JP2020535433A - 表面に対する間隔又は2つの表面の間の間隔を非接触で測定する方法と装置 - Google Patents

表面に対する間隔又は2つの表面の間の間隔を非接触で測定する方法と装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2020535433A
JP2020535433A JP2020518006A JP2020518006A JP2020535433A JP 2020535433 A JP2020535433 A JP 2020535433A JP 2020518006 A JP2020518006 A JP 2020518006A JP 2020518006 A JP2020518006 A JP 2020518006A JP 2020535433 A JP2020535433 A JP 2020535433A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measurement
light
calibration
calibration light
detector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020518006A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7410853B2 (ja
Inventor
クリストフ ディーツ
ディーツ クリストフ
Original Assignee
プレシテク オプトロニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
プレシテク オプトロニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by プレシテク オプトロニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング, プレシテク オプトロニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング filed Critical プレシテク オプトロニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Publication of JP2020535433A publication Critical patent/JP2020535433A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7410853B2 publication Critical patent/JP7410853B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0608Height gauges
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/0207Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer
    • G01B9/02072Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer by calibration or testing of interferometer
    • G01B9/02074Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer by calibration or testing of interferometer of the detector
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/0209Low-coherence interferometers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2210/00Aspects not specifically covered by any group under G01B, e.g. of wheel alignment, caliper-like sensors
    • G01B2210/50Using chromatic effects to achieve wavelength-dependent depth resolution

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)

Abstract

表面(19)に対する間隔又は2つの表面の間の間隔を非接触で測定する測定装置は、多色の測定光(12)を発生させる測定光源(11)と光学的な測定ヘッド(16)とを有し、その測定ヘッドが測定光源(11)から発生された測定光(12)を測定対象(18)上へ向け、かつそれから反射された測定光(12')を受け取る。分散性の光学素子(22)と検出器(14)とを有するスペクトログラフ(20)が、反射された測定光(12')をスペクトル分析する。較正光源(30)が、既知かつ温度に依存しないスペクトル組成の較正光(32)を発生させる。評価装置(28)が、較正光(32)によって検出器(24)の感光性セル(26)上に発生されるスペクトルの変化から補正値を導き出し、その補正値によって、感光性セル(26)と波長又は波長から導き出される変量との間のあらかじめ定められた対応づけが修正される。

