KR20160022280A - 인돌계 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물 - Google Patents

인돌계 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물 Download PDF

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KR20160022280A
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Abstract

본 명세서에는 신규한 인돌계 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물이 기재된다.

Description

인돌계 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물 {INDOLE-BASED COMPOUND, COLORANT COMPOSITION COMPRISING THE SAME AND RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME}
본 명세서에는 신규한 인돌계 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물에 관한 것이다.
최근 액정 디스플레이(LCD)의 광원으로 기존의 CCFL 대신 LED 또는 OLED, QD 등의 소자가 많이 이용되고 있다. 하지만 박막 디스플레이 및 플렉서블 디스플레이 등을 제작하기 위해 컬러필터가 제거된, 즉 LED 또는 OLED, QD 등의 자체발광을 단위 픽셀로 이용하는 디스플레이 제품들이 개발 및 생산되고 있다.
하지만 LED, OLED, QD 등을 단위 픽셀로 이용한 디스플레이의 경우 대면적화에 어려움을 겪고 있어, LED, OLED, QD 등을 사용하는 경우에도 이들을 광원으로 포함하고 컬러필터를 포함하는 디스플레이 개발에도 많은 노력을 하고 있다.
원하는 색상을 구현하기 위해서는 광원과 적절한 컬러필터가 요구되며, 현재 사용되고 있는 색재를 이용하여 원하는 색좌표를 구현하기에는 어려움이 있으며, 새로운 색재 개발이 요구된다.
한국공개특허 제2001-0009058호
본 명세서에는 신규한 구조의 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물이 기재된다.
본 명세서의 일 실시상태는 하기 화학식 1의 화합물을 제공한다.
Figure pat00001
상기 화학식 1에 있어서,
R1 내지 R14 중 적어도 하나는 하기 화학식 2 또는 3으로 표시되고,
Figure pat00003
Y1 및 Y2는 각각 O 또는 NR이며,
L1, L3 및 L4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 2가 연결기이고,
L2 및 L5는 각각 직접 결합 또는 2가 연결기이며,
R1 내지 R14 중 화학식 2가 아닌 기, R15, R16, R17 및 R은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 7 내지 50의 아르알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐옥시기; 치환 또는 비치환된 8 내지 50의 아르알케닐기; -(L6)mCOOH; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 40의 아릴기; 또는 N, O 및 S 원자 중 1개 이상을 포함하는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,
n은 0 내지 6의 정수이며, m은 0 또는 1이고,
L6은 직접 결합 또는 2가 연결기이며,
X-는 음이온이고,
화학식 2 및 3의 *은 화학식 1의 코어구조에 연결되는 부분이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 색재 조성물을 제공한다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는 상기 색재 조성물을 포함하는 수지 조성물을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 화합물은 염료로서 작용할 수 있으므로, 컬러 필터 재료로 사용될 수 있다. 구체적으로, 본 명세서의 일 실시상태에 따라 상기 화합물을 포함하는 수지 조성물은 목적하는 광원에 적합한 흡수 및 투과 스펙트럼을 얻을 수 있어, 보다 높은 색재현율 및 고휘도, 고명암비 등을 달성할 수 있다. 본 명세서의 일 실시상태에 따라 상기 화합물을 포함하는 수지 조성물은 가교도가 높아, 내열성 및/또는 내화학성이 우수하다. 따라서, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 수지 조성물은 열처리에 의한 색의 변화가 적고, 용매에 대한 용출이 적다.
도 1은 실시예 1 내지 10과 비교예 1에서 제조된 기판의 내화학성을 측정한 결과를 나타낸 것이다.
이하 본 명세서를 보다 상세히 설명한다.
본 명세서의 일 실시상태는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다. 상기 화학식 1의 화합물은 치환기 중 적어도 하나가 화학식 2로 표시되는 것을 특징으로 한다. 상기 화학식 1의 코어 구조에 상기 화학식 2의 치환기를 가짐으로써 라디칼 또는 열에 의하여 중합성기를 갖는 물질과 중합될 수 있다. 여기서, 상기 화학식 1의 화합물과 중합될 수 있는 중합성기를 갖는 물질은 상기 화학식 1의 화합물과 동일할 수도 있고, 다를 수도 있다.
상기 치환기들의 예시들은 아래에서 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 "치환 또는 비치환된" 이라는 용어는 중수소; 할로겐기; 알킬기; 알케닐기; 알콕시기; 시클로알킬기; 실릴기; 아릴알케닐기; 아릴기; 아릴옥시기; 알킬티옥시기; 알킬술폭시기; 아릴술폭시기; 붕소기; 알킬아민기; 아랄킬아민기; 아릴아민기; 헤테로아릴기; 카바졸기; 아크릴로일기; 아크릴레이트기; 에테르기; 니트릴기; 니트로기; 히드록시기; 시아노기 및 N, O, S 또는 P 원자 중 1개 이상을 포함하는 헤테로 고리기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환되었거나 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다.
본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 25인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 헵틸기 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 알케닐기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 2 내지 25인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 스틸베닐기(stylbenyl), 스티레닐기(styrenyl)기 등의 아릴기가 치환된 알케닐기가 바람직하나 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 알콕시기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 25인 것이 바람직하다.
본 명세서에 있어서, 상기 알케닐옥시기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 2 내지 25인 것이 바람직하다.
본 명세서에 있어서, 시클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 3 내지 20인 것이 바람직하며, 특히 시클로펜틸기, 시클로헥실기가 바람직하다.
본 명세서에 있어서, 할로겐기의 예로는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드가 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 아르알킬기는 구체적으로 아릴부분은 탄소수 6 내지 49이고, 알킬 부분은 탄소수 1 내지 44이다. 구체적인 예로는 벤질기, p-메틸벤질기, m-메틸벤질기, p-에틸벤질기, m-에틸벤질기, 3,5-디메틸벤질기, α-메틸벤질기, α,α-디메틸벤질기, α,α-메틸페닐벤질기, 1-나프틸벤질기, 2-나프틸벤질기, p-플루오르벤질기, 3,5-디플루오르벤질기, α,α-디트리플루오로메틸벤질기, p-메톡시벤질기, m-메톡시벤질기, α-페녹시벤질기, α-벤질기옥시벤질기, 나프틸메틸기, 나프틸에틸기, 나프틸이소프로필기, 피롤릴메틸기, 피롤렐에틸기, 아미노벤질기, 니트로벤질기, 시아노벤질기, 1-히드록시-2-페닐이소프로필기, 1-클로로-2-페닐이소프로필기 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 아르알케닐기의 아릴부분은 후술하는 아릴에 관한 설명이 적용될 수 있고, 알케닐 부분은 전술한 알케닐기에 관한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 아릴기는 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다.
상기 아릴기가 단환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 6 내지 40인 것이 바람직하다. 구체적으로 단환식 아릴기로는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 아릴기가 다환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나. 탄소수 10 내지 40인 것이 바람직하다. 구체적으로 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 플루오레닐기는 치환기를 가질 수 있으며, 치환기들이 결합하여 스피로 구조를 형성할 수 있다. 플루오레닐기의 예로는
Figure pat00004
등이 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 헤테로고리기는 이종원자로 O, N 또는 S를 포함하는 헤테로 고리기로서, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 2-40인 것이 바람직하다. 헤테로 고리기의 예로는 티오펜기, 퓨란기, 피롤기, 이미다졸기, 티아졸기, 옥사졸기, 옥사디아졸기, 트리아졸기, 피리딜기, 비피리딜기, 트리아진기, 아크리딜기, 피리다진기, 퀴놀리닐기, 이소퀴놀린기, 인돌기, 카바졸기, 벤조옥사졸기, 벤조이미다졸기, 벤조티아졸기, 벤조카바졸기, 벤조티오펜기, 디벤조티오펜기, 벤조퓨라닐기, 디벤조퓨란기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 알킬렌기는 알칸(alkane)에 결합위치가 두 개 있는 것을 의미한다. 상기 알킬렌기는 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄일 수 있다. 알킬렌기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 예컨대 탄소수 2 내지 25이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L1, L3 및 L4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L1, L3 및 L4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L1, L3 및 L4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L1, L3 및 L4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 3의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L2 및 L5는 직접 결합 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L2 및 L5는 직접 결합 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L2 및 L5는 직접 결합 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L2 및 L5는 직접 결합 또는 메틸렌이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L6는 직접 결합 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L6는 직접 결합 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L6는 직접 결합 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, L6는 직접 결합 또는 메틸렌이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, Y1 및 Y2는 O 또는 NR이고, 상기 R은 수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 7 내지 50의 아르알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐옥시기; 치환 또는 비치환된 8 내지 50의 아르알케닐기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 40의 아릴기; 또는 N, O 및 S 원자 중 1개 이상을 포함하는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, Y1 및 Y2는 O 또는 NH이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, R15는 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2에 있어서, R15는 수소; 또는 메틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R8 중 적어도 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R4 중 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R5 내지 R8 중 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R2 및 R6 중 적어도 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R8 중 적어도 2개가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R4 중 적어도 하나와 R5 내지 R8 중 적어도 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R4 중 하나와 R5 내지 R8 중 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R2 및 R6가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R8 중 화학식 2 또는 3으로 표시되지 않는 기는 수소, 탄소수 1 내지 25의 알킬기, 탄소수 1 내지 25의 알콕시기, 또는 -(L6)mCOOH이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R8 중 화학식 2 또는 3으로 표시되지 않는 기는 수소, 메틸, 메톡시, -CH2COOH 또는 COOH이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R8 중 화학식 2 또는 3으로 표시되지 않는 기는 수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R2는 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R6는 수소, 탄소수 1 내지 25의 알킬기, 탄소수 1 내지 25의 알콕시기, 또는 -(L6)mCOOH이며, R1, R3, R4, R5, R7 및 R8은 수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R2는 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R6는 수소, 메틸, 메톡시, -CH2COOH 또는 COOH이며, R1, R3, R4, R5, R7 및 R8은 수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R2는 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R6는 메틸, 메톡시, -CH2COOH 또는 COOH이며, R1, R3, R4, R5, R7 및 R8은 수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R13 및 R14 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R13 및 R14 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이고, 나머지는 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R13 및 R14 중 적어도 하나는 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이고, 나머지는 수소; 또는 탄소수 1 내지 25의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R13 및 R14 중 적어도 하나는 알릴기이고, 나머지는 메틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R13 및 R14는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R13 및 R14는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R13 및 R14는 알릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R13 및 R14 는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 25의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R13 및 R14 는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R13 및 R14 는 메틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R8 중 적어도 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R1 내지 R8 중 화학식 2 또는 3으로 표시되지 않는 치환기 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R8 중 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R1 내지 R8 중 화학식 2 또는 3으로 표시되지 않는 치환기 중 하나는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R8 중 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R13 및 R14 중 어느 하나는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R8 중 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R1 내지 R8 중 화학식 2 또는 3으로 표시되지 않는 치환기 중 2개는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R8 중 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R13 및 R14는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R4 중 적어도 하나와 R5 내지 R8 중 적어도 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R1 내지 R8 중 화학식 2 또는 3으로 표시되지 않는 치환기 중 하나는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R4 중 적어도 하나와 R5 내지 R8 중 적어도 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R13 및 R14 중 어느 하나는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R4 중 적어도 하나와 R5 내지 R8 중 적어도 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R1 내지 R8 중 화학식 2로 표시되지 않는 치환기 중 2개는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R4 중 적어도 하나와 R5 내지 R8 중 적어도 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시되고, R13 및 R14는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R9 내지 R12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 7 내지 50의 아르알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐옥시기; 또는 치환 또는 비치환된 8 내지 50의 아르알케닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R9 내지 R12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R9 내지 R12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 메틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, n은 1 또는 2이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, n은 1이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, X-는 1가 또는 2가 이상의 음이온일 수 있다. 상기 음이온으로는, 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 미국 특허 제7,939,644호, 일본 특개 제2006-003080호, 일본 특개 제2006-001917호, 일본 특개 제2005-159926호, 일본 특개 제2007-7028897호, 일본 특개 제2005-071680호, 한국 출원 공개 제2007-7000693호, 일본 특개 제2005-111696호, 일본 특개 제2008-249663호에 기재되어 있는 음이온들이 적용될 수 있다. 상기 음이온의 구체적인 예로는, 트리플루오르메탄설폰산 음이온, 비스(트리플루오로메틸술포닐)아미드 음이온, 비스트리플루오르메탄설폰이미드 음이온, 비스퍼플루오르에틸설폰이미드 음이온, 테트라페닐보레이트 음이온, 테트라키스(4-플루오로페닐)보레이트, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 트리스트리플루오로메탄설포닐메티드, 할로겐기, 예컨대 불소기, 요오드기, 염소기 등이 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1의 화합물은 하기 구조식들로 표시될 수 있다.
Figure pat00005
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1의 화합물은 하기 구조식들로 표시될 수 있다.
