JP2020200237A - ガラス用エッチング液およびガラス基板製造方法 - Google Patents
ガラス用エッチング液およびガラス基板製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020200237A JP2020200237A JP2020155033A JP2020155033A JP2020200237A JP 2020200237 A JP2020200237 A JP 2020200237A JP 2020155033 A JP2020155033 A JP 2020155033A JP 2020155033 A JP2020155033 A JP 2020155033A JP 2020200237 A JP2020200237 A JP 2020200237A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- glass
- glass substrate
- etching solution
- inhibitor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 265
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 142
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 77
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims abstract description 37
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 56
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 28
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 27
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 31
- 239000002585 base Substances 0.000 description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 description 36
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 8
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 7
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XROWMBWRMNHXMF-UHFFFAOYSA-J titanium tetrafluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[Ti+4] XROWMBWRMNHXMF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017855 NH 4 F Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- MBAKFIZHTUAVJN-UHFFFAOYSA-I hexafluoroantimony(1-);hydron Chemical compound F.F[Sb](F)(F)(F)F MBAKFIZHTUAVJN-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Description
このように、エッチング阻害物質を含むエッチング液を用いることによってウエットエッチングの等方性に起因するサイドエッチングの影響がほとんど発生しないため、狭窄部のない貫通孔を形成することができる。一方で、エッチング阻害物質を含有するエッチング液による処理(第1のエッチングステップ)の比率を少なくし、通常のエッチング液による処理(第2のエッチングステップ)の比率を多くすることによって、狭窄部の形状を調整することが可能である。必要となる貫通孔の形状や必要なエッチングレート等を考慮して、第1のエッチングステップおよび第2のエッチングステップの比率を適宜調整すると良い。上述したように、第2のエッチングステップは任意的処理なので、比率をゼロにすることも可能である。
12−アレイ基板
14−カラーフィルタ基板
16−耐エッチングフィルム
17−透明性薄膜
20−改質ライン
30−端子部切断溝
50−多面取り用ガラス母材
100−スマートフォン
122−電極端子部
250−スクライブホイール
300−エッチング装置
302,304−エッチングチャンバ
306−エッチング槽
Claims (4)
- ガラスをエッチングするためのガラス用エッチング液であって、
ガラスに対するエッチング速度を低下させるエッチング阻害物質であって、アルカリまたはフッ素錯化剤のいずれか一方を少なくとも含有するエッチング阻害物質を少なくとも含むガラス用エッチング液。 - 前記エッチング阻害物質は、ガラスにおけるエッチングされやすいように改質された改質部に付着することによってエッチング反応を阻害する反応生成物を発生させる請求項1に記載のガラス用エッチング液。
- 請求項1または2に記載のガラス用エッチング液を用いたガラス基板製造方法であって、
ガラス基板のエッチング予定位置における厚み方向にわたってエネルギ密度が相対的に高い焦線が形成されるようにレーザ光を前記ガラス基板に照射することによって前記エッチング予定位置を改質する改質ステップと、
前記改質ステップ後に、前記ガラス用エッチング液を用いて前記エッチング予定位置をエッチングする第1のエッチングステップと、
を少なくとも含むガラス基板製造方法。 - 前記第1のエッチングステップの後に、少なくともフッ酸を含むエッチング液によって前記エッチング予定位置をエッチングする第2のエッチングステップをさらに含むことを特徴とする請求項3に記載のガラス基板製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020155033A JP7251704B2 (ja) | 2020-09-16 | 2020-09-16 | ガラス用エッチング液およびガラス基板製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020155033A JP7251704B2 (ja) | 2020-09-16 | 2020-09-16 | ガラス用エッチング液およびガラス基板製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019039390A Division JP6803018B2 (ja) | 2019-03-05 | 2019-03-05 | ガラス用エッチング液およびガラス基板製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020200237A true JP2020200237A (ja) | 2020-12-17 |
JP2020200237A5 JP2020200237A5 (ja) | 2022-01-28 |
JP7251704B2 JP7251704B2 (ja) | 2023-04-04 |
Family
ID=73742479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020155033A Active JP7251704B2 (ja) | 2020-09-16 | 2020-09-16 | ガラス用エッチング液およびガラス基板製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7251704B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113045209A (zh) * | 2021-03-02 | 2021-06-29 | 广东芯华微电子技术有限公司 | 一种玻璃通孔加工方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012108316A1 (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | 株式会社フジクラ | 微細孔を有する基体の製造方法、及び基体 |
JP2014084266A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン付きガラス基板の製造方法およびパターン付きマザーガラス基板の切断方法。 |
JP2016222529A (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-28 | 株式会社Nsc | ガラス基板製造方法 |
WO2017038075A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 日本板硝子株式会社 | 微細構造付きガラスの製造方法 |
JP2018518445A (ja) * | 2015-06-10 | 2018-07-12 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス基板のエッチング方法およびガラス基板 |
JP2018525313A (ja) * | 2015-08-21 | 2018-09-06 | コーニング インコーポレイテッド | 基板ウェブをバルク処理するためのシステム及び方法 |
JP2018531205A (ja) * | 2015-10-09 | 2018-10-25 | コーニング インコーポレイテッド | ビアを有するガラス系基板およびそれを形成するプロセス |
-
2020
- 2020-09-16 JP JP2020155033A patent/JP7251704B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012108316A1 (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | 株式会社フジクラ | 微細孔を有する基体の製造方法、及び基体 |
JP2014084266A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン付きガラス基板の製造方法およびパターン付きマザーガラス基板の切断方法。 |
JP2016222529A (ja) * | 2015-05-29 | 2016-12-28 | 株式会社Nsc | ガラス基板製造方法 |
JP2018518445A (ja) * | 2015-06-10 | 2018-07-12 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス基板のエッチング方法およびガラス基板 |
JP2018525313A (ja) * | 2015-08-21 | 2018-09-06 | コーニング インコーポレイテッド | 基板ウェブをバルク処理するためのシステム及び方法 |
WO2017038075A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 日本板硝子株式会社 | 微細構造付きガラスの製造方法 |
JP2018531205A (ja) * | 2015-10-09 | 2018-10-25 | コーニング インコーポレイテッド | ビアを有するガラス系基板およびそれを形成するプロセス |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113045209A (zh) * | 2021-03-02 | 2021-06-29 | 广东芯华微电子技术有限公司 | 一种玻璃通孔加工方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7251704B2 (ja) | 2023-04-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6803018B2 (ja) | ガラス用エッチング液およびガラス基板製造方法 | |
JP6734202B2 (ja) | 脆性材料をスクライブして化学エッチングする方法およびシステム | |
US4539050A (en) | Process for the manufacture of semiconductor wafers with a rear side having a gettering action | |
EP1990125B1 (en) | Glass processing method using laser | |
US20210114925A1 (en) | Crack-free glass substrate cutting and thinning method | |
TW201936309A (zh) | 複合材之斷開方法 | |
JP6911288B2 (ja) | ガラスの加工方法 | |
JP2005219960A (ja) | ガラスの切断分離方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、フラットパネルディスプレイ | |
WO2018216712A1 (ja) | 透明性薄膜付ガラスパネル製造方法、透明性薄膜付液晶パネル製造方法、ガラスパネル製造方法、および液晶パネル製造方法 | |
JP7251704B2 (ja) | ガラス用エッチング液およびガラス基板製造方法 | |
JP2014069981A (ja) | 基板加工装置及び基板加工方法 | |
JP7176695B2 (ja) | ガラス基板製造方法 | |
JP2019109411A (ja) | 液晶パネル製造方法 | |
JP6519045B2 (ja) | ガラスパネル製造方法および液晶パネル製造方法 | |
CN112105984B (zh) | 液晶面板制造方法 | |
JP2010005629A (ja) | Si基板のレーザ加工方法 | |
JP2019120738A (ja) | 液晶パネル製造方法 | |
JP6501093B1 (ja) | 透明性薄膜付ガラスパネル製造方法および透明性薄膜付液晶パネル製造方法 | |
JP6519044B2 (ja) | 液晶パネル製造方法 | |
JP6534105B2 (ja) | 液晶パネル製造方法 | |
JP2021011406A (ja) | ガラス構造体およびその製造方法 | |
JP2019159178A (ja) | 液晶パネルおよび液晶パネル製造方法 | |
JP2019078838A (ja) | 液晶パネル製造方法 | |
JP2014065647A (ja) | ガラス基板加工装置及びガラス基板加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201009 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220120 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220120 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230119 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230216 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230307 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7251704 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |