JP2020507118A - 化学増幅型フォトレジスト組成物およびこれを用いたフォトレジストフィルム - Google Patents
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Abstract
Description
A1は、炭素数1〜10のアルキレン基または下記の化学式2で表されるポリアルキレンオキシ基であり、
X1は、炭素数1〜5のアルキル基、ヒドロキシ基、またはカルボキシル基であり、
R1は、1価〜5価の有機官能基であり、
R2は、水素、炭素数1〜5のアルキル基、ヒドロキシ基、またはカルボキシル基であり、
pは、1〜5の整数であり、
[化学式2]
[化学式2]
[化学式1−2]
[R2]Acetal protected polyhydroxystyrene(PHS)resin(Mw15,300g/mol、置換率40%)
[R3]Acrylic resin(Mw50000g/mol)
[A−2]可塑剤(合成例2による化合物A−2)
[A−3]可塑剤(合成例3による化合物A−3)
[B−1]可塑剤(合成例4による化合物B−1)
[B−2]可塑剤(合成例5による化合物B−2)
[A−3]可塑剤(合成例6による化合物B−3)
ガラス基板の上に実施例1〜8および比較例1〜3で製造したフォトレジスト組成物をスピンコートして120℃で2分間ホットプレートで乾燥した後、ステップマスクを用いて露光し、100℃で2分間ホットプレートで追加で乾燥した後にTMAH(tetramethylammonium hydroxide)水溶液で現像した。ステップマスクパターンとフォトレジスト(PR)パターンとのCD(Critical Dimension)サイズが同じ露光量を感度として評価した。
ガラス基板の上に実施例1〜8および比較例1〜3で製造したフォトレジスト組成物をスピンコートして120℃で2分間ホットプレートで乾燥した後、ステップマスクを用いて露光し、100℃で2分間ホットプレートで追加で乾燥した後にTMAH(tetramethylammonium hydroxide)水溶液で現像した。厚膜レジストパターンの頂上部の穴直径から底部の穴直径を減らした値をフッティング長さとして測定した。PRのフッティング特性は下記の基準に基づいて評価した。
◎:フッティング長さ0nm超200nm以下
○:フッティング長さ200nm超500nm以下
△:フッティング長さ500nm超1μm以下
X:フッティング長さ1μm超
ガラス基板の上に実施例1〜8および比較例1〜3で製造したフォトレジスト組成物をスピンコートして120℃で2分間ホットプレートで乾燥した後、ステップマスクを用いて露光し、100℃で2分間ホットプレートで追加で乾燥した後にTMAH(tetramethylammonium hydroxide)水溶液で現像してレジストパターンを製造した。この時、レジストパターンの剥がれ有無を観察して接着力の指標とした。接着力は、下記の基準に基づいて評価した。
◎:ASTM D3359−97 Cross−Cut Tape test規格5B
○:ASTM D3359−97 Cross−Cut Tape test規格4B
△:ASTM D3359−97 Cross−Cut Tape test規格3B
X:ASTM D3359−97 Cross−Cut Tape test規格2B
ガラス基板の上に実施例1〜8および比較例1〜3で製造したフォトレジスト組成物を6μmの厚さでスピンコートして120℃で2分間ホットプレートで乾燥した後にステップマスクを用いて露光し、100℃で2分間ホットプレートで追加で乾燥した後にTMAH(tetramethylammonium hydroxide)水溶液で現像してレジストパターンを製造した。この時、レジストパターンでのクラック発生の有無を観察してクラック耐性の指標とした。クラック耐性は下記の基準に基づいて評価した。
◎:現像後yellow roomに放置した時、3週後crack発生
○:現像後yellow roomに放置した時、2週後crack発生
△:現像後yellow roomに放置した時、1週後crack発生
X:現像後yellow roomに放置した時、3日後crack発生
Claims (12)
- 下記の化学式1で表されるトリアゾール系可塑剤;および
アルカリ現像性樹脂を含む
化学増幅型フォトレジスト組成物:
[化学式1]
A1は、炭素数1〜10のアルキレン基または下記の化学式2で表されるポリアルキレンオキシ基であり、
X1は、炭素数1〜5のアルキル基、ヒドロキシ基、またはカルボキシル基であり、
R1は、1価〜5価の有機官能基であり、
R2は、水素、炭素数1〜5のアルキル基、ヒドロキシ基、またはカルボキシル基であり、
pは、1〜5の整数であり、
[化学式2]
R3は炭素数1〜5のアルキレン基であり、
qは1〜50の整数である。 - 前記化学式1において、
R1は、下記の化学式3で表される1価の有機官能基または炭素数1〜20のアルキル基であり、
pは、1である、
請求項1に記載の化学増幅型フォトレジスト組成物:
[化学式3]
X2は、炭素数1〜5のアルキル基、ヒドロキシ基、またはカルボキシル基であり、
R4およびR5は、それぞれ独立して炭素数1〜5のアルキレン基であり、
rは、1〜10の整数である。 - 前記化学式1において、
R1は、下記の化学式4で表される2価の有機官能基であり、
pは、2である、
請求項1に記載の化学増幅型フォトレジスト組成物:
[化学式4]
Y1およびY2は、それぞれ独立して直接結合、−O−、−CO−、−S−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−CONH−、−COO−、−(CH2)Z−、−O(CH2)ZO−、−COO−(CH2)Z−OCO−であり、
zは、1〜10の間の整数であり、
R6およびR7は、それぞれ独立して炭素数1〜5のアルキレン基であり、
sは、1〜50の整数である。 - 前記化学式1において、
(i)A1は、炭素数1〜5のアルキレン基であり、
X1は、カルボキシル基であるか、または
(ii)A1は、下記の化学式2−1で表されるポリアルキレンオキシ基であり、
X1は、炭素数1〜5のアルキル基であるか、または
(iii)A1は、下記の化学式2−1で表されるポリアルキレンオキシ基であり、
X1は、ヒドロキシ基である、
請求項1から3のいずれか1項に記載の化学増幅型フォトレジスト組成物:
[化学式2−1]
R3は炭素数1〜3のアルキレン基であり、
qは1〜50の整数である。 - 前記トリアゾール系可塑剤は、下記の化学式1−1で表される化合物である、
請求項1に記載の化学増幅型フォトレジスト組成物:
[化学式1−1]
A1は、炭素数1〜5のアルキレン基または下記の化学式2−1で表されるポリアルキレンオキシ基であり、
X1は、炭素数1〜5のアルキル基、ヒドロキシ基、またはカルボキシル基であり、
X2は、カルボキシル基であり、
R4およびR5は、それぞれ独立して炭素数1〜3のアルキレン基であり、
rは、3〜7の整数であり、
[化学式2−1]
R3は炭素数1〜3のアルキレン基であり、
qは1〜50の整数である。 - 前記トリアゾール系可塑剤は、下記の化学式1−2で表される化合物である、
請求項1に記載の化学増幅型フォトレジスト組成物:
[化学式1−2]
A1は、炭素数1〜5のアルキレン基または下記の化学式2−1で表されるポリアルキレンオキシ基であり、
X1は、炭素数1〜5のアルキル基、ヒドロキシ基、またはカルボキシル基であり、
Y1およびY2は、それぞれ独立して−COO−であり、
R6およびR7は、それぞれ独立して炭素数1〜3のアルキレン基であり、
sは、1〜50の整数であり、
[化学式2−1]
R3は炭素数1〜3のアルキレン基であり、
qは1〜50の整数である。 - 前記アルカリ現像性樹脂の100重量部に対し、
トリアゾール系可塑剤を0.1重量部〜10重量部
で含む、
請求項1から6のいずれか1項に記載の化学増幅型フォトレジスト組成物。 - 前記アルカリ現像性樹脂は、
ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、およびアクリル樹脂からなる群より選ばれた2種以上を含む、
請求項1から7のいずれか1項に記載の化学増幅型フォトレジスト組成物。 - 前記アルカリ現像性樹脂は、
前記アルカリ現像性樹脂の100重量部に対し、
アクリル樹脂50重量部〜90重量部;および
ノボラック樹脂またはヒドロキシスチレン樹脂10重量部〜50重量部
を含む、
請求項1から7のいずれか1項に記載の化学増幅型フォトレジスト組成物。 - 前記アクリル樹脂は、下記の化学式5で表される、
請求項8または9に記載の化学増幅型フォトレジスト組成物:
[化学式5]
a:b:c:dのモル比が3〜6:1〜5:0.5〜2:1〜5である。 - 前記アルカリ現像性樹脂は、
重量平均分子量(GPC測定)が10000g/mol〜300000g/molである、
請求項1から10のいずれか1項に記載の化学増幅型フォトレジスト組成物。 - 請求項1から11のいずれか1項に記載の化学増幅型フォトレジスト組成物の硬化物を含む、
フォトレジストフィルム。
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