Figure pat00006
상기 식에서 Y는 O 또는 NR이며, R의 정의는 전술한 바와 같다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1의 화합물은 하기 구조식들로 표시될 수 있다.
Figure pat00007
상기 식에서 Y는 O 또는 NR이며, R의 정의는 전술한 바와 같다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1의 화합물은 하기 구조식들로 표시될 수 있다.
Figure pat00008
상기 식에서 Y는 O 또는 NR이며, R의 정의는 전술한 바와 같다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1의 화합물은 하기 구조식들로 표시될 수 있다.
Figure pat00009
Figure pat00010
Figure pat00011
상기 화학식 1의 화합물은 후술하는 제조예를 참고하여 제조할 수 있다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는 상기 화학식 1의 화합물을 포함하는 색재 조성물을 제공한다.
상기 색재 조성물은 상기 화학식 1의 화합물 이외에 염료 및 안료 중 적어도 1종을 더 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 색재 조성물은 상기 화학식 1의 화합물만을 포함할 수도 있으나, 상기 화학식 1의 화합물과 1종 이상의 염료를 포함하거나, 상기 화학식 1의 화합물과 1종 이상의 안료를 포함하거나, 상기 화학식 1의 화합물, 1종 이상의 염료 및 1종 이상의 안료를 포함할 수도 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 색재 조성물을 포함하는 수지 조성물을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지 조성물은 바인더 수지; 다관능성 모노머; 광개시제; 및 용매를 더 포함할 수 있다.
상기 바인더 수지는 수지 조성물로 제조된 막의 강도, 현상성 등의 물성을 나타낼 수 있다면, 특별히 한정하지 않는다.
상기 바인더 수지는 기계적 강도를 부여하는 다관능성 모노머와 알칼리 용해성을 부여하는 모노머의 공중합 수지를 이용할 수 있으며, 당 기술분야에서 일반적으로 사용하는 바인더를 더 포함할 수 있다.
상기 막의 기계적 강도를 부여하는 다관능성 모노머는 불포화 카르복시산 에스테류; 방향족 비닐류; 불포화 에테르류; 불포화 이미드류; 및 산 무수물 중 어느 하나 이상일 수 있다.
상기 불포화 카르복시산 에스테르류의 구체적인 예로는, 벤질(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메틸에테르(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필 (메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸 아크릴레이트 및 부틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 방향족 비닐 단량체류의 구체적인 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌, (o,m,p)-비닐 톨루엔, (o,m,p)-메톡시 스티렌, 및 (o,m,p)-클로로 스티렌으로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 불포화 에테르류의 구체적인 예로는, 비닐 메틸 에테르, 비닐 에틸 에테르, 및 알릴 글리시딜 에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 불포화 이미드류의 구체적인 예로는, N-페닐 말레이미드, N-(4-클로로페닐) 말레이미드, N-(4-히드록시페닐) 말레이미드, 및 N-시클로헥실 말레이미드로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 산 무수물로는 무수 말레인산, 무수 메틸 말레인산, 테트라하이드로 프탈산 무수물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 알칼리 용해성을 부여하는 모노머는 산기를 포함한다면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, (메타)아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 모노메틸 말레인산, 5-노보넨-2-카복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 숙시네이트, ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상을 사용하는 것이 바람직하나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 바인더 수지의 산가는 50 내지 130 KOH mg/g이고, 중량 평균 분자량은 1,000 내지 50,000이다.
상기 다관능성 모노머는 광에 의해 포토레지스트상을 형성하는 역할을 하는 모노머로서, 구체적으로는 프로필렌글리콜 메타크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트, 6-헥산디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 아크릴레이트 테트라에틸렌글리콜 메타크릴레이트, 비스페녹시 에틸알콜 디아크릴레이트, 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸프로판 트리메타크릴레이트, 디페닐펜타에리스톨리톨 헥사아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리메타 크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라메타크릴레이트 및 디펜타에리쓰리톨 헥사메타 크릴레이트로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물일 수 있다.
상기 광 개시제는 빛에 의해 라디칼을 발생시켜 가교를 촉발하는 개시제이면, 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 및 옥심계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
상기 아세토페논계 화합물은 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)-페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조인메틸 에테르, 벤조인에틸 에테르, 벤조인이소부틸 에테르, 벤조인부틸 에테르, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오)페닐-2-몰폴리노-1-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-(4-브로모-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온 또는 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-온 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다.
상기 비이미다졸계 화합물로는 2,2-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(3,4,5-트리메톡시페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4,5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다.
상기 트리아진계 화합물은 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오닉산, 1,1,1,3,3,3-헥사플로로이소프로필-3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오네이트, 에틸-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 2-에폭시에틸-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 시클로헥실-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 벤질-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 3-{클로로-4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오닉산, 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피온아미드, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(1-p-디메틸아미노페닐)-1,3,-부타디에닐-s-트리아진, 2-트리클로로메틸-4-아미노-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다.
상기 옥심계 화합물은 1,2-옥타디온,-1-(4-페닐치오)페닐,-2-(o-벤조일옥심)(시바가이기사, 시지아이124), 에타논,-1-(9-에틸)-6-(2-메틸벤조일-3-일)-,1-(O-아세틸옥심)(씨지아이242), N-1919(아데카사) 등이 있으며, 이에 한정되지 않는다.
상기 용매는 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸 에틸 에테르, 클로로포름, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에텐, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 프로판올, 부탄올, t-부탄올, 2-에톡시 프로판올, 2-메톡시 프로판올, 3-메톡시 부탄올, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로펠렌글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 셀로솔브아세테이트, 메틸 셀로솔브아세테이트, 부틸 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지 조성물 중 고형분의 총 중량을 기준으로, 상기 화학식 1의 화합물의 함량은 5 중량% 내지 60 중량%이고, 상기 바인더 수지의 함량은 1 중량% 내지 60 중량%이며, 상기 개시제의 함량은 0.1 중량% 내지 20 중량%이며, 상기 다관능성 모노머의 함량은 0.1 중량% 내지 50 중량%이다.
상기 고형분의 총 중량이란, 수지 조성물에서 용매를 제외한 성분 총 중량의 합을 의미한다. 고형분 및 각 성분의 고형분을 기준으로 한 중량%의 기준은 액체크로마토그래피 또는 가스크로마토그래피 등의 당업계에서 쓰이는 일반적인 분석 수단으로 측정할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지 조성물은 광가교증감제, 경화촉진제, 밀착촉진제, 계면활성제, 산화방지제, 열중합방지제, 자외선흡수제, 산화방지제, 분산제 및 레벨링제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 또는 2 이상의 첨가제를 추가로 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 첨가제의 함량은 상기 수지 조성물 중 고형분의 총 중량을 기준으로 0.1 중량% 내지 20 중량%이다.
상기 광가교증감제는 벤조페논, 4,4-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2,4,6-트리메틸아미노벤조페논, 메틸-o-벤조일벤조에이트, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 3,3,4,4-테트라(t-부틸퍼옥시카보닐)벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 9-플로레논, 2-크로로-9-프로레논, 2-메틸-9-플로레논 등의 플로레논계 화합물; 티옥산톤, 2,4-디에틸 티옥산톤, 2-클로로 티옥산톤, 1-클로로-4-프로필옥시 티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 디이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤계 화합물; 크산톤, 2-메틸크산톤 등의 크산톤계 화합물; 안트라퀴논, 2-메틸 안트라퀴논, 2-에틸 안트라퀴논, t-부틸 안트라퀴논, 2,6-디클로로-9,10- 안트라퀴논 등의 안트라퀴논계 화합물; 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐펜탄), 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판 등의 아크리딘계 화합물; 벤질, 1,7,7-트리메틸-비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디온, 9,10-펜안트렌퀴논 등의 디카보닐 화합물; 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 옥사이드 등의 포스핀 옥사이드계 화합물; 메틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-n-부톡시에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트 등의 벤조에이트계 화합물; 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로펜타논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)-4-메틸-시클로펜타논 등의 아미노 시너지스트; 3,3-카본닐비닐-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-(2-벤조티아졸일)-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시-쿠마린, 10,10-카르보닐비스[1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라히드로-1H,5H,11H-C1]-벤조피라노[6,7,8-ij]-퀴놀리진-11-온 등의 쿠마린계 화합물; 4-디에틸아미노 칼콘, 4-아지드벤잘아세토페논 등의 칼콘 화합물; 2-벤조일메틸렌, 3-메틸-b-나프토티아졸린;으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다.
상기 경화촉진제로는 경화 및 기계적 강도를 높이기 사용되며, 구체적으로 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캅토-4,6-디메틸아미노피리딘, 펜타에리스리톨-테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨-트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨-테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리스리톨-트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판-트리스(2-머캅토아세테이트), 및 트리메틸올프로판-트리스(3-머캅토프로피오네이트)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 밀착촉진제로는 메타아크릴로일옥시 프로필트리메톡시 실란, 메타아크릴로일옥시 프로필디메톡시 실란, 메타아크릴로일옥시 프로필트리에톡시 실란, 메타아크릴로일옥시 프로필디메톡시실란 등의 메타 아크릴로일 실란 커플링제 중 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있고, 알킬 트리메톡시 실란으로서 옥틸트리메톡시 실란, 도데실트리메톡시 실란, 옥타데실트리메톡시 실란 등에서 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있다.
상기 계면활성제는 실리콘계 계면활성제 또는 불소계 계면활성제이며, 구체적으로 실리콘계 계면활성제는 BYK-Chemie 사의 BYK-077, BYK-085, BYK-300, BYK-301, BYK-302, BYK-306, BYK-307, BYK-310, BYK-320, BYK-322, BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-335, BYK-341v344, BYK-345v346, BYK-348, BYK-354, BYK-355, BYK-356, BYK-358, BYK-361, BYK-370, BYK-371, BYK-375, BYK-380, BYK-390 등을 사용할 수 있으며, 불소계 계면활성제로는 DIC(DaiNippon Ink & Chemicals) 사의 F-114, F-177, F-410, F-411, F-450, F-493, F-494, F-443, F-444, F-445, F-446, F-470, F-471, F-472SF, F-474, F-475, F-477, F-478, F-479, F-480SF, F-482, F-483, F-484, F-486, F-487, F-172D, MCF-350SF, TF-1025SF, TF-1117SF, TF-1026SF, TF-1128, TF-1127, TF-1129, TF-1126, TF-1130, TF-1116SF, TF-1131, TF1132, TF1027SF, TF-1441, TF-1442 등을 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 산화 방지제로는 힌더드 페놀계(Hindered phenol) 산화 방지제, 아민계 산화 방지제, 티오계 산화 방지제 및 포스핀계 산화 방지제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
산화 방지제의 구체적인 예로는, 인산, 트리메틸포스페이트 또는 트리에틸포스페이트와 같은 인산계 열안정제; 2,6-디-t-부틸-p-크레졸, 옥타데실-3-(4-하이드록시-3,5-디-t-부틸페닐)프로피오네이트, 테트라비스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠, 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스파이트 디에틸에스테르, 2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-g,t-부틸페놀 4,4'-부틸리덴-비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀) 또는 비스[3,3-비스-(4'-히드록시-3'-터트-부틸페닐)부탄산]글리콜 에스테르 (Bis[3,3-bis-(4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl)butanoicacid]glycol ester)와 같은 힌더드 페놀(Hindered phenol)계 1차 산화방지제; 페닐-α-나프틸아민, 페닐-β-나프틸아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민 또는 N,N'-디-β-나프틸-p-페닐렌디아민과 같은 아민계 2차 산화방지제; 디라우릴디설파이드, 디라우릴티오프로피오네이트, 디스테아릴티오프로피오네이트, 머캡토벤조티아졸 또는 테트라메틸티우람디설파이드 테트라비스[메틸렌-3-(라우릴티오)프로피오네이트]메탄 등의 티오계 2차 산화방지제; 또는 트리페닐 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리이소데실포스파이트, 비스(2,4-디부틸페닐) 펜타에리스톨 디포스파이트(Bis (2,4-ditbutylphenyl)Pentaerythritol Diphosphite) 또는 (1,1'-비페닐)-4,4'-디일비스포스포노산 테트라키스 [2,4-비스(1,1-디메틸에틸)페닐]에스테르((1,1'-Biphenyl)-4,4'-Diylbisphosphonous acid tetrakis[2,4-bis(1,1-dimethylethyl)phenyl] ester)와 같은 포스파이트계 2차 산화방지제를 들 수 있다.
상기 자외선 흡수제로는 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 알콕시 벤조페논 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않고, 당업계에서 일반적으로 쓰이는 것들이 모두 사용될 수 있다.
상기 열중합방지제로는 예컨대 p-아니솔, 히드로퀴논, 피로카테콜(pyrocatechol), t-부틸카테콜(t-butyl catechol), N-니트로소페닐히드록시아민 암모늄염, N-니트로소페닐히드록시아민 알루미늄염, p-메톡시페놀, 디-t-부틸-p-크레졸, 피로가롤, 벤조퀴논, 4,4-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2-머캅토이미다졸 및 페노티아진(phenothiazine)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상을 포함할 수 있으나, 이들로만 한정되는 것은 아니며 당 기술분야에 일반적으로 알려져 있는 것들을 포함할 수 있다.
상기 분산제는 미리 안료를 표면 처리하는 형태로 안료에 내부 첨가시키는 방법, 또는 안료에 외부 첨가시키는 방법으로 사용할 수 있다. 상기 분산제로는 화합물형, 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 분산제를 사용할 수 있으며, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양쪽성 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.
구체적으로 상기 분산제는 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌 다가 알코올, 에스테르알킬렌옥사이드 부가물, 알코올알킬렌옥사이드 부가물, 설폰산 에스테르, 설폰산염, 카르복실산에스테르, 카르복실산염, 알킬아미드알킬렌옥사이드 부가물 및 알킬아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 레벨링제로는 폴리머성이거나 비폴리머성일 수 있다. 폴리머성의 레벨링제의 구체적인 예로는 폴리에틸렌이민, 폴리아미드아민, 아민과 에폭사이드의 반응 생성물을 예로 들 수 있고, 비폴리머성의 레벨링제의 구체적인 예로는 비-폴리머 황-함유 및 비-폴리머 질소-함유 화합물을 포함하지만, 이에 한정되지는 않으며, 당업계에서 일반적으로 쓰이는 것들이 모두 사용될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지 조성물로 제조된 감광재를 제공한다.
더 자세히는, 본 명세서의 수지 조성물을 기재 위에 적절한 방법으로 도포하여 박막 또는 패턴형태의 감광재를 형성한다.
상기 도포 방법으로는 특별히 제한되지는 않지만 스프레이 법, 롤 코팅법, 스핀 코팅법 등을 사용할 수 있으며, 일반적으로 스핀 코팅법을 널리 사용한다. 또한, 도포막을 형성한 후 경우에 따라서 감압 하에 잔류 용매를 일부 제거할 수 있다.
본 명세서에 따른 수지 조성물을 경화시키기 위한 광원으로는, 예컨대 파장이 250 nm 내지 450 ㎚의 광을 발산하는 수은 증기 아크(arc), 탄소 아크, Xe 아크 등이 있으나 반드시 이에 국한되지는 않는다.
본 명세서에 따른 수지 조성물은 박막 트랜지트터 액정 표시장치(TFT LCD) 컬러필터 제조용 안료분산형 감광재, 박막 트랜지트터 액정 표시장치(TFT LCD) 또는 유기 발광 다이오드의 블랙 매트릭스 형성용 감광재, 오버코트층 형성용 감광재, 컬럼 스페이서 감광재, 광경화형 도료, 광경화성 잉크, 광경화성 접착제, 인쇄판, 인쇄배선반용 감광재, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)용 감광재 등에 사용할 수 있으며, 그 용도에 제한을 특별히 두지는 않는다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 감광재를 포함하는 컬러필터를 제공한다.
상기 컬러필터는 상기 화학식 1의 화합물을 포함하는 수지 조성물을 이용하여, 제조될 수 있다. 상기 수지 조성물을 기판상에 도포하여 코팅막을 형성하고, 상기 코팅막을 노광, 현상 및 경화를 함으로써 컬러필터를 형성할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 수지 조성물은 내열성이 우수하여, 열처리에 의한 색의 변화가 적어, 컬러 필터의 제조시 경화 과정에 의해서도 색재현율이 높고, 휘도 및 명암비가 높은 컬러필터를 제공할 수 있다.
상기 기판은 유리판, 실리콘 웨이퍼 및 폴리에테르설폰(Polyethersulfone, PES), 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC) 등의 플라스틱 기재의 판 등일 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니다.
상기 컬러필터는 적색 패턴, 녹색 패턴, 청색 패턴, 블랙 매트릭스를 포함할 수 있다.
또 하나의 실시상태에 있어서, 상기 컬러필터는 오버코트층을 더 포함할 수 있다.
컬러필터의 컬러픽셀 사이에는 콘트라스트를 향상시킬 목적으로 블랙 매트릭스라고 불리는 격자상의 흑색패턴을 배치할 수 있다. 블랙 매트릭스의 재료로서 크롬을 사용할 수 있다. 이 경우, 크롬을 유리기판 전체에 증착시키고 에칭 처리에 의해 패턴을 형성하는 방식을 이용할 수 있다. 그러나, 공정상의 고비용, 크롬의 고반사율, 크롬 폐액에 의한 환경오염을 고려하여, 미세가공이 가능한 안료분산법에 의한 레진 블랙 매트릭스를 사용할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 블랙 매트릭스는 색재로서 블랙안료 또는 블랙 염료를 사용할 수 있다. 예컨대, 카본블랙을 단독으로 사용하거나, 카본블랙과 착색안료를 혼합하여 사용할 수 있으며, 이때 차광성이 부족한 착색안료를 혼합하기 때문에 상대적으로 색재의 양이 증가하더라도 막의 강도 또는 기판에 대한 밀착성이 저하되지 않는 장점이 있다.
본 명세서에 따른 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
상기 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 발광 다이오드(Light Emitting Diode, LED), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diode, OLED), 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD), 박막 트랜지스터 액정 표시 장치(Thin FIlm Transistor- Liquid Crystal Display, LCD-TFT) 및 음극선관(Cathode Ray Tube, CRT) 중 어느 하나일 수 있다.
이하, 본 명세서를 실시예를 들어 상세하게 설명한다. 하기 실시예는 본 명세서를 설명하기 위한 것으로, 본 명세서의 범위는 하기의 특허청구범위에 기재된 범위 및 그 치환 및 변경을 포함하며, 실시예의 범위로 한정되지 않는다.
< 제조예 1>
Figure pat00012
1a 1b 1c
N2하에서, 상기 화합물 1a 10g(62.80mmol, 1eq)과 상기 화합물 1b 13.37g(94.20mmol, 1.5eq)을 아세토니트릴 100ml에 첨가하고, 85℃에서 24시간동안 교반시켰다. 상온으로 식힌 후 석출물을 감압하에서 여과시키고, CHCl3로 수세 및 건조시켜, 상기 화합물 1c 16.068g(53.35mmol)을 얻었다. 수율 85%
상기 1c의 1H-NMR을 이용한 측정 결과는 다음과 같다.
1H NMR (500 MHz, DMSO, ppm) : 7.92-7.91(1H, s, ArH), 7.84-7.82(1H, d, ArH), 7.63-7.61(2H, t, ArH), 3.98(3H, s, N-CH3), 2.78(3H, s, CH3), 1.53(6H, s, CH3×2)
Figure pat00013
1c 1d 1e
상기 화합물 1c 4g(13.28mol)을 디에틸 에테르:2M NaOH=1:3 320ml에 넣고 30분간 교반시켰다. 유기층을 MgSO4에 통과시키고, 감압하에서 용매를 제거하였다. 상기 화합물 1d 3g(17.32mmol, 1eq)을 MC 30ml에 용해시키고, MC 35ml에 용해시킨 (클로로에틸렌)디메틸리미니움 클로라이드((Chloroethylene) dimethyliminium chloride) 2.5g(1.953mol, 1.13eq) 용액을 서서히 첨가하였다. 15분간 교반시키고, 얼음 배쓰(ice bath)에서 10% NaOH 수용액 75ml를 서서히 첨가시켰다. 1시간 30분간 교반시키고, 유기층을 분리하여 염수(Brine)로 수세하고 MgSO4를 통과시켰다. 감압하에서 용매를 제거하고, 추가적인 분리없이 다음 반응에 사용하였다.
Figure pat00014
2a 2b 2c
N2하에서, 상기 화합물 2a 7g(46.007mmol, 1eq), 화합물 2b 4.755g(55.209mmol, 1.2eq)을 빙초산(glacial acetic acid) 100g에 첨가하고, 125℃에서 12시간동안 교반시켰다. 상온으로 식힌 후, 감압하에서 용매를 제거하였다. 반응물에 물 2000ml를 넣고, MC 800ml로 추출하였다. 추출한 유기층을 MgSO4에 통과시키고, 감압하에서 용매를 제거하였다. 상기 화합물 2c 7.052g(34.698mmol)을 얻었다. 수율은 75.4%이다.
상기 화합물 2c의 1H-NMR을 이용한 측정 결과는 다음과 같다.
1H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm) : 8.13-8.11(1H, dd, ArH), 8.03-8.02(1H, d,
ArH), 7.64-7.62(1H, d, ArH), 2.35(3H, s, N=C-CH3), 1.34(6H, s, CH3×2)
Figure pat00015
2c 1b 2d
N2하에서, 상기 화합물 2c 7g(34.44mmol, 1eq), 화합물 1b 9.777g(68.88mmol, 2eq)을 톨루엔 80ml, 아세토니트릴 40ml에 첨가하고, 111℃에서 12시간 교반시켰다. 상온으로 식히고, 석출물을 감압하에서 여과시켰다. (n-헥산으로 수세). 상기 화합물 2d 6.7g(19.410mmol)을 얻었다. 수율 56%
1H NMR (500 MHz, DMSO, ppm) : 8.40(1H, s, ArH), 8.20-8.18(1H, d, ArH), 8.03-8.00(1H, d, ArH), 3.99(3H, s, N-CH3), 2.80(3H, s, C-CH3), 1.56(6H, s, C-(CH3)2
Figure pat00016
1e 2d 3a
N2하에서, 상기화합물 1e 10.23g(50.830mmol, 1.01eq)과 상기 화합물 2d 17.37g(50.322mmol, 1eq)을 아세트산 무수물(Acetic anhydride) 200g에 넣고, 145℃에서 24시간 반응시켰다. 상온으로 식히고, 디에틸 에테르 2000ml에 침전시켰다. 감압하에서 여과 및 건조시켰다. 컬럼(MC/MeOH = 18/1)으로 정제하여 상기 화합물 3a 21.292g(40.30mmol)을 얻었다. 수율 80%
상기 화합물 3a의 1H-NMR을 이용한 측정 결과는 다음과 같다.
1H NMR (500 MHz, DMSO, ppm) : 8.36-8.31(1H, t, -CH=CH-CH=), 8.00(1H, s, ArH), 7.94-7.92(1H, d, ArH), 7.62-7.61(1H, d, ArH), 7.44-7.42(2H, m, ArH), 7.32-7.31(1H, d, ArH), 7.29-7.26(1H, m, ArH), 6.44-6.39(2H, t, -CH=CH-CH=), 3.65(3H, s, N-CH3), 3.62(3H, s, N-CH3), 1.69-1.68(12H, d, C(CH3)2×2)
Figure pat00017
3a 3b 3c
상기 화합물 3a 2g(3.785mmol, 1eq)을 아세토니트릴 100g에 용해시킨 후, 0~4℃로 만들었다. EDC-HCl 0.871g(4.542mmol, 1.2eq), DMAP 0.093g(0.7569mmol, 0.2eq)를 첨가하고, 10분간 교반시켰다. 상기 화합물 3b 0.739g(5.677mmol, 1.5eq)을 투입 후, 0~4℃에서 2시간 동안 반응시켰다. 이후 상온에서 24시간 후, 감압하에 용매를 제거하였다. 컬럼(MC/MeOH = 17/1~15/1)으로 정제하여 상기 화합물 3c 1.97g(3.075mmol)을 얻었다. 수율 81%
Figure pat00018
3c 3d 화합물 A
상기 화합물 3c 1.97g(3.075mmol)을 아세톤, MeOH에 완전히 용해시킨 후, MeOH에 용해시킨 상기 화합물 3d 1.324g(4.613mmol, 1.5eq)용액을 서서히 반응물에 첨가시켰다. 상온에서 24시간 동안 반응시키고, 감압하에서 용매를 제거하였다. 반응물에 물 100ml를 첨가하고, MC 100ml로 추출하였다. 추출한 유기층을 MgSO4에 통과시켜 물을 제거하고, 감압하에서 용매를 제거하였다. 상기 화합물 A 2.38g(3mmol)을 얻었다. 수율 97%.
상기 화합물 A의 MS 분석 결과:
m/z 513.3 [Dye-anion]+ (Exact Mass: 513.27)
m/z 279.9 [anion]- (Exact Mass: 279.92)
< 제조예 2>
Figure pat00019
2d 4a 4b
피리딘 120ml에 상기 화합물 2d 10g(28.97mmol, 1eq) 용해시켰다. 상기 화합물 4a 4.293g(28.97mmol, 1eq)을 첨가하고, 120°C에서 14시간 동안 반응시켰다. 상온으로 식히고, 디에틸 에테르 1300ml에 침전시켰다. 석출물을 감압하에서 여과시키고 건조시켰다. 컬럼(MC:MeOH=10:1~1:1)으로 정제하여, 상기 화합물 4b 7.42g(12.962mmol)을 얻었다. 수율은 89%
1H NMR (500 MHz, DMSO, ppm) : 8.36-8.31(1H, t, =CH-CH=CH-), 8.00(2H, s, ArH), 7.93-7.91(2H, d, ArH), 7.30-7.29(2H, d, ArH), 6.41-6.39(2H, d, =CH-CH=CH-), 3.63(6H, s, N-(CH3)×2), 1.69(12H, s, C(CH3)2×2)
Figure pat00020
4b 3b 4c
상기 화합물 3c와 동일한 방법으로 화합물 4c를 합성하였다.
Figure pat00021
4c 3d 화합물 B
상기 화합물 A와 동일한 방법으로 화합물 B를 합성하였다.
상기 화합물 B의 MS 분석 결과:
m/z 557.26 [Dye-anion]+
m/z 279.92 [anion]-
< 제조예 3>
Figure pat00022
4b 3b 4d
상기 화합물 3c와 동일한 방법으로 화합물 4d를 합성하였다.
Figure pat00023
4f 3d 화합물 C
상기 화합물 A와 동일한 방법으로 화합물 C를 합성하였다.
상기 화합물 C의 MS 분석 결과:
m/z 669.32 [Dye-anion]+
m/z 279.92 [anion]-
< 제조예 4>
Figure pat00024
5a 2d 5b
Figure pat00025
5c 화합물 D
상기 화합물 1e와 동일한 방법으로 화합물 5a를 합성하였다.
상기 화합물 3a와 동일한 방법으로 화합물 5b를 합성하였다.
상기 화합물 3c와 동일한 방법으로 화합물 5c를 합성하였다.
상기 화합물 A와 동일한 방법으로 화합물 D를 합성하였다.
상기 화합물 D의 MS 분석 결과:
m/z 527.29 [Dye-anion]+
m/z 279.92 [anion]-
< 제조예 5>
Figure pat00026
6a 화합물 E
상기 화합물 5a 대신 6a를 사용하였으며, 화합물 D와 동일한 방법을 통해 화합물 E를 합성하였다.
상기 화합물 E의 MS 분석 결과:
m/z 543.29 [Dye-anion]+
m/z 279.92 [anion]-
< 제조예 6>
Figure pat00027
7a 7b 2b 7c 1b 7d
상기 화합물 7a 5g(33.1mmol)을 1M NaOH 43ml에 첨가 후 교반시키고, 얼음 배쓰를 설치하여 0~4℃로 만든 후, HCl(35%) 60ml 서서히 적하시켰다. NaNO2 2.3g(33.34 mmol)를 물 20ml에 용해시킨 후, 교반 용액에 서서히 적하시켰다. 0~4℃에서 40분간 교반한 후, SnCl2·2H2O 35.8g(158.8mmol)를 물 72ml에 녹여서 교반 용액에 서서히 적하시킨 후, 0~4℃에서 밤샘(overnight) 반응시켰다. 석출물을 감압하에서 여과시키고, 에테르(Ether) 100ml로 수세하고, 건조시켜, 상기 화합물 7b 8.6g(29.61mmol)을 얻었으며, 수율은 89%이다.
상기 화합물 7b 의 1H-NMR을 이용한 측정 결과는 다음과 같다.
1H NMR (500 MHz, DMSO, ppm) : 10.29(1H, b, COOH), 8.23(1H, s, NH), 7.16-7.14(2H, d, ArH), 6.95-6.93(2H, d, ArH), 3.48(2H, s, Ar-CH2-COOH), 3.60(2H, s, NH2)
N2하에서, 상기 화합물 7b 1.5g(7.44mmol, 1eq), 화합물 2b 0.956g(11.10mmol)을 빙초산(glacial acetic acid) 30g에 첨가하고, 120℃에서 19시간동안 교반시켰다. 상온으로 식힌 후, 물 800ml를 첨가하고, 3% NaOH 용액으로 중화시켰다. MC 500ml로 추룰하고 유기층을 MgSO4에 통과시키고, 감압하에서 용매를 제거하여 화합물 7c 얻었으며, 분리없이 다음 반응을 진행하였다.
N2하에서, 상기 화합물 7c, 화합물 1b 2.1g(14.795mmol)을 아세토니트릴 30ml에 첨가하고, 85℃에서 8시간 교반 후, 감압하에서 용매를 제거하였다. 소량의 아세톤을 첨가시킨 후 감압하에서 여과시키고 건조시켰다. 상기 화합물 7d 0.472g(19.410mmol)을 얻었다. 수율은 17.7%
상기 화합물 7d 의 1H-NMR을 이용한 측정 결과는 다음과 같다.
1H NMR (500 MHz, DMSO, ppm) : 12.45(1H, broad, COOH), 7.84-7.83(1H, d, ArH), 7.69(1H, s, ArH), 7.52-7.50(1H, dd, ArH), 3.95(3H, s, N-CH3), 3.74(2H, s, Ar-CH2-COOH), 2.74(3H, s,N=C-CH3), 1.51(6H, s, CH3×2)
Figure pat00028
상기 화합물 4b와 동일한 방법으로 화합물 7e를 합성하였다.
Figure pat00029
상기 화합물 3c와 동일한 방법으로 화합물 7f를 합성하였다.
Figure pat00030
상기 화합물 3c와 동일한 방법으로 화합물 7g를 합성하였다.
Figure pat00031
상기 화합물 A와 동일한 방법으로 화합물 F를 합성하였다.
상기 화합물 F의 MS 분석 결과:
m/z 585.30 [Dye-anion]+
m/z 279.92 [anion]-
< 제조예 7>
Figure pat00032
상기 화합물 A와 동일한 방법으로 화합물 G를 합성하였다.
상기 화합물 G의 MS 분석 결과:
m/z 697.35 [Dye-anion]+
m/z 279.92 [anion]-
< 제조예 8>
Figure pat00033
상기 화합물 3c와 동일한 방법으로 화합물 7h를 합성하였다.
Figure pat00034
상기 화합물 A와 동일한 방법으로 화합물 H를 합성하였다.
상기 화합물 H의 MS 분석 결과:
m/z 611.31 [Dye-anion]+
m/z 279.92 [anion]-
< 제조예 9>
Figure pat00035
상기 화합물 3c와 동일한 방법으로 화합물 7i를 합성하였다.
Figure pat00036
상기 화합물 A와 동일한 방법으로 화합물 I를 합성하였다.
상기 화합물 I의 MS 분석 결과:
m/z 625.33 [Dye-anion]+
m/z 279.92 [anion]-
< 제조예 10>
Figure pat00037
상기 화합물 3c와 동일한 방법으로 화합물 7j를 합성하였다.
Figure pat00038
상기 화합물 A와 동일한 방법으로 화합물 J를 합성하였다.
상기 화합물 J의 MS 분석 결과:
m/z 641.32 [Dye-anion]+
m/z 279.92 [anion]-
실시예 1 내지 7
하기 표 1의 조성을 갖는 감광성 수지 조성물을 준비하였다.
실시
예 1		 실시
예 2		 실시
예 3		 실시
예 4		 실시
예 5		 실시예 6 실시예 7 실시예 8 실시예 9 실시예 10 비교예 1
화합물 A 5.554 - - - - - - - - - -
화합물 B - 5.554 - - - - - - - - -
화합물 C - - 5.554 - - - - - - - -
화합물 D - - - 5.554 - - - - - - -
화합물 E - - - - 5.554 - - - - -
화합물 F - - - - - 5.554 - - - - -
화합물 G - - - - - - 5.554 - - - -
화합물
H		 - - - - - - 5.554 - - -
화합물
I		 - - - - - - - - 5.554 - -
화합물
J		 - - - - - - - - - 5.554 -
비교 화합물 - - - - - - - - - - 5.554
바인더 수지(g) 10.376
광개시제 (g) 2.018
첨가제 (g) 1.016
광중합성 화합물 (g) 12.443
용제 (g) 68.593
총함량 (g) 100
바인더수지: 벤질메타크릴레이트와 메타크릴산의 공중합체(몰비 70:30, 산가는 113 KOH mg/g, GPC로 측정한 중량평균분자량 20,000, 분자량분포(PDI) 2.0, 고형분(S.C) 25%, 용매 PGMEA 포함)
광개시제: I-369 (BASF사)
광중합성 화합물: DPHA(일본화약)
첨가제 : DIC社 F-475
용제 : PGMEA (Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate)

비교 화합물:
Figure pat00039
상기 실시예 1 내지 10에서 제조된 감광성 수지 조성물을 이용하여 하기와 같이 기판을 제작하고, 물성을 측정하였다.
기판 제작 조건
상기 감광성 수지 조성물을 유리(5×5 cm) 위에 스핀코팅(spincoating)하여 100℃에서 100초간 전열처리(prebake)를 실시하여 필름을 형성시켰다. 필름을 형성시킨 기판과 포토마스크(photo mask) 사이의 간격을 300㎛로 하고, 노광기를 이용하여 기판 전면에 40mJ/cm2 노광량을 조사하였다.
노광된 기판을 현상액 (KOH, 0.05%)에 60초간 현상하고, 230℃로 20분간 후열 처리(postbake)를 시켜, 컬러 패턴을 얻었다.
내화학성 측정 조건
위와 같은 조건으로 제작된 기판을 1cm x 5cm 자른 2ea를 NMP(N-Methyl-2-pyrrolidone) 16ml에 침지시켜, 80℃ 오븐에서 40분간 두었다. 이후 NMP 용액을 UV-Vis spectrophotometer를 이용하여 흡수도(Absorbance,A)를 측정하였다.
흡수도(Absorbance,A)가 크면, 색재(염료 혹은 안료)가 막에서 용출되어 내화학성이 나쁨을 의미한다.
실시예 1 내지 10 및 비교예 1의 조성물을 이용하여 제작된 기판에 대한 내화학성 측정 결과, 실시예 1 내지 10에 비하여 비교예 1에서 흡수도가 매우 크게 나타났음을 확인하였다. 실시예 1 내지 10과 비교예 1에 대하여 내화학성 측정 결과를 도 1에 나타내었다.

Claims (12)

  1. 하기 화학식 1의 화합물:
    [화학식 1]
    Figure pat00040

    상기 화학식 1에 있어서,
    R1 내지 R14 중 적어도 하나는 하기 화학식 2 또는 3으로 표시되고,
    [화학식 2]
    Figure pat00041

    [화학식 3]
    Figure pat00042

    Y1 및 Y2는 각각 O 또는 NR이며,
    L1, L3 및 L4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 2가 연결기이고,
    L2 및 L5는 각각 직접 결합 또는 2가 연결기이며,
    R1 내지 R14 중 화학식 2가 아닌 기, R15, R16, R17 및 R은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알콕시기; 치환 또는 비치환된 7 내지 50의 아르알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기; 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐옥시기; 치환 또는 비치환된 8 내지 50의 아르알케닐기; -(L6)mCOOH; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 40의 아릴기; 또는 N, O 및 S 원자 중 1개 이상을 포함하는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,
    n은 0 내지 6의 정수이며, m은 0 또는 1이고,
    L6은 직접 결합 또는 2가 연결기이며,
    X-는 음이온이고,
    화학식 2 및 3의 *은 화학식 1의 코어구조에 연결되는 부분이다.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 2에 있어서, Y1 및 Y2는 O 또는 NH인 것인 화합물.
  3. 청구항 1에 있어서, R1 내지 R8 중 적어도 하나가 상기 화학식 2 또는 3으로 표시되는 것인 화합물.
  4. 청구항 1에 있어서, R13 및 R14 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 25의 알케닐기인 것인 화합물.
  5. 청구항 1에 있어서, R9 내지 R12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 25의 알킬기인 것인 화합물.
  6. 청구항 1 내지 5 중 어느 하나의 항에 따른 화학식 1의 화합물을 포함하는 색재 조성물.
  7. 청구항 6에 있어서, 염료 및 안료 중 적어도 1 종을 더 포함하는 색재 조성물.
  8. 청구항 1 내지 5 중 어느 하나의 항에 따른 화학식 1의 화합물, 바인더 수지; 다관능성 모노머; 광개시제; 및 용매를 더 포함하는 것인 수지 조성물.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 수지 조성물 중 고형분의 총 중량을 기준으로
    상기 화학식 1의 화합물의 함량은 5 중량% 내지 60 중량%이고,
    상기 바인더 수지의 함량은 1 중량% 내지 60 중량%이며,
    상기 개시제의 함량은 0.1 중량% 내지 20 중량%이고,
    상기 다관능성 모노머의 함량은 0.1 중량% 내지 50 중량%인 것인 수지 조성물.
  10. 청구항 8에 따른 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광재.
  11. 청구항 10의 감광재를 포함하는 컬러필터.
  12. 청구항 11의 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치.
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