6、8及び11について、200nmと3200nmの間の吸収スペクトルが図7に示されている。これから、例6、8及び11についての700nmにおけるモル吸収係数α (700 nm)が、それぞれ91.9cm-1、89.7cm-1及び24.4cm-1であると算出された。
製造された片の任意の方向についての平均最大寸法は8.3mmであり、平均体積は、0.2cm3であった。この体積は、精密作業片の大規模製造のためには非実際的かつ非効率的である。
例12において、hBN粉末Bを、圧力3GPa程度で、セラミックカップ中で冷間静水圧プレス(CIP)サイクルに供し、HPHT焼結前に密集化させた。グリーン体はhBNの理論密度の95%よりも高い密度を有し、低い多孔性を示した。より高圧を使用することにより、hBNの理論密度の98%よりも高い密度に達することができる。次いで、高密度化粉末のブロックを例5と同じHPHTサイクルに、圧力7.5GPaで供した。しかしながら、サイクル時間(加熱及び温度維持を含む)は3分から10分に延長した。結果として得られたディスクは黒く不透明であり、したがって、本願特許請求の範囲のスコープ外である。ラマン分光法及びXRDによって、hBNからcBNへの転換が起こり、サンプル中に少量のhBNが残ったことが確認された。
例16において、hBN粉末Cを例13と同じプロセスに供した。このサンプルでは、材料の単一固体片を製造することができなかった。特定の理論に縛られることを望むものではないが、これはhBN粉末中の高い酸素含有量によって引き起こされたものであろうと考えられる。
半透明性の指標を提供するため、吸収スペクトルから算出される吸収係数に関して定量化した。図9は様々なサンプルの吸収係数を示す。サンプルの吸収スペクトルは200nmと1500nmの間でPerkin Elmer (RTM) UV-Vis/NIR Lamba 19 分光光度計を用い、860nmで検出器を変更し(200< λ <860 nmについてはPMT、860< λ <3200 nmについてはPbS)、319nmで光源を変更し(200< λ <319 nm については重水素ランプ、319< λ <3200 nmについてはハロゲンランプ)、吸収モードにおいて、スキャン速度60nm /分及び近赤外(NIR)感度3で測定した。粒子境界に黒色を与える残渣hBNを粒子境界に含むホットプレスされたcBNからなる熱間圧縮サンプル(hot compacted sample (HC))をまた調製した。黒色サンプル、HCは、他のサンプルよりもはるかに高い吸収係数をほとんどの波長において有していたことがわかる。
様々な波長における吸収係数の詳細が表2に与えられる。
図11は様々な例のヌープ硬度値を示す。例6は1kg荷重の下で3600 HK1(38Gpa)程度のヌープ硬度値を有し、例8は1kg荷重の下で4000 HK1(40Gpa)程度のヌープ硬度値を有した。例13は1kg荷重の下で4000 HK1(40Gpa)を超えるヌープ硬度値を有した。
ビッカース硬度もまた特定の例について測定し、結果を表3に示した。
焼結前に、例13d、13e及び13fのhBN粉末を、窒素下で温度900℃まで速度5℃で加熱した。該粉末を1000℃に4時間保持し、フローレート2リットル/分で窒素をアンモニアガスによって置き換えた。該粉末は続いて室温まで冷却した。その他のサンプルの窒化は、アンモニアフローレートが3リットル/分と6リットル/分の間及び温度が900℃及び1100℃の間で1〜4時間の間、行われた。
窒化した例は、窒化されていないサンプルよりも半透明性がはるかに低く、灰色から黒色であり、粉末はより低い測定酸素含有量(0.038質量%と0.131質量%の間)を有していた。
窒化例の音速は、窒化されていない例の音速に比較してはるかに遅かったことがわかる。このことは、サンプルが完全には焼結していないこと及び隣接するcBN粒子の間に、他のサンプルのものよりも少ない程度の結合があることを示している。
特定の理論に縛られることを望むものではないが、窒化サンプルは全てのhBNがcBNには転換しなかったと考えられる(このことは、例の色の違いによって支持される)。(例えば、JP2003192443 及び WO2015194728に記載されているように)酸素の低減は、転換率の改善に有利に働くことが示唆される。窒化はhBN粉末中の酸素/水を置き換えるが、この場合、酸素/水の低減は0.1質量%未満であり、有利ではなく、hBNからcBNへの完全な転換は起こらなかった。上述のとおり、水はcBNの核形成の触媒として作用する可能性がある。この研究から、酸素レベルが0.1質量%と0.4質量%の間、特にhBN粉末中の酸素0.1質量%と0.2質量%の間がhBNからcBNへの転換に十分な触媒を提供するために好適であることが示唆される。
機械的特性について試験するため、例6、8、13及び14を用いて工具挿入体を、それらを三角形に切断し、その三角形を超硬工具にろう付けすることによって調製した。挿入体は、面取り幅200μm、面取り角度20°、砥石10μmを伴うCNGA12040852020ジオメトリを有した。加えて、例13a及び14cは例13及び14とそれぞれ同じ条件で調製され、続いて真空下、傾斜率5℃/分で900℃で維持されるまで、アニールした。続いてサンプルを、室温まで空冷する前に、900℃で2時間保持した。対照サンプル、CSもまた提供した。CSは商業グレードのPcBNで、バインダー相に90%cBNを含む。
半透明性は、PcBN中のhBN残渣の量の指標であり、そのことは結果として得られるPcBNの機械的特性によい効果を有すると考えられる。上述の議論はバインダー無しPcBNの機械的特性を参照しているが、半透明性は、これまでPcBNタイプの材料が利用されなかった適用を可能とすることが理解されよう。例えば、低い吸収係数はレーザー又はレーザー誘導加工における適用を可能とするであろう。「光伝送素子」という用語は、本明細書で用いられる場合、電磁放射、特に紫外、可視、または赤外スペクトルにおける伝達を可能とする任意のタイプのデバイスを指す。
本明細書で用いられる場合、「超硬材料」とは、ビッカース硬度が少なくとも28GPaを有する材料である。ダイヤモンド及び立方晶窒化ホウ素(cBN)材料が超硬材料の例である。
本明細書で用いられる場合、PcBN(立方晶窒化ホウ素多結晶)材料は、超硬材料のタイプであって立方晶窒化ホウ素(cBN)粒を含むものを指す。典型的には、cBN粒は金属又はセラミックスを含むマトリックス中に分散されている。しかしながら、本願明細書は、マトリックス又はバインダー相を有しないPcBNに係るものであり、しばしば「バインダー無しPcBN」として参照される。「バインダー材料」はマトリックス材料であって、完全にまたは部分的に多結晶構造中の細孔、隙間、隙間領域を埋めるものを意味すると理解される。
本発明のまた別の態様は、以下のとおりであってもよい。
〔1〕
立方晶窒化ホウ素多結晶粒;
2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;を含み
波長1064nmにおける吸収係数が100cm -1 未満である、半透明の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔2〕
少なくとも50%の立方晶窒化ホウ素多結晶粒が双晶である、前記〔1〕に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔3〕
ディスク形状で、10mmと25mmの間から選択される直径及び4mm〜25mmから選択される高さを有する、前記〔1〕又は〔2〕に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔4〕
12mmと16mmの間から選択される直径及び8mm〜12mmから選択される高さを有する、前記〔1〕から〔3〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔5〕
立方晶窒化ホウ素多結晶粒と2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒から成る、前記〔1〕から〔4〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔6〕
1.5質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒、1.0質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;0.5質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒、0.2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;及び0.1質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒のいずれかを含む、前記〔1〕から〔5〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔7〕
荷重1kgの下で3800HK1より大きいヌープ硬度;荷重1kgの下で4000HK1より大きいヌープ硬度;35GPaより大きいビッカース硬度;40GPaより大きいビッカース硬度;45GPaより大きいビッカース硬度;及び50GPaより大きいビッカース硬度のいずれかを有する、前記〔1〕から〔6〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔8〕
波長700nmにおける吸収係数が100cm -1 未満;及び波長500nmにおける吸収係数が150cm -1 未満のいずれかを有する、前記〔1〕から〔7〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔9〕
波長1064nmにおける吸収係数が50cm -1 未満;及び波長1064nmにおける吸収係数が30cm -1 未満のいずれかである、前記〔1〕から〔8〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔10〕
立方晶窒化ホウ素多結晶粒;
2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;を含み
波長350nmにおける吸収係数が100cm -1 未満である、半透明の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔11〕
少なくとも50%の立方晶窒化ホウ素多結晶粒が双晶である、前記〔10〕に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔12〕
ディスク形状で、10mmと25mmの間から選択される直径及び4mm〜25mmから選択される高さを有する、前記〔10〕又は〔11〕に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔13〕
12mmと16mmの間から選択される直径及び8mm〜12mmから選択される高さを有する、前記〔10〕から〔12〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔14〕
立方晶窒化ホウ素多結晶粒と2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒から成る、前記〔10〕から〔13〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔15〕
1.5質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒、1.0質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;0.5質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒、0.2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;及び0.1質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒のいずれかを含む、前記〔10〕から〔14〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔16〕
荷重1kgの下で3800HK1より大きいヌープ硬度;荷重1kgの下で4000HK1より大きいヌープ硬度;35GPaより大きいビッカース硬度;40GPaより大きいビッカース硬度;45GPaより大きいビッカース硬度;及び50GPaより大きいビッカース硬度のいずれかを有する、前記〔10〕から〔15〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔17〕
波長700nmにおける吸収係数が100cm -1 未満;及び波長500nmにおける吸収係数が150cm -1 未満のいずれかを有する、前記〔10〕から〔16〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
〔18〕
六方晶窒化ホウ素粒子を含むグリーン体を提供する工程であって、該グリーン体は六方晶窒化ホウ素の理論密度の少なくとも95%の密度を有し;
該グリーン体を少なくとも7.7GPaの圧力及び少なくとも2100℃の温度で焼結プロセスに供し、六方晶窒化ホウ素を転換して半透明な立方晶窒化ホウ素多結晶材料を形成する工程、を含む、半透明の立方晶窒化ホウ素多結晶体を製造する方法。
〔19〕
六方晶窒化ホウ素粒子が、0.1質量%以上、0.4質量%以下から選択される酸素含有量を有する、前記〔18〕に記載の方法。
〔20〕
六方晶窒化ホウ素粒子が、0.3質量%以下及び0.2質量%以下から選択される酸素含有量を有する、前記〔19〕に記載の方法。
〔21〕
温度が、2100℃と2300℃の間及び2200℃と2300℃の間のいずれかから選択される、前記〔18〕から〔20〕のいずれか1項に記載の方法。
〔22〕
圧力が、7.7GPaから8.5GPa、及び8.0GPaから8.5GPaのいずれかから選択される、前記〔18〕から〔21〕のいずれか1項に記載の方法。
〔23〕
焼結工程において、最大圧力及び温度が、少なくとも3分間、少なくとも5分間及び少なくとも10分間のいずれかの間、保持される、前記〔18〕から〔22〕のいずれか1項に記載の方法。
〔24〕
焼結工程の前に、六方晶窒化ホウ素粒子を冷間静水圧プレスし、グリーン体を高密度化する工程を更に含む、前記〔18〕から〔23〕のいずれか1項に記載の方法。
〔25〕
冷間静水圧プレス工程が0.2GPaと4GPaの間の圧力で実施される、前記〔24〕に記載の方法。
〔26〕
冷間静水圧プレス工程が0.4GPaより大きいと0.6GPaより大きいのいずれかの圧力で実施される、前記〔25〕に記載の方法。
〔27〕
グリーン体が、六方晶窒化ホウ素粒子から成る、前記〔18〕から〔26〕のいずれか1項に記載の方法。
〔28〕
六方晶窒化ホウ素粒子を含むグリーン体を提供する工程の前に、六方晶窒化ホウ素粒子をアンモニアガス中、900℃と1100℃の間の温度で窒化する工程を更に含む、前記〔18〕から〔26〕のいずれか1項に記載の方法。
〔29〕
前記〔1〕から〔17〕のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体を含むデバイス。
Claims (29)
- 立方晶窒化ホウ素多結晶粒;
2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;を含み
波長1064nmにおける吸収係数が100cm-1未満である、半透明の立方晶窒化ホウ素多結晶体。 - 少なくとも50%の立方晶窒化ホウ素多結晶粒が双晶である、請求項1に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- ディスク形状で、10mmと25mmの間から選択される直径及び4mm〜25mmから選択される高さを有する、請求項1又は2に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 12mmと16mmの間から選択される直径及び8mm〜12mmから選択される高さを有する、請求項1から3のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 立方晶窒化ホウ素多結晶粒と2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒から成る、請求項1から4のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 1.5質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒、1.0質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;0.5質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒、0.2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;及び0.1質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒のいずれかを含む、請求項1から5のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 荷重1kgの下で3800HK1より大きいヌープ硬度;荷重1kgの下で4000HK1より大きいヌープ硬度;35GPaより大きいビッカース硬度;40GPaより大きいビッカース硬度;45GPaより大きいビッカース硬度;及び50GPaより大きいビッカース硬度のいずれかを有する、請求項1から6のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 波長700nmにおける吸収係数が100cm-1未満;及び波長500nmにおける吸収係数が150cm-1未満のいずれかを有する、請求項1から7のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 波長1064nmにおける吸収係数が50cm-1未満;及び波長1064nmにおける吸収係数が30cm-1未満のいずれかである、請求項1から8のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 立方晶窒化ホウ素多結晶粒;
2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;を含み
波長350nmにおける吸収係数が100cm-1未満である、半透明の立方晶窒化ホウ素多結晶体。 - 少なくとも50%の立方晶窒化ホウ素多結晶粒が双晶である、請求項10に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- ディスク形状で、10mmと25mmの間から選択される直径及び4mm〜25mmから選択される高さを有する、請求項10又は11に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 12mmと16mmの間から選択される直径及び8mm〜12mmから選択される高さを有する、請求項10から12のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 立方晶窒化ホウ素多結晶粒と2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒から成る、請求項10から13のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 1.5質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒、1.0質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;0.5質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒、0.2質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒;及び0.1質量%を超えない六方晶窒化ホウ素粒のいずれかを含む、請求項10から14のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 荷重1kgの下で3800HK1より大きいヌープ硬度;荷重1kgの下で4000HK1より大きいヌープ硬度;35GPaより大きいビッカース硬度;40GPaより大きいビッカース硬度;45GPaより大きいビッカース硬度;及び50GPaより大きいビッカース硬度のいずれかを有する、請求項10から15のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 波長700nmにおける吸収係数が100cm-1未満;及び波長500nmにおける吸収係数が150cm-1未満のいずれかを有する、請求項10から16のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体。
- 六方晶窒化ホウ素粒子を含むグリーン体を提供する工程であって、該グリーン体は六方晶窒化ホウ素の理論密度の少なくとも95%の密度を有し;
該グリーン体を少なくとも7.7GPaの圧力及び少なくとも2100℃の温度で焼結プロセスに供し、六方晶窒化ホウ素を転換して半透明な立方晶窒化ホウ素多結晶材料を形成する工程、を含む、半透明の立方晶窒化ホウ素多結晶体を製造する方法。 - 六方晶窒化ホウ素粒子が、0.1質量%以上、0.4質量%以下から選択される酸素含有量を有する、請求項18に記載の方法。
- 六方晶窒化ホウ素粒子が、0.3質量%以下及び0.2質量%以下から選択される酸素含有量を有する、請求項19に記載の方法。
- 温度が、2100℃と2300℃の間及び2200℃と2300℃の間のいずれかから選択される、請求項18から20のいずれか1項に記載の方法。
- 圧力が、7.7GPaから8.5GPa、及び8.0GPaから8.5GPaのいずれかから選択される、請求項18から21のいずれか1項に記載の方法。
- 焼結工程において、最大圧力及び温度が、少なくとも3分間、少なくとも5分間及び少なくとも10分間のいずれかの間、保持される、請求項18から22のいずれか1項に記載の方法。
- 焼結工程の前に、六方晶窒化ホウ素粒子を冷間静水圧プレスし、グリーン体を高密度化する工程を更に含む、請求項18から23のいずれか1項に記載の方法。
- 冷間静水圧プレス工程が0.2GPaと4GPaの間の圧力で実施される、請求項24に記載の方法。
- 冷間静水圧プレス工程が0.4GPaより大きいと0.6GPaより大きいのいずれかの圧力で実施される、請求項25に記載の方法。
- グリーン体が、六方晶窒化ホウ素粒子から成る、請求項18から26のいずれか1項に記載の方法。
- 六方晶窒化ホウ素粒子を含むグリーン体を提供する工程の前に、六方晶窒化ホウ素粒子をアンモニアガス中、900℃と1100℃の間の温度で窒化する工程を更に含む、請求項18から26のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1から17のいずれか1項に記載の立方晶窒化ホウ素多結晶体を含むデバイス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB1717270.1A GB201717270D0 (en) | 2017-10-20 | 2017-10-20 | Polycrystalline cubic boron nitride body |
GB1717270.1 | 2017-10-20 | ||
PCT/EP2018/078259 WO2019076903A1 (en) | 2017-10-20 | 2018-10-16 | POLYCRYSTALLINE CUBIC BORON NITRIDE BODY |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020537627A true JP2020537627A (ja) | 2020-12-24 |
JP7082663B2 JP7082663B2 (ja) | 2022-06-08 |
Family
ID=60481817
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020522361A Active JP7082663B2 (ja) | 2017-10-20 | 2018-10-16 | 立方晶窒化ホウ素多結晶体 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200277187A1 (ja) |
EP (1) | EP3697743B1 (ja) |
JP (1) | JP7082663B2 (ja) |
KR (1) | KR102401386B1 (ja) |
CN (1) | CN111315710A (ja) |
GB (2) | GB201717270D0 (ja) |
WO (1) | WO2019076903A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102432089B1 (ko) * | 2020-12-29 | 2022-08-11 | 울산대학교 산학협력단 | 6h-육방정계 망간 산화물 및 이를 포함하는 세라믹 복합체의 제조방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62197357A (ja) * | 1986-01-29 | 1987-09-01 | ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ | 再焼結ホウ素リツチ多結晶立方晶窒化ホウ素およびその製造方法 |
JPH05170550A (ja) * | 1991-12-25 | 1993-07-09 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 立方晶窒化ほう素焼結体の製造方法 |
JPH05221730A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-31 | Toshiba Tungaloy Co Ltd | 立方晶窒化ホウ素焼結体及びその製造法 |
JP2004250278A (ja) * | 2003-02-19 | 2004-09-09 | National Institute For Materials Science | 高純度超微粒子透光性立方晶窒化ホウ素焼結体とその製造方法 |
CN104774591A (zh) * | 2015-03-25 | 2015-07-15 | 富耐克超硬材料股份有限公司 | 一种无结合剂的聚晶立方氮化硼磨料及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB201108967D0 (en) * | 2011-05-27 | 2011-07-13 | Element Six Ltd | Superhard structure, tool element and method of making same |
KR101915828B1 (ko) * | 2011-08-30 | 2018-11-06 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 입방정 질화붕소 복합 다결정체 및 그 제조 방법, 절삭 공구, 와이어 드로잉 다이, 및 연삭 공구 |
CN103569976B (zh) * | 2012-08-03 | 2016-09-14 | 燕山大学 | 超高硬度纳米孪晶氮化硼块体材料及其合成方法 |
JP6447197B2 (ja) * | 2015-02-04 | 2019-01-09 | 住友電気工業株式会社 | 立方晶窒化ホウ素多結晶体、切削工具、耐摩工具、研削工具、および立方晶窒化ホウ素多結晶体の製造方法 |
CN105401034B (zh) * | 2015-12-12 | 2018-05-18 | 郑州旭日磨具技术开发有限公司 | 高密度聚晶超硬材料及其制备方法 |
-
2017
- 2017-10-20 GB GBGB1717270.1A patent/GB201717270D0/en not_active Ceased
-
2018
- 2018-10-16 KR KR1020207011356A patent/KR102401386B1/ko active IP Right Grant
- 2018-10-16 GB GB1816823.7A patent/GB2569428B/en active Active
- 2018-10-16 US US16/649,570 patent/US20200277187A1/en active Pending
- 2018-10-16 CN CN201880068142.8A patent/CN111315710A/zh active Pending
- 2018-10-16 WO PCT/EP2018/078259 patent/WO2019076903A1/en unknown
- 2018-10-16 EP EP18792888.2A patent/EP3697743B1/en active Active
- 2018-10-16 JP JP2020522361A patent/JP7082663B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62197357A (ja) * | 1986-01-29 | 1987-09-01 | ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ | 再焼結ホウ素リツチ多結晶立方晶窒化ホウ素およびその製造方法 |
JPH05170550A (ja) * | 1991-12-25 | 1993-07-09 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 立方晶窒化ほう素焼結体の製造方法 |
JPH05221730A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-31 | Toshiba Tungaloy Co Ltd | 立方晶窒化ホウ素焼結体及びその製造法 |
JP2004250278A (ja) * | 2003-02-19 | 2004-09-09 | National Institute For Materials Science | 高純度超微粒子透光性立方晶窒化ホウ素焼結体とその製造方法 |
CN104774591A (zh) * | 2015-03-25 | 2015-07-15 | 富耐克超硬材料股份有限公司 | 一种无结合剂的聚晶立方氮化硼磨料及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200277187A1 (en) | 2020-09-03 |
KR102401386B1 (ko) | 2022-05-25 |
GB201717270D0 (en) | 2017-12-06 |
EP3697743B1 (en) | 2024-03-27 |
GB2569428B (en) | 2022-03-23 |
EP3697743A1 (en) | 2020-08-26 |
CN111315710A (zh) | 2020-06-19 |
GB2569428A (en) | 2019-06-19 |
JP7082663B2 (ja) | 2022-06-08 |
WO2019076903A1 (en) | 2019-04-25 |
GB201816823D0 (en) | 2018-11-28 |
KR20200057044A (ko) | 2020-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107207364B (zh) | 立方氮化硼多晶体、切削工具、耐磨工具、研磨工具、和立方氮化硼多晶体的制造方法 | |
US5580666A (en) | Cemented ceramic article made from ultrafine solid solution powders, method of making same, and the material thereof | |
KR100219930B1 (ko) | 초경질 복합부재 및 이의 제조방법 | |
US20200071583A1 (en) | Sintered polycrystalline cubic boron nitride material | |
JP6293669B2 (ja) | 焼結された立方晶窒化ホウ素切削工具 | |
CA2585458A1 (en) | Cubic boron nitride compact | |
JP5462622B2 (ja) | 立方晶窒化ホウ素複合材料及び工具 | |
EP3266756B1 (en) | Polycrystalline diamond body, cutting tool, wear-resistant tool, and grinding tool | |
CN105019026A (zh) | 立方氮化硼多晶体、切削工具、耐磨工具、研磨工具、和制造立方氮化硼多晶体的方法 | |
CN110342943A (zh) | 工业压力下合成无粘结剂聚晶氮化硼块材的方法及其应用 | |
CN111233476A (zh) | 一种无粘结剂多晶金刚石材料及其制备方法 | |
JP7082663B2 (ja) | 立方晶窒化ホウ素多結晶体 | |
JP6283985B2 (ja) | 焼結体 | |
JP6192253B1 (ja) | 立方晶窒化ホウ素粒子含有単結晶質ダイヤモンド粒子、およびその製造方法 | |
JP5008789B2 (ja) | 超硬質焼結体 | |
JPS6246510B2 (ja) | ||
JP6365228B2 (ja) | 焼結体 | |
JPS6251911B2 (ja) | ||
US20230037181A1 (en) | Polycrystalline cubic boron nitride material | |
JPH0421568A (ja) | 高硬度微細結晶焼結体及びその製造方法 | |
JP2019512455A (ja) | 多結晶立方晶窒化ホウ素 | |
JP3481702B2 (ja) | 硬質合金を結合材とする立方晶窒化硼素燒結体及びその製造方法 | |
JPS627259B2 (ja) | ||
JPS638072B2 (ja) | ||
JPS63266030A (ja) | 高硬度焼結体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200420 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200420 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210628 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210928 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20211129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220427 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220527 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7082663 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |