JP2020201453A - 光モジュール - Google Patents

Abstract

【課題】外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる光モジュールを提供する。【解決手段】光モジュールは、レーザダイオードから出射される光を走査するミラー駆動機構１１０と、ミラー駆動機構１１０を支持する台座６５Ａと、を備える。ミラー駆動機構１１０は、貫通孔１１５Ｃ，１１５Ｄが形成されているベース部１１１と、板状であって、貫通孔１１５Ｃ，１１５Ｄ内に配置され、レーザダイオードから出射される光を反射する反射面１２６Ａおよび反射面１２６Ａと板厚方向の反対側に位置する裏面１２６Ｂを含むミラー１２６と、貫通孔１１５Ｃ，１１５Ｄを取り囲むベース部１１１の内壁面１２９Ａ，１２９Ｂとミラー１２６の外縁１３０とを接続する接続部１１８Ａ，１１８Ｂと、を含む。台座６５Ａは、ベース部１１１が取り付けられる第１面１４１Ａを含む。第１面１４１Ａの、裏面１２６Ｂに対向する領域には、穴１５１Ａが形成されている。【選択図】図９

Description

本開示は、光モジュールに関するものである。

複数の半導体発光素子からの光が合波される発光部と、発光部からの光を走査する走査部とを含む光モジュールが知られている（例えば、特許文献１〜３参照）。このような光モジュールは、発光部からの光を所望の経路に沿って走査することにより、文字や図形などを描画することができる。

特開２０１４−１８６０６８号公報 特開２０１４−５６１９９号公報 国際公開第２００７／１２０８３１号

光モジュール内で発生した迷光が光モジュールの外部へ出射されると、描画に影響を与えるおそれがある。

そこで、外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる光モジュールを提供することを目的の１つとする。

本開示に従った光モジュールは、レーザダイオードと、レーザダイオードから出射される光を走査するミラー駆動機構と、ミラー駆動機構を支持する台座と、を備える。ミラー駆動機構は、貫通孔が形成されているベース部と、板状であって、貫通孔内に配置され、レーザダイオードから出射される光を反射する反射面および反射面と板厚方向の反対側に位置する裏面を含むミラーと、貫通孔を取り囲むベース部の内壁面とミラーの外縁とを接続する接続部と、を含む。台座は、ベース部が取り付けられる第１面を含む。第１面の、裏面に対向する領域には、穴が形成されている。

上記光モジュールによれば、外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる。

図１は、実施の形態１における光モジュールの構造を示す概略斜視図である。 図２は、図１とは異なる視点から見た光モジュールの構造を示す概略斜視図である。 図３は、図１のキャップを取り外した状態に対応する斜視図である。 図４は、図２のキャップを取り外した状態に対応する斜視図である。 図５は、キャップを断面にて、他の部品を平面視にて示したＸ−Ｙ平面における概略図である。 図６は、キャップを断面にて、他の部品を平面視にて示したＸ−Ｚ平面における概略図である。 図７は、ミラー駆動機構を示す概略平面図である。 図８は、ミラー駆動機構を図７に示す線分ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩで切断した場合の概略断面図である。 図９は、ミラー駆動機構を台座に取り付けた状態のミラー駆動機構および台座の概略断面図である。 図１０は、実施の形態２における光モジュールに含まれる台座にミラー駆動機構を取り付けた状態のミラー駆動機構および台座の概略断面図である。 図１１は、実施の形態３における光モジュールに含まれる台座にミラー駆動機構を取り付けた状態のミラー駆動機構および台座の概略断面図である。 図１２は、実施の形態４における光モジュールに含まれる台座にミラー駆動機構を取り付けた状態のミラー駆動機構および台座の概略断面図である。 図１３は、実施の形態５における光モジュールに含まれる台座にミラー駆動機構を取り付けた状態のミラー駆動機構および台座の概略断面図である。 図１４は、実施の形態６における光モジュールに含まれる台座にミラー駆動機構を取り付けた状態のミラー駆動機構および台座の概略断面図である。

［本開示の実施形態の説明］
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。本開示に係る光モジュールは、レーザダイオードと、レーザダイオードから出射される光を走査するミラー駆動機構と、ミラー駆動機構を支持する台座と、を備える。ミラー駆動機構は、貫通孔が形成されているベース部と、板状であって、貫通孔内に配置され、レーザダイオードから出射される光を反射する反射面および反射面と板厚方向の反対側に位置する裏面を含むミラーと、貫通孔を取り囲むベース部の内壁面とミラーの外縁とを接続する接続部と、を含む。台座は、ベース部が取り付けられる第１面を含む。第１面の、裏面に対向する領域には、穴が形成されている。

本開示の光モジュールにおいては、第１面の、裏面に対向する領域には、穴が形成されている。そのため、光モジュール内において発生した迷光が、ベース部の内壁面とミラーの外縁との隙間を通過しても、ミラーにおいて反射された光の光路と近い光路に沿って迷光が進行することを抑制することができる。その結果、迷光が光モジュールの外部へ出射するおそれを低減することができる。したがって、外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる。

上記光モジュールにおいて、第１面は、穴を規定する平面状の底壁面と、穴を規定し、底壁面の外縁から立ち上がる側壁面と、を含んでもよい。ミラーの反射面の外縁を含む仮想平面である第１仮想平面と底壁面を含む第２仮想平面とのなす角度は、５度以上であってもよい。このようにすることにより、ミラーの反射面と穴を規定する底壁面とのなす角度を大きく異ならせて、ミラーにおいて反射された光の光路と近い光路に沿って迷光が進行することをより抑制することができる。したがって、外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる。

上記光モジュールにおいて、穴を規定する壁面は、曲面を含んでもよい。曲面によって反射される迷光の反射光は、拡散光となりやすい。よって、ミラーの反射光により描画された画像の中に迷光が入り込んだとしても、狭い領域に迷光が集中しないので、迷光として認識しにくくすることができる。したがって、外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる。

上記光モジュールにおいて、穴を規定する壁面には、凹凸が形成されていてもよい。このようにすることにより、迷光が穴を規定する壁面によって乱反射することになる。よって、ミラーの反射光により描画された画像の中に迷光が入り込んだとしても、狭い領域に迷光が集中しないので、迷光として認識しにくくすることができる。したがって、外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる。

上記光モジュールにおいて、台座は、穴を規定する壁面を覆い、レーザダイオードから出射される光の反射を防止する反射防止膜をさらに含んでもよい。このようにすることにより、穴を規定する壁面によって迷光が反射することを抑制することができる。したがって、外部に出射される光への迷光の影響を低減することができる。

上記光モジュールにおいて、穴は、台座を貫通していてもよい。このようにすることにより、迷光を台座によって反射しにくくすることができる。したがって、外部に出射される光への迷光の影響を低減することができる。

［本開示の実施形態の詳細］
次に、本開示の光モジュールの一実施形態を、図面を参照しつつ説明する。以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照符号を付しその説明は繰り返さない。

（実施の形態１）
まず、実施の形態１における光モジュールの構成について説明する。図１は、実施の形態１における光モジュールの構造を示す概略斜視図である。図２は、図１とは異なる視点から見た光モジュールの構造を示す概略斜視図である。図３は、図１の後述するキャップを取り外した状態に対応する斜視図である。図４は、図２のキャップを取り外した状態に対応する斜視図である。図５は、キャップを断面にて、他の部品を平面視にて示したＸ−Ｙ平面における概略図である。図６は、キャップを断面にて、他の部品を平面視にて示したＸ−Ｚ平面における概略図である。なお、図３〜図６において、後述するミラー駆動機構の図示を簡略化している。

図１〜図６を参照して、本実施の形態における光モジュール１は、光を形成する光形成部２０と、光形成部２０を取り囲み、光形成部２０を封止する保護部材２とを備える。保護部材２は、ベース体としての基部１０と、基部１０に対して溶接された蓋部であるキャップ４０と、を含む。つまり、光形成部２０は、保護部材２によりハーメチックシールされている。基部１０は、平板状の形状を有する。光形成部２０は、基部１０の一方の主面１０Ａ上に配置される。キャップ４０は、光形成部２０を覆うように基部１０の一方の主面１０Ａ上に接触して配置される。基部１０の他方の主面１０Ｂ側から一方の主面１０Ａ側まで貫通し、一方の主面１０Ａ側および他方の主面１０Ｂ側の両側に突出するように、複数のリードピン５１が基部１０に設置されている。基部１０とキャップ４０とにより取り囲まれる空間には、例えば乾燥空気などの水分が低減（除去）された気体が封入されている。キャップ４０には、窓４２が形成されている。窓４２には、例えば平行平板状のガラス部材が嵌め込まれている。本実施の形態において、保護部材２は、内部を気密状態とする気密部材である。これにより、光形成部２０に含まれる各部材が外部環境から有効に保護され、高い信頼性を確保することができる。

光形成部２０は、ベース部材４と、レーザダイオード８１，８２，８３と、レンズ９１，９２，９３と、受光素子としてのフォトダイオード９４と、フィルタ９７，９８，９９と、ビーム整形部としてのアパーチャ部材５５と、レーザダイオード８１，８２，８３から出射される光を走査するミラー駆動機構１１０とを含む。アパーチャ部材５５は、レーザダイオード８１，８２，８３から出射される光の進行方向に垂直な断面におけるレーザダイオード８１，８２，８３から出射される光の形状を整形する。レーザダイオード８１，８２，８３から出射される光は合波されて、窓４２から光モジュール１の外部へ出射される。光形成部２０に含まれるミラー駆動機構１１０は、保護部材２により、レーザダイオード８１等と共にハーメチックシールされている。

ベース部材４は、第１の電子温度調整モジュール３０と、第２の電子温度調整モジュール３４と、レーザダイオードベース６０と、台座６５Ａとを含む。第１の電子温度調整モジュール３０は、吸熱板３１、放熱板３２および半導体柱３３を含む。吸熱板３１および放熱板３２は、例えばアルミナからなっている。放熱板３２が基部１０の一方の主面１０Ａに接触するように、第１の電子温度調整モジュール３０は基部１０の一方の主面１０Ａに配置される。台座６５Ａは、直三角柱の形状を有する。台座６５Ａは、ミラー駆動機構１１０を支持する。台座６５Ａは、ミラー駆動機構１１０において発生した熱を逃がすヒートシンクとしての機能を有する。台座６５Ａおよびミラー駆動機構１１０は、アパーチャ部材５５から見て後述する第３フィルタ９９とは反対側に配置される。

基部１０と台座６５Ａとの間には、第１の電子温度調整モジュール３０が配置されている。吸熱板３１が台座６５Ａに接触して配置される。放熱板３２は、基部１０の一方の主面１０Ａに接触して配置される。第１の電子温度調整モジュール３０は、電子冷却モジュールであるペルチェモジュール（ペルチェ素子）である。本実施の形態では、第１の電子温度調整モジュール３０に電流を流すことにより、吸熱板３１に接触する台座６５Ａの熱が基部１０へと移動し、台座６５Ａが冷却される。

第２の電子温度調整モジュール３４も第１の電子温度調整モジュール３０と同様に、平板状の形状を有する吸熱板３５および放熱板３６と、電極（図示しない）を挟んで吸熱板３５と放熱板３６との間に並べて配置される半導体柱３７とを含む。第２の電子温度調整モジュール３４は、電子冷却モジュールであるペルチェモジュール（ペルチェ素子）である。吸熱板３５および放熱板３６は、例えばアルミナからなっている。放熱板３６が基部１０の一方の主面１０Ａに接触するように、第２の電子温度調整モジュール３４は基部１０の一方の主面１０Ａに配置される。第２の電子温度調整モジュール３４は、第１の電子温度調整モジュール３０とＸ方向に間隔をあけて配置される。すなわち、第１の電子温度調整モジュール３０と第２の電子温度調整モジュール３４とは、それぞれ別個に温度調整が可能である。なお、第１の電子温度調整モジュール３０と第２の電子温度調整モジュール３４とを一体化してもよい。この場合、温度調整に関わる制御機構が簡易になる。

基部１０とレーザダイオードベース６０との間には、第２の電子温度調整モジュール３４が配置されている。吸熱板３５がレーザダイオードベース６０に接触して配置される。放熱板３６は、基部１０の一方の主面１０Ａに接触して配置される。本実施の形態では、第２の電子温度調整モジュール３４に電流を流すことにより、吸熱板３５に接触するレーザダイオードベース６０の熱が基部１０へと移動し、レーザダイオードベース６０が冷却される。

吸熱板３５に接触するように、吸熱板３５上にレーザダイオードベース６０が配置される。レーザダイオードベース６０は、板状の形状を有する。レーザダイオードベース６０は、板厚方向に見て長方形形状（正方形形状）を有する一方の主面６０Ａを有している。レーザダイオードベース６０の一方の主面６０Ａは、レンズ搭載領域６１と、チップ搭載領域６２と、フィルタ搭載領域６３とを含んでいる。チップ搭載領域６２は、一方の主面６０Ａの一の辺を含む領域に、当該一の辺に沿って形成されている。レンズ搭載領域６１は、チップ搭載領域６２に隣接し、かつチップ搭載領域６２に沿って配置されている。フィルタ搭載領域６３は、一方の主面６０Ａの上記一の辺と向かい合う他の辺を含む領域に、当該他の辺に沿って配置されている。チップ搭載領域６２、レンズ搭載領域６１およびフィルタ搭載領域６３は、互いに平行である。

レンズ搭載領域６１におけるレーザダイオードベース６０の厚みと、フィルタ搭載領域６３におけるレーザダイオードベース６０の厚みとは、等しい。レンズ搭載領域６１とフィルタ搭載領域６３とは同一平面に含まれる。チップ搭載領域６２におけるレーザダイオードベース６０の厚みは、レンズ搭載領域６１およびフィルタ搭載領域６３に比べて大きい。その結果、レンズ搭載領域６１およびフィルタ搭載領域６３に比べて、チップ搭載領域６２の高さ（レンズ搭載領域６１を基準とした高さ、すなわちレンズ搭載領域６１に垂直な方向における高さ）が高くなっている。

チップ搭載領域６２上には、平板状の第１サブマウント７１、第２サブマウント７２および第３サブマウント７３が、一方の主面６０Ａの上記一の辺に沿って並べて配置されている。第１サブマウント７１と第３サブマウント７３とに挟まれるように、第２サブマウント７２が配置されている。第１サブマウント７１上に、第１レーザダイオードとしての赤色レーザダイオード８１が配置されている。第２サブマウント７２上に、第２レーザダイオードとしての緑色レーザダイオード８２が配置されている。第３サブマウント７３上に、第３レーザダイオードとしての青色レーザダイオード８３が配置されている。赤色レーザダイオード８１、緑色レーザダイオード８２および青色レーザダイオード８３の光軸の高さ（一方の主面６０Ａのレンズ搭載領域６１を基準面とした場合の基準面と光軸との距離；Ｚ軸方向における基準面との距離）は、第１サブマウント７１、第２サブマウント７２および第３サブマウント７３により調整されて一致している。なお、チップ搭載領域６２上において、第１サブマウント７１からＸ方向に間隔をあけて、レーザダイオードベース６０の温度を検出するサーミスタ１００が配置されている。上記した第２の電子温度調整モジュール３４は、レーザダイオードベース６０上に配置されたサーミスタ１００により検出された温度情報に基づいて温度制御を行う。その結果、レーザダイオード８１，８２，８３の温度が適切な温度範囲に調整される。

レンズ搭載領域６１上には、第１レンズ９１、第２レンズ９２および第３レンズ９３が配置されている。第１レンズ９１、第２レンズ９２および第３レンズ９３は、それぞれ表面にレンズ面を有している。第１レンズ９１、第２レンズ９２および第３レンズ９３の中心軸、すなわち第１レンズ９１、第２レンズ９２および第３レンズ９３の光軸は、それぞれ赤色レーザダイオード８１、緑色レーザダイオード８２および青色レーザダイオード８３の光軸に一致する。第１レンズ９１、第２レンズ９２および第３レンズ９３は、それぞれ赤色レーザダイオード８１、緑色レーザダイオード８２および青色レーザダイオード８３から出射される光のスポットサイズを変換する（ある投影面におけるビーム形状を所望の形状に整形する）。第１レンズ９１、第２レンズ９２および第３レンズ９３により、赤色レーザダイオード８１、緑色レーザダイオード８２および青色レーザダイオード８３から出射される光のスポットサイズが一致するようにスポットサイズが変換される。ここで、光のスポットサイズが一致するとは、赤色レーザダイオード８１、緑色レーザダイオード８２および青色レーザダイオード８３から出射される光のスポットサイズが完全に一致することのみならず、赤色レーザダイオード８１、緑色レーザダイオード８２および青色レーザダイオード８３から出射される光のスポットサイズがほぼ一致することを含む。第１レンズ９１、第２レンズ９２および第３レンズ９３により、赤色レーザダイオード８１、緑色レーザダイオード８２および青色レーザダイオード８３から出射される光がコリメート光に変換される。

フィルタ搭載領域６３上には、第１フィルタ９７、第２フィルタ９８および第３フィルタ９９が配置される。赤色レーザダイオード８１と第１レンズ９１とを結ぶ直線上に、第１フィルタ９７が配置される。緑色レーザダイオード８２と第２レンズ９２とを結ぶ直線上に、第２フィルタ９８が配置される。青色レーザダイオード８３と第３レンズ９３とを結ぶ直線上に、第３フィルタ９９が配置される。第１フィルタ９７、第２フィルタ９８および第３フィルタ９９は、それぞれ互いに平行な主面を有する平板状の形状を有している。第１フィルタ９７、第２フィルタ９８および第３フィルタ９９は、例えば波長選択性フィルタである。第１フィルタ９７、第２フィルタ９８および第３フィルタ９９は、例えば誘電体多層膜フィルタである。

より具体的には、第１フィルタ９７は、赤色の光を反射する。第２フィルタ９８は、赤色の光を透過し、緑色の光を反射する。第３フィルタ９９は、赤色の光および緑色の光を透過し、青色の光を反射する。このように、第１フィルタ９７、第２フィルタ９８および第３フィルタ９９は、特定の波長の光を選択的に透過および反射する。その結果、第１フィルタ９７、第２フィルタ９８および第３フィルタ９９は、赤色レーザダイオード８１、緑色レーザダイオード８２および青色レーザダイオード８３から出射された光を合波する。

アパーチャ部材５５は、吸熱板３５上に配置される。アパーチャ部材５５は、第３フィルタ９９から見て第２フィルタ９８とは反対側に配置される。アパーチャ部材５５は、平板状の形状を有する。アパーチャ部材５５は、アパーチャ部材５５を厚み方向に貫通する貫通孔５５Ａを有する。本実施の形態において、貫通孔５５Ａの延びる方向に垂直な断面における形状は円形である。貫通孔５５Ａが、第１フィルタ９７、第２フィルタ９８および第３フィルタ９９において合波された光の光路に対応する領域に位置するように、アパーチャ部材５５は配置される。貫通孔５５Ａを構成する壁面は、第１フィルタ９７、第２フィルタ９８および第３フィルタ９９において合波された光の光路に沿って延びている。レーザダイオード８１，８２，８３から出射された光の、光の進行方向に垂直な断面における形状は楕円形である。光の進行方向に垂直な断面において、フィルタ９７，９８，９９にて合波された光の長径よりも貫通孔５５Ａの直径が小さく、かつ貫通孔５５Ａの中心軸と合波された光の光軸が一致するように、アパーチャ部材５５は配置される。その結果、フィルタ９７，９８，９９にて合波された光の進行方向に垂直な断面における形状は、アパーチャ部材５５の貫通孔５５Ａの内径に一致した形状に整形される。ここで、アパーチャ部材５５の貫通孔５５Ａの内径に一致した形状については、アパーチャ部材５５の貫通孔５５Ａの内径に完全に一致した形状のみならず、アパーチャ部材５５の貫通孔５５Ａの内径にほぼ一致した形状を含む。

特に図５を参照して、赤色レーザダイオード８１、第１レンズ９１および第１フィルタ９７は、赤色レーザダイオード８１の光の出射方向に沿う一直線上に並んで（Ｙ軸方向に並んで）配置されている。緑色レーザダイオード８２、第２レンズ９２および第２フィルタ９８は、緑色レーザダイオード８２の光の出射方向に沿う一直線上に並んで（Ｙ軸方向に並んで）配置されている。青色レーザダイオード８３、第３レンズ９３および第３フィルタ９９は、青色レーザダイオード８３の光の出射方向に沿う一直線上に並んで（Ｙ軸方向に並んで）配置されている。

赤色レーザダイオード８１の出射方向、緑色レーザダイオード８２の出射方向および青色レーザダイオード８３の出射方向は、互いに平行である。第１フィルタ９７、第２フィルタ９８および第３フィルタ９９の主面は、それぞれ赤色レーザダイオード８１、緑色レーザダイオード８２および青色レーザダイオード８３の出射方向（Ｙ軸方向）に対して４５°傾斜している。

フォトダイオード９４は、レーザダイオードベース６０の一方の主面６０Ａ上に配置されている。フォトダイオード９４は、受光部９４Ａを含む。青色レーザダイオード８３、第３レンズ９３、第３フィルタ９９およびフォトダイオード９４の受光部９４Ａは、青色レーザダイオード８３の光の出射方向に沿う一直線上に並んで（Ｙ軸方向に並んで）配置されている。本実施の形態において、第３フィルタ９９は、赤色および緑色の光の大部分を透過するものの、一部を反射する。第３フィルタ９９は、青色の光の大部分を反射するものの、一部を透過する。

次に、実施の形態１における光モジュール１に含まれるミラー駆動機構１１０の構成について説明する。図７は、ミラー駆動機構１１０を示す概略平面図である。図８は、ミラー駆動機構１１０を図７に示す線分ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩで切断した場合の概略断面図である。図７は、ミラー１２６の板厚方向に見た図である。なお、ミラー１２６の板厚方向は、図８中の矢印Ｔで示す方向である。

図７および図８を参照して、ミラー駆動機構１１０は、レーザダイオード８１，８２，８３から出射される光を走査する。ミラー駆動機構１１０は、貫通孔１１５Ａ，１１５Ｂ，１１５Ｃ，１１５Ｄが形成されている板状のベース部１１１と、板状であって、貫通孔１１５Ｃ，１１５Ｄ内に配置され、レーザダイオード８１，８２，８３から出射される光を反射する反射面１２６Ａおよび反射面１２６Ａと板厚方向の反対側に位置する裏面１２６Ｂを含むミラー１２６と、貫通孔１１５Ｃ，１１５Ｄを取り囲むベース部１１１の内壁面１２９Ａ，１２９Ｂとミラー１２６の外縁１３０とを接続する接続部としての一対の第１の軸部１１８Ａ，１１８Ｂと、含む。本実施形態においては、ミラー１２６は、円板状である。ミラー１２６の反射面１２６Ａの直径は、例えば１．２ｍｍである。ミラー１２６の反射面１２６Ａには、例えば、アルミニウムといった金属が蒸着されている。

ベース部１１１は、ミラー１２６を揺動させる駆動部１１３と、駆動部１１３を取り囲むように配置され、駆動部１１３よりも大きい厚みを有する枠体１１２と、一対の第２の軸部１１９Ａ，１１９Ｂと、を含む。ミラー１２６の板厚方向における駆動部１１３の厚みは、例えば５０μｍである。図７に示すようにミラー１２６の板厚方向に見て、ベース部１１１の外形形状は、長方形の形状を有する。ベース部１１１の短辺の長さは、例えば４．５ｍｍである。ベース部１１１の長辺の長さは、例えば８ｍｍである。ベース部１１１の短辺は、図７中の矢印Ｄで示す方向に沿って延びている。ベース部１１１の外壁面である枠体１１２の外壁面１１４Ａは、ミラー１２６の板厚方向に見て、一対の長辺と一対の短辺とを含む形状である。枠体１１２は、環状に形成される。駆動部１１３は、外壁面１１４Ａから離れて配置される。枠体１１２は、外壁面１１４Ａに沿って延びる形状である。

駆動部１１３は、一対の第１部分１１６Ａ，１１６Ｂと、第２部分１１７とを含む。なお、図７において、枠体１１２と一対の第１部分１１６Ａ，１１６Ｂとのそれぞれの境界を破線で示している。一対の第１部分１１６Ａ，１１６Ｂはそれぞれ、枠体１１２に接続される。一対の第１部分１１６Ａ，１１６Ｂはそれぞれ、枠体１１２の内壁面１１４Ｂから互いが位置する方向に突出するように配置される。第２部分１１７は、ミラー１２６の板厚方向に見て、長方形の形状を有する。ミラー１２６の板厚方向において、枠体１１２の一方の面１２１Ａと、第１部分１１６Ａの一方の面１２１Ｂおよび第１部分１１６Ｂの一方の面１２１Ｃとはそれぞれ連なって形成される（特に図８参照）。

一対の第２の軸部１１９Ａ，１１９Ｂは、細い棒状である。一対の第２の軸部１１９Ａ，１１９Ｂはそれぞれ、一対の第１部分１１６Ａ，１１６Ｂに接続されている。一対の第２の軸部１１９Ａ，１１９Ｂはそれぞれ、第２部分１１７の外縁１２４の一部と接続されている。

第２部分１１７は、上記した貫通孔１１５Ｃ，１１５Ｄを有する。第２部分１１７と一対の第１部分１１６Ａ，１１６Ｂとの間、第２部分１１７と枠体１１２との間および一対の第１部分１１６Ａ，１１６Ｂと枠体１１２との間には、一対の第２の軸部１１９Ａ，１１９Ｂが配置される領域を除いて貫通孔１１５Ａ，１１５Ｂが配置される。第２部分１１７は、一対の第１部分１１６Ａ，１１６Ｂに対して一対の第２の軸部１１９Ａ，１１９Ｂを揺動軸として揺動可能に一対の第２の軸部１１９Ａ，１１９Ｂにより支持されている。すなわち、一対の第２の軸部１１９Ａ，１１９Ｂは、ミラー１２６を揺動可能に支持する第２の支持部である。

一対の第１の軸部１１８Ａ，１１８Ｂは、細い棒状である。一対の第１の軸部１１８Ａ，１１８Ｂは、貫通孔１１５Ｃ，１１５Ｄを取り囲むベース部１１１の内壁面１２９Ａ，１２９Ｂとミラー１２６の外縁１３０とを接続する接続部である。第２部分１１７とミラー１２６との間には、一対の第１の軸部１１８Ａ，１１８Ｂが配置される領域を除いて貫通孔１１５Ｃ，１１５Ｄが配置される。ミラー１２６は、駆動部１１３に対して一対の第１の軸部１１８Ａ，１１８Ｂを揺動軸として共振により揺動可能に一対の第１の軸部１１８Ａ，１１８Ｂにより支持されている。すなわち、一対の第１の軸部１１８Ａ，１１８Ｂは、ミラー１２６を揺動可能に支持する第１の支持部である。

駆動部１１３は、一対のピエゾ素子１２２Ａ，１２２Ｂを含む。第１部分１１６Ａの一方の面１２１Ｂ上に、一対のピエゾ素子１２２Ａ，１２２Ｂが配置される。ピエゾ素子１２２Ａ，１２２Ｂは、矢印Ｄの方向に間隔をあけて配置される。ピエゾ素子１２２Ａ，１２２Ｂは、ミラー１２６の板厚方向に見て、それぞれ長方形の形状を有する。同様に、駆動部１１３は、一対のピエゾ素子１２３Ａ，１２３Ｂを含む。第１部分１１６Ｂの一方の面１２１Ｃ上に、一対のピエゾ素子１２３Ａ，１２３Ｂが配置される。ピエゾ素子１２３Ａ，１２３Ｂは、矢印Ｄの方向に間隔をあけて配置される。ピエゾ素子１２３Ａ，１２３Ｂは、ミラー１２６の板厚方向に見て、それぞれ長方形の形状を有する。

ピエゾ素子１２２Ａ，１２２Ｂにそれぞれ逆位相の電圧を交互に印加し、ピエゾ素子１２３Ａ，１２３Ｂにもそれぞれ逆位相の電圧を交互に印加することにより、一対の第２の軸部１１９Ａ，１１９Ｂを揺動軸として、第２部分１１７を第１部分１１６Ａ，１１６Ｂに対して揺動させることができる。この場合、一対の第２の軸部１１９Ａ，１１９Ｂを通り、一点鎖線で示す第２の仮想線１２５Ｂが、揺動の中心軸となる。このようにして、圧電現象により一対の第２の軸部１１９Ａ，１１９Ｂを揺動軸として第２部分１１７を揺動させることができる。第２部分１１７の揺動に伴ってミラー１２６も揺動する。ここで、第２部分１１７の揺動については、ミラー１２６と共振しない周波数で揺動させる。第２部分１１７の揺動の光学的振れ角は、例えば±１５°である。

駆動部１１３は、一対のピエゾ素子１２７Ａ，１２７Ｂを含む。ピエゾ素子１２７Ａ，１２７Ｂはそれぞれ、第２部分１１７の一方の面１２１Ｄ上に配置される。内壁面１２９Ａに沿って、ピエゾ素子１２７Ａが配置される。内壁面１２９Ｂに沿って、ピエゾ素子１２７Ｂが配置される。

ピエゾ素子１２７Ａ，１２７Ｂにそれぞれ逆位相の電圧を交互に印加することにより、一対の第１の軸部１１８Ａ，１１８Ｂを揺動軸として、ミラー１２６を第２部分１１７に対して揺動させることができる。この場合、一対の第１の軸部１１８Ａ，１１８Ｂを通り、一点鎖線で示す第１の仮想線１２５Ａが、揺動の中心軸となる。このようにすることにより、ミラー１２６を圧電現象により一対の第１の軸部１１８Ａ，１１８Ｂを揺動軸として揺動させることができる。ここで、ミラー１２６は、共振する。すなわち、ミラー１２６の固有振動数に合わせて振動させる。このようにすることにより、高速でミラー１２６を揺動させることが容易となる。また、このようにすることにより、ミラー１２６の揺動の光学的振れ角を大きくすることができる。光学的振れ角は、例えば±４０°である。なお、図７に示すミラー駆動機構１１０の平面視において、第１の仮想線１２５Ａと第２の仮想線１２５Ｂとは直交する。

ミラー駆動機構１１０は、ミラー駆動機構１１０の温度を検出する温度検出部１２８を含む。温度検出部１２８は、駆動部１１３上に設置される。具体的には、温度検出部１２８は、第２部分１１７の一方の面１２１Ｄ上に取り付けられる。より具体的には、温度検出部１２８は、ミラー１２６の板厚方向に見て、ピエゾ素子１２７Ｂと第２部分１１７の外縁１２４との間の領域に配置される。温度検出部１２８は、シリコンダイオードである。上記した第１の電子温度調整モジュール３０は、温度検出部１２８により検出された温度情報に基づいてミラー駆動機構１１０の温度制御を行う。このようにすることにより、検出されたミラー駆動機構１１０の温度に基づいて、ミラー駆動機構１１０の厳密な温度制御を図ることができる。その結果、ミラー駆動機構１１０の温度を適切な範囲に調整することができる。したがって、ミラー１２６を安定して揺動させることができる。なお、温度検出部１２８が配置される位置については、枠体１１２の一方の面１２１Ａ上であってもよい。

次に、ミラー駆動機構１１０の製造方法について、簡単に説明する。まず、ＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ ｏｎ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）基板を準備し、当該基板にシリコン酸化膜等を形成する。その後、フォトレジスト層の形成、反応性イオンエッチング等により、所定の箇所にピエゾ素子等を形成し、上記したミラー駆動機構１１０を得る。

次に、ミラー駆動機構１１０が取り付けられる台座６５Ａの構成について説明する。図９は、台座６５Ａにミラー駆動機構１１０を取り付けた状態のミラー駆動機構１１０および台座６５Ａの概略断面図である。また、理解の容易の観点から、図９においては、枠体１１２および駆動部１１３の厚み等を図８に示す場合と異ならせて図示し、部材を簡略化して図示している。以下、図１０以降についても同様である。

上記したように台座６５Ａは、三角柱（直三角柱）形状を有する。図９は、この三角柱の高さ方向に垂直な断面図である。台座６５Ａは、それぞれ三角柱の側面を構成する第１面１４１Ａと、第２面１４２Ａと、第３面１４３Ａとを含む。第２面１４２Ａは、Ｘ−Ｙ平面に平行である。第３面１４３Ａは、Ｙ−Ｚ平面に平行である。第１面１４１Ａは、Ｘ−Ｙ平面およびＹ−Ｚ平面に対してそれぞれ傾斜している。傾斜角はそれぞれ、例えば４５度である。なお、第１面１４１Ａと第３面１４３Ａとを接続するように、面取り部１４５Ａが形成されている。第２面１４２Ａが第１の電子温度調整モジュール３０の吸熱板３１と接触するように配置される。

第１面１４１Ａは、枠体１１２を取り付ける取り付け面１４４Ａを含む。ミラー駆動機構１１０は、台座６５Ａの取り付け面１４４Ａに取り付けられる。ミラー駆動機構１１０は、ミラー１２６の裏面１２６Ｂが、第１面１４１Ａと間隔をあけて対向するように配置される。

