JP2020205409A - 半導体モジュールの製造方法、電子機器の製造方法、半導体モジュール、及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体モジュールの生産性を向上させる。【解決手段】コンデンサ400、半導体装置100、及びプリント配線板200を用意しておく。プリント配線板200にはんだペーストP1,P2を供給する。コンデンサ400の電極410がはんだペーストP1に接し、コンデンサ400の電極420がはんだペーストP2に接するように、コンデンサ400をプリント配線板200上に載置する。ランド130Eが電極410と対向し、ランド130Gが電極420と対向するように、半導体装置100をプリント配線板200上に載置する。はんだペーストP1,P2を加熱して溶融させる。これにより、溶融はんだM1,M2がランド130E,130Gまで濡れ広がる。溶融はんだM1,M2を冷却固化させることで、ランド130E、130Gと電極410,420とをはんだで接合する。【選択図】図5
Description
本発明は、半導体装置を有する半導体モジュールの技術に関する。
モバイル機器などの電子機器は、メモリなどの別の半導体装置と通信する半導体装置と、半導体装置が実装されたプリント配線板と、を含む半導体モジュールを備えている。半導体装置は、半導体素子及びパッケージ基板を有する半導体パッケージである。半導体装置に含まれる端子の配列構造は、例えばBGA(Ball Grid Array)である。電子機器においては、半導体装置の通信の高速化、及び低電圧化が進んでおり、半導体装置にて生じるノイズを低減することが求められている。また、電子機器の小型化及び薄型化に伴い、半導体装置においては、隣り合う端子同士の狭ピッチ化が望まれている。
ノイズを低減する手段の1つとして、半導体装置の電源端子とグラウンド端子との間に、バイパスコンデンサを接続することが考えられている。バイパスコンデンサは、SMT(Surface Mount Technology)により、プリント配線板において半導体装置の隣、又はプリント配線板において半導体装置が実装される面とは反対側の面に実装されるのが一般的である。しかし、この方法では、半導体装置とコンデンサとを電気的に接続する配線をプリント配線板に形成しておく必要があり、その配線のインダクタンスが、半導体装置における通信速度の高速化を阻害するノイズを発生させる一因となる。これに対し、特許文献1には、BGAパッケージの電源パッドと接地パッドとに、バイパスコンデンサをはんだで直付けする技術が開示されている。
しかし、特許文献1の技術では、半導体装置をプリント配線板に実装する前に、予め、コンデンサの一対の電極の各々に、はんだボールを形成しておかなければならない。コンデンサは、小型の電子部品である。このため、コンデンサの電極にはんだボールを形成しておくのは製造上難しい。また、コンデンサの電極にはんだボールを形成する工程が必要であるため、製造工程が増える。よって、従来よりも半導体モジュールの生産性を向上させることが求められていた。このような問題は、コンデンサ以外の小型の電子部品、例えばインダクタ又は抵抗器を半導体装置に接続する場合にも生じる。さらに、これらの電子部品は半導体装置に接続される際に、接合強度が必要とされる。
そこで、半導体モジュールの生産性を向上させる技術が期待されていた。また、半導体モジュールに接続される電子部品の接合強度を高めることが期待されていた。
本発明の第1の態様によれば、半導体モジュールの製造方法は、所定方向に間隔をあけて配置された第1電極及び第2電極を含むチップ部品、第1ランド及び第2ランドを含む半導体装置、並びにプリント配線板を用意し、前記プリント配線板に、間隔をあけて第1はんだペースト及び第2はんだペーストを供給し、前記第1電極が前記第1はんだペーストと接し、前記第2電極が前記第2はんだペーストと接するように、前記チップ部品を前記プリント配線板上に載置し、前記第1ランドが前記第1電極と対向し、前記第2ランドが前記第2電極と対向するように、前記半導体装置を前記プリント配線板上に載置し、前記第1はんだペースト及び前記第2はんだペーストを加熱して溶融させ、前記第1ランド及び前記第2ランドの各々まで濡れ広がった溶融はんだが冷却されて固化することで、前記第1ランドと前記第1電極とをはんだで接合し、前記第2ランドと前記第2電極とをはんだで接合する。
本発明の第2の態様によれば、半導体モジュールは、プリント配線板と、第1ランド及び第2ランドを含み、前記プリント配線板に実装された半導体装置と、所定方向に間隔をあけた第1電極及び第2電極を含み、前記プリント配線板と前記半導体装置との間に配置されたチップ部品と、前記第1電極と前記第1ランドとを接合する第1はんだ接合部と、前記第2電極と前記第2ランドとを接合する第2はんだ接合部と、を備え、前記プリント配線板は、絶縁基板と、前記絶縁基板の主面に配置されたソルダーレジストと、を有し、前記チップ部品は、前記ソルダーレジストと対向し、平面視して、前記第1ランド及び前記第2ランドの各々は、前記第1電極及び前記第2電極の各々の少なくとも一部と重なり、かつ前記チップ部品から前記所定方向の外側に張り出しており、前記第1はんだ接合部は、前記ソルダーレジストから前記第1ランドに向かうにつれて、前記第1電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしており、前記第2はんだ接合部は、前記ソルダーレジストから前記第2ランドに向かうにつれて、前記第2電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしている。
本発明の第3の態様によれば、半導体モジュールは、プリント配線板と、第1ランド及び第2ランドを含み、前記プリント配線板に実装された半導体装置と、所定方向に間隔をあけた第1電極及び第2電極を含み、前記プリント配線板と前記半導体装置との間に配置されたチップ部品と、前記第1電極と前記第1ランドとを接合する第1はんだ接合部と、前記第2電極と前記第2ランドとを接合する第2はんだ接合部と、を備え、前記プリント配線板は、絶縁基板と、前記絶縁基板の主面に配置され、前記第1はんだ接合部で前記第1ランドに電気的に接続された第3ランドと、前記絶縁基板の主面に配置され、前記第2はんだ接合部で前記第2ランドに電気的に接続された第4ランドと、を有し、平面視して、前記第1ランド及び前記第2ランドの各々は、前記第1電極及び前記第2電極の各々の少なくとも一部と重なり、かつ前記第3ランド及び前記第4ランドの各々の少なくとも一部と重なり、かつ前記チップ部品から前記所定方向の外側に張り出しており、前記第1はんだ接合部は、前記第3ランドから前記第1ランドに向かうにつれて、前記第1電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしており、前記第2はんだ接合部は、前記第4ランドから前記第2ランドに向かうにつれて、前記第2電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしている。
本発明の第4の態様によれば、半導体モジュールは、プリント配線板と、第1ランド及び第2ランドを含み、前記プリント配線板に実装された半導体装置と、所定方向に間隔をあけた第1電極及び第2電極を含み、前記プリント配線板と前記半導体装置との間に配置されたチップ部品と、前記第1電極と前記第1ランドとを接合する第1はんだ接合部と、前記第2電極と前記第2ランドとを接合する第2はんだ接合部と、を備え、前記プリント配線板は、絶縁基板と、前記絶縁基板の主面に配置されたソルダーレジストと、を有し、前記ソルダーレジストは、前記チップ部品の一部が挿入された開口部を有し、平面視して、前記第1ランド及び前記第2ランドの各々は、前記第1電極及び前記第2電極の各々の少なくとも一部と重なり、かつ前記チップ部品から前記所定方向の外側に張り出しており、前記第1はんだ接合部は、前記絶縁基板の前記主面において前記ソルダーレジストの前記開口部により露出させられた部分から前記第1ランドに向かうにつれて、前記第1電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしており、前記第2はんだ接合部は、前記絶縁基板の前記主面において前記ソルダーレジストの前記開口部により露出させられた部分から前記第2ランドに向かうにつれて、前記第2電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしている。
本発明によれば、半導体モジュールの生産性が向上する。
以下、本発明を実施するための形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。
[第1実施形態]
図1は、第1実施形態に係る電子機器の一例としての撮像装置であるデジタルカメラ600の説明図である。撮像装置であるデジタルカメラ600は、レンズ交換式のデジタルカメラであり、カメラ本体601を備える。カメラ本体601には、レンズを含むレンズユニット(レンズ鏡筒)602が着脱可能となっている。カメラ本体601は、筐体611と、筐体611の内部に配置された、プリント回路板である処理モジュール300及びセンサモジュール900と、を備えている。処理モジュール300は、半導体モジュールの一例である。処理モジュール300とセンサモジュール900とはケーブル950で電気的に接続されている。
[第1実施形態]
図1は、第1実施形態に係る電子機器の一例としての撮像装置であるデジタルカメラ600の説明図である。撮像装置であるデジタルカメラ600は、レンズ交換式のデジタルカメラであり、カメラ本体601を備える。カメラ本体601には、レンズを含むレンズユニット(レンズ鏡筒)602が着脱可能となっている。カメラ本体601は、筐体611と、筐体611の内部に配置された、プリント回路板である処理モジュール300及びセンサモジュール900と、を備えている。処理モジュール300は、半導体モジュールの一例である。処理モジュール300とセンサモジュール900とはケーブル950で電気的に接続されている。
センサモジュール900は、撮像素子であるイメージセンサ700と、プリント配線板800と、を有する。イメージセンサ700は、プリント配線板800に実装されている。イメージセンサ700は、例えばCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサ又はCCD(Charge Coupled Device)イメージセンサである。イメージセンサ700は、レンズユニット602を介して入射した光を電気信号に変換する機能を有する。
処理モジュール300は、半導体装置100と、第1配線板であるプリント配線板200と、を有する。半導体装置100は、プリント配線板200に実装されている。プリント配線板200は、リジッド基板である。半導体装置100は、例えばデジタルシグナルプロセッサであり、イメージセンサ700から電気信号を取得し、取得した電気信号を補正する処理を行い、画像データを生成する機能を有する。
図2(a)は、第1実施形態に係る処理モジュール300の斜視図である。図2(b)は、図2(a)のIIB−IIB線に沿う処理モジュール300の断面模式図である。図3は、図2(b)に示す処理モジュール300の一部分を拡大した断面模式図である。以下、図2(a)、図2(b)及び図3を参照しながら説明する。
半導体装置100は、エリアアレイの半導体パッケージであり、第1実施形態では、BGAの半導体パッケージである。半導体装置100は、半導体素子101と、第2配線板であるパッケージ基板102と、を有する。パッケージ基板102は、リジッド基板である。
半導体素子101は、パッケージ基板102に実装されている。パッケージ基板102は、絶縁基板120を有する。絶縁基板120は、主面121と、主面121とは反対側の主面122と、を有する。絶縁基板120の材質は、例えばアルミナ等のセラミックやガラスを含有したエポキシ樹脂である。半導体素子101は、例えば半導体チップであり、フェイスアップ又はフェイスダウン、第1実施形態ではフェイスダウンで絶縁基板120の主面121に実装されている。絶縁基板120の主面121には、半導体素子101を封止する封止樹脂106が設けられている。パッケージ基板102は、絶縁基板120の主面122に配置された複数のランド130を有する。複数のランド130の配列パターンは、格子状、即ちマトリックス状であってもよいし、千鳥状であってもよい。ランド130は、導電性を有する金属材料、例えば銅又は金で形成された端子であり、例えば信号端子、電源端子、グラウンド端子、又はダミー端子である。主面122上には、ソルダーレジスト108が設けられている。ソルダーレジスト108は、ソルダーレジスト材で構成された膜である。複数のランド130の各々は、ソルダーレジスト108に形成された開口部により露出させられている。ランド130は、SMD(solder mask defined)又はNSMD(non−solder mask defined)のいずれのランドであってもよいが、第1実施形態ではSMDのランドである。なお、図示は省略するが、半導体素子101の上面に放熱板が配置されていてもよい。
半導体素子101は、複数の電源端子、複数のグラウンド端子、複数の信号端子を有しており、各端子が不図示のワイヤーボンディングまたはフリップチップボンディングでパッケージ基板102に接合されている。図2(b)及び図3には、複数の電源端子のうちの1つである電源端子111Eが図示され、複数のグラウンド端子のうちの1つであるグラウンド端子111Gが図示されている。即ち、半導体素子101は、電源端子111Eと、グラウンド端子111Gとを有する。
プリント配線板200は、絶縁基板220を有する。絶縁基板220は、主面221と、主面221とは反対側の主面222とを有する。プリント配線板200は、絶縁基板220の主面221に配置された複数のランド230を有する。ランド230は、導電性を有する金属材料、例えば銅又は金で形成された端子であり、例えば信号端子、電源端子、グラウンド端子、又はダミー端子である。絶縁基板220の材質は、エポキシ樹脂等の絶縁材料である。
プリント配線板200は、ソルダーレジスト208を有する。ソルダーレジスト208は、ソルダーレジスト材で構成された膜である。ソルダーレジスト208は、主面221上に設けられている。複数のランド230の各々は、ソルダーレジスト208に形成された開口部により露出させられている。ランド230は、SMD又はNSMDのいずれのランドであってもよいが、第1実施形態ではSMDのランドである。
複数のランド130には、電源端子となるランド130Eと、グラウンド端子となるランド130Gと、が含まれている。複数のランド130は、各々のランドの間隔が0.4mm以下のピッチで配列されている。ランド130Eが第1ランド、ランド130Gが第2ランドである。ランド130Eは、絶縁基板120に形成されたヴィア導体112Eを介して半導体素子101の電源端子111Eに電気的に接続されている。ランド130Gは、絶縁基板120に形成されたヴィア導体112Gを介して半導体素子101のグラウンド端子111Gに電気的に接続されている。
複数のランド130には、ランド130E,130G以外のランド130Sが含まれている。ランド130Sは、信号端子、電源端子、グラウンド端子、又はダミー端子となるランドである。第1実施形態では、複数のランド130Sの各々が第5ランドであり、複数のランド230の各々が第6ランドである。ランド130Sと、ランド230とは、はんだで形成された第3はんだ接合部であるはんだ接合部193で接合されている。はんだ接合部193の高さは、後述するコンデンサ400の高さより高い。具体的には、コンデンサの高さの1.3倍以下の高さである。これは、加熱接合プロセス時に、半導体素子101の中心から外周縁に向かって反りが発生するためである。
処理モジュール300は、チップ部品の一例であるコンデンサ400を備えている。コンデンサ400は、受動部品であり、チップ部品である。チップ部品の平面視のサイズは、0.4mm×0.2mmである0402サイズ、又は0.25mm×0.125mmである0201サイズなど、0402サイズ以下が好適である。なお、0402サイズ、0201サイズ等の表記は、日本工業規格(Japanese Industrial Standards)における電子部品のサイズ表記方法(mm基準)に準じている。
コンデンサ400は、所定方向の一例である長手方向に延びる略直方体形状の素体401と、素体401の長手方向の両側に設けられた一対の電極410,420と、を有する。一対の電極410,420は、長手方向に間隔をあけて素体401に固定されている。図2(b)及び図3において、コンデンサ400、即ち素体401の長手方向は、X方向である。コンデンサ400、即ち素体401の短手方向はY方向である。Y方向は、X方向に直交する幅方向である。コンデンサ400、即ち素体401の上下方向は、Z方向である。Z方向は、X方向及びY方向に直交する方向である。Z方向は、主面121,122,221,222に垂直な方向でもある。
コンデンサ400は、所定方向の一例である長手方向に延びる略直方体形状の素体401と、素体401の長手方向の両側に設けられた一対の電極410,420と、を有する。一対の電極410,420は、長手方向に間隔をあけて素体401に固定されている。図2(b)及び図3において、コンデンサ400、即ち素体401の長手方向は、X方向である。コンデンサ400、即ち素体401の短手方向はY方向である。Y方向は、X方向に直交する幅方向である。コンデンサ400、即ち素体401の上下方向は、Z方向である。Z方向は、X方向及びY方向に直交する方向である。Z方向は、主面121,122,221,222に垂直な方向でもある。
一対の電極410,420のうちの一方の電極410が、第1電極であり、他方の電極420が第2電極である。各電極410,420は、下地と、下地を覆う外皮膜と、を含む。電極410,420の外皮膜の材質は、スズ等の導電性を有する金属材料である。
コンデンサ400は、バイパスコンデンサである。コンデンサ400の電極410は、ランド130Eに電気的に接続され、コンデンサ400の電極420は、ランド130Gに電気的に接続されている。
コンデンサ400の電極410と電源端子111Eとの間の配線のインダクタンス、及びコンデンサ400の電極420とグラウンド端子111Gとの間の配線のインダクタンスにより、電源ノイズが発生する。電源ノイズとは、半導体装置100が動作することによって生じる電源ラインの電圧変動をいう。この電圧変動は電源ラインに寄生するインダクタンスや抵抗によって電源電流が変化することで発生する。配線のインダクタンスを低減させて電源ノイズを低減させるためには、コンデンサ400は半導体装置100の電源端子111Eとグラウンド端子111G間の配線が最短になるように、半導体素子101の直下に配置されるのが好ましい。すなわち、処理モジュール300を半導体装置100側から平面視した際に、半導体素子101とコンデンサ400は重なっていることが好ましい。
そこで、第1実施形態では、コンデンサ400は、プリント配線板200の絶縁基板220の主面221側、即ち半導体装置100とプリント配線板200との間に配置されている。コンデンサ400の電極410は、はんだで形成された第1はんだ接合部であるはんだ接合部191でランド130Eに接合されている。コンデンサ400の電極420は、はんだで形成された第2はんだ接合部であるはんだ接合部192でランド130Gに接合されている。これにより、コンデンサ400の電極410は、プリント配線板200を介さずにはんだ接合部191で直接、半導体装置100のランド130Eに電気的に接続される。このため、コンデンサ400の電極410とランド130Eとの間の配線のインダクタンスを低減することができる。また、コンデンサ400の電極420は、プリント配線板200を介さずにはんだ接合部192で直接、半導体装置100のランド130Gに電気的に接続される。このため、コンデンサ400の電極420とランド130Gとの間の配線のインダクタンスを低減することができる。配線のインダクタンスが低減するので、発生する電源ノイズが低減し、半導体装置100における通信の高速化を実現することができる。
第1実施形態において、はんだ接合部191,192は、ソルダーレジスト208には接触しているが、プリント配線板200のランド230には接触していない。
図4(a)は、第1実施形態に係る処理モジュール300を分解した部分斜視図である。図4(b)は、Z方向に見たときの半導体装置100、コンデンサ400、及びプリント配線板200の配置関係を説明するための模式図である。なお、図4(a)及び図4(b)において、はんだ接合部191,192の図示は省略している。図4(b)においては、半導体装置のランド130E,130Gを破線で図示している。
図4(a)に示すように、電極410は、電極面である、3つの側面411,412,413、上面414及び下面415を有する。側面411,412,413、上面414及び下面415は、各面に垂直な方向から見て、矩形状である。3つの側面411,412,413のうち、2つの側面412,413は、Y方向に間隔をあけて対向している。上面414と下面415とは、Z方向に間隔をあけて対向している。側面411は、側面412,413、上面414及び下面415と直交して隣り合っている。電極420は、電極面である、3つの側面421,422,423、上面424及び下面425を有する。側面421,422,423、上面424及び下面425は、各面に垂直な方向から見て、矩形状である。3つの側面421,422,423のうち、2つの側面422,423は、Y方向に間隔をあけて対向している。上面424と下面425とは、Z方向に間隔をあけて対向している。側面421は、側面422,423、上面424及び下面425と直交して隣り合っている。電極410の側面411と電極420の側面421とは、X方向に間隔をあけて対向して配置されている。電極410の上面414が、半導体装置100のランド130Eと対向し、電極410の下面415が、プリント配線板200のソルダーレジスト208と対向している。電極420の上面424が、半導体装置100のランド130Gと対向し、電極420の下面425が、プリント配線板200のソルダーレジスト208と対向している。
図4(b)に示すように、ランド130Eとランド130Gとは、X方向に間隔をあけて配置されている。ランド130Eは、平面視して、即ちZ方向に見て、コンデンサ400の電極410の少なくとも一部、第1実施形態では全部と重なっている。ランド130Gは、Z方向に見て、コンデンサ400の電極420の少なくとも一部、第1実施形態では全部と重なっている。第1実施形態では、Z方向に見て、ランド130Eの面積S130Eは、電極410の面積S410よりも広い。また、Z方向に見て、ランド130Gの面積S130Gは、電極420の面積S420よりも広い。ランド130E及びランド130Gは、Z方向に見て、コンデンサ400からX方向の外側に張り出している。
図3に示すように、各はんだ接合部191,192は、ソルダーレジスト208から各ランド130E,130Gに向かうにつれて外側面がコンデンサ400から離間して広がるフィレット形状となっている。具体的に説明すると、はんだ接合部191は、ソルダーレジスト208からランド130Eに向かうにつれて、電極410からX方向の外側、つまりX1方向に広がるフィレット形状をなしている。はんだ接合部192は、ソルダーレジスト208からランド130Gに向かうにつれて、電極420からX方向の外側、つまりX2方向に広がるフィレット形状をなしている。X1方向は、X方向において電極410から離間する方向である。X2方向は、X方向において、X1方向とは反対方向であり、電極420から離間する方向である。これにより、各ランド130E,130Gと各電極410,420との接合強度が増す。また、図2(b)に示すように、各はんだ接合部191,192が、X方向へ膨らんだ形状となるのが抑制され、各はんだ接合部191,192が、隣接するはんだ接合部193とショートするのが防止される。
なお、図4(b)に示すように、ランド130E,130Gは、Z方向に見て、矩形状であるが、これに限定するものではない。例えば、ランド130E,130Gは、Z方向に見て、多角形状、円形状、楕円形状など、任意の形状であってよい。
次に、処理モジュール300の製造方法について説明する。図5(a)〜図5(f)は、第1実施形態に係る処理モジュール300の製造方法の説明図である。図5(a)に示すように、プリント配線板200を用意する(工程S1)。なお、工程S1において、半導体装置100及びコンデンサ400も用意しておく。次に、図5(b)に示すように、プリント配線板200上に、第1はんだペーストであるはんだペーストP1と、第2はんだペーストであるはんだペーストP2と、第3はんだペーストであるはんだペーストP3とを、互いに間隔をあけて供給する(工程S2)。第1実施形態では、工程S2において、はんだペーストP1とはんだペーストP2とは、ソルダーレジスト208上に供給される。また、工程S2において、はんだペーストP3は、プリント配線板200のランド230上に供給される。
はんだペーストP1,P2,P3は、はんだ粉末を含有する。はんだペーストP1,P2,P3は、はんだ付けに必要なフラックス成分を更に含有していてもよい。本実施形態において、はんだペーストP1,P2,P3は、いずれも同じ材料であるが、融点が近い温度であれば同じ材料に限定されない。工程S2では、メタルマスク23を用いたスクリーン印刷により、はんだペーストP1,P2,P3をプリント配線板200に供給する。なお、はんだペーストP1,P2,P3の供給方法は、これに限定するものではない。例えば、ディスペンサーによりはんだペーストP1,P2,P3をプリント配線板200に供給するようにしてもよい。
次に、図5(c)に示すように、電極410がはんだペーストP1と接し、電極420がはんだペーストP2と接するように、工程S1で用意しておいたコンデンサ400をプリント配線板200上に載置する(工程S3)。これにより、電極410の下面415がはんだペーストP1と接触し、電極420の下面425がはんだペーストP2と接触する。コンデンサ400の電極410,420には、予めはんだボールを取り付けておく必要はない。工程S3では、不図示のマウンターを用いて、コンデンサ400をプリント配線板200上に載置する。このとき、電極410とはんだペーストP1とが対向し、電極420とはんだペーストP2とが対向するように、コンデンサ400を位置合わせしてプリント配線板上に載置する。
次に、図5(d)に示すように、ランド130Eが電極410と対向し、ランド130Gが電極420と対向するように、工程S1で用意しておいた半導体装置100をプリント配線板200上に載置する(工程S4)。工程S4では、不図示のマウンターを用いて、半導体装置100をプリント配線板200上に載置する。このとき、ランド130Eと電極410とが対向し、ランド130Gと電極420とが対向し、ランド130Sとランド230とが対向するように、半導体装置100を位置合わせしてプリント配線板上に載置する。ここで、工程S1で用意しておく半導体装置100のランド130E,130Gには、はんだボールが設けられておらず、ランド130Sには、ボール端子であるはんだボールBが設けられている。よって、はんだボールBの中心と、ランド230の中心とが一致するように、半導体装置100をプリント配線板200上に載置する。工程S4において、半導体装置100をプリント配線板200上に載置することで、ランド130Sに形成されたはんだボールBをはんだペーストP3に接触させる。図5(d)において、電極410の上面414とランド130Eおよび電極420の上面424とランド130Gとは接触していないが、これらは接触していてもよい。
この工程S4において、Z方向から見たときの、プリント配線板200と、コンデンサ400と、半導体装置100との位置関係は、図4(b)のようになる。半導体装置100のランド130E及びランド130Gの各々は、コンデンサ400をプリント配線板200上に載置したときに、Z方向に見て、電極410及び電極420の各々の少なくとも一部と重なり、かつコンデンサ400からX方向の外側に張り出す。
次に、プリント配線板200上に半導体装置100及びコンデンサ400が載置された状態で、これらを不図示のリフロー炉に搬送する。そして、図5(e)に示す工程S5−1において、リフロー炉内の雰囲気の温度を、はんだの融点以上の温度に調整して、図5(d)のはんだペーストP1,P2,P3及びはんだボールBを、図5(e)に示すように溶融させる。はんだペーストP1を溶融させると、流動性のある溶融はんだM1となり、はんだペーストP2を溶融させると、流動性のある溶融はんだM2となる。はんだペーストP3及びはんだボールBを溶融させると、流動性のある溶融はんだM3となる。
工程S5−1に引き続き、図5(f)に示す工程S5−2において、加熱を継続し、溶融はんだM1,M2を流動させる。ソルダーレジスト208より電極410,420の方が、溶融はんだの濡れ性が良いため、溶融はんだM1,M2は、図5(e)に示すように側面411,421を矢印Z1で示す上方向に這い上がる。その後、溶融はんだM1,M2は、濡れ広がる性質により、図5(f)に示すように上面414,424まで移動する。なお、図5(e)において図示は省略するが、電極410の側面412,413及び電極420の側面422,423においても、溶融はんだM1,M2は、矢印Z1で示す上方向に這い上がる。
また、コンデンサ400は、溶融はんだM1,M2により、半導体装置100に近づく上方向に押し上げられ、電極410の上面414とランド130Eとの距離が狭まり、電極420の上面424とランド130Gとの距離が狭まる。上面414,424にまで達した溶融はんだM1,M2は、ランド130E,130Gと接触し、ランド130E,130G上を濡れ広がり、ソルダーレジスト208からランド130E,130Gに向かうに連れ裾が広がるフィレット形状となる。
その後、ランド130E,130G各々の隅々にまで濡れ広がった溶融はんだM1,M2を冷却固化させる。これにより、溶融はんだM1は、ランド130E上においてフィレット形状で冷却固化させられる。溶融はんだM2は、ランド130G上においてフィレット形状で冷却固化させられる。これと同時に、溶融はんだM3も冷却固化させられる。これにより、図3に示すように、ランド130Eと電極410とをはんだで接合したはんだ接合部191が形成され、ランド130Gと電極420とをはんだで接合したはんだ接合部192が形成される。また、ランド130Sとランド230とをはんだで接合したはんだ接合部193が形成される。以上により、図3に示す処理モジュール300が製造される。
その後、図3に示す処理モジュール300を図1に示す筐体611に収納することで、カメラ本体601、即ちデジタルカメラ600が製造される。
以上、プリント配線板200に供給したはんだペーストP1,P2を溶融させることで、はんだを、コンデンサ400の電極410,420を介して半導体装置100のランド130E,130Gへ供給することができる。これにより、予め、コンデンサ400の電極410,420にはんだボールを形成しておく必要がなく、処理モジュール300を製造する工程を削減することができる。よって、処理モジュール300を簡便に製造することができるので、処理モジュール300の生産性が向上する。
ここで、半導体装置100のランド130E,130Gにおけるはんだの濡れ性をF1、コンデンサ400の電極410,420におけるはんだの濡れ性をF2としたとき、F1≧F2の関係となるのが好ましい。例えば、ランド130の表面の材質、即ちランド130E,130Gの表面の材質を金にすることで、F1≧F2の関係となり、ランド130E,130Gにおいて溶融はんだM1,M2が濡れ広がりやすくなる。これにより、はんだ接合部191,192がランド130E,130G上においてフィレット形状となりやすくなる。よって、はんだ接合部191,192におけるはんだの量を少なくしても、確実に半導体装置100のランド130E,130Gとコンデンサ400の電極410,420とを接続することができる。これにより、半導体装置100のランド130を高密度に配列しても、接合不良が生じるのを防止することができる。
[第2実施形態]
第2実施形態について説明する。図6は、第2実施形態に係る処理モジュールの一部分を拡大した断面模式図である。図6には、第2実施形態に係る処理モジュール300Aの断面を模式的に図示している。なお、以下の説明において、第1実施形態と同様の構成については、同一符号を用いて詳細な説明は省略する。
第2実施形態について説明する。図6は、第2実施形態に係る処理モジュールの一部分を拡大した断面模式図である。図6には、第2実施形態に係る処理モジュール300Aの断面を模式的に図示している。なお、以下の説明において、第1実施形態と同様の構成については、同一符号を用いて詳細な説明は省略する。
第2実施形態に係る処理モジュール300Aは、第1実施形態と同様の構成の半導体装置100と、プリント配線板200Aとを有する。半導体装置100に含まれる絶縁基板120の主面122には、第1実施形態と同様、第1ランドであるランド130Eと、第2ランドであるランド130Gと、第5ランドであるランド130Sとが配置されている。
プリント配線板200Aは、第1実施形態と同様の絶縁基板220を有する。絶縁基板220は、主面221と、主面221とは反対側の主面222とを有する。プリント配線板200Aは、絶縁基板220の主面221に配置された、第3ランドであるランド230Eと、第4ランドである230Gと、第6ランドであるランド230Sと、を有する。
ランド230E,230G,230Sは、導電性を有する金属材料、例えば銅又は金で形成された端子である。ランド230Eは、電源端子、ランド230Gは、グラウンド端子である。ランド230Sは、信号端子、電源端子、グラウンド端子、又はダミー端子である。ランド230Eには、絶縁基板220に形成されたヴィア導体212Eが接続されている。ランド230Gには、絶縁基板220に形成されたヴィア導体212Gが接続されている。
プリント配線板200Aは、ソルダーレジスト208Aを有する。ソルダーレジスト208Aは、ソルダーレジスト材で構成された膜である。ソルダーレジスト208Aは、主面221上に設けられている。ランド230Sは、ソルダーレジスト208Aに形成された開口部により露出させられている。ランド230E及びランド230Gは、ソルダーレジスト208Aに形成された1つの開口部HAにより露出させられている。なお、ランド230E及びランド230Gの各々は、独立して形成された2つの開口部の各々により露出させられるようにしてもよい。
ランド130Eとランド230Eとは、はんだで形成された第1はんだ接合部であるはんだ接合部191Aで接合されている。ランド130Gとランド230Gとは、はんだで形成された第2はんだ接合部であるはんだ接合部192Aで接合されている。ランド130Sとランド230Sとは、はんだで形成された第3はんだ接合部であるはんだ接合部193Aで接合されている。
処理モジュール300Aは、第1実施形態と同様、バイパスコンデンサとして用いられるコンデンサ400を備えている。コンデンサ400は、プリント配線板200Aの絶縁基板220の主面221側、即ち半導体装置100とプリント配線板200Aとの間に配置されている。コンデンサ400の電極410は、はんだ接合部191Aでランド130Eに接合されている。コンデンサ400の電極420は、はんだ接合部192Aでランド130Gに接合されている。これにより、コンデンサ400の電極410は、はんだ接合部191Aで直接、半導体装置100のランド130Eに電気的に接続される。このため、コンデンサ400の電極410とランド130Eとの間の配線のインダクタンスを低減することができる。また、コンデンサ400の電極420は、はんだ接合部192Aで直接、半導体装置100のランド130Gに電気的に接続される。このため、コンデンサ400の電極420とランド130Gとの間の配線のインダクタンスを低減することができる。配線のインダクタンスが低減するので、発生する電源ノイズが低減し、半導体装置100における通信の高速化を実現することができる。
第2実施形態では、ランド230Eは、はんだ接合部191Aでランド130Eに電気的に接続されている。また、ランド230Gは、はんだ接合部192Aでランド130Eに電気的に接続されている。プリント配線板200Aには、図6に示すヴィア導体212E,212Gに電気的に接続された不図示の電源ICが実装されている。電源ICは、はんだ接合部191A及びはんだ接合部192Aを介して、半導体装置100の半導体素子101に電力を供給可能となっている。
図7(a)は、第2実施形態に係る処理モジュール300Aを分解した部分斜視図である。図7(b)は、Z方向に見たときの半導体装置100、コンデンサ400、及びプリント配線板200Aの配置関係を説明するための模式図である。なお、図7(a)及び図7(b)において、はんだ接合部191A,192Aの図示は省略している。図7(b)においては、半導体装置のランド130E,130Gを破線で図示している。
図7(a)に示すように、電極410の上面414が、半導体装置100のランド130Eと対向し、電極410の下面415が、プリント配線板200Aのランド230Eと対向している。電極420の上面424が、半導体装置100のランド130Gと対向し、電極420の下面425が、プリント配線板200Aのランド230Gと対向している。
図7(b)に示すように、ランド130Eとランド130Gとは、X方向に間隔をあけて配置されている。ランド130Eは、Z方向に見て、コンデンサ400の電極410の少なくとも一部、第2実施形態では全部と重なっている。ランド130Gは、Z方向に見て、コンデンサ400の電極420の少なくとも一部、第2実施形態では全部と重なっている。ランド230Eとランド230Gとは、X方向に間隔をあけて配置されている。ランド230Eは、Z方向に見て、コンデンサ400の電極410の少なくとも一部、第2実施形態では全部と重なっている。ランド230Gは、Z方向に見て、コンデンサ400の電極420の少なくとも一部、第2実施形態では全部と重なっている。また、ランド130Eは、Z方向に見て、ランド230Eの少なくとも一部、第2実施形態では全部と重なっている。また、ランド130Gは、Z方向に見て、ランド230Gの少なくとも一部、第2実施形態では全部と重なっている。第2実施形態では、Z方向に見て、ランド130Eの面積S130Eは、電極410の面積S410よりも広い。また、Z方向に見て、ランド130Gの面積S130Gは、電極420の面積S420よりも広い。ランド130E及びランド130Gは、Z方向に見て、コンデンサ400からX方向の外側に張り出している。
また、第2実施形態では、図7(b)に示すように、Z方向に見て、ランド130Eの面積S130Eが、ランド230Eの面積S230Eよりも広い。また、Z方向に見て、ランド130Gの面積S130Gが、ランド230Gの面積S230Gよりも広い。更に、Z方向に見て、開口部HAの面積SHAが、コンデンサ400の面積S400よりも広い。
図6に示すように、各はんだ接合部191A,192Aは、各ランド230E,230Gから各ランド130E,130Gに向かうにつれて外側面がコンデンサ400から離間して広がるフィレット形状となっている。具体的に説明すると、はんだ接合部191Aは、ランド230Eからランド130Eに向かうにつれて、電極410からX方向の外側、つまりX1方向に広がるフィレット形状をなしている。はんだ接合部192Aは、ランド230Gからランド130Gに向かうにつれて、電極410からX方向の外側、つまりX2方向に広がるフィレット形状をなしている。X1方向は、X方向において電極410から離間する方向である。X2方向は、X方向において、X1方向とは反対方向であり、電極420から離間する方向である。これにより、各ランド130E,130Gと各電極410,420との接合強度が増す。また、各はんだ接合部191A,192Aが、X方向へ膨らんだ形状となるのが抑制され、各はんだ接合部191A,192Aが、隣接するはんだ接合部193Aとショートするのが防止される。
なお、図7(b)に示すように、ランド230E,230Gは、Z方向に見て、矩形状であるが、これに限定するものではない。例えば、ランド230E,230Gは、Z方向に見て、多角形状、円形状、楕円形状など、任意の形状であってよい。
次に、処理モジュール300Aの製造方法について説明する。図8(a)〜図8(f)は、第2実施形態に係る処理モジュール300Aの製造方法の説明図である。図8(a)に示すように、プリント配線板200Aを用意する(工程S11)。なお、工程S11において、半導体装置100及びコンデンサ400も用意しておく。次に図8(b)に示すようにプリント配線板200A上に、第1はんだペーストであるはんだペーストP1と、第2はんだペーストであるはんだペーストP2と、第3はんだペーストであるはんだペーストP3とを、互いに間隔をあけて供給する(工程S12)。第2実施形態では、工程S12において、はんだペーストP1は、ソルダーレジスト208Aに形成された開口部HAにより露出させられたランド230E上に供給される。また、はんだペーストP2は、ソルダーレジスト208Aに形成された開口部HAにより露出させられたランド230G上に供給される。また、工程S12において、はんだペーストP3は、プリント配線板200Aのランド230S上に供給される。
