JP2020155689A - ダイシングテープ - Google Patents
ダイシングテープ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020155689A JP2020155689A JP2019054576A JP2019054576A JP2020155689A JP 2020155689 A JP2020155689 A JP 2020155689A JP 2019054576 A JP2019054576 A JP 2019054576A JP 2019054576 A JP2019054576 A JP 2019054576A JP 2020155689 A JP2020155689 A JP 2020155689A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive layer
- pressure
- sensitive adhesive
- dicing tape
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
- C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
- C09J7/24—Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C09J7/241—Polyolefin, e.g.rubber
- C09J7/243—Ethylene or propylene polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
- C09J2203/326—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2423/00—Presence of polyolefin
- C09J2423/04—Presence of homo or copolymers of ethene
- C09J2423/046—Presence of homo or copolymers of ethene in the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2433/00—Presence of (meth)acrylic polymer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2467/00—Presence of polyester
- C09J2467/005—Presence of polyester in the release coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
- C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68327—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
Description
1つの実施形態においては、上記粘着剤層を形成する組成物は、重量平均分子量5000以上の添加剤を含む。
1つの実施形態においては、上記添加剤の含有量は、粘着剤のベースポリマー100重量部に対して5重量部〜100重量部である。
1つの実施形態においては、本発明のダイシングテープは、凹凸面を有する被着体に貼り合わせて用いられる。
1つの実施形態においては、上記凹凸面を有する被着体はTSVウエハである。
図1は、本発明の1つの実施形態によるダイシングテープの概略断面図である。図示例のダイシングテープ100は、基材10と、基材10の一方の面に配置された粘着剤層20とを備える。粘着剤層は、代表的には、活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物で形成される。実用的には、使用までの間、粘着剤層20を適切に保護するために、粘着剤層20にはセパレータが剥離可能に仮着される。また、ダイシングテープ100は、任意の適切な他の層をさらに含んでいてもよい。好ましくは、粘着剤層は、基材に直接配置される。
上記基材10は、任意の適切な樹脂から構成され得る。該樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリブテン系樹脂、ポリメチルペンテン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂、セルロース系樹脂、アイオノマー樹脂等が挙げられる。好ましくはポリオレフィン系樹脂である。
粘着剤層20は、粘着剤層を形成する組成物(粘着剤組成物)を用いて形成される。上記の通り、粘着剤層のイソプロピルアルコール溶出物は5mg以下である。粘着剤層のイソプロピルアルコール溶出物が5mg以下であることにより、溶剤洗浄工程を含む半導体ウエハの製造工程に用いられる場合であっても、ウエハを適切に保持し、粘着剤のウエハ汚染による歩留りの低下を防止し得るダイシングテープを提供することができる。
粘着剤層組成物(粘着剤)としては、任意の適切な粘着剤が用いられる。例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等が挙げられる。
粘着剤組成物は、粘着性を示すベースポリマーを含み得る。ベースポリマーを構成するモノマーとしては、例えば、親水性モノマーが挙げられる。親水性モノマーとしては、極性基を有する任意の適切なモノマーを用いることができる。具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のカルボキシル基含有モノマー;無水マレイン酸、無水イコタン酸等の酸無水物モノマー;(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8−ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10−ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12−ヒドロキシラウリル、(4−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)メチルメタクリレート等のヒドロキシル基含有モノマー;スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等のスルホン酸基含有モノマー;2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等のリン酸基含有モノマー;(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−メチロールプロパン(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(N−置換)アミド系モノマー;(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸t−ブチルアミノエチル等の(メタ)アクリル酸アミノアルキル系モノマー;(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー;N−シクロヘキシルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド、N−ラウリルマレイミド、N−フェニルマレイミド等のマレイミド系モノマー;N−メチルイタコンイミド、N−エチルイタコンイミド、N−ブチルイタコンイミド、N−オクチルイタコンイミド、N−2−エチルヘキシルイタコンイミド、N−シクロヘキシルイタコンイミド、N−ラウリルイタコンイミド等のイタコンイミド系モノマー;N−(メタ)アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、N−(メタ)アクロイル−6−オキシヘキサメチレンスクシンイミド、N−(メタ)アクリロイル−8−オキシオクタメチレンスクシンイミド等のスクシンイミド系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、N−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、N−ビニルカルボン酸アミド類、スチレン、α−メチルスチレン、N−ビニルカプロラクタム等のビニル系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアノアクリレートモノマー;(メタ)アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有アクリル系モノマー;(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ポリプロピレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシエチレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系アクリルエステルモノマー;(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素(メタ)アクリレート、シリコン(メタ)アクリレート等の複素環、ハロゲン原子、ケイ素原子等を有するアクリル酸エステル系モノマー;ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシアクリート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等の多官能モノマーが挙げられる。親水性モノマーとしては、ヒドロキシル基含有モノマーおよび/または(N−置換)アミド系モノマーを好適に用いることができる。親水性モノマーは1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合せて用いてもよい。
粘着剤組成物は、重量平均分子量が5000以上である添加剤を含むことが好ましい。このような添加剤を含むことにより、粘着剤層のイソプロピルアルコール溶出物の量を低減することができる。また、被着体が凹凸面を有する場合(例えば、TSVウエハ)であっても凹部にも粘着剤層が密着し、被着体を十分に保持することができる。添加剤の重量平均分子量は、好ましくは7000以上であり、より好ましくは8000以上であり、さらに好ましくは10000以上である。また、添加剤の重量平均分子量は、好ましくは70000以下であり、さらに好ましくは50000以下である。添加剤の重量平均分子量は、例えば、GPC(溶媒:THF)により測定することができる。
活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、代表的には重合開始剤を含む。重合開始剤としては、任意の適切な開始剤を用いることができ、好ましくは光重合開始剤が用いられる。光重合開始剤としては、任意の適切な開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、α−ヒドロキシ−α,α’−ジメチルアセトフェノン、2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のα−ケトール系化合物;メトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)−フェニル]−2−モルホリノプロパン−1等のアセトフェノン系化合物;ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物;ベンジルジメチルケタール等のケタール系化合物;2−ナフタレンスルホニルクロリド等の芳香族スルホニルクロリド系化合物;1−フェノン−1,1―プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム等の光活性オキシム系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;チオキサンソン、2−クロロチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、2,4−ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、2,4−ジクロロチオキサンソン、2,4−ジエチルチオキサンソン、2,4−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物;カンファーキノン;ハロゲン化ケトン;アシルホスフィノキシド;アシルホスフォナート等が挙げられる。光重合開始剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。光重合開始剤の使用量は、任意の適切な量に設定され得る。光重合開始剤の使用量は、ベースポリマー100重量部に対して好ましくは1重量部〜10重量部であり、より好ましくは3重量部〜7重量部である。
活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、好ましくは架橋剤をさらに含む。架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、アミン系架橋剤等が挙げられる。
1つの実施形態においては、粘着剤層は単層で構成される。粘着剤層が単層構成の場合、上記粘着剤層の22℃における引っ張り弾性率は、好ましくは0.05MPa〜1MPaであり、より好ましくは0.1MPa〜0.8MPaであり、さらに好ましくは0.15MPa〜0.6MPaである。このような範囲であれば、十分な強度を有する粘着剤層を形成でき、かつ、粘着剤層と基材とが良好に密着して、基材と粘着剤層との界面近傍における空隙の発生を抑制することができる。特に、粘着剤層側の面にエンボス処理が施された基材を用いる場合、通常であれば空隙が生じやすくなる。粘着剤層の引っ張り弾性率を上記範囲とすることにより、空隙の発生を抑制することができる。引っ張り弾性率が1MPaを超えると、基材のエンボス面に粘着剤層を積層する際、粘着剤層が基材の凹凸に追従しないおそれがある。また、引っ張り弾性率が0.05MPaより小さい場合、粘着剤層が定形を保たず、また、十分な特性を有さなくなるおそれがある。なお、上記のとおり、粘着剤層が活性エネルギー線硬化型粘着剤により構成される場合、活性エネルギー線照射前の22℃における引っ張り弾性率が当該範囲であることが好ましい。粘着剤層の引っ張り弾性率の測定方法は、後述する。
別の実施形態においては、上記粘着剤層は、2層で構成される。以下、便宜上、基材側の粘着剤層を第1の粘着剤層とし、基材と反対側の粘着剤層を第2の粘着剤層とする。第1の粘着剤層と第2の粘着剤層とは、引っ張り弾性率の相違により区別され得る。第1の粘着剤層は、第2の粘着剤層よりも低弾性であることが好ましい。低弾性である第1の粘着剤層を基材側とすることにより、粘着剤層と基材とが良好に密着して、基材と粘着剤層との界面近傍における空隙の発生を抑制することができる。また、高弾性である第2の粘着剤層を備えることにより、高精度なダイシングに寄与し得るダイシングテープとして用いることができる。
上記ダイシングテープは、任意の適切な方法により製造され得る。ダイシングテープは、例えば、基材上に、上記粘着剤を塗工して得られ得る。塗工方法としては、バーコーター塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷など種々の方法を採用することができる。また、別途、セパレータに粘着剤層を形成した後、それを基材に貼り合せる方法等を採用してもよい。
アクリル酸2−メトキシエチル100重量部、アクロイルモルホリン27重量部、アクリル酸2−ヒドロキシエチル22重量部を混合して、モノマー液1を調製した。次いで、窒素導入管、温度計、撹拌機を備えた反応容器に窒素を導入し、窒素雰囲気下で、酢酸エチル500重量部、モノマー液1、および、アゾイソブチルニトリル(AIBN)0.2重量部を仕込み、60℃で24時間撹拌した。その後、室温まで冷却して、アクリル系共重合体(重量平均分子量:60万)を含有するアクリル系共重合体溶液を得た。得られたアクリル系共重合体溶液に、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート24重量部を添加し反応させて、共重合体中のアクリル酸2−ヒドロキシエチルの側鎖末端OH基にNCO基を付加し、末端に炭素−炭素二重結合を有する重量平均分子量80万のアクリル系共重合体溶液1(ポリマー)を得た。
(第1の粘着剤層形成組成物の調製)
製造例1で得られたアクリル系重合体溶液100重量部に架橋剤(東ソー社製、商品名:コロネートL)0.025重量部、光重合開始剤(BASF社製、商品名:イルガキュア184)7重量部、および、希釈溶剤(酢酸エチル)を配合・撹拌し粘着剤組成物を得た。
(第2の粘着剤層形成組成物の調製)
製造例1で得られたアクリル系重合体溶液100重量部に光重合開始剤(チバ・ジャパン社製、商品名:イルガキュア184)7重量部、表1に記載の添加量の架橋剤(東ソー社製、商品名:コロネートL)および添加剤、ならびに、希釈溶剤(酢酸エチル)を配合・撹拌し粘着剤組成物を得た。
(基材の作製)
高圧ポリエチレン(PE)(住友化学(株)製、商品名:スミカセンF213−P)を押し出し機に投入し、Tダイ溶融共押し出し(押し出し機:ジー・エム・エンジニアリング社製、商品名:GM30−28/Tダイ:フィードブロック方式;押出温度240℃)を行い、次いで、フィルムの片面に表面粗さRa:1.42μmのエンボス処理を行い、厚みが100μmのフィルムを得た。なお、層の厚みは、Tダイ出口の形状により制御した。得られたフィルムのエンボス面に対してコロナ処理を行った。なお、エンボス面の表面粗さRaは株式会社キーエンス社製、商品名:VK−X150で測定した。
(セパレータの作製)
ポリエチレンテレフタレート系(PET)フィルム(三菱樹脂社製、商品名:MRF38、厚み:38μm)の一方の面にシリコーン処理したものをセパレータとして用いた。
(ダイシングテープの作製)
上記セパレータのシリコーン処理面に、第1の粘着剤層形成組成物を塗布し、その後、120℃で2分間加熱して、厚み10μmの第1の粘着剤層を形成した。
別途、上記セパレータのシリコーン処理面に、第2の粘着剤層形成組成物を塗布し、その後、120℃で2分間加熱して、表1に記載の厚みの粘着剤層を形成した。
ハンドローラーを用いて、基材に第1の粘着剤層を転写し、さらに、第1の粘着剤層に第2の粘着剤層を転写した後、50℃で48時間エージング処理してダイシングテープを得た。粘着剤層は、基材のエンボス処理面上に積層した。
表1に記載の添加剤を用いたこと、および、表1に記載の含有量で架橋剤および添加剤を用いたこと以外は実施例と同様にしてダイシングテープを得た。
(1)イソプロピルアルコール溶出物の測定
内径75mmのSUSリング(内径:44.2cm2)をダイシングテープの粘着剤層に貼り合わせ、SUSリングの内側にイソプロピルアルコール4mlを添加し、30分間静置した。その後、予め重量を測定したガラス瓶にイソプロピルアルコールを回収した。次いで、このガラス瓶を130℃で3時間加熱した後、180℃で1時間乾燥させ、ガラス瓶の重量を測定した。加熱前(イソプロピルアルコール回収前)のガラス瓶の重量から加熱後のガラス瓶の重量を引いた値を溶出物の重量とした。
バックグラインドテープ貼り機(日東精機社製、製品名:R−3000III)を用いて、ダイシングテープの搬送速度10mm/sec、貼着時の加圧0.20MPaの条件下、半導体ウエハ(高さ5μm/間隔30μmのバンプが形成された4インチのシリコンミラーウエハ)に、ダイシングテープを貼着した。貼着後、ダイシングテープ付き半導体ウエハを22℃の環境下におき、光学顕微鏡(250倍)で、バンプ−バンプ間のスペースにダイシングテープが貼着しているか否かにより、段差追従性を評価した。表1中、該スペースにダイシングテープが貼着している場合を○、貼着していない場合を×とする。
20 粘着剤層
100 ダイシングテープ
Claims (5)
- 基材と、該基材の片側に配置された粘着剤層とを備え、
溶剤洗浄工程を含む半導体ウエハの製造方法に用いられるダイシングテープであって、
該粘着剤層のイソプロピルアルコール溶出物が5mg以下である、ダイシングテープ。 - 前記粘着剤層を形成する組成物が、重量平均分子量5000以上の添加剤を含む、請求項1に記載のダイシングテープ。
- 前記添加剤の含有量が、粘着剤層を形成する組成物のベースポリマー100重量部に対して5重量部〜100重量部である、請求項2に記載のダイシングテープ。
- 凹凸面を有する被着体に貼り合わせて用いられる、請求項1から3のいずれかに記載のダイシングテープ。
- 前記凹凸面を有する被着体がTSVウエハである、請求項1から4のいずれかに記載のダイシングテープ。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019054576A JP7324023B2 (ja) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | ダイシングテープ |
TW109106736A TWI837315B (zh) | 2019-03-22 | 2020-03-02 | 切割帶 |
KR1020200033004A KR20200112705A (ko) | 2019-03-22 | 2020-03-18 | 다이싱 테이프 |
CN202010211027.0A CN111725122A (zh) | 2019-03-22 | 2020-03-20 | 切割带 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019054576A JP7324023B2 (ja) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | ダイシングテープ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020155689A true JP2020155689A (ja) | 2020-09-24 |
JP7324023B2 JP7324023B2 (ja) | 2023-08-09 |
Family
ID=72559791
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019054576A Active JP7324023B2 (ja) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | ダイシングテープ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7324023B2 (ja) |
KR (1) | KR20200112705A (ja) |
CN (1) | CN111725122A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102521063B1 (ko) * | 2021-03-25 | 2023-04-13 | 율촌화학 주식회사 | 내용제성이 우수한 다이싱 테이프 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006120850A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | Anritsu Corp | 半導体チップの製造方法 |
JP2007277282A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Nitto Denko Corp | 半導体ウエハ加工用粘着シート |
WO2015133420A1 (ja) * | 2014-03-03 | 2015-09-11 | リンテック株式会社 | 半導体関連部材加工用シートおよび当該シートを用いるチップの製造方法 |
JP2018115333A (ja) * | 2018-03-20 | 2018-07-26 | リンテック株式会社 | 粘着テープおよび半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003007646A (ja) | 2001-06-18 | 2003-01-10 | Nitto Denko Corp | ダイシング用粘着シートおよび切断片の製造方法 |
JP5901422B2 (ja) * | 2012-05-15 | 2016-04-13 | 古河電気工業株式会社 | 半導体ウェハのダイシング方法およびこれに用いる半導体加工用ダイシングテープ |
JP2014037458A (ja) | 2012-08-13 | 2014-02-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 接着剤組成物、接着フィルムおよび貼付方法 |
JP5607847B1 (ja) * | 2013-11-29 | 2014-10-15 | 古河電気工業株式会社 | 半導体加工用粘着テープ |
KR101676025B1 (ko) * | 2016-06-30 | 2016-11-15 | (주) 화인테크놀리지 | 반도체 웨이퍼의 하프커팅 후 이면 연삭 가공용 자외선 경화형 점착시트 |
-
2019
- 2019-03-22 JP JP2019054576A patent/JP7324023B2/ja active Active
-
2020
- 2020-03-18 KR KR1020200033004A patent/KR20200112705A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-03-20 CN CN202010211027.0A patent/CN111725122A/zh active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006120850A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | Anritsu Corp | 半導体チップの製造方法 |
JP2007277282A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Nitto Denko Corp | 半導体ウエハ加工用粘着シート |
WO2015133420A1 (ja) * | 2014-03-03 | 2015-09-11 | リンテック株式会社 | 半導体関連部材加工用シートおよび当該シートを用いるチップの製造方法 |
JP2018115333A (ja) * | 2018-03-20 | 2018-07-26 | リンテック株式会社 | 粘着テープおよび半導体装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200112705A (ko) | 2020-10-05 |
JP7324023B2 (ja) | 2023-08-09 |
CN111725122A (zh) | 2020-09-29 |
TW202039745A (zh) | 2020-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1464688B1 (en) | Heat-peelable double-faced pressure-sensitive adhesive sheet, method for adhering processed material onto said sheet, and electronic part | |
JP4970863B2 (ja) | 被加工物の加工方法 | |
JP4721834B2 (ja) | 粘着シート及びこの粘着シートを用いた製品の加工方法 | |
JP4369584B2 (ja) | 半導体ウエハ保持保護用粘着シート | |
US20090065133A1 (en) | Pressure-sensitive adhesive sheet for dicing and dicing method | |
US20140044957A1 (en) | Production method for electronic component and pressure-sensitive adhesive sheet to be used in the production method | |
KR102136424B1 (ko) | 가열 박리형 점착 시트 | |
US20080038551A1 (en) | Warpage-inhibitive pressure-sensitive adhesive sheets for wafer grinding | |
JP2008060151A (ja) | 半導体ウエハ裏面加工方法、基板裏面加工方法、及び放射線硬化型粘着シート | |
JP2007070432A (ja) | 粘着シート及びこの粘着シートを用いた製品の加工方法 | |
JP2011054939A (ja) | 半導体ウェハ保持保護用粘着シート及び半導体ウェハの裏面研削方法 | |
JP2007246848A (ja) | 両面粘着シート及びその使用方法 | |
JP5406110B2 (ja) | 半導体ウエハ加工用粘着シート | |
JP4367769B2 (ja) | 半導体ウエハ保持保護用粘着シートおよび半導体ウエハの裏面研削方法 | |
JP2010209158A (ja) | 粘着シート及びそれを用いた半導体ウェハの加工方法 | |
JP7324023B2 (ja) | ダイシングテープ | |
JP2006294742A (ja) | 被着体の加工方法、該方法により得られる電子素子、及び該方法に用いる両面粘着シート | |
KR102647149B1 (ko) | 백그라인드 테이프 | |
JP7141924B2 (ja) | ダイシングテープ | |
JP2017005072A (ja) | 半導体ウエハ保護用粘着シート | |
TWI837315B (zh) | 切割帶 | |
WO2022270008A1 (ja) | 半導体素子加工用粘着シート | |
JP2021138863A (ja) | 粘着テープ | |
TW202239899A (zh) | 工件加工用片、切割黏晶片、以及內面保護膜形成用複合片、以及工件加工物之製造方法 | |
CN112521878A (zh) | 粘合带 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220913 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220915 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20221111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230418 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230427 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230725 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230728 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7324023 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |