JP2020200237A5 - - Google Patents

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  1. ガラスにおけるレーザ光が照射されることによってエッチングされやすいように改質された改質部であってエッチング液に接触することによって溶解する改質部異方性エッチングするためのガラス用エッチング液であって、
    フッ酸と、
    ガラスに対するエッチング速度を低下させるエッチング阻害物質であって、水酸化アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムを含むアルカリまたは酸化チタン、塩化アルミニウム、ホウ酸、二酸化珪素を含むフッ素錯化剤のいずれか一方を少なくとも含有するエッチング阻害物質と、
    を少なくとも含むガラス用エッチング液。
  2. 請求項1に記載のガラス用エッチング液を用いたガラス基板製造方法であって、
    ガラス基板のエッチング予定位置における厚み方向にわたってエネルギ密度が相対的に高い焦線が形成されるようにレーザ光を前記ガラス基板に照射することによって前記エッチング予定位置を改質する改質ステップと、
    前記改質ステップ後に、前記ガラス用エッチング液を用いて前記エッチング予定位置をエッチングする第1のエッチングステップと、
    を少なくとも含むガラス基板製造方法。
  3. 前記第1のエッチングステップの後に、少なくともフッ酸を含むエッチング液によって前記エッチング予定位置をエッチングする第2のエッチングステップをさらに含むことを特徴とする請求項2に記載のガラス基板製造方法。
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EP2656961A1 (en) * 2011-02-08 2013-10-30 Fujikura Ltd. Method for manufacturing substrate having micropore, and substrate
JP2014084266A (ja) * 2012-10-26 2014-05-12 Dainippon Printing Co Ltd パターン付きガラス基板の製造方法およびパターン付きマザーガラス基板の切断方法。
US20160347643A1 (en) * 2015-05-29 2016-12-01 Asahi Glass Company, Limited Glass substrate manufacturing method
TW201704177A (zh) * 2015-06-10 2017-02-01 康寧公司 蝕刻玻璃基板的方法及玻璃基板
US20190010084A1 (en) * 2015-08-21 2019-01-10 Corning Incorporated Systems and Methods for Bulk Processing Substrate Webs
JPWO2017038075A1 (ja) * 2015-08-31 2018-06-14 日本板硝子株式会社 微細構造付きガラスの製造方法
US20170103249A1 (en) * 2015-10-09 2017-04-13 Corning Incorporated Glass-based substrate with vias and process of forming the same

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