Description

本発明は、表面に対する間隔又は2つの表面の間の間隔を非接触で測定する測定装置と方法に関するものであって、その場合に多色光が測定対象へ向けられて、測定対象から反射された測定光がスペクトル分析される。本発明は、特に熱効果によって測定精度が損なわれることを減少させる問題に関する。
測定技術においてしばしば生じる問題は、参照点と固体又は液体の測定対象の表面との間の間隔を測定することである。それぞれ測定課題に応じて、表面上の唯一又は少数の点が測定されるか、あるいは間隔の狭い多数の点が測定される。後者の場合においては、間隔測定値から測定対象の表面の類型論的な1次元又は2次元の高さプロフィールが導き出される。このようにして、たとえば正確に加工された表面の凹凸を証明し、あるいは粗さ指数を定めることができる。これらの測定においては、通常、間隔を絶対的に測定することは重要ではなく、相対的な間隔変化のみが高い精度で検出される。
表面の間の間隔及び特に光学的に透明な層の厚みを測定しようとする場合に、同じことが言える。この場合においても、参照点に対する絶対的な間隔は必要とされない。というのは、層の厚みは、層を画成する表面のための間隔値の差から生じるからである。
これに関連して、固体のボディによって支持され、あるいはそれに固定されている材料からなる層だけでなく、支持を必要としない薄い固体の構造も、層と称される。その例は、ガラス又は半導体材料からなるディスクあるいはビン又は同様な対象の壁である。
間隔を非接触で測定するために、容量的又は他の電気的測定原理の他に、特に光学的な測定原理も使用される。というのは、それによって特に高い測定精度が得られるからである。このような光学的な測定原理の1つにおいて、多色の測定光が光学的な測定ヘッドによって測定対象へ向けられる。測定対象の表面から反射された測定光が、測定ヘッドによって受け取られて、スペクトログラフへ供給され、そのスペクトログラフが反射された測定光をスペクトル分析する。測定光のスペクトル組成から、測定対象の表面に対する間隔を推定することができる。屈折率の異なる2つの媒体の間の各光学的境界面は、入射する光の一部を反射するので、このようにして、測定光の伝播方向に相前後して配置された複数の表面に対する間隔も定めることができる。そのための条件は、測定光が透過する光学的媒体が、使用される測定光のために充分に透き通っていることだけである。
この測定原理によって使用される、第1のタイプの測定装置において、色的に共焦点の測定のコンセプトが利用される。このタイプの測定装置は、測定ヘッドを有し、その測定ヘッドが色的に補正されない光学系を有しており、それが測定対象の表面上に測定光を合焦させる。強い分散を有するガラスからなるレンズ及び/又は回折光学素子を有することができる、光学系の色長手収差によって、測定光のスペクトル成分が様々な焦点面に合焦される。共焦点で配置された絞りによって、測定光の、その焦点面が正確に測定対象の表面上に位置するスペクトル成分のみが、スペクトログラフへ達し、そこでスペクトル分析できることが、保証される。スペクトログラフは、格子又は他の分散的光学素子と検出器を有し、その検出器が多数の感光性のセルを有している。各感光性のセルには、極めて狭い波長領域が対応づけられているので、検出器の個々のセルに、間隔値を直接対応づけることができる。間隔値とセルの間の対応づけは、特許文献1(独国特許出願公開第102004049541(A1)号明細書)に記述されているように、較正を介して定めることができる。
同様に測定対象の表面から反射された測定光がスペクトル分析される、他のタイプの測定装置においては、光学的干渉のコンセプトが利用される。測定対象から反射された測定光が、参照アーム内で反射された測定光と干渉する。干渉によって、反射された測定光がスペクトル変調され、その場合に求める間隔値は変調周波数から導き出すことができる。この目的のために、対象から反射されて、参照アーム内で反射された測定光と干渉する測定光が、スペクトログラフ内でスペクトル的に検出されて、逆フーリエ変換される。
上述した2つのタイプの光学的測定装置は、しばしば製造環境内で品質保証のために使用される。製造環境においては、もちろん周囲温度は著しく変動する。したがって測定装置は、典型的に、+5℃と+60℃の間の温度領域について、駆動可能と定められている。
その場合に様々な周囲温度が、測定された間隔値に直接作用する問題が生じる。温度が変動した場合には、光学素子の熱的膨張によって、曲率半径と光学的境界面の間の間隔のような重要な光学的パラメータの変化がもたらされる。さらに、レンズ及び他の屈折光学素子の屈折率は、温度に直接依存する。測定光がそれを通して伝播する、空気又は他のガスの屈折率自体、−固定のボディにおけるよりもずっと少ない程度ではあるが−温度に依存する。さらに、光学素子をハウジングに固定するホルダの熱膨張は、光学素子の位置変化をもたらすことがあり、それも同様に光学系の作用に影響する。
熱に基づく測定エラーを補償するために、特許文献2(欧州特許第2369294(B1)号明細書)は、測定ヘッドに含まれる色的に補正されない光学系を、温度変化における個々の光学素子の光学作用の変化が相互に補償されるように、設計することを、提案している。
特許文献3(欧州特許第2149028(B1)号明細書)からは、測定値の熱的にもたらされる変化を許すが、この変化を後段の補正ステップにおいて補正することが、知られている。補正値を得るために、スペクトログラフを用いて、測定ヘッド内の光学的な表面において反射された測定光成分のスペクトル組成が求められる。その場合に反射された測定光が結合される、光学ファイバーの端部に対するこの表面の間隔が、測定ヘッド内の温度に依存すると仮定される。このようにして温度が測定ヘッド内の光学的な表面からの間隔を介して間接的に測定されるので、後に測定対象において測定する場合に温度の影響を考慮することができる。
同様なやり方で、特許文献4(独国特許出願公開第102015118069(A1)号明細書)から知られた測定装置においても、測定ヘッド内の温度に依存する効果が考慮される。その場合に温度変化の作用を定めるために、測定ヘッドの内部の固定の光学的境界面における反射ではなく、測定ヘッドの外部の境界面における反射が使用される。実施例において、付加的な測定アーム内の測定光が段付きの反射する面へ向けられ、その場合に光学軸に沿った段の高さは、正確に知られている。2つの表面の間で測定された間隔値が変化した場合に、この作用が変化した温度に割り当てられ、かつ補正ファクターを定めるために使用される。その後、後続の測定において、測定された間隔値が補正ファクターによって乗算される。
特許文献5(米国特許第9541376(B2)号明細書)は、スペクトログラフにおける変化がどのように、色的に共焦点の測定原理に従って作動する間隔測定装置の測定精度に作用するか、という問題と根本的に取り組んでいる。この問題を解決するために、スペクトログラフの検出器によって、+1又は−1の回折次数ではなく、+1の回折次数も−1の回折次数も検出することが、提案される。間隔情報は、2つの回折次数の最大値が発生する、検出器の感光性のセル間の間隔から導き出される。温度変化によって格子及び/又は検出器の位置が変化した場合に、それによってしばしば回折次数の最大値が同じ大きさだけ変位するので、最大値の間の間隔は一定に留まる。この間隔のみが以降の評価に入るので、温度変化は測定精度に作用しない。
もちろんこの既知の考え方の欠点は、検出器によって2つの回折次数を評価しなければならないことである。それによって、提供される感光性セルの数が等しい場合には、スペクトル解像度及びそれに伴って測定精度も低下する。
独国特許出願公開第102004049541(A1)号明細書 欧州特許第2369294(B1)号明細書 欧州特許第2149028(B1)号明細書 独国特許出願公開第102015118069(A1)号明細書 米国特許第9541376(B2)号明細書
本発明の課題は、表面に対する間隔又は2つの表面の間の間隔を非接触で測定する測定装置と方法を、スペクトロメータにおける温度変化が測定精度に作用せず、あるいは少なくとも従来よりもずっと少ない程度で作用するように、改良することである。既知の解決においては容認しなければならなかった、スペクトル解像及びそれに伴う測定精度における損害を容認する必要はない。
測定装置に関して、上述した課題は、多色の測定光を発生させるように整えられた測定光源を有する、表面に対する間隔又は2つの表面の間の間隔を非接触で測定するための測定装置によって解決される。測定装置は、さらに、光学的な測定ヘッドを有しており、その測定ヘッドは、測定光源から発生された測定光を測定対象へ向けて、測定対象から反射された測定光を受け取るように、整えられている。さらに、測定装置はスペクトログラフを有しており、そのスペクトログラフは、測定光から反射されて、光学的な測定ヘッドによって受け取られた測定光をスペクトル分析するように、整えられており、その場合にスペクトログラフは、分散性の光学素子と、多数の感光性セルを備えた検出器とを有している。測定装置の評価装置は、少なくとも一部の感光性セルの測定信号から間隔値を計算するように、整えられている。本発明によれば、測定装置は較正光源を有しており、その較正光源は、既知のスペクトル組成を有する較正光を発生させるように、整えられている。較正光は、前もって測定対象へ通じる光学路内で反射されることなしに、分散性の光学素子を通して検出器上へ向けることができる。評価装置は、検出器の感光性セルの少なくともいくつかにおいて較正光によって発生されるスペクトルの変化から補正値を導き出すように、整えられており、その補正値によって感光性セルの少なくとも一部と、波長又は波長から導き出される変量との間のあらかじめ定められた対応づけが修正される。
本発明は、スペクトログラフ内の温度変化が測定精度のための重要な要因である、という認識から出発している。その場合に、測定ヘッドにおいて、かつスペクトログラフ内で、異なる温度が支配する可能性があることが、考慮される。スペクトログラフのすぐ近傍には、たとえば評価装置が配置されていることが多く、その評価装置は通常多数の電子的なコンポーネントを有している。それらから発生された熱損失によって、測定ヘッド内よりも高い温度がスペクトログラフ内を支配することになり得る。
