JP2020529702A5 - - Google Patents

Claims (18)

1. 電子ビーム装置であって、
   電子を放出するように構成されたチップと、サプレッサと、エクストラクタとを含む電子ソースと、
   接地された第１の静電アノードと、
   前記静電アノードと前記電子ソースの間に配置されたビーム制限アパーチャと、
   複数の磁極片とコイルを含む磁気銃レンズであって、前記電子ソース、前記第１の静電アノードおよび前記ビーム制限アパーチャの両側に配置された磁気銃レンズと、
   前記第１の静電アノードから前記ビーム制限アパーチャの反対側に配置された静電銃レンズと、
   接地された第２の静電アノードであって、前記第１の静電アノードから前記静電銃レンズの反対側に配置された第２の静電アノートと、を備える電子ビーム装置。
2. ウェハを保持するように構成されたチャックと、
   集束レンズと、
   前記チャックと前記収束レンズの間に配置された対物レンズと、
   前記第２の静電アノードと前記集束レンズの間に配置されたコラムアパーチャと、
   をさらに備えた請求項１に記載の電子ビーム装置。
3. 前記電子ビーム装置は、前記電子ビームを、前記静電銃レンズと前記コラムアパーチャの間の第１のクロスオーバと、前記集束レンズと前記対物レンズの間の第２のクロスオーバを有するように整形するよう構成されている請求項２に記載の電子ビーム装置。
4. 前記電子ソースは冷電界放出ソースである請求項１に記載の電子ビーム装置。
5. 前記電子ソースは熱電界放出ソースである請求項１に記載の電子ビーム装置。
6. 請求項１に記載の電子ビーム装置を含む走査電子顕微鏡。
7. 電子ソースで電子ビームを生成し、
   エクストラクタで前記電子ビームを抽出し、
   複数の磁極片およびコイルを含み前記ビーム制限アパーチャの両側に配置された磁気銃レンズを用いて、ビーム制限アパーチャを通してウェハに電子ビームを向け、
   前記電子ビームがビーム制限アパーチャを通過した後で前記電子ビームを静電銃レンズを通して通過させることを含む方法。
8. 前記電子ビームを用いて前記ウェハの画像を生成することをさらに含む請求項７に記載の方法。
9. 前記磁気銃レンズが作動され、前記静電銃レンズは作動されないことを含む請求項７に記載の方法。
10. 前記磁気銃レンズはビーム電流スイッチング速度でビーム電流を選択するように構成されている請求項７に記載の方法。
11. 前記電子ビームがウェハに到達する前に前記電子ビームをコラムアパーチャ、集束レンズおよび対物レンズを通って通過させることをさらに含む請求項７に記載の方法。
12. 前記電子ビームは前記ビーム制限アパーチャと前記コラムアパーチャの間の第１のクロスオーバと、前記集束レンズと前記対物レンズの間の第２のクロスオーバを有するように構成される請求項１１に記載の方法。
13. 前記静電銃レンズはビーム電流をビーム電流スイッチング速度で選択するように構成されている請求項７に記載の方法。
14. 前記磁気銃レンズと前記静電銃レンズはビーム電流スイッチング速度でビーム電流を選択するように構成されている請求項７に記載の方法。
15. 前記電子ソースは冷電界放出ソースである請求項１４に記載の方法。
16. 前記電子ビームのビーム電流は０.００１ｎＡ〜５００ｎＡである請求項７に記載の方法。
17. 前記電子ビームの分解能は２０ｎｍ〜８０ｎｍである請求項１６に記載の方法。
18. 前記スイッチングビーム電流は１秒以下で発生する請求項７に記載の方法。