第１面１４１Ａの、裏面１２６Ｂに対向する領域には、穴１５１Ａが形成されている。穴１５１Ａは、例えばミラー１２６の反射面１２６Ａに入射する入射光の光路Ｌ_４と平行であって、貫通孔１１５Ｄを通過する光路Ｌ_１１と交差する領域を含むように形成される。第１面１４１Ａは、穴１５１Ａを規定する底壁面１５２Ａと、穴１５１Ａを規定し、底壁面１５２Ａの外縁１５７Ａから立ち上がる側壁面１５３Ａと、を含む。底壁面１５２Ａは、平面状である。側壁面１５３Ａは、底壁面１５２Ａから垂直に立ち上がる。底壁面１５２Ａは、ミラー１２６の静止時において、ミラー１２６の反射面１２６Ａと平行である。なお、底壁面１５２Ａは、枠体１１２の一方の面１２１Ａと平行である。

次に、本実施の形態における光モジュール１の動作について説明する。まず、赤色レーザダイオード８１、緑色レーザダイオード８２および青色レーザダイオード８３の合波について説明する。特に図５を参照して、赤色レーザダイオード８１から出射された赤色の光は、光路Ｌ_１に沿って進行する。この赤色の光は、第１レンズ９１に入射し、光のスポットサイズが変換される。具体的には、例えば赤色レーザダイオード８１から出射された赤色の光がコリメート光に変換される。第１レンズ９１においてスポットサイズが変換された赤色の光は、光路Ｌ_１に沿って進行し、第１フィルタ９７に入射する。

第１フィルタ９７は赤色の光を反射するため、赤色レーザダイオード８１から出射された光は光路Ｌ_４に沿ってさらに進行し、第２フィルタ９８に入射する。第２フィルタ９８は赤色の光を透過するため、赤色レーザダイオード８１から出射された光は光路Ｌ_４に沿ってさらに進行し、第３フィルタ９９に入射する。第３フィルタ９９は赤色の光を透過するため、赤色レーザダイオード８１から出射された光は光路Ｌ_４に沿ってさらに進行し、アパーチャ部材５５に到達する。アパーチャ部材５５に到達した光は、アパーチャ部材５５により整形され、光路Ｌ_４に沿ってさらに進行し、ミラー１２６に到達する。

緑色レーザダイオード８２から出射された緑色の光は、光路Ｌ_２に沿って進行する。この緑色の光は、第２レンズ９２に入射し、光のスポットサイズが変換される。具体的には、例えば緑色レーザダイオード８２から出射された緑色の光がコリメート光に変換される。第２レンズ９２においてスポットサイズが変換された緑色の光は、光路Ｌ_２に沿って進行し、第２フィルタ９８に入射する。

第２フィルタ９８は緑色の光を反射するため、緑色レーザダイオード８２から出射された光は光路Ｌ_４に沿ってさらに進行し、第３フィルタ９９に入射する。第３フィルタ９９は緑色の光を透過するため、緑色レーザダイオード８２から出射された光は光路Ｌ_４に沿ってさらに進行し、アパーチャ部材５５に到達する。アパーチャ部材５５に到達した緑色の光は、アパーチャ部材５５により整形され、光路Ｌ_４に沿ってさらに進行し、ミラー１２６に到達する。

青色レーザダイオード８３から出射された青色の光は、光路Ｌ_３に沿って進行する。この青色の光は、第３レンズ９３に入射し、光のスポットサイズが変換される。具体的には、例えば青色レーザダイオード８３から出射された青色の光がコリメート光に変換される。第３レンズ９３においてスポットサイズが変換された青色の光は、光路Ｌ_３に沿って進行し、第３フィルタ９９に入射する。

第３フィルタ９９は青色の光を反射するため、青色レーザダイオード８３から出射された光は光路Ｌ_４に沿ってさらに進行し、アパーチャ部材５５に到達する。アパーチャ部材５５に到達した青色の光は、アパーチャ部材５５により整形され、光路Ｌ_４に沿ってさらに進行し、ミラー１２６に到達する。このようにして、赤色、緑色および青色の光が合波されて形成された光（合波光）が光路Ｌ_４に沿ってミラー１２６へと到達する。

次に、合波光が出射される動作について説明する。図６を参照して、ミラー１２６が駆動されることにより合波光が走査される。光路Ｌ_１０に沿って窓４２を通ってキャップ４０の外部へと出射する合波光により文字、図形などが描画される。

ここで、再び図９を参照して、台座６５Ａの第１面１４１Ａには、上記穴１５１Ａが形成されている。そのため、光モジュール１内において発生した迷光が、ベース部１１１の内壁面１２９Ｂとミラー１２６の外縁１３０との隙間である貫通孔１１５Ｄを通過しても、ミラー１２６において反射された光の光路Ｌ_１０と近い光路に沿って迷光が進行することを抑制することができる。その結果、迷光が光モジュール１の外部へ出射するおそれを低減することができる。したがって、外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる。

具体的には、図９中の光路Ｌ_１１に沿ってミラー駆動機構１１０に入射した迷光について考える。光路Ｌ_１１に沿ってミラー１２６への入射光と平行に入射する迷光は、ベース部１１１の内壁面１２９Ｂとミラー１２６の外縁１３０との隙間、すなわち、貫通孔１１５Ｄを通過する。そして、光路Ｌ_１１に沿って進行し、底壁面１５２Ａに到達する。迷光は底壁面１５２Ａにおいて反射し、迷光の反射光は光路Ｌ_１２に沿って進行する。しかし、この迷光の反射光は、側壁面１５３Ａに到達する。よって、ベース部１１１の内壁面１２９Ａとミラー１２６の外縁１３０との隙間である貫通孔１１５Ｃを通過せず、光路Ｌ_１０と近い光路に沿って迷光が進行することを抑制することができる。したがって、窓４２から迷光が出射されるおそれを低減することができる。

（実施の形態２）
次に、他の実施の形態である実施の形態２について説明する。図１０は、実施の形態２における光モジュールに含まれる台座にミラー駆動機構１１０を取り付けた状態のミラー駆動機構１１０および台座の概略断面図である。実施の形態２の光モジュールは、台座に形成された穴の形状が異なる点において実施の形態１の場合とは異なっている。

図１０を参照して、実施の形態２における光モジュールに含まれる台座６５Ｂは、第１面１４１Ａを含む。第１面１４１Ａの、裏面１２６Ｂに対向する領域には、穴１５１Ｂが形成されている。第１面１４１Ａは、穴１５１Ｂを規定する平面状の底壁面１５２Ｂと、穴１５１Ｂを規定し、底壁面１５２Ｂの外縁１５７Ｂから立ち上がる側壁面１５３Ｂと、を含む。ミラー１２６の反射面１２６Ａの外縁１３０を含む仮想平面である第１仮想平面１５４Ｂと底壁面１５２Ｂを含む第２仮想平面１５５Ｂとのなす角度θは、５度以上である。第１仮想平面１５４Ｂおよび第２仮想平面１５５Ｂはそれぞれ、図１０において一点鎖線で図示されている。