スペクトログラフ内の温度変化の影響を検出して、後続の測定において考慮することができるようにするために、本発明によれば、既知のスペクトル組成を有する較正光が、スペクトログラフの分散性の光学素子を通してその検出器へ向けられる。このようにして、較正光のスペクトルと検出器の感光性セルとの間の一義的な関係が形成される。温度変化によって、感光性セルの位置の変化がもたらされた場合に、較正光のスペクトル内の最大強度は、他の感光性セルにおいて生じる。本発明によれば、この変位は、感光性セルと波長又は波長から導き出される変量との間あらかじめ定められた対応づけが修正されることによって、後の測定対象における測定を評価する際に直接考慮される。もっとも簡単な場合において、この種の修正された対応づけは、所定の感光性セルがもはや元のあらかじめ定められた波長にではなく、修正された波長に相当すると、見なすことができる。求める間隔情報は、測定光のスペクトル内でコード化されているので、修正された対応づけの結果であるスペクトルの正しい検出は、自動的に間隔についての温度に依存しない測定値を提供する。較正のこの直接的なやり方は、温度変化の影響が間隔測定から導き出される考え方に比較して、効果的である。
較正光が、測定対象へ通じる光学路内で前もって反射されることなしに、スペクトログラフへ供給されるので、較正光によって、スペクトログラフ内の温度変化の影響のみが検出される。スペクトログラフ内の温度変化の影響を、測定ヘッド内に温度変化があってもその影響に関係なく定めることができるようにする、本発明によって与えられる可能性は、複数の理由から効果的である。上述した特許文献3(欧州特許第2149028(B1)号明細書)の場合のように、スペクトログラフ内と測定ヘッド内の温度変化が組み合わせて検出される場合には、2つの効果の重なりのみが検出される。2つの効果は、通常、評価する際に異なる補正措置を必要とするので、温度変化が組み合わせて検出される場合には、最適な補正を実施することはできない。すなわち、たとえば、上述した測定ヘッド内の反射する表面に対応づけられた波長について、測定ヘッド内とスペクトログラフ内の効果が偶然に相殺され、それによって温度変化が検出されない場合が生じ得る。しかし他の波長については、絶対的に補正の必要が生じることがあり、それは、特許文献3に基づいて効果を組み合わせて検出する場合には、認識されない。
温度変化を別々に検出することは、測定装置のモジュラー構造に関しても、効果的である。まさに、スペクトログラフ内に温度変化によってもたらされる効果が、測定ヘッド内の効果に比較して優先的である場合に、測定ヘッドが温度検出する手段を有するか否かに関係なく、補正を実施することができると、効果的である。したがって本発明に係る測定装置は、特殊な測定ヘッドを必要とせず、任意の測定ヘッドによって駆動することができ、したがってユニバーサルに使用可能である。
較正光をスペクトログラフの分散性の光学素子へ供給することができるようにするために、一般的に、光路内に光分割装置を導入し、それを用いて較正光と測定光を共通に分散性の光学素子へ供給することが必要となる。光分割装置は、たとえばビームスプリッタキューブ又はファイバーカップラーとすることができる。
もっとも効果的なのは、評価装置が、検出器の感光性セルの少なくとも一部上に較正光によって発生された強度パターンの位置の変化から、補正値を導き出すように、整えられている場合である。この種のパターンは、通常、ローカルな最大強度と最小強度の連続からなる。もっとも簡単な場合において、この種の強度パターンは個々の(ローカルな)最大強度又は最小強度からなる。
本発明に係る較正は、較正光が時間的に安定し、かつ温度に依存しないスペクトル組成を有する場合に、もっとも簡単に実施される。そのために較正光源は、周囲温度に関係なく、変化しないスペクトル組成を有する較正光を発生させる特性をもたなければならない。しかし原理においては、温度に依存するスペクトル組成を有する較正光を使用することも、考えられる。しかしその場合には、スペクトログラフ内の温度だけでなく、スペクトル組成の温度依存性も正確にわかっていなければならず、それによって評価する際にそれを計算で考慮することができる。
もっとも簡単な場合においては、較正光源は狭帯域の光源、たとえばレーザーダイオードである。スペクトル組成のさらに小さい温度依存性は、較正光源が(場合によっては広帯域の)光源と温度安定のモノクロメータ、たとえばファブリ・ペロー干渉計を有する場合に、得られる。
時間的に安定し、かつ温度に依存しないスペクトル組成を有する較正光を発生させる特に簡単な可能性は、広帯域の光源と、干渉の形成によって較正光の強度をスペクトル変調する、反射する表面の配置とを有する較正光源を使用することにある。したがってレーザーダイオードの使用とは異なり、この較正光源は、所定の波長における唯一の最大強度ではなく、比較的広いスペクトルを有するが、そのスペクトルは変調によって複数のローカルな最大強度を有している。その場合にスペクトログラフの検出器は、個々の最大強度の位置だけでなく、複数の最大強度の位置も検出する。この種の配置は、たとえば光学的に透明な材料からなる平面平行のプレートとして形成することができる。プレートが非熱伝導性のガラスからなる場合に、温度変動における厚み変化は、逆方向の屈折率変化によって補償されて、プレートの光学的厚みとそれに伴って変調周波数は一定に留まる。ガラスプレートの代わりに、厚みdのエアギャップもスペクトル変調に使用することができる。このエアギャップは、たとえば、第1の透明かつ下側が部分反射するプレートと、第2の反射するプレートとの間に形成することができる。プレート間の間隔は、スペースホルダによって調節され、そのスペースホルダは、熱膨張の小さい材料(クォーツガラス又はゼロデュア)からなる。それによってエアギャップによって発生されるスペクトル変調は、とりたてて言うほど温度に依存しない。
較正光と測定光が、重なり合わないスペクトルを有する場合に、較正は間隔測定と同時に実施することができる。特に較正光のスペクトルは、測定光のスペクトルよりも短波とすることができる。スペクトルが重なる場合には、較正は、間隔測定の間のタイムインターバルで実施されなければならない。というのは、そうでないと間隔測定が較正光によって歪曲されてしまうからである。ここでは重なり合うというのは、同一性の特殊場合(したがって完全な重なり)でもある。
較正光と測定光のスペクトルが重なり合う場合でも、ある波長を有する較正光が感光性セルへ入射し、そのセルに同じ波長を有する反射された測定光が入射できないようにして、分散性の光学素子を通して較正光を検出器へ向けることができる場合には、同時の較正と測定が可能である。好ましくは逆の場合も成立し、すなわち同じ波長を有する較正光が入射することのできる感光性セルへ、反射された測定光は入射できない。これはたとえば、較正光と測定光が異なるように分極されており、かつ分極フィルタによって感光性セル上で、較正光と反射された測定光が同一のセル上に入射できないことが保証されることによって、達成することができる。
分極フィルタは光損失をもたらすので、多くの場合において、較正光を反射された測定光とは異なる方向から分散性の光学素子へ入射させると、より効果的である。それによって、較正光は分散性の光学素子の後方で測定光とは異なるルートをとり、かつ空間的にそれから分離することができる。その場合に感光性のセルは、第1のセルと第2のセルを有し、第1のセル上には較正光のみが入射することができ、かつその第1のセルは第1の列に沿って配置されており、第2のセル上には反射された測定光のみが入射することができ、かつ第2のセルは、第1の行に対して平行に延びる第2の行に沿って配置されている。
これに関連して、較正光源という概念は、広く解釈すべきである。特に、較正光と測定光が異なる光学的コンポーネントから発生されることは、不要である。実施例においては、較正光源と測定光源は光を発生させるために同一の光学的コンポーネントを使用する。その場合に較正光源は、たとえばビームスプリッタを有し、そのビームスプリッタが光学コンポーネントから発生された光の一部を測定光として測定ヘッドへ供給し、光の他の部分をモノクロメータへ供給し、そのモノクロメータが光からスペクトルフィルタリングによって較正光を発生させる。その代わりに、光のこの部分を、変調された較正光スペクトルを発生させるために平面平行のプレートへ向けることもできる。このようにして較正光源は、専用の光学的コンポーネントを必要としない。その場合にはもちろん、較正の間光路内に測定対象が存在しないこと、あるいは測定対象へ通じる光学路が遮蔽されており、それによって一方で、測定光が測定対象へ通じる光学路内で反射されて、検出器へ達することが、保証されなければならない。
2つの較正光源が設けられており、それらが、異なるスペクトル組成を有する較正光を発生させるように、整えられていると、特に効果的である。その場合に2つの較正光源から発生された較正光は、前もって測定対象へ通じる光学路内で反射されることなしに、同時に分散性の光学素子を通して検出器へ向けられる。このようにして、統一的な場所に依存しない変位(オフセット)として記述されない、感光性セルの温度に基づく位置変化が検出される。異なるスペクトル組成を有する第1と第2の較正光が使用される場合に、変位が波長に線形に依存することが検出されて、感光性セルと波長又は波長から導き出される変量との間の対応づけを修正する際に考慮される。この場合においては、2つの較正光源から発生される較正光のスペクトルは、もちろん重なり合わない。理想的には、測定光のスペクトルは、2つの較正光源から発生される第1と第2の較正光のスペクトルの間に位置する。
検出器上の様々な場所において較正光によって発生される測定信号をもたらす他の可能性は、分散性の光学素子として回折格子を使用し、かつ較正光のスペクトルを、検出器によって較正光の2つの異なる回折次数が検出可能であるように、選択することにある。ここでも、較正光が検出器へ入射する場所は、理想的にはその対向する端部及びその間に位置する、測定光用に予約された領域の外部に位置する。
本発明の対象は、さらに、対象への間隔又は2つの表面の間の間隔を非接触で測定する方法に関するものであり、以下のステップを有する:
a)多色の測定光が発生され;
b)測定光が、光学的な測定ヘッドによって測定対象上へ向けられて、測定対象から反射された測定光が光学的な測定ヘッドによって受け取られ;
c)測定対象から反射されて、光学的な測定ヘッドによって受け取られた測定光が、スペクトログラフ内でスペクトル分析され、前記スペクトログラフが分散性の光学素子と、多数の感光性セルを備えた検出器とを有し;
d)少なくとも一部の感光性セルの測定信号から間隔値が計算され、その場合に感光性セルの少なくとも一部と、波長又は波長から導き出される変量との間のあらかじめ定められた対応づけが使用され;
e)既知のスペクトル組成を有する、較正光が発生され;
f)較正光が測定対象へ通じる光学路内で前もって反射されることなしに、較正光が分散性の光学素子を通して検出器上へ向けられ;
g)検出器の感光性セルの少なくともいくつかの上で較正光によって発生されるスペクトルの変化から、補正値が導き出され、
