JP2020515406A - オレフィンをエポキシ化する触媒の製造方法およびその応用 - Google Patents
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Abstract
Description
オレフィンをエポキシ化する触媒の製造方法であって、以下の工程を含む、製造方法:
(1)シリカゲル担体上に金属塩助剤を取り込ませて、金属塩助剤で修飾されたシリカゲル担体Aを得る工程、ここで、特定の実施形態では、初期湿式含浸法などの含浸法を用いて上記金属塩助剤をシリカゲル担体上に取り込ませてもよい;
(2)工程(1)で得られたAを、乾燥処理する工程;
(3)乾燥させたAをチタン塩蒸気(好ましくは、TiCl4蒸気)で化学蒸着して、上記金属塩助剤および上記チタン塩(好ましくは、TiCl4)を取り込んだシリカゲルBを得る工程、ここで、いくつかの好ましい実施形態では、工程(3)において、乾燥させたAを反応管(好ましくは、固定床反応器)内に充填して、好ましくは、反応管にチタン塩蒸気を導入するために窒素を使用して、化学蒸着する;
(4)工程(3)で得られたBを焼成して、金属塩助剤およびTi種を取り込んだシリカゲルCを得る工程、ここで、好ましくはN2雰囲気下で焼成を行う;
(5)工程(4)で得られたCを水蒸気で洗浄する工程、ここで、水洗によって得られた生成物をTi−MeO−SiO2複合酸化物と称する;
(6)工程(5)で得られた上記Ti−MeO−SiO2複合酸化物をアルキルシリケート蒸気、好ましくはテトラエチルオルトシリケート蒸気で蒸着して、表面にケイ素含有化合物を取り込んだTi−MeO−SiO2複合酸化物Dを得る工程、ここで、好ましくは、蒸着を反応管内にて行い、上記アルキルシリケート蒸気を反応管に注入して、Ti−MeO−SiO2複合酸化物を蒸着する、さらに好ましくは、窒素を用いて上記アルキルシリケート蒸気を反応管に導入して蒸着する;
(7)工程(6)で得られたDを焼成して、表面を被覆するSiO2層を有しているTi−MeO−SiO2複合酸化物を得る工程(このTi−MeO−SiO2複合酸化物を、SiO2−Ti−MeO−SiO2と称する);
(8)工程(7)で得られたSiO2−Ti−MeO−SiO2を、シリル化処理する工程。
〜O−Si−OH + TiCl4 → 〜O−Si−O−Ti−Cl
ここで、Tiは、シリカゲル担体の重量を基準として0.1〜5.0重量%、好ましくは2.5〜4.5重量%の範囲の量でシリカゲル担体上に取り込まれる(すなわち、取り込まれたTiの量は工程(1)で使用されるシリカゲル担体の重量を基準として計算される)。本明細書に記載のTiは、使用されるチタン塩蒸気中のTi元素に基づく。いくつかの特定の実施形態では、チタン塩は、チタン塩蒸気を提供するための蒸気槽内に含まれる。チタン塩蒸気、好ましくはTiCl4蒸気の温度は137℃〜150℃であり、すなわち、チタン塩蒸気はこの温度に予熱される。反応管内の不活性ガス、好ましくはN2の流速は0.05〜2.0cm/s、好ましくは0.50〜1.35cm/sであり、チタン塩蒸気、好ましくはTiCl4蒸気とシリカゲル表面上の関連する水酸基との間の反応温度は150〜300℃であり、堆積時間は120〜240分間である。
〜O−Si−OH + Si(CH3)3−NH−Si(CH3)3 → 〜O−Si−O−Si(CH3)3
シリル化処理の目的は、触媒表面の疎水性を高め、触媒の過酸化物に対する分解能を低下させ、触媒の選択性を向上させることである。シリル化試薬は、好ましくはヘキサメチルジシリルアミンである。ヘキサメチルジシリルアミンは、シリカゲル担体の重量を基準として(すなわち、工程(1)で使用されるシリカゲル担体の重量を基準として)5重量%〜15重量%の量で使用される。好ましくは、ヘキサメチルジシリルアミンの温度は126〜150℃であり、シリル化温度は200〜300℃であり、反応管中の不活性ガス、好ましくはN2の流速は0.5〜1cm/sであり、シリル化時間は60〜180分間である。