本実施形態において迷光について考えると、光路Ｌ_１１に沿ってミラー１２６への入射光と平行に入射する迷光は、ベース部１１１の内壁面１２９Ｂとミラー１２６の外縁１３０との隙間、すなわち、貫通孔１１５Ｄを通過する。そして、光路Ｌ_１１に沿って進行し、底壁面１５２Ｂに到達する。迷光は底壁面１５２Ｂにおいて反射し、迷光の反射光は光路Ｌ_１３に沿って進行する。しかし、この迷光の反射光は、ベース部１１１の内壁面１２９Ａに到達する。よって、ベース部１１１の内壁面１２９Ａとミラー１２６の外縁１３０との隙間である貫通孔１１５Ｃを通過せず、光路Ｌ_１０と近い光路に沿って迷光が進行することを抑制することができる。

本実施の形態では、ミラー１２６の反射面１２６Ａと穴１５１Ｂを規定する底壁面１５２Ｂとのなす角度を大きく異ならせて、ミラー１２６において反射された光の光路Ｌ_１０と近い光路に沿って迷光が進行することを抑制することができる。その結果、このような光モジュールは、外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる光モジュールとなっている。なお、傾斜する方向については、図１０に示す場合に限られず、底壁面１５２Ｂが、例えば、三角柱状の台座６５Ｂの高さ方向に傾斜してもよい。

（実施の形態３）
次に、さらに他の実施の形態である実施の形態３について説明する。図１１は、実施の形態３における光モジュールに含まれる台座にミラー駆動機構１１０を取り付けた状態のミラー駆動機構１１０および台座の概略断面図である。実施の形態３の光モジュールは、台座に形成された穴の形状が異なる点において実施の形態１の場合とは異なっている。

図１１を参照して、実施の形態３における光モジュールに含まれる台座６５Ｃは、第１面１４１Ａを含む。第１面１４１Ａの、裏面１２６Ｂに対向する領域には、穴１５１Ｃが形成されている。穴１５１Ｃを規定する壁面１５２Ｃは、曲面を含む。本実施形態においては、穴１５１Ｃを規定する壁面１５２Ｃは、円弧状の曲面から構成されている。貫通孔１１５Ｄを通過し、光路Ｌ_１１に沿って進行する迷光は、壁面１５２Ｃで反射する。反射光のうちの一部は、例えば光路Ｌ_１４に沿って進行し、その一部が光モジュールの外部へ出射する。

曲面によって反射される迷光の反射光は、拡散光となりやすい。よって、ミラー１２６の反射光により描画された画像の中に迷光が入り込んだとしても、狭い領域に迷光が集中しないので、迷光として認識しにくくすることができる。その結果、このような光モジュールは、外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる光モジュールとなっている。

なお、実施の形態３における光モジュールにおいては、壁面１５２Ｃは、円弧状の曲面から構成されることとしたが、これに限らず、壁面１５２Ｃは、球面、楕円面、放物面、双曲面、自由曲面の一部であってもよい。さらに複数の曲面から構成されていてもよく、一部に平面を含んでいてもよい。

（実施の形態４）
次に、さらに他の実施の形態である実施の形態４について説明する。図１２は、実施の形態４における光モジュールに含まれる台座にミラー駆動機構１１０を取り付けた状態のミラー駆動機構１１０および台座の概略断面図である。実施の形態４の光モジュールは、台座に形成された穴を規定する底壁面の形状が異なる点において実施の形態１の場合とは異なっている。

図１２を参照して、実施の形態４における光モジュールに含まれる台座６５Ｄは、第１面１４１Ａを含む。第１面１４１Ａの、裏面１２６Ｂに対向する領域には、穴１５１Ｄが形成されている。第１面１４１Ａは、穴１５１Ｄを規定する平面状の底壁面１５２Ｄと、穴１５１Ｄを規定し、底壁面１５２Ｄから立ち上がる側壁面１５３Ｄと、を含む。穴１５１Ｄを規定する底壁面１５２Ｄには、凹凸が形成されている。貫通孔１１５Ｂを通過し、光路Ｌ_１１に沿って進行する迷光は、凹凸が形成されている底壁面１５２Ｄで乱反射する。反射光のうちの一部は、例えば光路Ｌ_１５に沿って進行し、その一部が光モジュールの外部へ出射する。

このようにすることにより、迷光が穴１５１Ｄを規定する底壁面１５２Ｄによって乱反射することになる。よって、ミラー１２６の反射光により描画された画像の中に迷光が入り込んだとしても、狭い領域に迷光が集中しないので、迷光として認識しにくくすることができる。その結果、このような光モジュールは、外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる光モジュールとなっている。

（実施の形態５）
次に、さらに他の実施の形態である実施の形態５について説明する。図１３は、実施の形態５における光モジュールに含まれる台座にミラー駆動機構１１０を取り付けた状態のミラー駆動機構１１０および台座の概略断面図である。実施の形態５の光モジュールは、台座が反射防止膜をさらに含む点において実施の形態１の場合とは異なっている。

図１３を参照して、実施の形態３における光モジュールに含まれる台座６５Ｅは、第１面１４１Ａを含む。第１面１４１Ａの、裏面１２６Ｂに対向する領域には、穴１５１Ｅが形成されている。第１面１４１Ａは、穴１５１Ｅを規定する平面状の底壁面１５２Ａと、穴１５１Ａを規定し、底壁面１５２Ａの外縁１５７Ａから立ち上がる側壁面１５３Ａと、を含む。

台座６５Ｅは、穴１５１Ｅを規定する壁面を覆い、レーザダイオード８１，８２，８３から出射される光の反射を防止する反射防止膜１５６を含む。本実施形態においては、反射防止膜１５６は、穴１５１Ｅを規定する壁面のうちの底壁面１５２Ａを覆うように形成されている。反射防止膜１５６としては、例えば、黒アルマイト処理された膜が挙げられる。

このようにすることにより、穴１５１Ｅを規定する底壁面１５２Ａによって、貫通孔１１５Ｄを通過し、光路Ｌ_１１に沿って進行する迷光が反射することを抑制することができる。したがって、このような光モジュールは、外部に出射される光への迷光の影響を低減することができる光モジュールとなっている。なお、反射防止膜１５６を、光吸収剤を塗布して形成することにしてもよい。また、反射防止膜１５６は、側壁面１５３Ａを覆うように形成してもよく、底壁面１５２Ａおよび側壁面１５３Ａの全面を覆うように形成してもよい。また、反射防止膜１５６は、底壁面１５２Ａの一部を覆うように形成してもよい。

（実施の形態６）
次に、さらに他の実施の形態である実施の形態６について説明する。図１４は、実施の形態６における光モジュールに含まれる台座にミラー駆動機構１１０を取り付けた状態のミラー駆動機構１１０および台座の概略断面図である。実施の形態６の光モジュールは、台座に形成される穴が台座を貫通している点において実施の形態１の場合とは異なっている。

図１４を参照して、実施の形態６における光モジュールに含まれる台座６５Ｆは、第１面１４１Ａを含む。第１面１４１Ａの、裏面１２６Ｂに対向する領域には、穴１５１Ｆが形成されている。穴１５１Ｆは、台座６５Ｆを貫通している。具体的には、穴１５１Ｆを規定する壁面１５２Ｆは、第１面１４１Ａから第３面１４３Ａに至るまで連なっている。壁面１５２Ｆは、Ｙ−Ｚ平面に垂直である。

このようにすることにより、貫通孔１１５Ｄを通過し、光路Ｌ_１１に沿って進行する迷光は、穴１５１Ｆを構成する壁面１５２Ｆによって反射するおそれを大きく低減することができる。その結果、このような光モジュールは、外部に出射される光に対する迷光の影響を低減することができる光モジュールとなっている。なお、台座６５Ｆを貫通した迷光は、そのまま光路Ｌ_１１に沿って進行し、キャップ４０の内壁面４３に入射することになる。図６を参照して、本実施形態においては、キャップ４０の内壁面４３に、反射防止膜を形成しておくことにより、迷光の影響を低減することができる。

（他の実施の形態）
上記の実施の形態においては、圧電現象によりミラーを揺動させることにしたが、これに限らず、他の方式、例えば電磁力を利用してミラーを揺動させることにしてもよい。

上記の実施の形態において、ミラー駆動機構は、一対の第１の軸部および一対の第２の軸部によってミラーを揺動させることにしたが、これに限らず、ミラー駆動機構は、いずれか一方によってミラーを揺動するようにしてもよい。

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、どのような面からも制限的なものではないと理解されるべきである。本開示の範囲は上記した説明ではなく、特許請求の範囲によって規定され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

本開示の光モジュールは、外部に出射される光に対する迷光の影響の低減が求められる場合に特に有利に適用され得る。

１ 光モジュール
２ 保護部材
４ ベース部材
１０ 基部
１０Ａ，１０Ｂ，６０Ａ 主面
２０ 光形成部
３０ 第１の電子温度調整モジュール
３１，３５ 吸熱板
３２，３６ 放熱板
３３，３７ 半導体柱
３４ 第２の電子温度調整モジュール
４０ キャップ
４２ 窓
４３，１１４Ｂ 内壁面
５１ リードピン
５５ アパーチャ部材
５５Ａ，１１５Ａ，１１５Ｂ，１１５Ｃ，１１５Ｄ 貫通孔
６０ レーザダイオードベース
６１ レンズ搭載領域
６２ チップ搭載領域
６３ フィルタ搭載領域
６５Ａ，６５Ｂ，６５Ｃ，６５Ｄ，６５Ｅ，６５Ｆ 台座
７１ 第１サブマウント
７２ 第２サブマウント
７３ 第３サブマウント
８１ 赤色レーザダイオード
８２ 緑色レーザダイオード
８３ 青色レーザダイオード
９１ 第１レンズ
９２ 第２レンズ
９３ 第３レンズ
９４ フォトダイオード
９４Ａ 受光部
９７ 第１フィルタ
９８ 第２フィルタ
９９ 第３フィルタ
１００ サーミスタ
１１０ ミラー駆動機構
１１１ ベース部
１１２ 枠体
１１３ 駆動部
１１４Ａ，１２９Ａ，１２９Ｂ 外壁面
１１６Ａ，１１６Ｂ 第１部分
１１７ 第２部分
１１８Ａ，１１８Ｂ 第１の軸部
１１９Ａ，１１９Ｂ 第２の軸部
１２１Ａ，１２１Ｂ，１２１Ｃ，１２１Ｄ 面
１２２Ａ，１２２Ｂ，１２３Ａ，１２３Ｂ，１２７Ａ，１２７Ｂ ピエゾ素子
１２４，１３０，１５７Ａ，１５７Ｂ，１５７Ｅ 外縁
１２５Ａ，１２５Ｂ 仮想線
１２６ ミラー
１２６Ａ 反射面
１２６Ｂ 裏面
１２８ 温度検出部
１４１Ａ 第１面
１４２Ａ 第２面
１４３Ａ 第３面
１４４Ａ 取り付け面
１４５Ａ 面取り部
１５１Ａ，１５１Ｂ，１５１Ｃ，１５１Ｄ，１５１Ｅ，１５１Ｆ 穴
１５２Ａ，１５２Ｂ，１５２Ｄ，１５２Ｅ 底壁面
１５２Ｃ，１５２Ｆ 壁面
１５３Ａ，１５３Ｂ，１５３Ｄ，１５３Ｅ 側壁面
１５４Ｂ 第１仮想平面
１５５Ｂ 第２仮想平面
１５６ 反射防止膜

Claims (6)

1. レーザダイオードと、
   前記レーザダイオードから出射される光を走査するミラー駆動機構と、
   前記ミラー駆動機構を支持する台座と、を備え、
   前記ミラー駆動機構は、
   貫通孔が形成されているベース部と、
   板状であって、前記貫通孔内に配置され、前記レーザダイオードから出射される光を反射する反射面および前記反射面と板厚方向の反対側に位置する裏面を含むミラーと、
   前記貫通孔を取り囲む前記ベース部の内壁面と前記ミラーの外縁とを接続する接続部と、を含み、
   前記台座は、前記ベース部が取り付けられる第１面を含み、
   前記第１面の、前記裏面に対向する領域には、穴が形成されている、光モジュール。
2. 前記第１面は、
   前記穴を規定する平面状の底壁面と、
   前記穴を規定し、前記底壁面の外縁から立ち上がる側壁面と、を含み、
   前記ミラーの反射面の外縁を含む仮想平面である第１仮想平面と前記底壁面を含む第２仮想平面とのなす角度は、５度以上である、請求項１に記載の光モジュール。
3. 前記穴を規定する壁面は、曲面を含む、請求項１に記載の光モジュール。
4. 前記穴を規定する壁面の少なくとも一部には、凹凸が形成されている、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光モジュール。
5. 前記台座は、前記穴を規定する壁面を覆い、前記レーザダイオードから出射される光の反射を防止する反射防止膜をさらに含む、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光モジュール。
6. 前記穴は、前記台座を貫通している、請求項１に記載の光モジュール。
   

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