h)あらかじめ定められた対応づけが、補正値によって修正され;
i)少なくともステップa)からd)が繰り返され、その場合にステップd)においてステップh)で修正された対応づけが使用される。
測定装置について上で与えられた説明と好ましい形態に対する指摘は、方法についても同様に当てはまる。
較正光が時間的に安定で、温度に依存しないスペクトル組成を有していると、特に効果的である。
較正光は、ステップe)において温度安定のモノクロメータによって発生され、そのモノクロメータは広帯域の光源によって照明される。
較正光を発生させる較正光源は、広帯域の光源と光学的に透明な材料からなるプレートとを有し、そのプレートが干渉の発生によって較正光の強度をスペクトル変調する。
較正光と測定光は、好ましくは、重なり合わないスペクトルを有しており、その場合に較正光のスペクトルは、特に測定光のスペクトルよりも短波とすることができる。この場合においては、較正光を測定光と同時に検出器へ向け、スペクトル分析することが、可能である。
較正光と測定光が、重なり合うスペクトルを有する場合には、較正光は測定光と同時に検出器へ向けてはならない。
測定光源から発生された測定光の一部を分岐させることができる。その場合にスペクトルフィルタリングによって、測定光の分岐された部分から較正光が発生される。
実施例において、異なるスペクトル組成を有する第1と第2の較正光が発生されて、前もって測定対象へ通じる光学路内で反射されることなしに、同時に分散性の光学素子を通して検出器へ向けられる。その場合に第1と第2の較正光のスペクトルは、好ましくは重ならない。
分散性の光学素子が回折格子である場合に、較正光のスペクトルは、検出器によって較正光の2つの異なる回折次数を検出することができるように、選択することができる。
較正光による較正は、比較的大きい時間間隔で実施することができる。というのは、温度は通常比較的ゆっくりと変化するからである。しかしまた、各測定において同時に(たとえばスペクトルが異なる場合において)、あるいはその直後又は前に、較正光によって較正を実施することが、可能である。この場合において、ステップi)でステップa)からd)だけでなく、先行するすべてのステップa)からh)が繰り返される。
定義
多色光というのは、スペクトル的に広帯域であり、かつたとえば複数の色を含むことができ、あるいは、たとえばコームフィルタによって発生されるような、複数の狭帯域のスペクトル成分を有する光である。
分散性の光学素子というのは、機能のために前面にでてくる光学的特性、たとえば屈折率又は回折角度がはっきりとした分散を示し、かつ機能のために分散が望ましい、光学素子である。したがってガラスからなるノーマルなレンズは、−屈折力がわずかな程度波長に依存しているが−分散性の光学素子ではない。それに対して他方でこれは、著しい分散を示し、かつそのように設計されている分散プリズム又は回折格子の場合には、異なる波長の光を異なる強さで屈折又は回折させる。
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
従来技術に基づく間隔を測定する装置を図式的に示している。 スペクトログラフに含まれる検出器のピクセルがどのようにしてスペクトル内の最大強度を、特に温度上昇の前又は後において検出するかを、図式的に示している。 スペクトログラフに含まれる検出器のピクセルがどのようにしてスペクトル内の最大強度を、特に温度上昇の前又は後において検出するかを、図式的に示している。 スペクトログラフに含まれる検出器のピクセルがどのようにしてスペクトル内の2つの最大強度を、特に温度上昇の前又は後において検出するかを、図式的に示している。 スペクトログラフに含まれる検出器のピクセルがどのようにしてスペクトル内の2つの最大強度を、特に温度上昇の前又は後において検出するかを、図式的に示している。 図1と同様の図式的な表示において、色共焦点の測定の原理を使用する、本発明の第1の実施例を示している。 同様に色共焦点の測定の原理を使用し、かつ較正光源がモノクロメータを有している、本発明の第2の実施例を示している。 2つの異なるモノクロメータを有する、較正光源のための変形例を示している。 スペクトル変調された較正光を発生させるためのガラスプレートを有する、較正光源のための変形例を示している。 ガラスプレートによって発生された較正光源のスペクトルを示している。 較正光がガラスプレート上に合焦して入射する、較正光源のための変形例を示している。 較正光がガラスプレートを透過して通過する、較正光源のための変形例を示している得。 同様に色共焦点の測定の原理を使用し、かつ較正光が測定光と同じ光学素子によって発生される、本発明の第3の実施例を示している。 同様に色共焦点の測定の原理を使用し、かつ較正光と測定光が自由空間内で伝播する、本発明の第4の実施例を示している。 測定装置が干渉法測定原理を使用する、本発明の第5の実施例を示している。 較正光と測定光が検出器の同一のピクセルへ入射することができる、第6の実施例を示している。
1.測定原理と問題提起
図1は、従来技術に基づく測定装置10を図式的な表示で示している。測定光源11は、多色測定光12を発生させ、その測定光は、たとえばビームスプリッタキューブとすることができる、光分割装置14と測定ヘッド16とを介して測定対象18へ向けられる。図1において、測定光12の、測定対象16の表面19から反射された部分が、黒い矢印で示唆され、かつ参照符号12’を有している。反射された測定光12’は、測定ヘッド16によって受け取られて、光分割装置14によってスペクトログラフ20へ向けられる。スペクトログラフ20は、分散性の光学素子22を有しており、それは、回折格子又は拡散プリズムとすることができる。さらにスペクトログラフ20は、検出器24を有しており、その検出器が多数の感光性のセル26を有している。感光性のセル26は、直線又は湾曲した線に沿って配置されており、以下においてはピクセルと称される。ピクセルから発生された信号は、評価装置28によって評価されて、それに基づいて表面19に対する間隔値が計算される。
測定において、反射された測定光12’は、分散性の光学素子22によって偏向され、その場合に偏向角度は、反射された測定光12’の波長に依存している。反射された測定光12’が、色共焦点の測定装置の場合にそうであるように、単色である場合に、その反射された測定光は、図1に黒く強調されたピクセル26’によって示唆されるように、検出器24の1つ又はわずかなピクセル26へ入射する。反射された測定光12’が、その前に参照アーム(図示せず)内で反射された測定光と干渉するような測定装置においては、検出器24上に幅広のスペクトルが得られ、それがスペクトル変調されている。その場合に検出器24は、多数の最大強度を検出し、その場合に測定対象18と測定ヘッド16の間の各間隔に、変調周波数が対応づけられている。フーリエ変換によって、検出器16から発生された信号から所望の間隔値が計算され、これは従来技術においてそれ自体知られている。
以下においては単純化するために、測定装置10が色共焦点の測定の原理に従って作動するものとする。しかしすべての考え方は、必要な変更を加えて、干渉法的に作動する測定装置についても当てはまる。
図2は、検出器24の複数のピクセル26を示し、さらに、反射された測定光12’から分散性の光学素子22によって発生される、強度分布を示している。スペクトル強度分布が複数のピクセル26にわたって広がっていることが認識される。各ピクセル26が電気信号を発生し、その信号は、好ましくは線形に、あるいは複雑な特性曲線に従って、発生する光の強度に依存している。ピクセル26の出力信号を比較することによって、どのピクセル26上で最高の強度が達成されるか、が容易に定められる。図2aにおいて、このピクセルは黒でマーキングされ、かつ符号26’で示されている。このピクセルに、所定の波長を対応づけることができる。色共焦点の測定装置においては、各波長に間隔が対応づけられているので、どのピクセルにおいて最大の強度が発生したかの情報から、直接間隔値が導き出される。ピクセルpと波長λの間の対応づけは、たとえば、以下に示すような対応テーブルの形状を有することができる:
各ピクセルp1に、所定の波長λ1が対応づけられている。対応テーブルの使用は、特に、ピクセルと波長の間の関係が、単純な式で示されない場合に、効果的である。対応テーブルは、測定装置のメーカーにより較正によって定められ、その較正において同調可能な較正光源によって、拡散光学素子22からの波長λの光がどのピクセルへ向けられるかが求められる。この較正は、正確に明細を定められた温度において実施される。
スペクトログラフ20内で、たとえば直接隣接し、かつ熱損失を発生させる電子評価装置28によって、温度が上昇した場合に、ピクセル26とスペクトルの間の相対配置は、その中に含まれる最大強度と共に変化する。その原因は、ピクセル26及び/又は拡散光学素子22の位置変化とすることができる。図2aと2bの比較が示すように、相対配置のこの種の変化によって、最大の強度はもはやピクセル26’上ではなく、隣接する、あるいはさらに隔たったピクセル26”上に生じる。
それに伴って生じる測定の不正確さを回避するために、本発明によれば、ピクセルと波長の間の対応テーブルが修正される。たとえばすべてのピクセルにおいて、シフトがΔpピクセルである場合に、以下の補正計算が実施される:
その場合にp1,korrが補正されたピクセル番号であり、p1が元のピクセル番号である。その場合に波長については以下の補正された対応規則が生じる:
その中で、λ1,korrは、ピクセルp1における信号のための補正された波長であり、λ(p1)は元の対応テーブルから生じる値である。
しかし、しばしばスペクトログラフ20内の温度変化は、図2aと2bに示されるように、単純かつすべてのピクセル26について同一の変位Δpをもたらさないだけではない。むしろ、検出器24の様々なピクセルについて変位は、異なる大きさになることがあり得る。
この場合が、図3aと3bに示されている。図3aにおいては、2つの最大強度が、検出器24の互いにずっと離れた場所に示唆されている。初期温度において、これらの最大強度はピクセル26−1’と26−2’に位置している。しかし温度が上昇した場合には、シフトは異なる大きさとなることがあり、それが図3bに示されている。左に示す最大強度は、1ピクセルだけ左へシフトしているが、右に示す最大強度においては、右へ3ピクセルだけシフトしている。波長に依存するこの種のピクセル変位Δp=Δp(λ)は、以下においてスケーリングエラーと称される。
色共焦点の測定装置において波長に依存しない変位Δp=costが存在する場合には、これが測定された間隔値に直接作用する。というのは、各ピクセルに間隔値が直接対応づけられているからである。透明なボディの表面の間の間隔が測定される場合に、間隔値におけるオフセットは、差形成によって認められなくなる。スケーリングエラー(Δp=Δp(λ))が発生する場合にも、2つの表面の間の間隔測定は、それに当てはまる。というのはこの場合において、変位の波長依存性に基づいて、エラーのある間隔値はもはや算出されないからである。
干渉法的測定装置においては、変位が波長に依存しない場合Δp=costに、同様に間隔測定においてエラーがもたらされる。色共焦点の測定方法におけるのと同様に、測定対象の2つの表面の間の間隔を測定する場合に、スケーリングエラーが測定の不正確さをもたらす。それについての詳細は、第5の実施例に関連して以下で説明する。
2.第1の実施例
図4は、図1に準拠した表示において、本発明に係る測定装置10のための第1の実施例を示している。これは、図1に示し、かつ従来技術において知られている測定装置のように、測定光源11、光分割装置14、測定ヘッド16及びスペクトログラフ20を有しており、そのスペクトログラフが分散性の光学素子22と、ピクセル26を備えた検出器24とを有している。
付加的に、本発明に係る測定装置10は、較正光源30を有しており、図示される実施例においてその較正光源は、較正光を発生させるように設計されている。較正光は、2つの互いに分離された狭帯域のスペクトル成分を有し、それらは以下で第1と第2の較正光と称される。
波長λaを有する第1の較正光32aは、ピクセル32aによって、そして波長λbを有する第2の較正光32bは、ピクセル32bによって示唆されている。第1と第2の較正光32a、32bは、前もって測定対象18へ通じる光学路内で反射されることなしに、光分割装置14を通り、分散性の光学素子22を通って検出器24上へ向けられる。分散性の光学素子22は、波長に従って較正光を偏向させるので、第1の較正光32aの最大強度は第1のピクセル26aへ、そして第2の較正光32bの最大強度は第2のピクセル26bへ入射する。その場合に較正光源30は、第1と第2の較正光32a、32bが時間的に安定し、かつ温度に依存しないスペクトル組成を有するように設計されているものと仮定する。したがって波長λa、λbは、通常の駆動の間に発生するすべての温度において、一定である。
スペクトログラフ20内で、温度変化においてピクセル26とスペクトルの間の相対配置が変化した場合に、これは較正光32a、32bを用いて直接検出される。その場合に、上で図3aと3bに関して説明したのと同じ考えが利用される。したがって2つの波長λa、λbの各々について、較正光がどのピクセルへ当接するかが定められる。元の対応テーブルと比較することによって、2つの波長について温度変化した場合にピクセル変位Δpがどの位の大きさか、を容易に定めることができる。2つの波長において変位が同じ場合には、波長に依存しない変位(Δp=cost)が存在するので、式(1)に従って特に簡単な補正が生じる。
変位が波長に依存する場合に、補正されたピクセル番号pkorrは、以下の線形の式によって計算される;
その場合にΔp(λa)とΔp(λb)は、2つの波長λa、λbについて較正光32a、32bを用いて測定された変位であり、pmessは、最高の強度が測定されたピクセルである。その後、補正されたピクセル位置から、色共焦点の間隔測定において、補正された間隔値を容易に計算することができる。
2つの異なる波長を有する較正光の代わりに、唯一の波長のみを有する較正光を使用して、それが2つの異なる場所において検出器26へ入射するようにすることができる。たとえば分散性の光学素子22として、回折格子が使用される場合に、これは、較正光の+1次の回折も、−1次の回折も検出器26によって検出することができるように、設計することができる。このようにして、同様に、検出器24上の既知の波長の較正光が当接する2つのずっと離れた箇所が得られる。理想的には、間隔測定において測定光が入射するピクセルは、これらの場所の間にある。このようにして、間隔測定は較正によって妨げられず、かつ同時に較正光が検出器24上に当接する場所は、互いに最大に離れており、それは、式(3)によって記述される線形の関数の決定に関して効果的である。較正光と測定光のスペクトルが重なる場合には、較正光が測定光と同じピクセルへ入射し、それによって測定を歪曲し得る。これを回避するために、この場合においては較正は、測定光による測定の間の期間内に実施されなければならない。それに対して代替的に、適切な措置によって、スペクトルが重なるにもかかわらず、較正光が測定光と同じピクセルへ入射できないようにすることができる。それについての詳細は、第6の実施例に関連して、下でさらに説明する。
較正光源30が、唯一の波長を有する較正光のみを発生させる場合には、それによってスケーリングエラーは定められない。したがってスケーリングエラーが発生せず、あるいは無視できるくらい小さい測定装置においては、1つの波長のみを有する較正光を発生させれば、充分である。
3.第2の実施例
図5は、色共焦点の測定原理に従って作動する測定装置10のための第2の実施例を図式的な表示で示している。測定光源11は、LED34からなり、そのLEDが約500nmと700nmの間の波長を有する多色光を発生する。測定光12は、集光レンズ36によって光学ファイバー38内へ結合されて、ファイバーカップラー40として形成されている光分割装置を介して測定ヘッド16へ達する。そこで測定光12は、光学ファイバー39から出て、2つのレンズ42、44からなる、色補正されない対物レンズによって測定対象18上へ向けられる。対物レンズの色的な長手収差によって、出射する測定光12は様々な波長平面内に合焦され、それが図5に3つの異なる波長について示唆されている。測定対象18の表面19において反射された測定光12は、測定ヘッド18を介して光学ファイバー39内へ戻り、ファイバーカップラー40を介して、スペクトログラフ20へ通じる他の光学ファイバー41へ供給される。
図示される実施例において、較正光源30は広帯域のLED46を有しており、それが青紫のスペクトル領域内の光を発生する。較正光32は、集光レンズ48によってコリメートされて、モノクロメータ50を通過し、そのモノクロメータが較正光32のスペクトルから狭い周波数帯域を濾過する。今や単色の較正光32は、集光レンズ52によって光学ファイバー54内へ結合され、その光学ファイバーがファイバーカップラー40と結合されて、較正光が光学ファイバー41を介してスペクトログラフ20へ案内される。
スペクトログラフ20内で、較正光32及び測定光12も集光レンズ55によってコリメートされて、分散性の光学素子へ向けられ、その光学素子が反射格子56として形成されている。それにおいて反射されて、回折された光は、他の集光レンズ57を介して、ピクセル26を有する検出器24上へ向けられ、その検出器が評価装置28と接続されている。
したがってこの実施例において、較正光源30は唯一の波長を有する較正光のみを発生するので、波長に依存するピクセル変位は検出できない。
図6は、変形例に基づく較正光源30を示しており、それにおいてコリメートされた光路内でレンズ48の後方に、2つの分離部材からなるモノクロメータ50が配置されている。2つの分離部材は光路内に次のように、すなわち較正光32の半分が分離部材50aを通過し、他の半分が分離部材50bを通過するように、配置されている。2つの分離部材50a、50bは、異なるフィルタ作用を有しているので、図6に示す実施例において、異なる波長を有する第1と第2の較正光32a、32bが発生される。
分離部材50a、50bは、たとえばファブリ・ペロー干渉計とすることができる。この種の干渉計の可能な組立て形状は、平面平行かつ部分反射するようにコーティングされた表面を備えたプレートを含んでいる。干渉計を通過することができる光の波長は、プレートの厚みに依存している。したがって様々なプレート厚によって、様々なスペクトル濾過が得られる。
較正光源30の他の変形例が、図7に示されている。この変形例において、較正光は1つ又は2つの単色の成分からではなく、測定光12と正確に同じに多色である。それにもかかわらず検出器24のピクセル26に波長を対応づけることができるようにするために、図8に示すように、較正光のスペクトル(p)が変調されている。最大強度が互いに対して充分に遠く離れている場合に、それらは充分な精度で検出器24によって解像して、個々のピクセルに対応づけることができる。
図7が示すように、スペクトル変調を発生させるために、LED46によって発生された広帯域の較正光が絞り51、ビームスプリッタキューブ53及び集光レンズ59を介して透明なプレート58へ向けられ、そのプレートの後ろ側60は較正光32を完全に反射し、その前側62は部分的に反射する。後ろ側60と前側62において反射された較正光32の干渉によって、図8に示すスペクトル変調が生じ、その可変の部分は、
に比例する。式(4)内でnはプレート58の屈折率、dは厚みである。
プレート58の厚みdと屈折率nが温度と共に変化しない場合には、最大干渉が発生する波長は、一定に留まる。したがってプレート58は好ましくはガラスからなり、その熱膨張係数と屈折率変化は、通常発生する温度においては無視できるくらい小さい。その場合に変調周波数及びそれに伴って検出器26上の最大強度の位置は、特に温度が変化した場合にLED46の放出スペクトルが変化する場合でも、広い温度領域にわたって一定に留まる。
他の可能性は、プレート58のために非熱伝導性のガラスを使用することにあって、それにおいて熱的に誘導される幾何学的厚みの増大は、少なくとも実質的に屈折率の逆方向の減少によって補償される。このようにして、幾何学的厚みと屈折率の積によって定められ、かつ変調周波数を定めるプレート58の光学的厚みは、温度が変化した場合でも高い精度で一定に留まる。この種の非熱伝導性のガラスの例は、たとえばSchott社のN−PK51とN−FK51Aである。
この種の変調されたスペクトルによっても、検出器26上の2つの場所が照明され、それらの間に測定光によって照明されるピクセルが存在する。もっとも簡単な場合において、そのために、較正光の2つの回折次数が検出器26によって検出され、それについては第1の実施例に関連して上ですでに説明されている。
図7において破線で、スペクトルフィルタ64が記入されており、それは限界波長よりも小さい波長のみを通過させる。限界波長は、測定光12の最小の波長よりも短い。このようにして、測定光のスペクトル内にある較正光が検出器24へ達し得ないことが、保証される。したがって較正光32は、本来の間隔測定を損なうことがない。この種のスペクトルフィルタ64は、較正光源30のLED46のスペクトルが、測定光源11のLED34のスペクトルと重畳する場合に、効果的である。スペクトルの重畳がない場合には、スペクトルフィルタ64は省くことができる。
図9は、較正光源30の他の変形例を示しており、それは図7に示す変形例から、較正光32がコリメートされず、合焦された光束としてプレート58上に当接することによってのみ、異なっている。
図10に示す、較正光源30の変形例においては、図7と9に示す変形例とは異なり、プレート58は透過して通過される。それによって較正光源30の構造が簡略化される。というのは、ビームスプリッタキューブ53が必要とされないからである。
4.第3の実施例
上述した実施例において、様々な光学素子が測定光と較正光を発生させる。このようにして特に簡単に、スペクトルが重ならず、かつ測定の間でも較正を実施できることが、保証される。
間隔測定の間に規則的な較正を実施するために、充分に時間が提供される場合に、測定光と較正光は同一の光学素子から発生させることができる。図11は、この種の構造の実施例を示しており、それにおいて較正光源30は単に、図7に示す実施例の集光レンズとプレート58からなる。測定光源11から発生された測定光12は、ファイバーカップラー40を介して較正光源30へ供給され、かつプレート58へ向けられる。そこで、図7に関して上で説明したように、較正光にスペクトル変調がもたらされる。その場合にスペクトル変調された較正光は、図5に示す実施例におけるように、光学ファイバー41を介してスペクトログラフ20内へ達する。較正光源内のLED46を省くことによって、較正光源30の構造が簡略化される。
スペクトルフィルタを用いて測定光の一部が分岐されて、スペクトログラフへ供給される場合にも、光を発生させる付加的な光学素子を省くことができる。この場合において、較正は間隔測定と同時に実施される。もちろんこの変形例においては、間隔測定のために少ない帯域幅が提供され、それによって間隔測定のための測定領域が縮小される。
5.第4の実施例
図12は、本発明に係る測定装置10のための他の実施例を示しており、それは、図7に示す変形例に実質的に相当する。測定光源11、較正光源30、測定ヘッド16及びスペクトログラフ20の間で、測定光12と較正光32は伝播するが、光学ファイバー内ではなく、自由空間内で伝播する。したがって図5に示す実施例のファイバーカップラーは、ビームスプリッタキューブ40’によって代用される。
スペクトログラフ20内の光路は、さらに、測定光12と較正光32が反射格子56における回折の前も後も、同じレンズ56を通過するように、折りたたまれている。
測定光12は、この実施例において、その他においては示されない測定光源の射出窓70から出射して、2つの絞り72、74を介し、ビームスプリッタキューブ40’を介して測定ヘッド16へ向けられる。
6.第5の実施例
本発明に係る測定装置についてこれまで説明した実施例はすべて、共焦点−色間隔測定の原理に基づいている。しかし、上ですでに定められたように、本発明は間隔測定するための干渉法的装置においても使用可能である。この種の装置においては、測定ヘッド16ははっきりとした色の長手収差をもたない。その代わりに間隔情報は、反射された測定光12’のスペクトルから、それが参照光と干渉した後に、得られる。
図13は、この種の測定装置10の実施例を示している。これは、図5に示す実施例にほぼ相当するが、測定ヘッド16内に含まれる対物レンズが色補正されており、かつ付加的に参照アーム80の終端側のミラー82がファイバーカップラー84に接続されていることが、異なっている。参照アーム80内で、測定光源11から発生された測定光12がミラー86で反射されて、ファイバーカップラー84内で、測定対象18の表面19で反射された測定光12’と干渉する。この干渉は、スペクトログラフ20内で検出されて、検出器24上へ変調されたスペクトルを発生させる。逆高速フーリエ変換(IFFT, inverse Fast Fourier Transformation)によって、スペクトルから、それぞれ間隔値に対応づけられた、変調周波数を得ることができる。これ以上の詳細については、本出願人の独国特許出願公開第102016005021(A1)号明細書を参照するよう指示する。
逆FFTを実施することができるようにするために、まず、個々のピクセルpiから測定された強度値Pint(pi)から、位相に依存する強度pint(Ki)を導き出さなければならない。その場合に波数kは、式
によって波長λと結合され、その場合にn(λ)は、媒体の拡散を表し、測定対象18がその媒体からなり、かつ場合によってはその中へ測定光が進入する。波長λは、ここでもセクション1で説明した対応テーブルp1=p1(λ1)を介してピクセル番号pに対応づけられている。ピクセル番号pを補正するために、ここでも式1又は3に基づいて補正されたピクセル番号pkorrが使用される。その結果が、波数kとピクセル番号pの間の修正された対応づけであり、それが、ピクセルに依存する強度pint(pi)を位相に依存する強度pint(ki)に換算するために必要である。
7.第6の実施例
上述した実施例においては、較正光と測定光のスペクトルが重なりなしでなければならないか、あるいは較正は測定と同時に実施することはできない。
第1の実施例に関連してすでに簡単に記載したが、適切なビームガイドによって、較正光と測定光のスペクトルの重畳にもかかわらず、測定光による測定の間に較正を実施することができる。このようにして、たとえば個々の測定のために、較正光を用いて同時に定められる対応テーブルを利用することができる。
図14は、スペクトロメータ20の一部を図式的に示している。分散性の光学素子が見られ、その素子はここでは特に表示しやすい理由から、透過格子84として形成されている。透過格子84は、図5、11及び12に示される反射格子56においてもそうであるように、コリメートされた光路内に配置されている。他の実施例におけるのと同様に、集光レンズ57が回折された光を検出器24上へ合焦させる。
上述した実施例とは異なり、検出器24は1つだけでなく、2つのピクセル行86、88を有している。図示される実施例において、z方向に対して平行の光学軸90がそれを通って延びる、第1のピクセル行86に沿って、第1のピクセル26−1が配置されており、それらの上には測定光12'のみが入射することができる。x方向に沿って変位しているが、第1のピクセル行86に対して平行に延びる、第2のピクセル行88に沿って、第2のピクセル26−2が配置されており、その上には較正光32のみが入射することができる。
測定光12’は、この実施例においても軸平行に分散性の光学素子(透過格子84)へ入射する。透過格子84の回折する構造が、x方向に沿って延びているので、測定光12’は波長に従ってyz平面内で偏向されて、集光レンズ57によって第1のピクセル行86の第1のピクセル26−1上へ向けられ、これは、上述した実施例においても同様である。
それに対してコリメートされ、かつ図14に破線で示唆される較正光32は、この実施例においては透過格子84上へ軸平行ではなく、xz平面に関してゼロとは異なる角度で入射する。それによって集光レンズ57は、yz平面内で回折された較正光32を、第1のピクセル行86のピクセル26−1上ではなく、それに対してx方向に変位して配置された第2のピクセル行88の第2のピクセル26−2上へ合焦させる。したがって、図14において想定されるように、入射方向が異なることによって、較正光32と測定光12’は、波長及びそれに伴って回折角度が同一である場合でも、同じピクセル上に合焦することはできない。したがってこの実施例において、較正と測定は、較正光32と測定光12’が等しいスペクトルを有する場合でも、同時に実施することができる。したがってこの考え方は、図11に示す実施例と特に良好に組み合わせることができ、それにおいて較正光32と測定光12’は、同じLEDから発生され、したがって同一のスペクトルを有している。
2つのピクセル行86、88は同じ検出器24内に、かつ図示される実施例において特に直接隣接して配置されているので、2つのピクセル行86、88内のピクセルは、常に同一のy位置を有している。それによって、較正光32を供給される第2のピクセル16−2の位置から、その下方に配置されている第1のピクセル26−1の位置を直接推定することができる。したがって評価するために、較正光32が第1のピクセル26−1に入射するか、あるいはその上方に配置されている第2のピクセル26−2へ入射するかは、区別されない。
較正光32と測定光12’を異なる方向から分散性の光学素子へ向けることができるようにするために、図5と11に示されるような、ファイバーベースの配置において、較正光32を専用のファイバーを介して案内することができる。その場合に集光レンズ55の焦点面内に、ファイバーの2つの端部が並べて配置される。図14に示す実施例において、ファイバー端部の変位は、x方向に沿って設けられる。
図12に例示されるような、フリービーム伝播を有する配置においては、較正光源30の絞り51を用紙平面に対して垂直に移動させればよい。
もちろんビームチルトは、他のやり方でも、たとえばくさびプリズムの使用によって、もたらされる。
検出器上の較正光と測定光の所望の空間的分離は、分散性の光学素子上への較正光と測定光の異なる入射方向によって保証されるだけではない。それに対して代替的に、たとえば、較正光と測定光を異なるように分極し、たとえば直交して線形に分極し、あるいは逆に循環して分極することが、考えられる。その場合には、ピクセル26−1、26−2の直前又はその上に配置された、適切な分極フィルタを用いて、較正光を、同じ波長を有する反射された測定光が入射することのできないピクセル上のみへ、そしてその逆に、入射させる。
10 測定装置
11 測定光源
12 測定光
12’ 反射された測定光
14 光分割装置
16 測定ヘッド
18 測定対象
19 表面
20 スペクトロメータ
22 分散性の光学素子
24 検出器
26 感光性セル(ピクセル)
28 評価装置
30 較正光源
32 較正光
34 測定光源のLED
36 集光レンズ
38 光学ファイバー
39 光学ファイバー
40 ファイバーカップラー
40’ ビームスプリッタキューブ
41 光学ファイバー
42 集光レンズ
44 集光レンズ
46 較正光源のLED
48 集光レンズ
50 モノクロメータ
51 絞り
52 集光レンズ
53 ビームスプリッタキューブ
54 光学ファイバー
55 集光レンズ
56 反射格子
57 集光レンズ
58 プレート
59 集光レンズ
60 後ろ側
62 前側
64 スペクトルフィルタ
70 射出窓
72 絞り
74 絞り
80 参照アーム
82 ミラー
84 透過格子
86 第1のピクセル行
88 第2のピクセル行
90 光学軸

Claims (14)

  1. 表面(19)に対する間隔、あるいは2つの表面の間の間隔を非接触で測定する測定装置であって、
    多色の測定光(12)を発生させるように整えられた、測定光源(11)を有し、
    測定光源(11)から発生された測定光(12)を測定対象(18)へ向けて、測定対象(18)から反射され測定光(12')を受け取るように整えられた、光学的な測定ヘッド(16)を有し、
    測定対象(18)から反射されて、光学的な測定ヘッド(16)によって受け取られた測定光(12')をスペクトル分析するように整えられた、スペクトログラフ(20)を有し、その場合にスペクトログラフ(20)が分散性の光学素子(22)と、多数の感光性セル(26)を備えた検出器(24)とを有しており、
    少なくとも一部の感光性セル(26)の測定信号から間隔値を計算するように整えられた、評価装置(28)を有する、
    ものにおいて、
    測定装置(10)が較正光源(30)を有し、前記較正光源が、既知のスペクトル組成を有する較正光(32)を発生させるように、整えられており、その場合に較正光(32)は、前もって測定対象(18)へ通じる光学路内で反射されることなしに、分散性の光学素子(20)を通して検出器(24)へ向けることができ、かつ
    評価装置(28)がさらに、較正光(32)によって検出器(24)の感光性セル(26)の少なくともいくつかにおいて発生されるスペクトルの変化から、補正値を導き出すように、整えられており、前記補正値によって、感光性セル(26)の少なくとも一部と、波長又は波長から導き出された変量との間のあらかじめ定められた対応づけが修正される、
    ことを特徴とする測定装置。
  2. 評価装置(28)が、検出器(24)の感光性セル(26)の少なくとも一部の上に較正光(32)によって発生される、強度パターンの位置の変化から補正値を導き出すように、整えられている、ことを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
  3. 較正光(32)が、時間的に安定した、温度に依存しないスペクトル組成を有している、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
  4. 較正光源(30)が、広帯域の光源(46)と温度安定のモノクロメータ(50)とを有している、ことを特徴とする請求項3に記載の測定装置。
  5. 較正光源(30)が、広帯域の光源(46)と反射する面の配置とを有しており、前記配置が干渉の発生によって較正光の強度をスペクトル変調する、ことを特徴とする請求項3に記載の測定装置。
  6. 較正光(32)と測定光(12)が、重なり合わないスペクトルを有している、ことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の測定装置。
  7. 較正光(32)と測定光(12)が、重なり合うスペクトルを有するが、較正光(32)は測定光(12)と同時に検出器(24)へ向けることができない、ことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の測定装置。
  8. 較正光(32)と測定光(12)が、少なくとも部分的に重なり合うスペクトルを有し、かつ
    較正光(32)は、ある波長を有する較正光(32)が、同じ波長を有する反射された測定光(12')が入射することのできない感光性セル上に入射するようにして、分散性の光学素子(20)を通して検出器(24)へ向けることができる、
    ことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の測定装置。
  9. 較正光(32)が、反射された測定光(12')とは異なる方向から分散性の光学素子(20)へ入射し、かつ
    好ましくは感光性のセル(26)が、第1のセル(26−1)と第2のセル(26−2)を有し、前記第1のセルには較正光(32)のみが入射することができ、かつ前記第1のセルが第1の行(86)に沿って配置されており、前記第2のセルには反射された測定光(12')のみが入射することができ、かつ前記第2のセルが、第1の行(86)に対して平行に延びる第2の行(88)に沿って配置されている、
    ことを特徴とする請求項8に記載の測定装置。
  10. 較正光源(30)が、測定光源(11)から発生された測定光(12)の一部を分岐させるビームスプリッタ(40)と、モノクロメータ(50)又は請求項5に記載の平面平行のプレート(58)とを有している、ことを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の測定装置。
  11. 様々なスペクトル組成を有する較正光を発生させるように整えられた、2つの較正光源が設けられ、その場合に2つの較正光源(30)から発生された較正光(32)が、前もって測定対象(18)へ通じる光学路内で反射されることなしに、同時に拡散性の光学素子(20)を通って検出器(24)へ向けることができる、ことを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載の測定装置。
  12. 分散性の光学素子が回折格子(50)であって、かつ
    較正光(32)のスペクトルが、検出器(24)によって較正光の2つの異なる回折次数が検出可能であるように、選択されている、ことを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載の測定装置。
  13. 表面(19)に対する間隔又は2つの表面の間の間隔を非接触で測定する方法であって、以下のステップ:
    a)多色の測定光(12)が発生され;
    b)測定光(12)が、光学的な測定ヘッド(16)によって測定対象(18)上へ向けられて、測定対象(18)から反射された測定光(12')が光学的な測定ヘッド(16)によって受け取られ;
    c)測定対象(18)から反射されて、光学的な測定ヘッド(16)によって受け取られた測定光(12')が、スペクトログラフ(20)内でスペクトル分析され、前記スペクトログラフが分散性の光学素子(22)と、多数の感光性セル(26)を備えた検出器(14)とを有し;
    d)少なくとも一部の感光性セル(26)の測定信号から間隔値が計算され、その場合に感光性セルの少なくとも一部と、波長又は波長から導き出された変量との間のあらかじめ定められた対応づけが使用され;
    e)既知のスペクトル組成を有する、較正光(32)が発生され;
    f)較正光(32)が測定対象(18)へ通じる光学路内で前もって反射されることなしに、較正光(32)が分散性の光学素子(22)を通して検出器(24)上へ向けられ;
    g)検出器(24)の感光性セル(26)の少なくともいくつかの上で較正光(32)によって発生されるスペクトルの変化から、補正値が導き出され、
    h)あらかじめ定められた対応づけが、補正値によって修正され;
    i)少なくともステップa)からd)が繰り返され、その場合にステップd)においてステップh)で修正された対応づけが使用される、
    ステップを有する方法。
  14. 請求項1から12のいずれか1項の特徴を有する、請求項13に記載の方法。
JP2020518006A 2017-09-29 2018-09-20 表面に対する間隔又は2つの表面の間の間隔を非接触で測定する方法と装置 Active JP7410853B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102017122689.3A DE102017122689A1 (de) 2017-09-29 2017-09-29 Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen Messung eines Abstands zu einer Oberfläche oder eines Abstands zwischen zwei Oberflächen
DE102017122689.3 2017-09-29
PCT/EP2018/075441 WO2019063403A1 (de) 2017-09-29 2018-09-20 Verfahren und vorrichtung zur berührungslosen messung eines abstands zu einer oberfläche oder eines abstands zwischen zwei oberflächen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020535433A true JP2020535433A (ja) 2020-12-03
JP7410853B2 JP7410853B2 (ja) 2024-01-10

Family

ID=63678621

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020518006A Active JP7410853B2 (ja) 2017-09-29 2018-09-20 表面に対する間隔又は2つの表面の間の間隔を非接触で測定する方法と装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7410853B2 (ja)
CN (1) CN111373301B (ja)
DE (1) DE102017122689A1 (ja)
WO (1) WO2019063403A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113175867B (zh) * 2021-05-24 2022-07-26 浙江理工大学 一种正弦相位调制激光干涉仪及载波生成、信号解调方法
DE102021124048A1 (de) 2021-09-16 2023-03-16 Precitec Optronik Gmbh Optische Dickenmessvorrichtung
DE102021211046A1 (de) * 2021-09-30 2023-03-30 Micro-Epsilon Optronic Gmbh Spektrometer, Abstandsmesssystem sowie Verfahren zum Betreiben eines Spektrometers
DE102022131700A1 (de) 2022-11-30 2024-06-06 Precitec Optronik Gmbh Optische interferometrische Messvorrichtung und Verfahren
DE102022134248A1 (de) * 2022-12-20 2024-06-20 Precitec Optronik Gmbh Chromatisch konfokale Messeinrichtung
DE102022134249A1 (de) * 2022-12-20 2024-06-20 Precitec Optronik Gmbh Chromatisch konfokale Messeinrichtung

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009526216A (ja) * 2006-02-08 2009-07-16 シロナ・デンタル・システムズ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング クロマティック共焦点三次元計測技術のための迅速かつ強力な方法および装置
JP2010220774A (ja) * 2009-03-23 2010-10-07 Nidek Co Ltd 眼科撮影装置、及び眼科撮影装置のキャリブレーション方法
JP2010261890A (ja) * 2009-05-11 2010-11-18 Canon Inc 光波干渉計測装置
JP2016166870A (ja) * 2015-03-02 2016-09-15 株式会社ミツトヨ クロマティック共焦点センサ及び測定方法
WO2017110838A1 (ja) * 2015-12-25 2017-06-29 株式会社キーエンス 共焦点変位計
WO2017116998A1 (en) * 2015-12-29 2017-07-06 Oak Analytics Compact spectrometer

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004049541A1 (de) 2004-10-12 2006-04-20 Precitec Optronik Gmbh Meßsystem zur Vermessung von Oberflächen sowie Kalibrierverfahren hierfür
JP4837982B2 (ja) * 2005-11-30 2011-12-14 株式会社ニデック 眼科装置
DE102008024598A1 (de) 2007-05-21 2008-12-18 Micro-Epsilon Messtechnik Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Kompensation von temperaturbedingten Messfehlern einer optischen Anordnung sowie optische Anordnung
DE102008017481B4 (de) * 2008-04-03 2013-10-24 Sirona Dental Systems Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur optischen 3D-Vermessung und zur Farbmessung
US8134691B2 (en) 2010-03-18 2012-03-13 Mitutoyo Corporation Lens configuration for a thermally compensated chromatic confocal point sensor
US8921767B2 (en) * 2010-08-02 2014-12-30 The Johns Hopkins University Automatic calibration of fourier-domain optical coherence tomography systems
WO2014043799A1 (en) * 2012-09-24 2014-03-27 Tornado Medical Systems Inc. Pixel-shifting spectrometer on chip
DE102014111979A1 (de) * 2014-08-21 2016-02-25 Martin Berz Interferometer
CN107209356B (zh) * 2014-12-09 2020-07-17 阿森提斯股份有限公司 用于高度和厚度的非接触式测量的集成光学器件
US9541376B2 (en) 2015-03-02 2017-01-10 Mitutoyo Corporation Chromatic confocal sensor and measurement method
DE102015118069B4 (de) 2015-10-22 2017-08-31 Precitec Optronik Gmbh Messvorrichtung und Verfahren zur Messung der Dicke einer flächigen Probe
DE102016005021B4 (de) 2016-04-22 2024-07-11 Precitec Optronik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Tiefe der Dampfkapillare während eines Bearbeitungsprozesses mit einem Hochenergiestrahl
CN107504897B (zh) * 2017-09-14 2023-06-23 广东三姆森科技股份有限公司 基于光谱波长的非接触式位移测量方法及其测量装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009526216A (ja) * 2006-02-08 2009-07-16 シロナ・デンタル・システムズ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング クロマティック共焦点三次元計測技術のための迅速かつ強力な方法および装置
JP2010220774A (ja) * 2009-03-23 2010-10-07 Nidek Co Ltd 眼科撮影装置、及び眼科撮影装置のキャリブレーション方法
JP2010261890A (ja) * 2009-05-11 2010-11-18 Canon Inc 光波干渉計測装置
JP2016166870A (ja) * 2015-03-02 2016-09-15 株式会社ミツトヨ クロマティック共焦点センサ及び測定方法
WO2017110838A1 (ja) * 2015-12-25 2017-06-29 株式会社キーエンス 共焦点変位計
WO2017116998A1 (en) * 2015-12-29 2017-07-06 Oak Analytics Compact spectrometer
JP2019500612A (ja) * 2015-12-29 2019-01-10 オーク アナリティクス コンパクトスペクトロメータ

Also Published As

Publication number Publication date
CN111373301A (zh) 2020-07-03
DE102017122689A1 (de) 2019-04-04
JP7410853B2 (ja) 2024-01-10
WO2019063403A1 (de) 2019-04-04
CN111373301B (zh) 2022-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020535433A (ja) 表面に対する間隔又は2つの表面の間の間隔を非接触で測定する方法と装置
US6137565A (en) Bragg grating temperature/strain fiber sensor having combination interferometer/spectrometer output arrangement
JP5087186B1 (ja) 等光路干渉計
JP6157240B2 (ja) 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法
JP4912504B1 (ja) 屈折率の計測方法および計測装置
KR101750188B1 (ko) 공초점 계측 장치
US8432553B2 (en) Phase from defocused color images
JP5095475B2 (ja) 光学式変位測定装置
JP5648961B2 (ja) 分光特性測定装置及びその校正方法
JP2017003434A (ja) 屈折率の計測方法、計測装置、光学素子の製造方法
CN109029244B (zh) 多波长激光干涉仪
WO2012170275A1 (en) Coupled multi-wavelength confocal systems for distance measurements
JP2010237183A (ja) 低コヒーレンス干渉計及び光学顕微鏡
JP2015105850A (ja) 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法
US11248900B2 (en) Method and assembly for chromatic confocal spectral interferometry or spectral domain oct
JP2017116509A (ja) 共焦点変位計
JP6157241B2 (ja) 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法
JP2017116508A (ja) 共焦点変位計
WO2019176938A1 (ja) 波長検出装置及び共焦点計測装置
JP2606146B2 (ja) スペクトル測定方法および装置
JP2006284233A (ja) システム誤差計測装置およびこれを備えた波面測定用干渉計装置
WO2024146600A1 (zh) 干涉解调装置和干涉测量系统
JP2015010920A (ja) 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法
JP4634884B2 (ja) 表面性状測定装置
JP2014202645A (ja) 計測装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210715

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220621

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220802

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221031

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230519

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230711

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231002

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231205

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231222

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7410853

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150