JP2020517791A - 化合物、これを含む色材組成物およびこれを含む樹脂組成物 - Google Patents
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- 0 CC(C(c1c(*)c(*)c(*)c(*)c11)=O)C1=O Chemical compound CC(C(c1c(*)c(*)c(*)c(*)c11)=O)C1=O 0.000 description 2
- QZVHBMOWPXLBPA-UHFFFAOYSA-N C/C=C\C(\OS(C1CCCCC1)(=O)=O)=C1\[N-]=C(C)CCC1=C Chemical compound C/C=C\C(\OS(C1CCCCC1)(=O)=O)=C1\[N-]=C(C)CCC1=C QZVHBMOWPXLBPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBYLBWHHTUWMER-UHFFFAOYSA-N Cc1nc(c(O)ccc2)c2cc1 Chemical compound Cc1nc(c(O)ccc2)c2cc1 NBYLBWHHTUWMER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVMOTPVVCQCASX-UHFFFAOYSA-N Cc1nc(c(OS(C2CCCCC2)(=O)=O)ccc2)c2cc1 Chemical compound Cc1nc(c(OS(C2CCCCC2)(=O)=O)ccc2)c2cc1 YVMOTPVVCQCASX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJWVCJUSRGLHFO-UHFFFAOYSA-N O=S(C1CCCCC1)(Cl)=O Chemical compound O=S(C1CCCCC1)(Cl)=O MJWVCJUSRGLHFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N OC(c(cc1)cc(C(O2)=O)c1C2=O)=O Chemical compound OC(c(cc1)cc(C(O2)=O)c1C2=O)=O SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFQHEFISRAXTKP-UHFFFAOYSA-N OC(c1ccc(C(C(C2=O)c(ccc3ccc4)nc3c4OS(C3CCCCC3)(=O)=O)=O)c2c1)=O Chemical compound OC(c1ccc(C(C(C2=O)c(ccc3ccc4)nc3c4OS(C3CCCCC3)(=O)=O)=O)c2c1)=O HFQHEFISRAXTKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
[化学式1]
Aは、X1−X2;またはX3=X4であり、
Bは、直接結合;またはCQ1Q2であり、
X1およびX2は、CRaRbであり、
X3およびX4は、CRcであり、
Ar1は、水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であり、
Ra〜Rc、Rx、Q1およびQ2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;カルボニル基;エステル基;イミド基;アミド基;カルボキシ基(−COOH);−OC(=O)R";スルホン酸基(−SO3H);スルホンアミド基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアリールオキシ基;置換もしくは非置換のアルキルチオキシ基;置換もしくは非置換のアリールチオキシ基;置換もしくは非置換のアルキルスルホキシ基;置換もしくは非置換のアリールスルホキシ基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシリル基;置換もしくは非置換のホウ素基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリールホスフィン基;置換もしくは非置換のホスフィンオキシド基;置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であるか、隣接した基は、互いに結合して置換もしくは非置換の環を形成し、
R"は、置換もしくは非置換のアルキル基であり、
pは、1〜6の整数であり、
nは、6−pの整数である。
[化学式1−a]
[化学式2−a]
R1〜R8は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;カルボニル基;エステル基;イミド基;アミド基;カルボキシ基(−COOH);−OC(=O)R";スルホン酸基(−SO3H);スルホンアミド基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアリールオキシ基;置換もしくは非置換のアルキルチオキシ基;置換もしくは非置換のアリールチオキシ基;置換もしくは非置換のアルキルスルホキシ基;置換もしくは非置換のアリールスルホキシ基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシリル基;置換もしくは非置換のホウ素基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリールホスフィン基;置換もしくは非置換のホスフィンオキシド基;置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であるか、隣接した基は、互いに結合して置換もしくは非置換の環を形成し、
R"は、置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ra1、Rb1およびRc1は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基である。
R"は、置換もしくは非置換のC1〜C60のアルキル基であってもよい。
R"は、置換もしくは非置換のC1〜C40のアルキル基であってもよい。
R"は、C1〜C40のアルキル基であってもよい。
R"は、メチル基であってもよい。
化合物1〜7を用意し、これをジメチルホルムアミド(DMF)とN−メチル−2−ピロリドン(NMP)100gに対する溶解度を測定し、その結果を下記表1に示した。具体的には、溶解度が1%以上の場合はO、1%未満の場合はXと表示した。
化合物1を5.554g、バインダー樹脂としてベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体(モル比70:30、酸価は113KOHmg/g、GPCで測定した重量平均分子量20,000)、分子量分布(PDI)2.0g、固形分(S.C)25%、溶媒PGMEAを含む)10.376g、光開始剤としてはI−369(BASF社)2.018g、光重合性化合物としてDPHA(日本化薬)12.443g、溶剤PGMEA(ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)68.593g、および添加剤としてDIC社のF−475、1.016gを混合して、感光性樹脂組成物を製造した。
化合物2を5.554g、バインダー樹脂としてベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体(モル比70:30、酸価は113KOHmg/g、GPCで測定した重量平均分子量20,000)、分子量分布(PDI)2.0g、固形分(S.C)25%、溶媒PGMEAを含む)10.376g、光開始剤としてはI−369(BASF社)2.018g、光重合性化合物としてDPHA(日本化薬)12.443g、溶剤PGMEA(ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)68.593g、および添加剤としてDIC社のF−475、1.016gを混合して、感光性樹脂組成物を製造した。
化合物3を5.554g、バインダー樹脂としてベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体(モル比70:30、酸価は113KOHmg/g、GPCで測定した重量平均分子量20,000)、分子量分布(PDI)2.0g、固形分(S.C)25%、溶媒PGMEAを含む)10.376g、光開始剤としてはI−369(BASF社)2.018g、光重合性化合物としてDPHA(日本化薬)12.443g、溶剤PGMEA(ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)68.593g、および添加剤としてDIC社のF−475、1.016gを混合して、感光性樹脂組成物を製造した。
化合物4を5.554g、バインダー樹脂としてベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体(モル比70:30、酸価は113KOHmg/g、GPCで測定した重量平均分子量20,000)、分子量分布(PDI)2.0g、固形分(S.C)25%、溶媒PGMEAを含む)10.376g、光開始剤としてはI−369(BASF社)2.018g、光重合性化合物としてDPHA(日本化薬)12.443g、溶剤PGMEA(ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)68.593g、および添加剤としてDIC社のF−475、1.016gを混合して、感光性樹脂組成物を製造した。
化合物5、5.554g、バインダー樹脂としてベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体(モル比70:30、酸価は113KOHmg/g、GPCで測定した重量平均分子量20,000)、分子量分布(PDI)2.0g、固形分(S.C)25%、溶媒PGMEAを含む)10.376g、光開始剤としてはI−369(BASF社)2.018g、光重合性化合物としてDPHA(日本化薬)12.443g、溶剤PGMEA(ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)68.593g、および添加剤としてDIC社のF−475、1.016gを混合して、感光性樹脂組成物を製造した。
化合物6、5.554g、バインダー樹脂としてベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体(モル比70:30、酸価は113KOHmg/g、GPCで測定した重量平均分子量20,000)、分子量分布(PDI)2.0g、固形分(S.C)25%、溶媒PGMEAを含む)10.376g、光開始剤としてはI−369(BASF社)2.018g、光重合性化合物としてDPHA(日本化薬)12.443g、溶剤PGMEA(ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)68.593g、および添加剤としてDIC社のF−475、1.016gを混合して、感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1〜4、比較例1および2による感光性樹脂組成物を基板の作製にそれぞれ使用した。具体的には、前記実施例および比較例による感光性樹脂組成物をガラス(5×5cm)2上にスピンコーティング(spincoating)し、100℃で100秒間前熱処理(prebake)を実施してフィルムを形成させた。
前記基板の作製方法によって作製された基板を、分光器(MCPD−大塚社)を用いて380nm〜780nmの範囲の可視光領域の透過率スペクトルを得た。また、前熱処理(prebake)基板を追加的に230℃に20分間後熱処理(postbake)をして、同一の装備と測定範囲で透過率スペクトルを得た。
Claims (13)
- 下記化学式1で表される化合物:
[化学式1]
Aは、X1−X2;またはX3=X4であり、
Bは、直接結合;またはCQ1Q2であり、
X1およびX2は、CRaRbであり、
X3およびX4は、CRcであり、
Ar1は、水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であり、
Ra〜Rc、Rx、Q1およびQ2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;カルボニル基;エステル基;イミド基;アミド基;カルボキシ基(−COOH);−OC(=O)R";スルホン酸基(−SO3H);スルホンアミド基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアリールオキシ基;置換もしくは非置換のアルキルチオキシ基;置換もしくは非置換のアリールチオキシ基;置換もしくは非置換のアルキルスルホキシ基;置換もしくは非置換のアリールスルホキシ基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシリル基;置換もしくは非置換のホウ素基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリールホスフィン基;置換もしくは非置換のホスフィンオキシド基;置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であるか、隣接した基は、互いに結合して置換もしくは非置換の環を形成し、
R"は、置換もしくは非置換のアルキル基であり、
pは、1〜6の整数であり、
nは、6−pの整数である。 - 前記化学式1の
[化学式2−a]
R1〜R8は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;重水素;ハロゲン基;ニトリル基;ニトロ基;ヒドロキシ基;カルボニル基;エステル基;イミド基;アミド基;カルボキシ基(−COOH);−OC(=O)R";スルホン酸基(−SO3H);スルホンアミド基;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のシクロアルキル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;置換もしくは非置換のアリールオキシ基;置換もしくは非置換のアルキルチオキシ基;置換もしくは非置換のアリールチオキシ基;置換もしくは非置換のアルキルスルホキシ基;置換もしくは非置換のアリールスルホキシ基;置換もしくは非置換のアルケニル基;置換もしくは非置換のシリル基;置換もしくは非置換のホウ素基;置換もしくは非置換のアミン基;置換もしくは非置換のアリールホスフィン基;置換もしくは非置換のホスフィンオキシド基;置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であるか、隣接した基は、互いに結合して置換もしくは非置換の環を形成し、
R"は、置換もしくは非置換のアルキル基であり、
Ra1、Rb1およびRc1は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換のアリール基;または置換もしくは非置換のヘテロアリール基である。 - 前記R1〜R8は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素;置換もしくは非置換のC1〜C60のアルキル基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;カルボキシ基(−COOH);スルホン酸基(−SO3H);ニトロ基;−OC(=O)R"またはハロゲン基であるか、隣接した基は、互いに結合して置換もしくは非置換のC6〜C60の環を形成し、
R"は、置換もしくは非置換のC1〜C60のアルキル基である、請求項3に記載の化合物。 - 前記Ar1は、置換もしくは非置換のC3〜C60のシクロアルキル基である、請求項1から4のいずれか一項に記載の化合物。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の化合物を含む色材組成物。
- 染料および顔料のうちの少なくとも1種をさらに含む、請求項7に記載の色材組成物。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の化合物;バインダー樹脂;多官能性モノマー;光開始剤;および溶媒を含む樹脂組成物。
- 前記樹脂組成物中の固形分の総重量を基準として、
前記化学式1で表される化合物の含有量は0.1重量%〜60重量%であり、
前記バインダー樹脂の含有量は1重量%〜60重量%であり、
前記光開始剤の含有量は0.1重量%〜20重量%であり、
前記多官能性モノマーの含有量は0.1重量%〜50重量%である、請求項9に記載の樹脂組成物。 - 請求項9または10に記載の樹脂組成物を用いて製造された感光材。
- 請求項11に記載の感光材を含むカラーフィルタ。
- 請求項12に記載のカラーフィルタを含むディスプレイ装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2018-0023013 | 2018-02-26 | ||
KR1020180023013A KR102237127B1 (ko) | 2018-02-26 | 2018-02-26 | 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물 |
PCT/KR2019/001440 WO2019164157A1 (ko) | 2018-02-26 | 2019-02-01 | 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020517791A true JP2020517791A (ja) | 2020-06-18 |
JP6897906B2 JP6897906B2 (ja) | 2021-07-07 |
Family
ID=67686858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019557750A Active JP6897906B2 (ja) | 2018-02-26 | 2019-02-01 | 化合物、これを含む色材組成物およびこれを含む樹脂組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6897906B2 (ja) |
KR (1) | KR102237127B1 (ja) |
CN (1) | CN110546139B (ja) |
WO (1) | WO2019164157A1 (ja) |
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- 2018-02-26 KR KR1020180023013A patent/KR102237127B1/ko active IP Right Grant
-
2019
- 2019-02-01 WO PCT/KR2019/001440 patent/WO2019164157A1/ko active Application Filing
- 2019-02-01 JP JP2019557750A patent/JP6897906B2/ja active Active
- 2019-02-01 CN CN201980002054.2A patent/CN110546139B/zh active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN110546139A (zh) | 2019-12-06 |
WO2019164157A1 (ko) | 2019-08-29 |
KR102237127B1 (ko) | 2021-04-06 |
KR20190102531A (ko) | 2019-09-04 |
CN110546139B (zh) | 2023-05-09 |
JP6897906B2 (ja) | 2021-07-07 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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