JP2016222529A - ガラス基板製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
上述の実施形態では、ガラス基板100をインターポーザとして用いる例を説明したが、ガラス基板100の用途はこれに限定されない。例えば、MEMSパッケージングやライフサイエンス向けマイクロチップデバイス等にも適用可能である。
(実施例)
前述の図1(A)に示したレーザ加工工程と図2(A)に示したエッチング工程を用いてガラス基板に10000個の貫通孔を形成して、得られた貫通孔の孔径について検討した。エッチング工程において、ガラス基板は図3(A)に示すとおり貫通孔の孔径が小さい第2の主面を上面にして設置した。
ガラス基板として、厚さ0.4mmの無アルカリガラス(旭硝子製、EN−A1)を使用した。レーザ光源には、波長9.4μmのCO2レーザを使用した。レーザ光は、焦点距離25mmの非球面レンズでガラス基板のレーザ光源側の主表面上に焦点を結ぶように照射した。ガラス基板に照射されるレーザ光の出力は60Wとした。また、レーザ光の照射時間は、360μsとした。ガラス基板をXYステージで200μmピッチで動かして、100行100列、合計10000箇所の孔加工を実施した。
次に、レーザにより貫通孔が形成されたガラス基板を、図2(A)による手法を用いてエッチングした。エッチングは、硫酸を用いて処理を行う1段階目と、フッ酸を水で希釈して処理を行う2段階目とに分け処理を実施した。エッチング方法は、搬送ローラで搬送されるガラス基板に図2(A)に示したようにガラス基板から上下20cm離した位置に設置されているスプレーノズルよりエッチング液の噴射を行った。
1段階目の処理では、75重量%の硫酸、0.5重量%のフッ酸を含む水溶液で構成されるエッチング液を、液温30℃、スプレー圧力0.07Mpa(ガラス基板上における計算上の単位面積あたりのスプレーインパクトが約0.12g/cm2 )、エッチングレート4μm/minの条件でエッチング処理を3分間行った。
2段階目の処理では、25重量%の塩酸、3重量%のフッ酸を含む水溶液で構成されるエッチング液を、液温40℃、スプレー圧力0.07Mpa、エッチングレート3μm/minの条件でエッチング処理を6分間行った。1段階目および2段階目のエッチングで合計9分間の処理を行い、30μmのエッチングを行った。
ここでエッチング量およびエッチングレートは、それぞれガラス基板厚の減少分および単位時間(分)あたりのガラス基板厚減少分で定義される値とする。
エッチング後に得られた貫通孔の第1の主面の孔径は90μm、第2の主面の孔径は65μmであった。
この時の第1の主面と第2の主面の孔径差は、25μmであった。
(参考例)
実施例と同様の方法により、ガラス基板に10000個の貫通孔を形成した貫通孔の形状について検討した。ただし、この参考例ではエッチング工程において、図4(A)で示す手法を用いた。エッチング後に得られた貫通孔の第1の主面の孔径は93μm、第2の主面の孔径は58μmであった。
この時の第1の主面と第2の主面の孔径差は、35μmであった。
上記結果より、実施例は比較例より第1の主面と第2の主面の孔径差が小さくなっている事が分かる。すなわち、実施例では、テーパ状に形成された貫通孔を、より円柱に近い貫通孔に形成することが可能であると言える。従って、実施例のような加工法を用いると、第1の主面と第2の主面の孔径差が少ない貫通孔を簡易に形成可能であり、インターポーザ用の貫通孔形成法として適していると言える。
12−第2の主面
14−貫通孔
20−レーザ装置
22−スプレーノズル
100−ガラス基板
Claims (6)
- 複数の貫通孔を備えるガラス基板を製造するためのガラス基板製造方法であって、
第1の主面と前記第1の主面と対向する第2の主面を有するガラス基板の前記第1の主面側から、レーザを照射することによって、前記ガラス基板に貫通孔を形成するレーザ加工工程と、
前記ガラス基板の、前記第2の主面側のみから、前記ガラス基板に形成された貫通孔に向かってエッチング液を噴射するエッチング工程と、
を含むことを特徴とするガラス基板製造方法。 - 複数の貫通孔を備えるガラス基板を製造するためのガラス基板製造方法であって、
第1の主面と前記第1の主面と対向する第2の主面を有するガラス基板の前記第1の主面側から、レーザを照射することによって、前記ガラス基板に貫通孔を形成するレーザ加工工程と、
前記ガラス基板の前記第1の主面側および前記第2の主面側から、前記ガラス基板に形成された貫通孔に向かってエッチング液を噴射するエッチング工程と、
を含むことを特徴とするガラス基板製造方法。 - 前記エッチング工程において、前記第2の主面が上側になるように前記ガラス基板を配置する請求項1に記載のガラス基板製造方法。
- 前記エッチング工程において、前記第2の主面側から噴射するエッチング液の噴射圧力が、前記第1の主面側から噴射するエッチング液の噴射圧力よりも、高い請求項2に記載のガラス基板製造方法。
- 前記エッチング工程において、前記第2の主面側からエッチング液を噴射する時間が、前記第1の主面側からエッチング液を噴射する時間よりも長い請求項2に記載のガラス基板製造方法。
- 前記エッチング工程において、搬送ローラによってガラス基板を保持する請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のガラス基板製造方法。
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