JP2020170741A - ウェーハの分割方法 - Google Patents
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Abstract
Description
次に、円形状のダイシングテープTの粘着面をリングフレームFとウェーハWの裏面2bとに貼着して、リングフレームFの開口を塞ぎ、ダイシングテープTを介してウェーハWがリングフレームFに支持されたワークセットWSが形成される。
このワークセットWSでは、ウェーハWの表面2aが露出されている。
この工程では、ワークセットWSのウェーハWを、分割予定ライン3に沿って分割することによって、デバイスを含む複数のチップを形成する。
この工程では、図3に示すように、ウェーハWを含むワークセットWSが、第1チャックテーブル31および切削部33を備えた切削装置30に設置される。
第1チャックテーブル31は、図示しない吸引源に連通可能な、ポーラス材等からなる第1保持面32を備えている。
そして、切削工程では、第1スピンドル34が矢印B方向に回転しながら、切削部33が降下する。さらに、ウェーハWを保持している第1チャックテーブル31が、水平面内で第1スピンドル34の回転軸と直交する方向に移動する。
この工程では、複数のチップC1の表面2aを、研磨パッドによって研磨することによって、表面2aから加工屑を除去する。
そのため、研磨プレート45と研磨パッド46との中心を貫通する貫通孔が形成されていて、スラリー供給路44aを通ったスラリーは、貫通孔を通って、チップC1の表面2aと研磨パッド46との間に供給される。
なお、スラリーの供給では、スラリーは、第2スピンドル44内を通過させなくてもよい。研磨加工中の研磨パッド46がウェーハWの面積より小さい面積の場合、または、研磨パッド46がウェーハWの表面2a全面を覆っていない場合には、研磨パッド46で覆われていないため、露出したウェーハWの表面2aにスラリーが供給されてもよい。
また、研磨パッド46をウェーハWの表面2aに接触させウェーハWの表面2aからはみ出している場合、研磨パッド46の研磨面に向かってスラリーが供給されてもよい。
また、供給されたスラリーがウェーハWの外周とリングフレームの内周との間のダイシングテープTの上に滞留され、研磨面に滞留されたスラリーが供給されるようにしてもよい。
この工程では、チップC1の表面2a側に洗浄水を供給することによって、チップC1を洗浄する。
また、この洗浄工程では、ウェーハWの表面に洗浄部材を接触させて洗浄しても良い。
洗浄部材として、ブラシ、またはソフラススポンジを用いる。洗浄部材を接触させることで、ウェーハWの表面2aに付着したスラリーを除去する時間が短縮される。また、洗浄時にダイシングテープTからチップC1が剥がれるチップ飛びを防止することができる。
なお、ブラシとしては、スクラブブラシが用いられると良い。
W:ウェーハ、2a:表面、2b:裏面、3:分割予定ライン、4:デバイス、
C1:チップ、
30:切削装置、40:研磨装置、50:スピンナ洗浄装置
Claims (1)
- 分割予定ラインによって区画された表面の各領域にデバイスが形成されているウェーハを、該分割予定ラインに沿って分割するウェーハの分割方法であって、
裏面にダイシングテープが貼着され、該ダイシングテープを介してチャックテーブルによって保持された該ウェーハを、該分割予定ラインに沿って分割することによって、該デバイスを含む複数のチップを形成する分割工程と、
該分割工程の後、複数の該チップの表面を研磨パッドによって研磨することによって、加工屑を除去する研磨工程と、
該研磨工程の後、該チップの該表面側に洗浄水を供給することによって、該チップを洗浄する洗浄工程と、
を含むウェーハの分割方法。
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