JP2020172701A - ブラックプレート又はブリキの表面を不動態化するための方法及びその方法を実施するための電解システム - Google Patents
ブラックプレート又はブリキの表面を不動態化するための方法及びその方法を実施するための電解システム Download PDFInfo
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Abstract
Description
(1)クロム(Cr) Cr6++3e−⇔Cr3++1.33V
(2)酸素(O) O2+4H++4e−⇔2H2O+1.23V
Claims (20)
- 表面上に酸化クロム含有不動態化層を電析させることによってブラックプレート又はブリキの表面を不動態化するための方法であって、前記クロム含有不動態化層の電析が、三価のクロム化合物、導電性を向上させる少なくとも1種の塩、及び所望のpH値に調整するための少なくとも1種の酸又は塩基を含む電解液(E)から生じる方法において、前記電解液(E)は、前記三価のクロム化合物、前記少なくとも1種の塩、及び前記少なくとも1種の酸又は塩基以外の追加成分を含まず、有機錯化剤を含まず、かつ緩衝剤を含まないことを特徴とする、方法。
- 前記不動態化層は、少なくとも本質的に酸化クロム及び/又は水酸化クロムから成ることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記不動態化層は、90%超の酸化クロム及び/又は水酸化クロムの重量割合を有することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記不動態化層の電析のための前記ブラックプレート又はブリキを、カソードとして接続し、電解時間の間、前記電解液(E)と接触させ、前記電解時間は0.1〜2.0秒の範囲、好ましくは1.0〜1.5秒の範囲であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記不動態化層の電析のための前記ブラックプレート又はブリキを、所定のシート速度(v)で、少なくとも1つの電解槽(1)又はシート移動方向に前後に配置されている複数の電解槽(1a、1b、1c)を通過させ、前記シート速度(v)は少なくとも100m/分であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記電解液(E)の温度は、対応する電解槽(1;1a、1b、1c)の体積全体にわたる平均温度で、20℃〜65℃の範囲、好ましくは30℃〜55℃の範囲、特に35℃〜45℃であることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 前記ブラックプレート又はブリキが前記電解液(E)と効果的に電解的に接触する前記電解時間(t)は、各電解槽(1、1a〜1c)において1.0秒未満であり、前記ブラックプレート又はブリキが全電解槽(1;1a〜1c)において前記電解液(E)と効果的に電解的に接触する全電解時間(tG)は、0.5秒〜2.0秒の間であり、特に1.0秒〜1.8秒の間であることを特徴とする、請求項5又は6に記載の方法。
- 前記三価のクロム化合物は、塩基性硫酸Cr(III)(Cr2(SO4)3)、硝酸Cr(III)(Cr(NO3)3)、シュウ酸Cr(III)(CrC2O4)、酢酸Cr(III)(C12H36ClCr3O22)、ギ酸Cr(III)(Cr(OOCH)3)又はそれらの混合物の群から選択され、前記電解液の前記塩は少なくとも1種のアルカリ金属硫酸塩、特に硫酸カリウム又は硫酸ナトリウムであることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- 前記電解液は、2.3〜5.0の範囲、好ましくは2.5〜2.9の範囲のpH値(20℃の温度で測定される)を有し、前記pH値は、少なくとも1種の酸を前記電解液に添加することにより調整されることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記電解液における三価のクロム化合物の濃度は、少なくとも10g/Lであることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
- 前記電解液から形成される前記不動態化層は、少なくとも3mg/m2の酸化クロム及び/又は水酸化クロムの総コーティング重量を有することを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
- 前記不動態化層の電析中に適切なアノードを使用することにより、前記電解液の前記三価のクロム化合物のクロム(III)の、クロム(VI)への酸化が防止されることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法。
- 前記アノードは、ステンレス鋼及び白金を含まないことを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- 前記アノードは、金属酸化物の、特に酸化イリジウムの、もしくは混合酸化金属の、外側表面もしくはコーティングを含むか、又は前記アノードはこれらの材料のうち1つから成ることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- 前記電解液を製造するために、不可避的不純物を除いて有機残留物が除去された前記三価のクロム化合物、前記少なくとも1種の塩、及び前記所望のpH値に調整するための少なくとも1種の酸又は塩基を水に溶解し、こうして得られた前記溶液を少なくとも5日間、好ましくは7日間、錯化のために静置し、その後、前記pH値の微調整が、酸又は塩基の添加によって実施される、請求項1〜14のいずれか1項に記載の方法。
- 表面上に、酸化クロム含有不動態化層を析出させることによって、ブラックプレート又はブリキの表面を電解的に不動態化するための電解システムであって、前記電解システムは、
−電解液(E)で満たされた少なくとも1つの電解槽(1)又はそれぞれが同じ電解液で満たされ、前後に配置されている複数の電解槽(1a、1b、1c)を含み、
−前記電解液(E)が、三価のクロム化合物、導電性を向上させる少なくとも1種の塩、及び所望のpH値に調整するための少なくとも1種の酸又は塩基以外の他の成分を含まず、有機成分を特に含まず、かつ錯化剤を特に含まず、
−前記不動態化層の電析のために、前記ブラックプレート又はブリキを、所定のシート速度(v)で、シード移動方向に、前記少なくとも1つの電解槽(1)又は前記複数の電解槽(1a、1b、1c)を連続的に通過させ、それにより、前記表面は、前記電解液(E)と電解的に効果的に接触し、少なくとも本質的に酸化クロム及び/又は水酸化クロムのみから成る不動態化層が前記表面上に析出する、電解システム。 - 金属酸化物、特に酸化イリジウム、又は、混合金属酸化物、特にイリジウム−タンタル酸化物、の外側表面又はコーティングを有するアノード(2)が、前記電解槽(1;1a、1b、1c)内に配置されていることを特徴とする、請求項15に記載の電解システム。
- 酸化クロムを含有する不働態化層の電析によって不働態化された表面を有するブラックプレート又はブリキであって、前記不動態化層は、少なくとも本質的に酸化クロム及び/又は水酸化クロムのみから成り、90%超の酸化クロム及び/又は水酸化クロムの重量割合を有することを特徴とする、ブラックプレート又はブリキ。
- 前記不動態化層は、少なくとも、前記ブラックプレート又はブリキの表面に面する第1の層と、前記不動態化されたブラックプレート又はブリキの表面を形成する第2の層とから成り、前記第1の層は金属クロムを含み、第2の層は純粋な酸化クロム及び/又は水酸化クロムから成る、請求項18に記載のブラックプレート又はブリキ。
- 前記不動態化層は、少なくとも3mg/m2の酸化クロム及び/又は水酸化クロムの総コーティング重量を有する、請求項18又は19に記載のブラックプレート又はブリキ。
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