(1)化学蒸着法によりTi−MeO−SiO2複合酸化物の表面上にSiO2の層をさらに堆積し、保護型SiO2シェルの層を形成し、Ti種を保護し、Ti活性中心の損失(損失速度)を低減させ(減少させ)、触媒の安定性を改善することができるSiO2−Ti−MeO−SiO2サンドイッチ構造を形成する;(2)金属助剤を添加してシリカゲル担体を改質することにより、金属助剤がTi活性中心との相乗作用を示し、触媒のプロピレンオキシドに対する活性および選択性が改善され、触媒のPOに対する平均選択率は最大96.7%であり、PO生成物のプロピレンのみの消費を減少させる;(3)本発明のプロセスフローは、制御が簡単で、工業化が容易であり、工業化の見通しが大きい。
1は、ケイ素エステル蒸気槽を表す
2は、TiCl4蒸気槽を表す
3は、水・シリル化剤蒸気槽を表す
4は、排ガス吸着槽を表す
5は、反応管を表す。
(式中、Aはピーク面積を表し、以下同様である);
液相中のPOの含有量=液相中のPOの濃度×液相中の試料の質量;
気相中のPO濃度=(2.162×(APO/Aトルエン)+0.0002)×トルエンの質量;
気相中のPOの含有量=気相中のPOの濃度×吸収液の総量/気相中の試料の量;
POの総生産量=気相中のPOの含有量+液相中のPOの含有量;
POに対する選択性=POの総生産量/EBHP(エチルベンゼンヒドロペルオキシド)によって酸化されたプロピレンから理論的に生産されたPOの量×100%。
(式中、C(Na2S2O3)はチオ硫酸ナトリウムの濃度)。
秤量した0.36gのCe(NO3)3を、33.6gの蒸留水中に溶解し、30gのシリカゲル担体上に噴霧した。2時間静置した後、80℃で乾燥させた。この工程で得られた生成物を、金属塩助剤で修飾されたシリカゲル担体A(または生成物AまたはAと略称する)と称する。
秤量した0.48gのPr(NO3)3を、33.6gの蒸留水中に溶解し、30gのシリカゲル担体上に噴霧した。2時間静置した後、80℃で乾燥させた。
秤量した0.6gのTb(NO3)3を、33.6gの蒸留水中に溶解し、30gのシリカゲル担体上に噴霧した。2時間静置した後、80℃で乾燥させた。
秤量した0.72gのLa(NO3)3を、33.6gの蒸留水中に溶解し、30gのシリカゲル担体上に噴霧した。2時間静置した後、80℃で乾燥させた。
秤量した0.6gのTb(NO3)3を、33.6gの蒸留水中に溶解し、30gのシリカゲル担体上に噴霧した。2時間静置した後、80℃で乾燥させた。
秤量した30gのシリカゲル担体を反応管に充填し、N2雰囲気下にて、240℃で240分間乾燥した。反応管中のN2の線速度を2cm/sとした。
秤量した30gのシリカゲル担体を反応管に充填し、N2雰囲気下にて、240℃で240分間乾燥した。反応管中のN2の線速度を2cm/sとした。
オレフィンをエポキシ化する触媒の製造方法であって、以下の工程を含む、製造方法:
(1)シリカゲル担体上に金属塩助剤を取り込ませて、金属塩助剤で修飾されたシリカゲル担体Aを得る工程、ここで、特定の実施形態では、初期湿式含浸法などの含浸法を用いて上記金属塩助剤をシリカゲル担体上に取り込ませてもよい;
(2)工程(1)で得られたAを、乾燥処理する工程;
(3)乾燥させたAをチタン塩蒸気(好ましくは、TiCl4蒸気)で化学蒸着して、上記金属塩助剤および上記チタン塩(好ましくは、TiCl4)を取り込んだシリカゲルBを得る工程、ここで、いくつかの好ましい実施形態では、工程(3)において、乾燥させたAを反応管(好ましくは、固定床反応器)内に充填して、好ましくは、反応管にチタン塩蒸気を導入するために窒素を使用して、化学蒸着する;
(4)工程(3)で得られたBを焼成して、金属塩助剤およびTi種を取り込んだシリカゲルCを得る工程、ここで、好ましくはN2雰囲気下で焼成を行う;
(5)工程(4)で得られたCを水蒸気で洗浄する工程、ここで、水洗によって得られた生成物をTi−MeO−SiO2複合酸化物と称する;
(6)工程(5)で得られた上記Ti−MeO−SiO2複合酸化物をアルキルシリケート蒸気、好ましくはテトラエチルオルトシリケート蒸気で蒸着して、表面にケイ素含有化合物を取り込んだTi−MeO−SiO2複合酸化物Dを得る工程、ここで、好ましくは、蒸着を反応管内にて行い、上記アルキルシリケート蒸気を反応管に注入して、Ti−MeO−SiO2複合酸化物を蒸着する、さらに好ましくは、窒素を用いて上記アルキルシリケート蒸気を反応管に導入して蒸着する;
(7)工程(6)で得られたDを焼成して、表面を被覆するSiO2層を有しているTi−MeO−SiO2複合酸化物を得る工程(このTi−MeO−SiO2複合酸化物を、SiO2−Ti−MeO−SiO2と称する);
(8)工程(7)で得られたSiO2−Ti−MeO−SiO2を、シリル化処理する工程。
〜O−Si−OH + TiCl4 → 〜O−Si−O−Ti−Cl
ここで、Tiは、シリカゲル担体の重量を基準として0.1〜5.0重量%、好ましくは2.5〜4.5重量%の範囲の量でシリカゲル担体上に取り込まれる(すなわち、取り込まれたTiの量は工程(1)で使用されるシリカゲル担体の重量を基準として計算される)。本明細書に記載のTiは、使用されるチタン塩蒸気中のTi元素に基づく。いくつかの特定の実施形態では、チタン塩は、チタン塩蒸気を提供するための蒸気槽内に含まれる。チタン塩蒸気、好ましくはTiCl4蒸気の温度は137℃〜150℃であり、すなわち、チタン塩蒸気はこの温度に予熱される。反応管内の不活性ガス、好ましくはN2の流速は0.05〜2.0cm/s、好ましくは0.50〜1.35cm/sであり、チタン塩蒸気、好ましくはTiCl4蒸気とシリカゲル表面上の関連する水酸基との間の反応温度は150〜300℃であり、堆積時間は120〜240分間である。
〜O−Si−OH + Si(CH3)3−NH−Si(CH3)3 → 〜O−Si−O−Si(CH3)3
シリル化処理の目的は、触媒表面の疎水性を高め、触媒の過酸化物に対する分解能を低下させ、触媒の選択性を向上させることである。シリル化試薬は、好ましくはヘキサメチルジシリルアミンである。ヘキサメチルジシリルアミンは、シリカゲル担体の重量を基準として(すなわち、工程(1)で使用されるシリカゲル担体の重量を基準として)5重量%〜15重量%の量で使用される。好ましくは、ヘキサメチルジシリルアミンの温度は126〜150℃であり、シリル化温度は200〜300℃であり、反応管中の不活性ガス、好ましくはN2の流速は0.5〜1cm/sであり、シリル化時間は60〜180分間である。
(1)化学蒸着法によりTi−MeO−SiO2複合酸化物の表面上にSiO2の層をさらに堆積し、保護型SiO2シェルの層を形成し、Ti種を保護し、Ti活性中心の損失(損失速度)を低減させ(減少させ)、触媒の安定性を改善することができるSiO2−Ti−MeO−SiO2サンドイッチ構造を形成する;(2)金属助剤を添加してシリカゲル担体を改質することにより、金属助剤がTi活性中心との相乗作用を示し、触媒のプロピレンオキシドに対する活性および選択性が改善され、触媒のPOに対する平均選択率は最大96.7%であり、PO生成物のプロピレンのみの消費を減少させる;(3)本発明のプロセスフローは、制御が簡単で、工業化が容易であり、工業化の見通しが大きい。
1は、アルキルシリケート蒸気槽を表す
2は、TiCl4蒸気槽を表す
3は、水・シリル化剤蒸気槽を表す
4は、排ガス吸着槽を表す
5は、反応管を表す。
(式中、Aはピーク面積を表し、以下同様である);
液相中のPOの含有量=液相中のPOの濃度×液相中の試料の質量;
気相中のPO濃度=(2.162×(APO/Aトルエン)+0.0002)×トルエンの質量;
気相中のPOの含有量=気相中のPOの濃度×吸収液の総量/気相中の試料の量;
POの総生産量=気相中のPOの含有量+液相中のPOの含有量;
POに対する選択性=POの総生産量/EBHP(エチルベンゼンヒドロペルオキシド)によって酸化されたプロピレンから理論的に生産されたPOの量×100%。
(式中、C(Na2S2O3)はチオ硫酸ナトリウムの濃度)。
秤量した0.36gのCe(NO3)3を、33.6gの蒸留水中に溶解し、30gのシリカゲル担体上に噴霧した。2時間静置した後、80℃で乾燥させた。この工程で得られた生成物を、金属塩助剤で修飾されたシリカゲル担体A(または生成物AまたはAと略称する)と称する。
秤量した0.48gのPr(NO3)3を、33.6gの蒸留水中に溶解し、30gのシリカゲル担体上に噴霧した。2時間静置した後、80℃で乾燥させた。
秤量した0.6gのTb(NO3)3を、33.6gの蒸留水中に溶解し、30gのシリカゲル担体上に噴霧した。2時間静置した後、80℃で乾燥させた。
秤量した0.72gのLa(NO3)3を、33.6gの蒸留水中に溶解し、30gのシリカゲル担体上に噴霧した。2時間静置した後、80℃で乾燥させた。
秤量した0.6gのTb(NO3)3を、33.6gの蒸留水中に溶解し、30gのシリカゲル担体上に噴霧した。2時間静置した後、80℃で乾燥させた。
秤量した30gのシリカゲル担体を反応管に充填し、N2雰囲気下にて、240℃で240分間乾燥した。反応管中のN2の線速度を2cm/sとした。
秤量した30gのシリカゲル担体を反応管に充填し、N2雰囲気下にて、240℃で240分間乾燥した。反応管中のN2の線速度を2cm/sとした。
Claims (12)
- オレフィンをエポキシ化する触媒の製造方法であって、以下の工程を含む、製造方法:
(1)シリカゲル担体上に金属塩助剤を取り込ませて、金属塩助剤で修飾されたシリカゲル担体Aを得る工程(好ましくは、含浸法によって、金属塩助剤をシリカゲル担体上に取り込ませる);
(2)工程(1)で得られたAを、乾燥処理する工程;
(3)乾燥させたAをチタン塩蒸気(好ましくは、TiCl4蒸気)で化学蒸着して、上記金属塩助剤および上記チタン塩(好ましくは、TiCl4)を取り込んだシリカゲルBを得る工程;
(4)工程(3)で得られたBを焼成して、金属塩助剤およびTi種を取り込んだシリカゲルCを得る工程;
(5)工程(4)で得られたCを水蒸気で洗浄して、Ti−MeO−SiO2複合酸化物を得る工程;
(6)上記Ti−MeO−SiO2複合酸化物をアルキルシリケート蒸気で蒸着して、表面にケイ素含有化合物を取り込んだTi−MeO−SiO2複合酸化物Dを得る工程(好ましくは、上記アルキルシリケート蒸気は、テトラエチルオルトシリケート蒸気である);
(7)工程(6)で得られたDを焼成して、表面を被覆するSiO2層を有しているTi−MeO−SiO2複合酸化物を得る工程(このTi−MeO−SiO2複合酸化物を、SiO2−Ti−MeO−SiO2と称する);
(8)工程(7)で得られたSiO2−Ti−MeO−SiO2を、シリル化処理する工程。 - 工程(1)における上記金属塩助剤は、Ce(NO3)3、Pr(NO3)3、Tb(NO3)3およびLa(NO3)3のうちの1つ以上であり、
好ましくは、工程(1)において、上記金属塩助剤の金属酸化物の量を計算に用いると、上記金属塩助剤を上記シリカゲル担体の質量を基準として0.6〜2.4重量%添加する、
請求項1に記載の方法。 - 工程(1)で使用される上記シリカゲル担体は、C型シリカゲルであり、
好ましくは球形または塊状のC型シリカゲルであり、より好ましくは不定形塊状のC型シリカゲルであり、
好ましくは、工程(1)において使用されるシリカゲル担体の、比表面積は100〜350m2/gであり、平均細孔径は8〜11nmであり、細孔容積は0.7〜1.2mL/gであり、Na2O不純物の含有量は100ppm未満であり、Fe2O3不純物の含有量は500ppm未満であり、球相当径の大きさは0.5〜2mmである、
請求項1または2に記載の方法。 - 工程(2)において、乾燥温度は150〜240℃であり、乾燥時間は120〜240分間であり、
好ましくは、工程(2)において、乾燥ガスを用いて乾燥を行い、当該乾燥ガスは、シリカゲルと反応しないガス(好ましくは空気または窒素)であり、
より好ましくは、工程(2)において、具体的には反応管中で乾燥を行い、反応管中の乾燥ガスの流速は、好ましくは1.0〜3.0cm/sである、
請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。 - 工程(1)において使用されるシリカゲル担体の重量を基準とすると、工程(3)において、上記シリカゲル担体に取り込まれるTiは、0.1〜5.0重量%(好ましくは、2.5〜4.5重量%)であり、
好ましくは、工程(3)で使用されるチタン塩蒸気の温度は、137〜150℃であり、
好ましくは、工程(3)における化学蒸着は反応管内にて行い、乾燥させたAを上記反応管内に充填し、不活性ガス(好ましくは、N2)を用いて上記チタン塩蒸気を上記反応管内に導入し、上記反応管内における上記不活性ガスの流速は0.05〜2.0cm/s(好ましくは、0.50〜1.35cm/s)であり、反応温度は150〜300℃であり、堆積時間は120〜240分間である、
請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。 - 工程(4)における焼成は、N2雰囲気下にて行われ、
焼成温度は、450〜700℃(好ましくは500〜600℃)であり、
焼成時間は、30〜240分間(好ましくは、120〜180分間)であり、
上記N2の流速は、0.05〜2.0cm/s(好ましくは、1〜2.5cm/s)である、
請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。 - 工程(5)における水洗にて使用される水蒸気の温度は、100〜200℃(好ましくは、120〜180℃)であり、
工程(3)において使用されるチタン塩蒸気中のTi元素の量を基準とすると、水蒸気のTiに対するモル比は(20〜150):1(好ましくは、(50〜100):1)であり、水洗時間は180〜240分間であり、
工程(5)の水蒸気洗浄は、好ましくは、反応管内で行われ、不活性ガス(好ましくは、N2)を用いて上記反応管内に水蒸気を導入し、上記不活性ガスの流速は1〜2.5cm/sである、
請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。 - 工程(6)で使用されるアルキルシリケート蒸気は、166〜200℃に加熱されており、
工程(6)の蒸着は反応管内で行われ、不活性ガス(好ましくは、N2)を用いて上記アルキルシリケート蒸気を上記反応管内に導入し、
上記反応管内の上記不活性ガスの流速は、0.05〜2.0cm/s(好ましくは、0.5〜1.0cm/s)であり、反応温度は166〜200℃であり、堆積時間は120〜180分間であり、工程(1)で使用されるシリカゲル担体に対するアルキルシリケートの重量比率は(0.5〜1):1である、
請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。 - 工程(7)における焼成は、空気雰囲気下にて行われ、温度は500〜700℃であり、焼成時間は30〜120分間であり、空気の流速は0.5〜1cm/sである、
請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。 - 工程(8)におけるシリル化処理で使用するシリル化試薬は、ヘキサメチルジシリルアミンであり、
工程(1)において使用されるシリカゲル担体の重量を基準とすると、ヘキサメチルジシリルアミンの使用量は5重量%〜15重量%であり、
好ましくは、工程(8)において使用されるヘキサメチルジシリルアミンの温度は、126〜150℃であり、
好ましくは、上記シリル化処理は反応管内で行われ、不活性ガス(好ましくは、N2)を用いて上記シリル化試薬の蒸気を上記反応管内に導入し、上記反応管内における上記不活性ガスの流速は0.5〜1cm/sであり、シリル化温度は200〜300℃であり、シリル化時間は60〜180分間である、
請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。 - プロピレンのエポキシ化を触媒してプロピレンオキシドを製造するための、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法によって製造される触媒の使用。
- プロピレンのエポキシ化を触媒してプロピレンオキシドを製造する製造条件が、以下の通りである、請求項11に記載の使用:
反応温度:40〜120℃
ゲージ圧:2〜4.5MPa
プロピレンのエチルベンゼンヒドロペルオキシドに対するモル比:(3〜10):1
質量空間速度:1〜5h−1。
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