JP2020107761A - Laminated substrate manufacturing apparatus, laminated substrate manufacturing line, and laminated substrate manufacturing method - Google Patents

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Abstract

To provide a laminated substrate manufacturing apparatus capable of efficiently feeding and removing workpieces and laminating workpieces while suppressing variations in quality.SOLUTION: A laminated substrate manufacturing apparatus includes a pallet transfer unit 100 that intermittently transfers a pallet P on which a workpiece W is placed, and the pallet transfer unit 100 is arranged such that a laminating area R1 in which a heating head 320 is arranged and an area R2 in which the pallet transfer unit 100 is arranged overlap each other. A lower edge portion 312 of a lamination unit 300 descends toward the positioned pallet P, and the lower edge portion 312 contacts the pallet P to form a temporary chamber CH. The workpiece W is laminated by pressing the heating surface 326 toward the workpiece W while the chamber CH is evacuated while the workpiece W is mounted on the pallet P.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、ラミネート基板製造装置、ラミネート基板製造ライン及びラミネート基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a laminated substrate manufacturing apparatus, a laminated substrate manufacturing line, and a laminated substrate manufacturing method.

従来、複数の個片(貼付け部材)が接着剤を介して基板(被貼付け部材)に貼り付けられた積層部品が知られている。
この積層部品は、複数の個片が基板(特許文献1の場合のように基板が他の個片である場合を含む)に仮圧着された状態のものを「ワーク」として、当該ワークを加熱しながら積層方向に圧力を掛ける(加圧する)ことにより得ることができる。
なお本明細書において、このようにワークを加熱・加圧することを「ラミネート(本圧着)」というものとし、このようにして得られる積層部品を「ラミネート基板」というものとし、このようにしてラミネート基板を得る装置を「ラミネート基板製造装置」というものとする。
Conventionally, there is known a laminated component in which a plurality of individual pieces (sticking members) are stuck to a substrate (sticking member) via an adhesive.
In this laminated component, a plurality of pieces are temporarily press-bonded to a substrate (including the case where the substrate is another piece as in the case of Patent Document 1), and the work is heated. However, it can be obtained by applying pressure (pressurizing) in the stacking direction.
In the present specification, such heating and pressurizing of the work is referred to as “laminating (main pressure bonding)”, and the laminated component thus obtained is referred to as “laminating substrate”, and thus laminating is performed. A device for obtaining a substrate is referred to as a "laminated substrate manufacturing device".

ところで、接着剤を加熱すると、条件によっては接着剤内又は/及び接着剤近傍(接着剤が被貼付け部材又は貼付け部材と接する部位等)から気泡が発生することが知られている。もし、ラミネートを行った後に接着剤内及び接着剤近傍に気泡が残留していると、接着状態のバラつきを生じたり、接着剤のみならず被貼付け部材、貼付け部材等を酸化させたりして好ましくない(気泡問題)。 By the way, it is known that when the adhesive is heated, air bubbles are generated in the adhesive and/or in the vicinity of the adhesive (such as a portion where the adhesive contacts the member to be attached or the member to be attached) depending on conditions. If air bubbles remain in the adhesive and in the vicinity of the adhesive after laminating, the adhesive state may vary, and not only the adhesive but also the adhered member, the adhered member, etc. may be oxidized. No (bubble problem).

(1)こうした気泡問題を解決するために、被貼付け部材及び貼付け部材(複数の部材)をチャンバ内に入れ、チャンバ内を排気しながらラミネートを行うことで問題となる部位に気泡が残留しないようにする技術が広く知られている。
このような技術を応用した部材貼付け装置としては、例えば特許文献1に記載された多層プリント配線板用金属張り積層板製造装置(以下、便宜上「特許文献1に記載された装置700」という)が知られている。
図12は、特許文献1及び特許文献3に記載された装置を説明するために示す図である。図12(a)は、特許文献1に記載された装置700を示し、図12(b)は特許文献3に記載された基板接合装置900を示している。
(1) In order to solve such a bubble problem, a member to be attached and a member to be attached (a plurality of members) are placed in a chamber, and air is evacuated from the chamber to perform lamination so that bubbles do not remain at a problematic portion. The technology to make is widely known.
As a member sticking device to which such a technique is applied, for example, a metal-clad laminate manufacturing device for a multilayer printed wiring board described in Patent Document 1 (hereinafter, referred to as “device 700 described in Patent Document 1” for convenience) is available. Are known.
FIG. 12 is a diagram for explaining the devices described in Patent Documents 1 and 3. FIG. 12A shows the device 700 described in Patent Document 1, and FIG. 12B shows the substrate bonding device 900 described in Patent Document 3.

図12(a)に示すように、特許文献1に記載された装置700においては、貼付け処理に先立って、積層した複数の多層プリント配線用積層部材713(積層体)を弾性パッキン715、トレイ板711及び熱板716a,716bによって構成されるチャンバ(符号なし)の内部に配置し、積層体の上層側の熱板716aを弾性パッキン715に当接して密閉空間を形成し、図示しない真空ポンプによって排気口718からチャンバ内を排気する。そのうえで、上層側の熱板716a及び下層側の熱板716bによって加熱しつつ加圧して積層体を一体化する(ラミネート処理)。なお、符号714はクッション材を、符号719は鏡面板を示す。
特許文献1に記載された装置700によれば、気泡を除去しながら複数の多層プリント配線用積層部材713同士を一括的に貼り付けることができる(多段プレス)。
このような特許文献1に記載された装置700を応用して「ラミネート基板製造装置」を構成することも検討できる。例えば、複数の個片が基板に仮圧着された「ワーク」を複数準備し、これら複数のワークをチャンバ内に積み上げるようにして入れ、一括的に複数のワークをラミネートするような装置を構成することもできる。
As shown in FIG. 12A, in the device 700 described in Patent Document 1, a plurality of laminated multilayer printed wiring laminate members 713 (laminates) are elastically packed 715 and a tray plate prior to the attaching process. 711 and heating plates 716a and 716b inside a chamber (no reference numeral), and the heating plate 716a on the upper layer side of the laminated body is brought into contact with the elastic packing 715 to form a closed space. The inside of the chamber is exhausted from the exhaust port 718. After that, the upper layer side heat plate 716a and the lower layer side heat plate 716b are heated and pressed to integrate the laminated body (laminating process). Reference numeral 714 indicates a cushion material, and reference numeral 719 indicates a mirror surface plate.
According to the apparatus 700 described in Patent Document 1, a plurality of multilayer printed wiring laminate members 713 can be collectively attached while removing air bubbles (multi-stage press).
It is also possible to consider constructing a “laminated substrate manufacturing apparatus” by applying the apparatus 700 described in Patent Document 1 as described above. For example, a device is prepared in which a plurality of "workpieces" in which a plurality of individual pieces are temporarily pressure-bonded to a substrate are prepared, these plurality of workpieces are put in a chamber so as to be stacked, and a plurality of work pieces are collectively laminated. You can also

実開平5−88920号公報Japanese Utility Model Publication No. 5-88920 特開2000−325773号公報JP, 2000-325773, A 特開2007−5335号公報JP, 2007-5335, A

しかしながら、特許文献1に記載された装置700は、ある程度の数の多層プリント配線用積層部材713(ワーク)を溜めてから、これらのワークを纏めてチャンバ内に入れて一括的にバッチ処理するものであるため、仮に特許文献1に記載された装置700を「ラミネート基板製造装置」に応用しようとすると次のような課題が生ずる。 However, the apparatus 700 described in Patent Document 1 stores a certain number of multilayer printed wiring laminate members 713 (workpieces), and then collectively puts these works into a chamber for batch processing. Therefore, if the device 700 described in Patent Document 1 is applied to a “laminated substrate manufacturing device”, the following problems occur.

すなわち特許文献1に記載された装置700を応用した「ラミネート基板製造装置」によれば次のことが言える。(a)チャンバ内に積層された複数のワークについてみてみると、仮圧着を行ってから実際にラミネート処理されるまでの時間(待機時間)は、積層されたワークごとに異なっている。いうなれば、仮圧着してから相当時間経過したワークから仮圧着して間もないワークまで様々なワークが積層されており、ワークごとに仮圧着の状態は一様と言えない。このためこれら複数のワークを一括的にラミネート処理した場合には、圧着状態における品質バラつきを生じる可能性がある。(b)圧着の際には仮圧着済みのワークを個々に取り出してチャンバ内に積み換える(積層させる)必要があり、この積み替え作業によって仮圧着した個片の位置が基板に対して多少なりともずれる可能性がある。つまり、圧着位置における品質バラつきを生じる可能性がある。(c)複数のワークは上層側の熱板716a及び下層側の熱板716bによって纏めて一括的に加熱・加圧される。このため、熱板716a,716bから比較的近い層のワークと、熱板716a,716bから比較的遠い層(中間層)のワークとでは、受け取ることができる熱の量・加圧される力の大きさは同じとは言えない。中間層のワークには十分な熱と圧力が付与されないため接着力が十分でない可能性がある。したがって、複数のワークの間で比較すると、圧着状態における品質バラつきを生じる可能性がある。
このように特許文献1に記載された装置700を応用した「ラミネート基板製造装置」によれば、製造ロット全体としてみたとき製品の個体によって品質のバラつきが生じるものとなる(品質バラつき問題)。
That is, the following can be said according to the “laminated substrate manufacturing apparatus” to which the apparatus 700 described in Patent Document 1 is applied. (A) Looking at a plurality of works stacked in the chamber, the time from the temporary pressure bonding to the actual laminating process (waiting time) is different for each stacked work. In other words, various works are stacked, from a work that has passed a considerable time after the provisional pressure bonding to a work that has just been temporarily bonded, and the state of the provisional pressure bonding cannot be said to be uniform for each work. Therefore, when these plural works are collectively laminated, there is a possibility that quality variations may occur in the pressure-bonded state. (B) When performing pressure bonding, it is necessary to individually take out the temporarily pressure-bonded workpieces and load (stack) them into the chamber, and the position of the temporarily pressure-bonded individual pieces relative to the substrate may be increased or decreased by this transfer operation. There is a possibility of deviation. That is, there is a possibility that quality variation may occur at the crimping position. (C) A plurality of works are collectively heated and pressed by the upper-side heat plate 716a and the lower-side heat plate 716b. Therefore, in the work of a layer relatively close to the heat plates 716a and 716b and the work of a layer (intermediate layer) relatively far from the heat plates 716a and 716b, the amount of heat that can be received and the force to be applied are different. The sizes are not the same. Since the work of the intermediate layer does not receive sufficient heat and pressure, the adhesive force may be insufficient. Therefore, when comparing a plurality of works, there is a possibility that quality variations may occur in the crimped state.
As described above, according to the “laminating substrate manufacturing apparatus” to which the apparatus 700 described in Patent Document 1 is applied, quality variation occurs depending on individual products when viewed as an entire production lot (quality variation problem).