工程S12では、メタルマスク23を用いたスクリーン印刷により、はんだペーストP1,P2,P3をプリント配線板200Aに供給する。なお、はんだペーストP1,P2,P3の供給方法は、これに限定するものではない。例えば、ディスペンサーによりはんだペーストP1,P2,P3をプリント配線板200Aに供給するようにしてもよい。
次に、図8(c)に示すように、電極410がはんだペーストP1と接し、電極420がはんだペーストP2と接するように、工程S11で用意しておいたコンデンサ400をプリント配線板200A上に載置する(工程S13)。これにより、電極410の下面415がはんだペーストP1と接触し、電極420の下面425がはんだペーストP2と接触する。コンデンサ400の電極410,420には、予めはんだボールを取り付けておく必要はない。
次に、図8(d)に示すように、ランド130Eが電極410と対向し、ランド130Gが電極420と対向するように、工程S11で用意しておいた半導体装置100をプリント配線板200A上に載置する(工程S14)。工程S14において、半導体装置100をプリント配線板200A上に載置することで、ランド130Sに設けられたボール端子であるはんだボールBをはんだペーストP3に接触させる。図8(d)において、電極410の上面414とランド130Eおよび電極420の上面424とランド130Gとは接触していないが、これらは接触していても良い。
この工程S14において、Z方向から見たときの、プリント配線板200Aと、コンデンサ400と、半導体装置100との位置関係は、図7(b)のようになる。半導体装置100のランド130E及びランド130Gの各々は、コンデンサ400をプリント配線板200A上に載置したときに、Z方向に見て、電極410及び電極420の各々の少なくとも一部と重なり、かつコンデンサ400からX方向の外側に張り出す。
次に、プリント配線板200A上に半導体装置100及びコンデンサ400が載置された状態で、これらを不図示のリフロー炉に搬送する。そして、図8(e)に示す工程S15−1において、リフロー炉内の雰囲気の温度を、はんだの融点以上の温度に調整して、図8(d)のはんだペーストP1,P2,P3及びはんだボールBを、図8(e)に示すように溶融させる。はんだペーストP1を溶融させると、流動性のある溶融はんだM1となり、はんだペーストP2を溶融させると、流動性のある溶融はんだM2となる。はんだペーストP3及びはんだボールBを溶融させると、流動性のある溶融はんだM3となる。
工程S15−1に引き続き、図8(f)に示す工程S15−2において、加熱を継続し、溶融はんだM1,M2を流動させる。溶融はんだM1,M2は、図8(e)に示すように側面411,421を矢印Z1で示す上方向に這い上がる。その後、溶融はんだM1,M2は、図8(f)に示すように上面414,424まで移動する。なお、図8(e)において図示は省略するが、電極410の側面412,413及び電極420の側面422,423においても、溶融はんだM1,M2は、矢印Z1で示す上方向に這い上がる。
また、コンデンサ400は、溶融はんだM1,M2により、半導体装置100に近づく上方向に押し上げられ、電極410の上面414とランド130Eとの距離が狭まり、電極420の上面424とランド130Gとの距離が狭まる。上面414,424にまで達した溶融はんだM1,M2は、ランド130E,130Gと接触し、ランド130E,130G上を濡れ広がり、ソルダーレジスト208Aのからランド130E,130Gに向かうに連れ裾が広がるフィレット形状となる。
その後、ランド130E,130G各々の隅々にまで濡れ広がった溶融はんだM1,M2を冷却固化させる。これにより、溶融はんだM1は、ランド130E上においてフィレット形状で冷却固化させられる。溶融はんだM2は、ランド130G上においてフィレット形状で冷却固化させられる。これと同時に、溶融はんだM3も冷却固化させられる。これにより、図6に示すように、はんだ接合部191A,192A,193Aが形成される。以上により、図6に示す処理モジュール300Aが製造される。
その後、図6に示す処理モジュール300Aを図1に示す筐体611に収納することで、電子機器の一例であるデジタルカメラのカメラ本体が製造される。
以上、プリント配線板200Aに供給したはんだペーストP1,P2を溶融させることで、はんだを、コンデンサ400の電極410,420を介して半導体装置100のランド130E,130Gへ供給することができる。これにより、予め、コンデンサ400の電極410,420にはんだボールを形成しておく必要がなく、処理モジュール300Aを製造する工程を削減することができる。よって、処理モジュール300Aを簡便に製造することができるので、処理モジュール300Aの生産性が向上する。
また、ランド130Eとランド230Eとがはんだ接合部191Aによって電気的に接続され、ランド130Gとランド230Gとがはんだ接合部192Aによって電気的に接続されている。これにより、コンデンサ400を半導体装置100に接合するためのはんだ接合部191A,192Aを、半導体装置100の半導体素子101に電力を供給する電源ラインとして用いることができる。これにより、処理モジュール300Aにおける回路設計の自由度が上がる。
また、第2実施形態では、図7(b)に示すように、Z方向に見て、ランド130E,130Gの面積S130E,S130Gが、ランド230E,230Gの面積S230E,S230Gよりも広い。溶融はんだM1,M2は、ランド130E,130Gにおいて濡れ広がりやすいため、この性質を利用することにより、溶融はんだM1,M2が、より多くランド130E,130Gへ移動するのを促すことができる。これにより、はんだペーストP1,P2の供給量にばらつきがあっても、ランド130E,130Gの面積が広い分、はんだペーストP1,P2のばらつきに対して許容できる量が増える。よって、はんだ接合部191A,192Aにおいてサイドボールなどが発生するのを防止することができ、その結果、はんだ接合部191A,192Aにおけるショート不良を防止することができる。
[第3実施形態]
第3実施形態について説明する。図9は、第3実施形態に係る処理モジュールの一部分を拡大した断面模式図である。図9には、第3実施形態に係る処理モジュール300Bの断面を模式的に図示している。なお、以下の説明において、第1実施形態と同様の構成については、同一符号を用いて詳細な説明は省略する。
第3実施形態について説明する。図9は、第3実施形態に係る処理モジュールの一部分を拡大した断面模式図である。図9には、第3実施形態に係る処理モジュール300Bの断面を模式的に図示している。なお、以下の説明において、第1実施形態と同様の構成については、同一符号を用いて詳細な説明は省略する。
第3実施形態に係る処理モジュール300Bは、第1実施形態と同様の構成の半導体装置100と、プリント配線板200Bとを有する。半導体装置100に含まれる絶縁基板120の主面122には、第1実施形態と同様、第1ランドであるランド130Eと、第2ランドであるランド130Gと、第5ランドであるランド130Sとが配置されている。
プリント配線板200Bは、第1実施形態と同様の絶縁基板220を有する。絶縁基板220は、主面221と、主面221とは反対側の主面222とを有する。絶縁基板220の主面221には、第1実施形態と同様、ランド230が配置されている。
プリント配線板200Bは、ソルダーレジスト208Bを有する。ソルダーレジスト208Bは、ソルダーレジスト材で構成された膜である。ソルダーレジスト208Bは、主面221上に設けられている。ランド230は、ソルダーレジスト208Bに形成された開口部により露出させられている。
処理モジュール300Bは、第1実施形態と同様、バイパスコンデンサとして用いられるコンデンサ400を備えている。コンデンサ400は、プリント配線板200Bの絶縁基板220の主面221側、即ち半導体装置100とプリント配線板200Bとの間に配置されている。コンデンサ400の電極410は、はんだで形成された第1はんだ接合部であるはんだ接合部191Bでランド130Eに接合されている。コンデンサ400の電極420は、はんだで形成された第2はんだ接合部であるはんだ接合部192Bでランド130Gに接合されている。これにより、コンデンサ400の電極410は、はんだ接合部191Bで直接、半導体装置100のランド130Eに電気的に接続される。このため、コンデンサ400の電極410とランド130Eとの間の配線のインダクタンスを低減することができる。また、コンデンサ400の電極420は、はんだ接合部192Bで直接、半導体装置100のランド130Gに電気的に接続される。このため、コンデンサ400の電極420とランド130Gとの間の配線のインダクタンスを低減することができる。配線のインダクタンスが低減するので、発生する電源ノイズが低減し、半導体装置100における通信の高速化を実現することができる。
ランド130Sとランド230とは、はんだで形成された第3はんだ接合部であるはんだ接合部193Bで接合されている。第3実施形態では、ソルダーレジスト208Bは、主面221の一部分221Bを露出させる開口部HBを有する。
図10(a)は、第3実施形態に係る処理モジュール300Bを分解した部分斜視図である。図10(b)は、Z方向に見たときの半導体装置100、コンデンサ400、及びプリント配線板200Bの配置関係を説明するための模式図である。なお、図10(a)及び図10(b)において、はんだ接合部191B,192Bの図示は省略している。図10(b)においては、半導体装置のランド130E,130Gを破線で図示している。
図10(a)に示すように、電極410の上面414が、半導体装置100のランド130Eと対向し、電極410の下面415が、プリント配線板200Bの主面221の部分221Bと対向している。電極420の上面424が、半導体装置100のランド130Gと対向し、電極420の下面425が、プリント配線板200Bの部分221Bと対向している。
図10(b)に示すように、ランド130Eとランド130Gとは、X方向に間隔をあけて配置されている。ランド130Eは、平面視して、即ちZ方向に見て、コンデンサ400の電極410の少なくとも一部、第3実施形態では全部と重なっている。ランド130Gは、Z方向に見て、コンデンサ400の電極420の少なくとも一部、第3実施形態では全部と重なっている。第3実施形態では、Z方向に見て、ランド130Eの面積S130Eは、電極410の面積S410よりも広い。また、Z方向に見て、ランド130Gの面積S130Gは、電極420の面積S420よりも広い。ランド130E及びランド130Gは、Z方向に見て、コンデンサ400からX方向の外側に張り出している。
図9に示すように各はんだ接合部191B,192Bは、開口部HBによって露出させられた部分221Bから各ランド130E,130Gに向かうにつれて外側面がコンデンサ400から離間して広がるフィレット形状となっている。具体的に説明すると、はんだ接合部191Bは、開口部HBによって露出させられた部分221Bからランド130Eに向かうにつれて、電極410からX方向の外側、つまりX1方向に広がるフィレット形状をなしている。はんだ接合部192Bは、開口部HBによって露出させられた部分221Bからランド130Gに向かうにつれて、電極420からX方向の外側、つまりX2方向に広がるフィレット形状をなしている。X1方向は、X方向において電極410から離間する方向である。X2方向は、X方向において、X1方向とは反対方向であり、電極420から離間する方向である。これにより、各ランド130E,130Gと各電極410,420との接合強度が増す。また、各はんだ接合部191B,192Bが、X方向へ膨らんだ形状となるのが抑制され、各はんだ接合部191B,192Bが、隣接するはんだ接合部193Bとショートするのが防止される。
また、第3実施形態では、図10(b)に示すように、Z方向に見て、開口部HBの面積SHB、即ち開口部HBによって露出させられる部分221Bの面積S221Bは、コンデンサ400の面積S400よりも広い。よって、図9に示すように、コンデンサ400のZ方向の一部が開口部HBに挿入されており、半導体装置100とプリント配線板200Bとの間隔が狭くなっている。
次に、処理モジュール300Bの製造方法について説明する。図11(a)〜図11(f)は、第3実施形態に係る処理モジュール300Bの製造方法の説明図である。図11(a)に示すように、プリント配線板200Bを用意する(工程S21)。なお、工程S21において、半導体装置100及びコンデンサ400も用意しておく。次に図11(b)に示すようにプリント配線板200B上に、第1はんだペーストであるはんだペーストP1と、第2はんだペーストであるはんだペーストP2と、第3はんだペーストであるはんだペーストP3とを互いに間隔をあけて供給する(工程S22)。第3実施形態では、工程S22において、はんだペーストP1,P2は、ソルダーレジスト208Bに形成された開口部HBにより露出させられた部分221B上に、互いに間隔をあけて供給される。また、工程S22において、はんだペーストP3は、プリント配線板200Bのランド230上に供給される。
工程S22では、メタルマスク23を用いたスクリーン印刷により、はんだペーストP1,P2,P3をプリント配線板200Bに供給する。なお、はんだペーストP1,P2,P3の供給方法は、これに限定するものではない。例えば、ディスペンサーによりはんだペーストP1,P2,P3をプリント配線板200Bに供給するようにしてもよい。
次に、図11(c)に示すように、電極410がはんだペーストP1と接し、電極420がはんだペーストP2と接するように、工程S21で用意しておいたコンデンサ400をプリント配線板200B上に載置する(工程S23)。これにより、電極410の下面415がはんだペーストP1と接触し、電極420の下面425がはんだペーストP2と接触する。コンデンサ400の電極410,420には、予めはんだボールを取り付けておく必要はない。
次に、図11(d)に示すように、ランド130Eが電極410と対向し、ランド130Gが電極420と対向するように、工程S21で用意しておいた半導体装置100をプリント配線板200B上に載置する(工程S24)。工程S24において、半導体装置100をプリント配線板200B上に載置することで、ランド130Sに設けられたボール端子であるはんだボールBをはんだペーストP3に接触させる。図11(d)において、電極410の上面414とランド130Eおよび電極420の上面424とランド130Gとは接触していないが、これらは接触していても良い。
この工程S24において、Z方向から見たときの、プリント配線板200Bと、コンデンサ400と、半導体装置100と、位置関係は、図10(b)のようになる。半導体装置100のランド130E及びランド130Gの各々は、コンデンサ400をプリント配線板200B上に載置したときに、Z方向に見て、電極410及び電極420の各々の少なくとも一部と重なり、かつコンデンサ400からX方向の外側に張り出す。
次に、プリント配線板200B上に半導体装置100及びコンデンサ400が載置された状態で、これらを不図示のリフロー炉に搬送する。そして、図11(e)に示す工程S25−1において、リフロー炉内の雰囲気の温度を、はんだの融点以上の温度に調整して、図11(d)のはんだペーストP1,P2,P3及びはんだボールBを、図11(e)に示すように溶融させる。はんだペーストP1を溶融させると、流動性のある溶融はんだM1となり、はんだペーストP2を溶融させると、流動性のある溶融はんだM2となる。はんだペーストP3及びはんだボールBを溶融させると、流動性のある溶融はんだM3となる。
工程S25−1に引き続き、図11(f)に示す工程S25−2において、加熱を継続し、溶融はんだM1,M2を流動させる。溶融はんだM1,M2は、図11(e)に示すように側面411,421を矢印Z1で示す上方向に這い上がる。その後、溶融はんだM1,M2は、図11(f)に示すように上面414,424まで移動する。なお、図11において図示は省略するが、電極410の側面412,413及び電極420の側面422,423においても、溶融はんだM1,M2は、矢印Z1で示す上方向に這い上がる。
また、コンデンサ400は、溶融はんだM1,M2により、半導体装置100に近づく上方向に押し上げられ、電極410の上面414とランド130Eとの距離が狭まり、電極420の上面424とランド130Gとの距離が狭まる。上面414,424にまで達した溶融はんだM1,M2は、ランド130E,130Gと接触し、ランド130E,130G上を濡れ広がり、ソルダーレジスト208Bのからランド130E,130Gに向かうに連れ裾が広がるフィレット形状となる。
その後、ランド130E,130Gの各々にまで濡れ広がった溶融はんだM1,M2を冷却固化させる。これにより、溶融はんだM1は、ランド130E上においてフィレット形状で冷却固化させられる。溶融はんだM2は、ランド130G上においてフィレット形状で冷却固化させられる。これと同時に、溶融はんだM3も冷却固化させられる。これにより、図9に示すように、はんだ接合部191B,192B,193Bが形成される。以上により、図9に示す処理モジュール300Bが製造される。
その後、図9に示す処理モジュール300Bを図1に示す筐体611に収納することで、電子機器の一例であるデジタルカメラのカメラ本体が製造される。
以上、プリント配線板200Bに供給したはんだペーストP1,P2を溶融させることで、はんだを、コンデンサ400の電極410,420を介して半導体装置100のランド130E,130Gへ供給することができる。これにより、予め、コンデンサ400の電極410,420にはんだボールを形成しておく必要がなく、処理モジュール300Bを製造する工程を削減することができる。よって、処理モジュール300Bを簡便に製造することができるので、処理モジュール300Bの生産性が向上する。
また、第3実施形態では、コンデンサ400の一部が開口部HBに挿入されているので、はんだ接合部191B,192B,193BのZ方向の高さ、即ち半導体装置100とプリント配線板200BとのZ方向の間隔を狭くすることができる。よって、はんだ接合部191B,192B,193Bにおけるはんだの量を少なくすることができ、処理モジュール300Bの製造コストを下げることができる。
(実施例1)
第1実施形態に対応する実施例1について説明する。図3に示す半導体装置100において、隣り合う2つの接合前のボール端子であるはんだボールB(図5(d))の最小ピッチは、0.4[mm]であった。ランド130の材質は、Cuとした。はんだ接合部191,192,193の材質は、Sn−3.0%Ag0.5%Cuとした。図4(b)に示す、Z方向から見たコンデンサ400の面積S400は、0.4[mm]×0.2[mm]であった。即ち、コンデンサ400は、0402のチップ部品とした。
第1実施形態に対応する実施例1について説明する。図3に示す半導体装置100において、隣り合う2つの接合前のボール端子であるはんだボールB(図5(d))の最小ピッチは、0.4[mm]であった。ランド130の材質は、Cuとした。はんだ接合部191,192,193の材質は、Sn−3.0%Ag0.5%Cuとした。図4(b)に示す、Z方向から見たコンデンサ400の面積S400は、0.4[mm]×0.2[mm]であった。即ち、コンデンサ400は、0402のチップ部品とした。
処理モジュール300の製造工程において用いた、図5(b)に示すメタルマスク23の厚みを、半導体装置100において隣り合う2つの接合前のボール端子であるはんだボールBの最小ピッチと、コンデンサ400のサイズから、0.08[mm]とした。
図5(e)及び図5(f)に示す工程S5−1,S5−2において、リフロー炉内の雰囲気のピーク温度を230℃以上として、はんだペーストP1,P2,P3を溶融させた。その後、溶融はんだM1,M2,M3を冷却固化させた。コンデンサ400は、はんだ接合部191,192によって半導体装置100に接合されていることが確認された。また、はんだ接合部191,192は、ランド130E,130G上においてフィレット形状であった。
工程S5−1,S5−2における溶融はんだM1,M2,M3の動きについて、観測により以下のことが確認された。まず、はんだペーストP3とはんだボールBとは、一体となって溶融する。このとき、半導体装置100は、丸くなろうとする溶融はんだM3によってプリント配線板200の方向へ移動する。一方、溶融はんだM1,M2は、プリント配線板200のランドと接触していないため、コンデンサ400の電極410,420へ移動し、側面411,412を伝って、上面414,424へ到達する。また、コンデンサ400は、溶融はんだM1,M2により、ソルダーレジスト208の表面に対して嵩上げされる。嵩上げされる量は、はんだペーストP1,P2の量によるが、実施例1においては0.01〜0.015[mm]程度であった。これにより、コンデンサ400の上面414,424が、ランド130E,130Gに近づけられる。上面414,424上に達した溶融はんだM1,M2は、ランド130E,130Gと接触し、ランド130E,130G上を濡れ広がる。以上の溶融はんだM1,M2,M3の動きにより、ランド130E,130G上においてフィレット形状となったはんだ接合部191,192が形成される。
(実施例2)
第2実施形態に対応する実施例2について説明する。図6に示す半導体装置100において、隣り合う2つの接合前のボール端子であるはんだボールB(図8(d))の最小ピッチは、0.4[mm]であった。ランド130の材質は、Cuとした。はんだ接合部191A,192A,193Aの材質は、Sn−3.0%Ag0.5%Cuとした。図7(b)に示す、Z方向から見たコンデンサ400の面積S400は、0.4[mm]×0.2[mm]であった。即ち、コンデンサ400は、0402のチップ部品とした。
第2実施形態に対応する実施例2について説明する。図6に示す半導体装置100において、隣り合う2つの接合前のボール端子であるはんだボールB(図8(d))の最小ピッチは、0.4[mm]であった。ランド130の材質は、Cuとした。はんだ接合部191A,192A,193Aの材質は、Sn−3.0%Ag0.5%Cuとした。図7(b)に示す、Z方向から見たコンデンサ400の面積S400は、0.4[mm]×0.2[mm]であった。即ち、コンデンサ400は、0402のチップ部品とした。
Z方向から見た半導体装置100におけるランド130E,130Gのサイズを0.6[mm]×0.22[mm]とした。Z方向から見たプリント配線板200Aにおけるランド230E,230Gのサイズを0.5[mm]×0.2[mm]とした。ランド130E,130Gの面積S130E,S130Gは、0.132mm2であった。ランド230E,230Gの面積S230E,S230Gは、0.1mm2であった。このように、ランド130E,130Gの面積S130E,S130Gと、ランド230E,230Gの面積S230E,S230Gの関係を、S230E,S230G<S130E,S130Gとした。
はんだペーストP1,P2の量を実施例1よりも増やし、フィレット形状を確認するため、図8(b)に示す工程S12にて用いたメタルマスク23の厚みを、0.08[mm]よりも厚い0.10[mm]とした。
ランド130E,130Gの面積S130E,S130Gが、ランド230E,230Gの面積S230E,S230Gよりも広いので、工程S15−1,S15−2において、溶融はんだM1,M2は面積の広いランド130E,130Gへと濡れ広がる。このため、実施例2では、はんだ接合部191A,192Aにおいて、サイドボールが発生したり、フィレットが膨らんだりすることが防止され、ショート不良が防止されることが確認された。
(実施例3)
次に、実施例3について説明する。実施例3は、第1実施形態に対応するが、ランド130E,130Gの材質が実施例1と異なる。
次に、実施例3について説明する。実施例3は、第1実施形態に対応するが、ランド130E,130Gの材質が実施例1と異なる。
半導体装置100のランド130E,130Gにおける溶融はんだの濡れ性をF1、コンデンサ400の電極410,420における溶融はんだの濡れ性をF2とする。実施例3では、F1≧F2の関係となるように、半導体装置100のランド130E,130Gとコンデンサ400の電極410,420の材質を選定した。溶融はんだの濡れ性とは、溶融はんだの馴染みやすさのことである。
溶融はんだが、コンデンサ400の電極410,420の表面と、半導体装置100のランド130E,130Gの表面を濡れ広がるには、溶融はんだ、及び対象金属の表面が汚染されていないことが重要となる。溶融はんだ及び金属表面が清浄であるほど、互いの原子間距離が近づき、溶融はんだが金属表面に密着するように金属表面上を濡れ広がっていく。このことから、半導体装置100のランド130E,130Gは、酸化しにくいAuめっきが施されているものとした。また、コンデンサ400の電極410,420は、酸化しやすく還元率が低いSnめっきが施されているものとした。
図5(b)に示すメタルマスク23の厚みを0.05[mm]とした。はんだペーストP1,P2,P3の供給量を、実施例1よりも少量とした。半導体装置100及びコンデンサ400のサイズは、実施例1と同様とした。
図5(e)及び図5(f)における工程S5−1,S5−2において、溶融はんだM1,M2は、Snめっきが施された電極410,420から、濡れ性の高いAuめっきが施されたランド130E,130Gへと移動することが確認された。これにより、コンデンサ400は、はんだ接合部191,192によって良好に半導体装置100に接合されていることが確認された。
(インダクタンスの計算)
次に、実施例1、実施例2、及び比較例1について、半導体素子とコンデンサとの間の配線のインダクタンスを計算した。図12(a)は、実施例1の処理モジュール300の断面模式図である。図12(b)は、実施例2の処理モジュール300Aの断面模式図である。図12(c)は、比較例1の処理モジュール300Xの断面模式図である。
次に、実施例1、実施例2、及び比較例1について、半導体素子とコンデンサとの間の配線のインダクタンスを計算した。図12(a)は、実施例1の処理モジュール300の断面模式図である。図12(b)は、実施例2の処理モジュール300Aの断面模式図である。図12(c)は、比較例1の処理モジュール300Xの断面模式図である。
図12(c)に示す比較例1の処理モジュール300Xは、半導体装置100と、コンデンサ400と、プリント配線板200Xと、を有する。半導体装置100は、半導体素子101と、パッケージ基板102と、を有する。半導体素子101は、パッケージ基板102に実装されている。パッケージ基板102は、ランド130Eと、ランド130Gとを含む。
プリント配線板200は、絶縁基板220Xを有する。絶縁基板220Xは、一方の主面と、一方の主面とは反対側の他方の主面とを有する。絶縁基板220Xの一方の主面には、ランド230EX及びランド230GXが配置されている。ランド130Eとランド230EXとは、はんだ接合部191Xで接合されている。ランド130Gとランド230GXとは、はんだ接合部192Xで接合されている。
コンデンサ400は、プリント配線板200Xの絶縁基板220Xの他方の主面側に配置されている。絶縁基板220Xの他方の主面には、コンデンサ400の電極410にはんだで接合されたランド240EXと、コンデンサ400の電極420にはんだで接合されたランド240GXとが配置されている。ランド230EXとランド240EXとは、絶縁基板220Xに形成されたヴィア導体291Xで電気的に接続されている。ランド230GXとランド240GXとは、絶縁基板220Xに形成されたヴィア導体292Xで電気的に接続されている。
以下に、計算の条件を示す。BGAの半導体パッケージである半導体装置100において隣り合う2つのボール端子のピッチを、0.4[mm]とした。パッケージ基板102の厚みを0.4[mm]とした。はんだ接合部193,193A,191X,192Xの高さを0.220[mm]、幅を0.250[mm]とした。コンデンサ400を0402サイズのチップコンデンサとした。プリント配線板200,200A,200Xの厚みを0.8[mm]とした。インダクタンスの計算には、平行導線におけるインダクタンスの算出式を用いた。
図12(a)に示す実施例1の計算結果について説明する。パッケージ基板102におけるヴィア導体112E,112Gの各々のインダクタンス値は、266pHであった。コンデンサ400における電極410とランド130Eとの間のインダクタンス値、及びコンデンサ400における電極420とランド130Gとの間のインダクタンス値の各々は、180pHであった。よって、半導体素子101の電源端子111Eとコンデンサ400の電極410との間のインダクタンス値、及び半導体素子101のグラウンド端子111Gとコンデンサ400の電極420との間のインダクタンス値の各々は、466pHであった。図12(b)に示す実施例2の計算結果は、実施例1と同様であった。
図12(c)に示す比較例1の計算結果について説明する。パッケージ基板102におけるヴィア導体112E,112Gの各々のインダクタンス値は、266pHであった。はんだ接合部191X,192Xの各々のインダクタンス値は、42pHであった。プリント配線板200Xにおけるヴィア導体291X,292Xの各々のインダクタンス値は、545pHであった。コンデンサ400における電極410とランド240EXとの間のインダクタンス値、及びコンデンサ400における電極420とランド240GXとの間のインダクタンス値の各々は、180pHであった。よって、半導体素子101の電源端子111Eとコンデンサ400の電極410との間のインダクタンス値、及び半導体素子101のグラウンド端子111Gとコンデンサ400の電極420との間のインダクタンス値の各々は、1033pHであった。
図13に、実施例1、実施例2、及び比較例1におけるインダクタンスの計算結果を示す。図13に示すように、実施例1,2においては、比較例1よりもインダクタンス値が小さくなる。これにより、発生する電源ノイズが低減し、半導体装置100における通信の高速化を実現することができる。また、実施例2においては、図12(b)に示すように、半導体装置100とプリント配線板200Aとを、コンデンサ400を介してはんだ接合部191A,192Aで接続している。これにより、はんだ接合部191A,192Aを介して半導体素子101へ給電することができる。よって、ランド130Sを、電源ライン以外の用途にも用いることができ、回路設計の自由度が上がる。
以上、製造工程を追加することなく、通信の高速化を実現する処理モジュールを製造することができる。
なお、本発明は、以上説明した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で多くの変形が可能である。また、実施形態に記載された効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、実施形態に記載されたものに限定されない。
上述の実施形態では、電子部品がコンデンサ400である場合について説明したが、これに限定するものではない。電子部品が抵抗器又はインダクタなどの受動部品であってもよい。
上述の実施形態では、予め、ランド230SにはんだボールBが設けられている半導体装置100を用意するについて説明したが、これに限定するものではない。即ち、半導体装置100を用意する工程において、ランド230SにはんだボールSを設けるようにしてもよい。
100…半導体装置、130E…ランド(第1ランド)、130G…ランド(第2ランド)、200…プリント配線板、300…処理モジュール(半導体モジュール)、400…コンデンサ(電子部品)、410…電極(第1電極)、420…電極(第2電極)
Claims (20)
- 所定方向に間隔をあけて配置された第1電極及び第2電極を含むチップ部品、第1ランド及び第2ランドを含む半導体装置、並びにプリント配線板を用意し、
前記プリント配線板に、間隔をあけて第1はんだペースト及び第2はんだペーストを供給し、
前記第1電極が前記第1はんだペーストと接し、前記第2電極が前記第2はんだペーストと接するように、前記チップ部品を前記プリント配線板上に載置し、
前記第1ランドが前記第1電極と対向し、前記第2ランドが前記第2電極と対向するように、前記半導体装置を前記プリント配線板上に載置し、
前記第1はんだペースト及び前記第2はんだペーストを加熱して溶融させ、
前記第1ランド及び前記第2ランドの各々まで濡れ広がった溶融はんだが冷却されて固化することで、前記第1ランドと前記第1電極とをはんだで接合し、前記第2ランドと前記第2電極とをはんだで接合する、
ことを特徴とする半導体モジュールの製造方法。 - 前記第1ランド及び前記第2ランドの各々は、前記チップ部品を前記プリント配線板上に載置したときに、平面視して、前記第1電極及び前記第2電極の各々の少なくとも一部と重なり、かつ前記チップ部品から前記所定方向の外側に張り出す、
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体モジュールの製造方法。 - 前記第1はんだペーストを溶融させた溶融はんだは、冷却されて前記第1ランド上においてフィレット形状に固化し、
前記第2はんだペーストを溶融させた溶融はんだは、冷却されて前記第2ランド上においてフィレット形状に固化する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体モジュールの製造方法。 - 前記プリント配線板は、絶縁基板と、前記絶縁基板の主面に配置されたソルダーレジストと、を有しており、
前記第1はんだペースト及び前記第2はんだペーストは、前記ソルダーレジスト上に供給される、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体モジュールの製造方法。 - 前記プリント配線板は、絶縁基板と、前記絶縁基板の主面に配置された第3ランド及び第4ランドと、を有しており、
前記第1はんだペーストは前記第3ランド上に供給され、前記第2はんだペーストは前記第4ランド上に供給される、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体モジュールの製造方法。 - 平面視して、前記第1ランドの面積が前記第3ランドの面積よりも広く、前記第2ランドの面積が前記第4ランドの面積よりも広い、
ことを特徴とする請求項5に記載の半導体モジュールの製造方法。 - 前記プリント配線板は、絶縁基板と、前記絶縁基板の主面に配置されたソルダーレジストと、を有し、
前記ソルダーレジストは、前記絶縁基板の主面の一部分を露出させる開口部を有し、
前記第1はんだペースト及び前記第2はんだペーストは、前記絶縁基板の主面において前記開口部により露出させられた部分に供給される、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体モジュールの製造方法。 - 前記半導体装置は、はんだボールが設けられた第5ランドを有しており、前記プリント配線板は、第6ランドを有しており、
前記プリント配線板において、前記第1はんだペースト及び前記第2はんだペーストを供給する際に、前記第6ランド上に第3はんだペーストを供給し、
前記半導体装置を前記プリント配線板上に載置することで、前記はんだボールを前記第3はんだペーストに接触させ、
前記第1はんだペースト及び前記第2はんだペーストと共に前記第3はんだペースト及び前記はんだボールを加熱して溶融させ、
溶融させたはんだを冷却させて固化させることで、前記第5ランドと前記第6ランドとをはんだで接合する、
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の半導体モジュールの製造方法。 - 前記半導体装置は、BGAの半導体パッケージである、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の半導体モジュールの製造方法。 - 電子機器の製造方法であって、
請求項1乃至9のいずれか1項に記載の製造方法により前記半導体モジュールを製造し、
筐体の内部に前記半導体モジュールを配置する、
ことを特徴とする電子機器の製造方法。 - プリント配線板と、
第1ランド及び第2ランドを含み、前記プリント配線板に実装された半導体装置と、
所定方向に間隔をあけた第1電極及び第2電極を含み、前記プリント配線板と前記半導体装置との間に配置されたチップ部品と、
前記第1電極と前記第1ランドとを接合する第1はんだ接合部と、
前記第2電極と前記第2ランドとを接合する第2はんだ接合部と、を備え、
前記プリント配線板は、絶縁基板と、前記絶縁基板の主面に配置されたソルダーレジストと、を有し、
前記チップ部品は、前記ソルダーレジストと対向し、
平面視して、前記第1ランド及び前記第2ランドの各々は、前記第1電極及び前記第2電極の各々の少なくとも一部と重なり、かつ前記チップ部品から前記所定方向の外側に張り出しており、
前記第1はんだ接合部は、前記ソルダーレジストから前記第1ランドに向かうにつれて、前記第1電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしており、
前記第2はんだ接合部は、前記ソルダーレジストから前記第2ランドに向かうにつれて、前記第2電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしている、
ことを特徴とする半導体モジュール。 - プリント配線板と、
第1ランド及び第2ランドを含み、前記プリント配線板に実装された半導体装置と、
所定方向に間隔をあけた第1電極及び第2電極を含み、前記プリント配線板と前記半導体装置との間に配置されたチップ部品と、
前記第1電極と前記第1ランドとを接合する第1はんだ接合部と、
前記第2電極と前記第2ランドとを接合する第2はんだ接合部と、を備え、
前記プリント配線板は、絶縁基板と、前記絶縁基板の主面に配置され、前記第1はんだ接合部で前記第1ランドに電気的に接続された第3ランドと、前記絶縁基板の主面に配置され、前記第2はんだ接合部で前記第2ランドに電気的に接続された第4ランドと、を有し、
平面視して、前記第1ランド及び前記第2ランドの各々は、前記第1電極及び前記第2電極の各々の少なくとも一部と重なり、かつ前記第3ランド及び前記第4ランドの各々の少なくとも一部と重なり、かつ前記チップ部品から前記所定方向の外側に張り出しており、前記第1はんだ接合部は、前記第3ランドから前記第1ランドに向かうにつれて、前記第1電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしており、
前記第2はんだ接合部は、前記第4ランドから前記第2ランドに向かうにつれて、前記第2電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしている、
ことを特徴とする半導体モジュール。 - プリント配線板と、
第1ランド及び第2ランドを含み、前記プリント配線板に実装された半導体装置と、
所定方向に間隔をあけた第1電極及び第2電極を含み、前記プリント配線板と前記半導体装置との間に配置されたチップ部品と、
前記第1電極と前記第1ランドとを接合する第1はんだ接合部と、
前記第2電極と前記第2ランドとを接合する第2はんだ接合部と、を備え、
前記プリント配線板は、絶縁基板と、前記絶縁基板の主面に配置されたソルダーレジストと、を有し、
前記ソルダーレジストは、前記チップ部品の一部が挿入された開口部を有し、
平面視して、前記第1ランド及び前記第2ランドの各々は、前記第1電極及び前記第2電極の各々の少なくとも一部と重なり、かつ前記チップ部品から前記所定方向の外側に張り出しており、
前記第1はんだ接合部は、前記絶縁基板の前記主面において前記ソルダーレジストの前記開口部により露出させられた部分から前記第1ランドに向かうにつれて、前記第1電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしており、
前記第2はんだ接合部は、前記絶縁基板の前記主面において前記ソルダーレジストの前記開口部により露出させられた部分から前記第2ランドに向かうにつれて、前記第2電極から前記所定方向の外側に広がるフィレット形状をなしている、
ことを特徴とする半導体モジュール。 - 前記第1ランドが電源端子、前記第2ランドがグラウンド端子である、
ことを特徴とする請求項11乃至13のいずれか1項に記載の半導体モジュール。 - 前記チップ部品は、0402サイズ以下のチップ部品である、
ことを特徴とする請求項11乃至14のいずれか1項に記載の半導体モジュール。 - 前記チップ部品がコンデンサであることを特徴とする請求項11乃至15のいずれか1項に記載の半導体モジュール。
- 前記半導体装置は、各ランドの間隔が0.4mm以下であるBGAの半導体パッケージである、
ことを特徴とする請求項11乃至16のいずれか1項に記載の半導体モジュール。 - 前記半導体装置は、半導体素子を有し、
前記半導体モジュールを平面視した際に、前記半導体素子と前記チップ部品は重なっている、
ことを特徴とする請求項11乃至17のいずれか1項に記載の半導体モジュール。 - 前記半導体装置は第5ランドを含み、
前記プリント配線板は、前記絶縁基板の主面に第6ランドを有し、
前記第5ランドと前記第6ランドとを接合する第3はんだ接合部を備え、
前記第3はんだ接合部の高さが、前記チップ部品の高さより高い、
ことを特徴とする請求項11乃至18のいずれか1項に記載の半導体モジュール。 - 筐体と、
前記筐体の内部に配置された、請求項11乃至19のいずれか1項に記載の半導体モジュールと、を備える、
ことを特徴とする電子機器。
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