JP2020136320A - 窒化物半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
3:基板
4:ドリフト層
5、5a、5b:ボディ領域
6、6a、6b:ソース領域
7、7a:JFET領域
8:ゲート電極
9:ソース電極
10、10a、10b、10c:半導体装置
12:ゲート絶縁膜
13、13a、13b:高濃度領域
Claims (7)
- n型のドリフト層と、
前記ドリフト層の上に設けられているp型の一対のボディ領域と、
前記ドリフト層の上であって前記一対のボディ領域の間に設けられているn型のJFET領域と、
絶縁膜を挟んで前記一対のボディ領域と前記JFET領域に対向しているゲート電極と、
を備えており、前記JFET領域の中に、酸素が含まれているとともに当該JFET領域よりもn型の不純物濃度が高い高濃度領域が設けられている、窒化物半導体装置。 - 前記高濃度領域は、前記絶縁膜と前記ボディ領域の近傍に設けられている、請求項1に記載の窒化物半導体装置。
- 前記一対のボディ領域の並び方向で前記JFET領域の中央よりも一方の前記ボディ領域寄りの位置と、前記中央よりも他方の前記ボディ領域寄りの位置の2箇所に前記高濃度領域が設けられている、請求項1または2に記載の窒化物半導体装置。
- 前記高濃度領域は、(10−11)面と(11−22)面のいずれか一方の結晶面を有している、請求項1から3のいずれか1項に記載の窒化物半導体装置。
- 前記高濃度領域は、前記並び方向を含む平面でカットした断面において、前記ドリフト層の側から前記ゲート電極の側へ向けて幅が広くなっている、請求項1から4のいずれか1項に記載の窒化物半導体装置。
- 前記ボディ領域の前記JFET領域との界面の面方位がa面とm面のいずれかである、請求項1から5のいずれか1項に記載の窒化物半導体装置。
- 前記JFET領域の前記高濃度領域以外の部位におけるn型の濃度が前記ドリフト層のn型の濃度よりも低い、請求項1から6のいずれか1項に記載の窒化物半導体装置。
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2019
- 2019-02-13 JP JP2019023826A patent/JP7216564B2/ja active Active
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CN113707722B (zh) * | 2021-10-26 | 2022-02-18 | 北京世纪金光半导体有限公司 | 基于自对准的半导体器件及其制作方法 |
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