(2)品質バラつき問題を解決するため、ワークを1個ずつラミネート処理することもできる(例えば、特許文献2に記載された加熱プレスチャンバを参照)。この場合、上流工程から到来するワークを次々と同じ処理条件でラミネート処理を行っていけば、製品の個体による品質バラつきを抑えることができる。
しかしながら、特許文献2に記載された加熱プレス用チャンバ(図示を省略)を応用した場合、ワークを準備してはチャンバ内に組み入れ(給材)、ラミネート処理をし、チャンバ内の処理済み製品を取り出す(除材)という作業をワーク1個ずつ行う必要があり、ワーク給除材の効率が悪く生産性が上がらない(ワークの給除材効率の問題)。
(2) In order to solve the quality variation problem, it is possible to laminate the works one by one (for example, refer to the heating press chamber described in Patent Document 2). In this case, if the works coming from the upstream process are subjected to the laminating process under the same processing conditions one after another, it is possible to suppress the quality variation due to individual products.
However, when the heating press chamber (not shown) described in Patent Document 2 is applied, a work is prepared, incorporated into the chamber (feeding), laminated, and processed products in the chamber are processed. It is necessary to perform the work of taking out (removal of material) one by one, and the efficiency of the material supply/removal of work is low and the productivity cannot be increased (the problem of material removal/removal efficiency of the work).

(3)ワークの給除材効率の問題を解決するため、ロボット等を用いて給除材を自動化することもできる(例えば、特許文献3に記載された基板接合装置900を参照)。
特許文献3に記載された基板接合装置900は、図12(b)に示すように、第1基板991を第2基板992上に載置する基板載置機構909、減圧環境下又は不活性ガス環境下において第1基板991及び第2基板992を接合する接合機構903、及び、第1基板991及び第2基板992を基板載置機構909から接合機構903へと搬送する搬送機構904を備える。搬送機構904は例えばアーム941を有するロボット等で構成される(他の符号の詳細は特許文献3を参照)。
このようなアーム941を有するロボット(搬送機構904)を「ラミネート基板製造装置」に導入すれば、ワークの給除材の効率を高めることできるかもしれない。
しかしながら、特許文献3に記載されたロボット等のアーム941が想定している搬送対象は、互いに略同一形状の2枚の半導体基板(第1基板及び第2基板)であり、比較的大きなサイズのワーク9Wであり、ワーク9W単体において比較的剛性を有しており、ワーク9Wの上面側の形状は略平坦なものである。
一方、「ラミネート基板製造装置」が扱うワークは、基板としてはフレキブル基板やシート状のフィルムも適用しうるし、個片としては基板と同一形状のものに限らず基板よりも小さい(平面視したときに面積が小さい)細々した部材も適用しうる。このため、特許文献3に記載されたロボット等のアーム941を「ラミネート基板製造装置」に導入したとしても、そもそもこのようなワークをアーム941に乗せる/把持することができず、ワークを搬送できない。また、このようなワークをアーム941に乗せることができたとしても、搬送中に細々とした個片が落下したり、個片の位置ずれを生じたりする可能性がある。また、搬送中においてワークに皺ができてしまい不良品となってしまう可能性もある(フィルムによる基板、フレキシブル基板等による基板の場合等)。
したがって、特許文献3に記載されたロボット等のアーム941では、「ラミネート基板製造装置」が扱うようなワークはそもそも搬送(給材)することができない場合がある。また、品質上の問題を生じる場合もある。
(3) In order to solve the problem of material feeding/removal efficiency of the work, the material feeding/removing material can be automated by using a robot or the like (for example, refer to the substrate bonding apparatus 900 described in Patent Document 3).
As shown in FIG. 12B, the substrate bonding apparatus 900 described in Patent Document 3 has a substrate mounting mechanism 909 for mounting the first substrate 991 on the second substrate 992, a reduced pressure environment or an inert gas. A bonding mechanism 903 that bonds the first substrate 991 and the second substrate 992 under the environment, and a transport mechanism 904 that transports the first substrate 991 and the second substrate 992 from the substrate mounting mechanism 909 to the bonding mechanism 903. The transport mechanism 904 is composed of, for example, a robot having an arm 941 (for details of other reference numerals, see Patent Document 3).
If a robot (conveyance mechanism 904) having such an arm 941 is introduced into the “laminated substrate manufacturing apparatus”, it may be possible to improve the efficiency of the material feeding/removing material.
However, the transfer target assumed by the arm 941 of the robot or the like described in Patent Document 3 is two semiconductor substrates (first substrate and second substrate) having substantially the same shape, and has a relatively large size. It is the work 9W, and the work 9W alone has relatively rigidity, and the shape of the upper surface side of the work 9W is substantially flat.
On the other hand, the work handled by the "laminated substrate manufacturing apparatus" may be a flexible substrate or a sheet-shaped film as the substrate, and the individual pieces are not limited to the same shape as the substrate, and are smaller than the substrate (when viewed in plan. A small member (having a small area) can also be applied. For this reason, even if the arm 941 such as the robot described in Patent Document 3 is introduced into the “laminated substrate manufacturing apparatus”, such a work cannot be placed/grasped on the arm 941 and the work cannot be transported. .. Even if such a work can be placed on the arm 941, there is a possibility that small pieces may drop during the transportation or the position of the pieces may shift. In addition, there is a possibility that the work will be wrinkled during the transportation, resulting in a defective product (in the case of a substrate made of a film, a substrate made of a flexible substrate, or the like).
Therefore, in some cases, the arm 941 of the robot or the like described in Patent Document 3 may not be able to carry (feed) a work handled by the “laminated substrate manufacturing apparatus” in the first place. It may also cause quality problems.

