JP2020516072A - 処理チャンバにおける工作物における材料堆積防止 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、全ての目的のために引用によって本明細書に組み込まれる2017年3月31日に出願された「Material Deposition Prevention on a Substrate in a Process Chamber」という名称の米国仮出願第62/479778号明細書の優先権の利益を主張する。
本開示は、概して、半導体工作物などの工作物のプラズマ処理に関する。
プラズマ処理は、半導体ウェハおよびその他の工作物の成膜、エッチング、レジスト除去および関連する処理のための半導体工業において広く使用されている。プラズマ源(例えば、マイクロ波、ECR、誘電性など)は、しばしば、工作物を処理するための高密度プラズマおよび反応種を発生するためにプラズマ処理のために使用される。RFプラズマ源は、RFプラズマ源の能力によりプラズマエッチ用途において使用することができ、フィードガスからプロセス化学反応を発生し、高いまたは低いエッチ速度で等方性または極めて異方性のエッチを提供する。プラズマ処理ツールは、極めて異なるガスにおいておよび極めて異なる条件(ガス流、ガス圧力など)の下で安定したプラズマを維持することができ、プラズマ密度、プラズマプロフィルおよびイオンエネルギの独立した制御を提供することができる。
本開示の実施の形態の態様および利点は、部分的に以下の説明において示され、または説明から学習されてもよい、または実施の形態の実施を通じて学習されてもよい。
ここで、実施の形態を詳細に参照し、その1つまたは複数の例が図示されている。各例は、本開示の限定ではなく、実施の形態の説明として提供されている。実際、本開示の範囲または思想から逸脱することなく実施の形態に対して様々な改良および変更をなすことができることが当業者に明らかになるであろう。例えば、1つの実施の形態の一部として例示または説明された特徴を、さらに別の実施の形態を提供するために別の実施の形態と共に使用することができる。すなわち、本開示の態様はこのような改良および変更をカバーすることが意図されている。
Claims (20)
- 工作物を処理するための工作物処理装置であって、
プラズマを発生するように構成されたプラズマ源と、
工作物を収容するように構成されたチャンバと、
該チャンバに収容されかつ前記工作物を支持するように構成された工作物支持体と、
上段および下段を有するフォーカスリングを含むフォーカスリングアセンブリと、を備え、
前記上段の内縁は、前記工作物支持体に配置された前記工作物の外縁から少なくとも約3mmの横方向距離だけ離されている、工作物を処理するための工作物処理装置。 - 前記横方向距離は、少なくとも約6mmである、請求項1記載の工作物処理装置。
- 前記横方向距離は、少なくとも約7mm〜約15mmの範囲である、請求項1記載の工作物処理装置。
- 前記フォーカスリングは、該フォーカスリングの前記上段と前記下段との間に側壁をさらに有し、該側壁と、前記下段の上面との間の角度は、約100度〜約150度の範囲であることができる、請求項1記載の工作物処理装置。
- 前記フォーカスリングは、該フォーカスリングの前記上段と前記下段との間に側壁をさらに有し、該側壁と、前記下段の上面との間の角度は、90度である、請求項1記載の工作物処理装置。
- 前記フォーカスリングは、ケイ素を含む、請求項1記載の工作物処理装置。
- 前記フォーカスリングは、イットリアを含む、請求項1記載の工作物処理装置。
- 前記工作物支持体は、ベースプレートに結合された静電チャックを含む、請求項1記載の工作物処理装置。
- 前記フォーカスリングアセンブリは、
前記チャンバの側壁に隣接した外側リングと、
前記工作物支持体のベースプレートに隣接した内側リングと、
横方向で前記リングアセンブリにおいて前記外側リングと前記ベースプレートとの間に配置された上側リングであって、かつ鉛直方向で前記リングアセンブリにおいて前記ベースプレートと前記フォーカスリングとの間に配置された上側リングと、をさらに有する、請求項1記載の工作物処理装置。 - 前記内側リングは、石英を含む、請求項9記載の工作物処理装置。
- 前記上側リングは、石英を含む、請求項9記載の工作物処理装置。
- 前記外側リングは、絶縁材料を含む、請求項9記載の工作物処理装置。
- 前記外側リングは、イットリアを含む、請求項9記載の工作物処理装置。
- 前記フォーカスリングの前記上段の上面は、前記工作物の上面と実質的に同一平面にある、請求項1記載の工作物処理装置。
- 前記フォーカスリングの前記下段の上面と、前記工作物の下面との間に間隙を画定するように、前記工作物の縁部は、前記工作物支持体の縁部から突き出ている、請求項1記載の工作物処理装置。
- 前記フォーカスリングは、前記間隙内への覗き角度を規定している、請求項15記載の工作物処理装置。
- 処理チャンバにおいて工作物支持体を包囲するためのフォーカスリングであって、該フォーカスリングは、上段および下段を有し、工作物が前記処理チャンバにおいて前記工作物支持体によって支持されているとき、前記フォーカスリングの前記上段の内縁と、工作物との間に横方向距離が設定されており、該横方向距離は、前記工作物の厚さに対して4:1の比を有する、処理チャンバにおいて工作物支持体を包囲するためのフォーカスリング。
- 処理チャンバにおいて工作物支持体を包囲するためのフォーカスリングであって、該フォーカスリングは、上段および下段を有し、工作物が前記処理チャンバにおいて前記工作物支持体によって支持されているとき、前記フォーカスリングの前記上段の内縁と、工作物との間に横方向距離が設定されており、該横方向距離は、少なくとも約6mmである、処理チャンバにおいて工作物支持体を包囲するためのフォーカスリング。
- 前記フォーカスリングは、該フォーカスリングの前記上段と前記下段との間に側壁をさらに有し、該側壁と、前記下段の上面との間の角度は、約90度〜約150度である、請求項18記載のフォーカスリング。
- 前記フォーカスリングは、ケイ素またはイットリアを含む、請求項18記載のフォーカスリング。
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