さらに、特許文献3に記載された接合機構903は、上面側の形状が略平坦なワーク(第1基板及び第2基板)を接合するものとして構成されており、上面に凹凸形状のあるワーク(高さが異なる複数の個片が基板に載置された場合等)については、これを良好にラミネートすることができない場合がある。 Further, the joining mechanism 903 described in Patent Document 3 is configured to join the workpieces (first substrate and second substrate) whose top surface has a substantially flat shape, and which has an uneven top surface ( When a plurality of pieces having different heights are placed on the substrate), it may not be possible to satisfactorily laminate them.

そこで、本発明は上記した事情に鑑みてなされたものであり、従来よりも、効率的にワークの給除材を行うことができ、且つ、品質上のバラつきを抑えながらワークをラミネートすることができるラミネート基板製造装置及びラミネート基板の製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to perform the feeding and removing material of the work more efficiently than before, and to laminate the work while suppressing the variation in quality. An object of the present invention is to provide a laminated substrate manufacturing apparatus and a laminated substrate manufacturing method which can be performed.

[1]本発明のラミネート基板製造装置は、複数の個片が基板上に仮圧着された状態のワークを被ラミネート対象としてこれをラミネートするラミネート基板製造装置であって、前記ワークが載置されたパレットを間欠的に搬送するパレット搬送ユニットと、搬送されてきた前記パレットの動きを止め、当該パレットを前記パレット搬送ユニットの搬送力伝達部から分離し、当該パレットの位置を決めるパレット位置決めユニットと、下縁部から内側にかけて前記ワークを収容可能なワーク収容部を有し、前記ワーク収容部の内部に収容された前記ワークを加熱・加圧する加熱ヘッドが配設されたラミネートユニットと、を備え、前記ラミネート基板製造装置を平面視したときに、前記加熱ヘッドが配設されたラミネート領域と前記パレット搬送ユニットが配設された領域とがオーバーラップするようにして前記パレット搬送ユニットが配置されており、前記加熱ヘッドは、前記ワークの上面側の形状に即した形状の加熱面を有しており、前記ラミネートユニットは、位置決めされた前記パレットに向かって前記下縁部が下降し、前記下縁部が前記パレットと当接することにより前記ワーク収容部及び前記パレットで一時的なチャンバが形成されるよう構成され、前記ラミネート基板製造装置は、前記ワークが前記パレットに載置された状態で前記チャンバ内を排気した状態で前記加熱面を前記ワークに向けて押し付けて前記ワークをラミネートするよう構成されている、ことを特徴とする。 [1] A laminated board manufacturing apparatus of the present invention is a laminated board manufacturing apparatus for laminating a work in a state in which a plurality of pieces are temporarily press-bonded on a substrate, and laminating the work, on which the work is placed. A pallet transport unit for intermittently transporting the pallet, and a pallet positioning unit that stops the movement of the pallet that has been transported, separates the pallet from the transport force transmission unit of the pallet transport unit, and determines the position of the pallet. A laminating unit having a work accommodating portion capable of accommodating the work from the lower edge portion to the inner side, and having a heating head for heating and pressurizing the work accommodated inside the work accommodating portion. When the laminated substrate manufacturing apparatus is viewed in a plan view, the pallet transport unit is arranged so that the laminating region where the heating head is disposed and the region where the pallet transport unit is disposed overlap each other. The heating head has a heating surface having a shape conforming to the shape of the upper surface side of the work, and the laminating unit lowers the lower edge portion toward the positioned pallet, The work chamber and the pallet are configured to form a temporary chamber by contacting an edge portion with the pallet, and the laminated substrate manufacturing apparatus is configured such that the work is placed on the pallet. It is configured to laminate the work by pressing the heating surface toward the work while the chamber is evacuated.

本発明のラミネート基板製造装置は、加熱ヘッドが配設されたラミネート領域とパレット搬送ユニットが配設された領域とがオーバーラップするようにしてパレット搬送ユニットが配置されており、ワークがパレットに載置された状態でチャンバ内を排気した状態で加熱面をワークに向けて押し付けてワークをラミネートするよう構成されている。つまり、ワークをパレットごとラミネート領域内に取り込み(給材)、ワークがパレットに載せられた状態でワークに対しラミネート処理を行い、ラミネート処理を終えた製品がパレットに乗せられた状態でパレットごと下流工程に搬送させる(流動させる)(除材)ことができる。
したがって、従来のように仮圧着済みのワークを個々に取り出してチャンバ内に積み替えたり、ワークを1個ずつ準備してチャンバ内に組み入れ(給材)、ラミネート処理を終えたらチャンバ内から処理済み製品を取り出す(除材)といった作業を行うこともなく、パレットの搬送経路上で、ワークがパレットに載置されたままの状態で(搬送時と同じ状態で)、ラミネート領域への給除材及びラミネート処理を行うことができる。
したがって、本発明のラミネート基板製造装置によれば、従来よりも効率的にワークの給除材を行うことができる。
In the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention, the pallet conveying unit is arranged so that the laminating area where the heating head is arranged and the area where the pallet conveying unit is arranged overlap, and the work is placed on the pallet. It is configured to press the heating surface toward the work and laminate the work while the inside of the chamber is evacuated while being placed. In other words, the work is taken into the laminating area together with the pallet (material supply), the work is laminated on the work while it is placed on the pallet, and the finished product is placed on the pallet and the whole pallet is placed downstream. It can be transported (fluidized) (removal material) to the process.
Therefore, as in the past, the workpieces that have been temporarily pressure-bonded are individually taken out and loaded into the chamber, or the workpieces are prepared one by one and incorporated into the chamber (feeding). Without performing work such as taking out (removing material), while the work is still placed on the pallet (in the same state as when being transported) on the pallet transport path, A laminating process can be performed.
Therefore, according to the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention, it is possible to perform the work feeding/removing material more efficiently than in the past.

また、本発明のラミネート基板製造装置は、ワークが載置されたパレットを間欠的に搬送するパレット搬送ユニットを備え、ワークがパレットに載置された状態で、チャンバ内を排気した状態で加熱面をワークに向けて押し付けてワークをラミネートするよう構成されている。つまり、上流工程で仮圧着されたワークはそのままパレット搬送ユニットによって当該ラミネート基板製造装置に取り込まれ、そのままパレット単位で一時的なチャンバを形成してラミネートを行うよう構成されている。
よって、当該ラミネート基板製造装置の外のパレット搬送装置による搬送が概ね同じスループットで行われている限りにおいては、仮圧着されてからラミネート処理が行われるまでの待機時間は概ね一定となる。したがって、従来のようにラミネート処理が行われるまでの待機時間が大きくバラつくことはない。
また、本発明のラミネート基板製造装置によれば、ワーク1個ずつに対して加熱面が当接されてラミネートされるため、それぞれのワークに与える熱の量・加圧する力の大きさ等を同じ条件に揃えることができる。したがって、従来のように積層された層の位置に依ってワークが受け取ることができる熱の量・加圧される力の大きさがバラつくことはない。
また、従来のようにラミネートを行うためにワークを積み換える必要もないため、積み替えによる個片の位置ずれを生ずることがない。
さらに、本発明のラミネート基板製造装置は、ワークの上面側の形状に即した形状の加熱面を有する加熱ヘッドでラミネートを行うため、基板に載置される個片の高低によってワークの上面側が凹凸形状になっている場合であっても、個片の位置ずれ・姿勢ずれ等を起こすことなく所期のラミネートを行うことができる。
以上のように、本発明のラミネート基板製造装置によれば、待機時間、熱の量、加圧される力の大きさ、位置ずれ等の様々な要素のバラつきを抑えることができ、その結果、圧着状態のバラつきを抑えることができるため、従来よりも品質上のバラつきを抑えながらワークをラミネートすることができる。
Further, the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention includes a pallet transfer unit for intermittently transferring the pallet on which the work is placed, and the work surface is placed on the pallet and the heating surface is evacuated from the chamber. Is pressed toward the work to laminate the work. That is, the work provisionally pressure-bonded in the upstream process is directly taken into the laminated substrate manufacturing apparatus by the pallet transport unit, and a temporary chamber is formed for each pallet as it is for lamination.
Therefore, as long as the transfer by the pallet transfer device outside the laminated substrate manufacturing apparatus is performed at substantially the same throughput, the standby time from the temporary pressure bonding to the laminating process is substantially constant. Therefore, unlike the conventional case, the waiting time until the laminating process is not largely varied.
Further, according to the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention, since the heating surface is brought into contact with each of the works and laminated, the amount of heat applied to each work and the magnitude of the pressing force are the same. You can meet the conditions. Therefore, the amount of heat that can be received by the work and the magnitude of the force to be applied do not vary depending on the positions of the stacked layers as in the conventional case.
In addition, since it is not necessary to reload the works for performing the lamination as in the conventional case, the position shift of the individual pieces due to the reloading does not occur.
Further, since the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention performs lamination with the heating head having the heating surface having a shape conforming to the shape of the upper surface side of the work, the upper surface side of the work is uneven depending on the height of the individual pieces placed on the substrate. Even in the case of the shape, desired lamination can be performed without causing positional deviation or positional deviation of the individual pieces.
As described above, according to the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention, it is possible to suppress variations in various elements such as the standby time, the amount of heat, the magnitude of the pressure to be applied, and the positional deviation, and as a result, Since it is possible to suppress the variation in the pressure-bonded state, it is possible to laminate the work while suppressing the variation in quality as compared with the conventional case.

[2]本発明のラミネート基板製造装置において、前記ラミネートユニットの前記下縁部には、前記パレットの上面と当接するシール部材が付設されている、ことが好ましい。 [2] In the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention, it is preferable that a sealing member that comes into contact with the upper surface of the pallet is attached to the lower edge portion of the laminating unit.

このように下縁部にシール部材を付設することにより、下縁部がパレットと当接して一時的なチャンバが形成された際に、当該チャンバの気密性を高めることができる。ひいてはチャンバ内の排気効率が高められサイクルタイムを短縮することができる。
また、パレットの表面の状態が多少バラついていたとしても、パレットと下縁部との間にシール部材を挟み込むことにより封止を確実なものとすることができる。
またシール部材の摩擦により、パレットが加熱ヘッドに対してずれが生じづらくなり、当該ずれによるラミネート基板の品質のバラつきを一層抑えることができる。
By attaching the seal member to the lower edge portion in this way, when the lower edge portion comes into contact with the pallet to form a temporary chamber, the airtightness of the chamber can be enhanced. As a result, the exhaust efficiency in the chamber can be improved and the cycle time can be shortened.
Further, even if the surface condition of the pallet varies to some extent, the sealing can be ensured by sandwiching the seal member between the pallet and the lower edge portion.
Further, due to the friction of the seal member, the pallet is less likely to be displaced with respect to the heating head, and the variation in the quality of the laminated substrate due to the displacement can be further suppressed.

[3]本発明のラミネート基板製造装置において、鉛直方向を+z方向とし、前記パレットが搬送される方向を+x方向とし、+z方向及び+x方向に垂直な方向を+y方向としたときに、前記パレット位置決めユニットは、パレット障害部が設けられ、該パレット障害部を+x方向に垂直な方向からパレット通過領域に対し突き出すことにより搬送されてくる前記パレットの動きを止めて前記パレットの+x方向の位置を決めるパレットストッパと、前記パレット搬送ユニットを上下に駆動するパレット搬送ユニット昇降駆動部と、を有し、前記ラミネート基板製造装置は、前記パレットストッパによって動きが止められる前記パレットに対しその直下となる位置に配置されたパレット載置テーブルを更に備え、 前記パレット搬送ユニット昇降駆動部により前記パレット搬送ユニットが前記パレットと共に下降し、前記パレットが前記パレット載置テーブルの上に載置されるよう構成されている、ことが好ましい。 [3] In the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention, when the vertical direction is +z direction, the direction in which the pallet is transported is +x direction, and the direction perpendicular to +z direction and +x direction is +y direction, the pallet is The positioning unit is provided with a pallet obstacle portion, and by pushing the pallet obstacle portion from a direction perpendicular to the +x direction to a pallet passing area, the movement of the conveyed pallet is stopped and the position of the pallet in the +x direction is changed. The laminated substrate manufacturing apparatus has a pallet stopper that determines the pallet and a pallet transport unit elevating/lowering drive unit that drives the pallet transport unit up and down, and the laminated substrate manufacturing apparatus is positioned directly below the pallet whose movement is stopped by the pallet stopper. Further comprising a pallet mounting table disposed on the pallet mounting table, the pallet transport unit lifting drive unit lowers the pallet transport unit together with the pallet, and the pallet is placed on the pallet mount table. Is preferred.

このようなパレットストッパにより、搬送されているパレットの動きを止めて当該パレットの+x方向の位置を一時的に固定することができ、+x方向のパレットの位置を位置決めすることができる。
また、このようなパレット搬送ユニット昇降駆動部により、パレットをパレット搬送ユニットの搬送力伝達部から分離させる(互いの接触を解除する)ことができ、パレットをパレット載置テーブルに載置することができる。その結果、+z方向にパレットを位置決めすることができる。
さらに、パレット及びワークは、強固に固定されたパレット載置テーブルに対し載置されることとなるため、パレット及びワークの側は加熱ヘッドの押し付けに対し安定的に抗することができる。このため、ラミネート基板の品質のバラつきを一層抑えることができる。
With such a pallet stopper, the movement of the pallet being conveyed can be stopped and the position of the pallet in the +x direction can be temporarily fixed, and the position of the pallet in the +x direction can be positioned.
Further, such a pallet transport unit lifting/lowering drive unit can separate the pallet from the transport force transmission unit of the pallet transport unit (release the mutual contact), and the pallet can be placed on the pallet placement table. it can. As a result, the pallet can be positioned in the +z direction.
Further, since the pallet and the work are mounted on the pallet mounting table which is firmly fixed, the pallet and the work can stably resist the pressing of the heating head. Therefore, it is possible to further suppress the variation in quality of the laminated substrate.

[4]本発明のラミネート基板製造装置において、前記パレット載置テーブルにテーブル排気口が設けられている、ことが好ましい。 [4] In the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention, it is preferable that the pallet mounting table is provided with a table exhaust port.

このような構成とすることにより、パレット載置テーブルの上面とパレットの下面との間に存在する空気を、排気装置でテーブル排気口から排気することができる。その結果、パレットの下面をパレット載置テーブルに密着させることができ、ひいてはパレット及びワークの位置決めを確実なものとすることができる。 With such a configuration, the air existing between the upper surface of the pallet mounting table and the lower surface of the pallet can be exhausted from the table exhaust port by the exhaust device. As a result, the lower surface of the pallet can be brought into close contact with the pallet mounting table, and the positioning of the pallet and the work can be ensured.

[5]本発明のラミネート基板製造装置において、前記パレットに載置された前記ワークを前記パレットの主面に垂直な方向から平面視したときに、前記ワークは前記個片の面積が前記基板の面積に対して小さい、ことが好ましい。 [5] In the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention, when the work placed on the pallet is viewed in a plan view from a direction perpendicular to the main surface of the pallet, the work has an area of the individual piece of the substrate. It is preferable that the area is small.

本発明のラミネート基板製造装置によれば、個片の面積が基板の面積に対して小さいワーク、すなわち細々した部材が載置されたワークについても、好適にこれをラミネートすることができる。 According to the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention, it is possible to suitably laminate even a work whose individual area is smaller than the area of the substrate, that is, a work on which fine members are placed.

[6]本発明のラミネート基板製造装置において、前記基板はフレキシブル基板である、
ことが好ましい。
[6] In the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention, the substrate is a flexible substrate,
Preferably.

本発明のラミネート基板製造装置によれば、比較的柔軟な造りのフレキシブル基板を含むワークについても、好適にこれをラミネートすることができる。 According to the laminated substrate manufacturing apparatus of the present invention, it is possible to suitably laminate a work including a flexible substrate having a relatively flexible structure.

[7]本発明のラミネート基板製造ラインは、複数の前記個片を前記基板上に仮圧着する仮圧着装置と、前記仮圧着装置から除材された前記パレットを複数のパレット搬送装置のいずれか1つに分配するパレット分配装置と、それぞれの一端が前記パレット分配装置に接続され、前記パレット分配装置から分配された前記パレットを搬送する複数の前記パレット搬送装置と、それぞれが、前記複数の前記パレット搬送装置のそれぞれの他端に接続された複数の前記ラミネート基板製造装置と、を備え、前記ラミネート基板製造装置は、上記[1]〜[6]のいずれかに記載のラミネート基板製造装置であること、を特徴とする。 [7] In the laminated substrate manufacturing line of the present invention, one of a temporary pressure bonding device for temporarily pressure bonding a plurality of the individual pieces onto the substrate and a plurality of pallet transport devices for transferring the pallets removed from the temporary pressure bonding device. A pallet distributor that distributes one, and a plurality of the pallet conveyors that each have one end connected to the pallet distributor and that conveys the pallets distributed from the pallet distributor. A plurality of the laminated substrate manufacturing apparatuses connected to the other end of each of the pallet conveying apparatuses, wherein the laminated substrate manufacturing apparatus is the laminated substrate manufacturing apparatus according to any one of [1] to [6] above. There is a feature.

[8]本発明のラミネート基板の製造方法は、複数の個片が基板上に仮圧着された状態のワークを被ラミネート対象としてこれをラミネートするラミネート基板の製造方法であって、搬送力伝達部と接触しながら前記ワークが載置された状態で搬送されてくるパレットの動きを停止させるパレット停止ステップ、及び、停止した前記パレットを前記搬送力伝達部から分離し前記パレットの位置を決めるパレット位置決めステップを有する給材工程と、下縁部から内側にかけて前記ワークを収容可能なワーク収容部を有し、前記ワーク収容部の内部に収容された前記ワークを加熱・加圧する加熱ヘッドが配設されたラミネートユニットの前記下縁部を、前記パレットに向けて下降させ、前記下縁部が前記パレットと当接することにより前記ワーク収容部及び前記パレットで一時的なチャンバを形成するチャンバ形成ステップ、前記チャンバ内を排気する真空引きステップ、及び、前記ラミネートユニットの前記加熱面を前記ワークに向けて押し付けて前記ワークを加熱・加圧する加熱・加圧ステップを有するラミネート工程と、を含む、ことを特徴とする。 [8] A method for manufacturing a laminated substrate according to the present invention is a method for manufacturing a laminated substrate, in which a work, in which a plurality of pieces are temporarily pressure-bonded onto a substrate, is laminated as an object to be laminated. Pallet stopping step of stopping the movement of the pallet conveyed while the work is placed on the pallet while contacting the pallet, and pallet positioning for separating the stopped pallet from the conveying force transmitting section and determining the position of the pallet. A material supplying step having steps, a work accommodating portion capable of accommodating the work from the lower edge portion to the inner side, and a heating head for heating/pressurizing the work accommodated in the work accommodating portion are provided. A chamber forming step of forming a temporary chamber in the work accommodating portion and the pallet by lowering the lower edge of the laminating unit toward the pallet, and contacting the lower edge with the pallet; A vacuuming step of exhausting the inside of the chamber; and a laminating step having a heating/pressurizing step of pressing the heating surface of the laminating unit toward the work to heat/pressurize the work. And

本発明のラミネート基板の製造方法がこのような構成を有していることから、上記[1]〜[6]に記載のラミネート基板製造装置によって得られる効果と同様の効果が得られる。 Since the laminated substrate manufacturing method of the present invention has such a configuration, the same effects as the effects obtained by the laminated substrate manufacturing apparatus described in [1] to [6] above can be obtained.

ワークW及びパレットPを説明するために示す図である。It is a figure shown in order to demonstrate the work W and the pallet P. 実施形態1に係るラミネート基板製造装置1の斜視図である。1 is a perspective view of a laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1に係るラミネート基板製造装置1を図2の矢印Aの方向から視たときの要部正面図である。FIG. 3 is a front view of relevant parts when the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment is viewed from the direction of arrow A in FIG. 2. 実施形態1に係るラミネート基板製造装置1を説明するために示す図である。FIG. 3 is a diagram for explaining the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment. 実施形態1のラミネートユニット300の要部を説明するために示す図である。FIG. 3 is a diagram shown for explaining a main part of the laminating unit 300 according to the first embodiment. 実施形態1に係るラミネート基板の製造方法を説明するために示すフロー図である。5 is a flow chart shown for explaining the method for manufacturing the laminated substrate according to the first embodiment. FIG. 実施形態1に係るラミネート基板製造装置1の動作を説明するために示す模式図である。3 is a schematic diagram shown for explaining the operation of the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 実施形態1に係るラミネート基板製造装置1の動作を説明するために示す模式図である。3 is a schematic diagram shown for explaining the operation of the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 実施形態2に係るラミネート基板製造ライン10を説明するために示す模式図である。5 is a schematic diagram shown for explaining a laminated substrate manufacturing line 10 according to Embodiment 2. FIG. 変形例2に係るラミネート基板製造装置2及び変形例3に係るラミネート基板製造装置3を説明するために示す図である。FIG. 11 is a diagram shown for explaining a laminated substrate manufacturing apparatus 2 according to Modification 2 and a laminated substrate manufacturing apparatus 3 according to Modification 3. 変形例4に係るラミネート基板製造装置4を説明するために示す図である。FIG. 11 is a diagram shown for explaining a laminated substrate manufacturing apparatus 4 according to Modification 4. 特許文献1及び特許文献3に記載された装置を説明するために示す図である。FIG. 6 is a diagram shown for explaining the devices described in Patent Document 1 and Patent Document 3.

以下、本発明のラミネート基板製造装置、ラミネート基板製造ライン及びラミネート基板の製造方法について、図に示す実施形態に基づいて説明する。なお、各図面は模式図であり、必ずしも実際の寸法を厳密に反映したものではない。 Hereinafter, a laminated substrate manufacturing apparatus, a laminated substrate manufacturing line, and a laminated substrate manufacturing method of the present invention will be described based on the embodiments shown in the drawings. It should be noted that each drawing is a schematic diagram and does not necessarily reflect the actual dimensions strictly.

[実施形態1]
1.ワークW及びパレットP
ラミネート基板製造装置1の説明に先立ち、ラミネート基板製造装置1の取り扱い対象であるワークW及びパレットPについて説明する。
図1は、ワークW及びパレットPを説明するために示す図である。図1(a)はワークW及びパレットPを水平面に正置したときの平面図であり、図1(b)は図1(a)のa−a矢視断面図である。二点鎖線の符号SLは後述するシールラインを示し、符号WSFはワークWの上面を示している。
[Embodiment 1]
1. Work W and pallet P
Prior to the description of the laminated substrate manufacturing apparatus 1, the work W and the pallet P to be handled by the laminated substrate manufacturing apparatus 1 will be described.
FIG. 1 is a diagram shown for explaining the work W and the pallet P. FIG. 1A is a plan view when the work W and the pallet P are directly placed on a horizontal plane, and FIG. 1B is a sectional view taken along the line aa in FIG. 1A. The double-dashed line symbol SL indicates a seal line described later, and the symbol WSF indicates the upper surface of the work W.

(1)ワークW
本明細書において「ワークW」とは、基板BD上に複数の個片PCが仮圧着された状態となっている「基板BD及び複数の個片PCの総体」をいう(図1参照)。
基板BDには複数の個片PCが仮圧着された状態で載置されているものとする。基板BDには、同種の個片が複数個載置されていてもよいし、図1に例示するように、大きさ・高さ等が異なる複数種の個片が載置されていてもよい。この場合、図1(b)に示すように、ワークWの上面WSF側は、基板BDに載置される個片PCの高低により凹凸形状となる。
(1) Work W
In the present specification, the “workpiece W” refers to a “collection of the board BD and the plurality of individual pieces PC” in which the plurality of individual pieces PC are temporarily pressure-bonded onto the board BD (see FIG. 1 ).
It is assumed that a plurality of individual pieces PC are placed on the board BD in a state of being temporarily pressure-bonded. A plurality of pieces of the same type may be placed on the substrate BD, or a plurality of pieces of different types such as sizes and heights may be placed as illustrated in FIG. .. In this case, as shown in FIG. 1B, the upper surface WSF side of the work W has an uneven shape due to the height of the individual piece PC mounted on the substrate BD.

また、実施形態1に係るラミネート基板製造装置1では、個片PCの面積が基板BDの面積に対して小さいようなワークWを好適に適用することができる。すなわち細々した部材が載置されたワークについても、好適にこれをラミネートすることができる。 Further, in the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment, it is possible to suitably apply the work W in which the area of the individual PC is smaller than the area of the substrate BD. That is, it is possible to suitably laminate a work on which small members are placed.

「仮圧着された状態」とは、個片PCから基板BDに対する若干の加圧によって個片PCが基板BDに仮固定されている状態をいう。実施形態1において、典型的には個片PC及び基板BDの間に接着材を介しているため、接着材による接着力も固定に寄与して仮固定されている。しかしこれに限定されるものではなく、例えば、接着材を介さずに位置ずれ・姿勢ずれなく仮置きされている場合も「仮圧着された状態」に含まれるものとする。 The “temporarily pressure-bonded state” means a state in which the individual piece PC is temporarily fixed to the board BD by a slight pressure applied from the individual piece PC to the board BD. In the first embodiment, since the adhesive is typically interposed between the individual piece PC and the substrate BD, the adhesive force of the adhesive also contributes to the fixing and is temporarily fixed. However, the present invention is not limited to this, and, for example, a case where the material is temporarily placed without a positional deviation or a positional deviation without an adhesive material is included in the “temporarily crimped state”.

なお、ラミネート基板製造装置1は、ワークWを加熱しながら個片PC及び基板BDの積層方向に圧力を掛けて(加圧して)ラミネートする装置である。この点でワークWは「被ラミネート対象」である。
参考までに、通常は個片PCが基板BDに対して圧着されることから、個片PCは「貼付け部材」であり、基板BDは「被貼付け部材」であるる。なお、本明細書において「ラミネート」を「本圧着」又は単に「圧着」ということがある。
The laminated substrate manufacturing apparatus 1 is an apparatus for laminating by applying pressure (pressurizing) in the stacking direction of the individual pieces PC and the substrate BD while heating the work W. In this respect, the work W is the “object to be laminated”.
For reference, since the individual piece PC is usually pressure-bonded to the board BD, the individual piece PC is a “sticking member” and the board BD is a “sticking member”. In the present specification, "laminate" may be referred to as "main pressure bonding" or simply "pressure bonding".

「基板BD」としては、シート状のフィルム、樹脂を含侵させた基板、セラミックス基板、金属基板等を材料とした基板を各種適用することができる。また、「基板BD」は比較的柔軟な造りのフレキシブル基板から比較的強固な造りのリジッド基板まで任意に適用することができる。特に実施形態1のラミネート基板製造装置1は、基板としてフレキシブル基板を好適に適用することができる。
なお、「基板BD」には回路が形成されていてもよいし、回路が形成されていなくてもよい。
「個片PC」としては、保護等を目的としたフィルム、補強等を目的とした金属板、個別電子部品等を各種適用することができる。
As the “substrate BD”, various types of substrates such as a sheet-like film, a resin-impregnated substrate, a ceramics substrate, and a metal substrate can be applied. Further, the “substrate BD” can be arbitrarily applied from a flexible substrate having a relatively flexible structure to a rigid substrate having a relatively strong structure. In particular, the laminated substrate manufacturing apparatus 1 of the first embodiment can suitably apply a flexible substrate as the substrate.
Note that a circuit may be formed or may not be formed on the “substrate BD”.
As the "individual PC", various kinds of films such as a film for protection, a metal plate for reinforcement, and individual electronic parts can be applied.

(2)パレットP
本明細書において「パレットP」とは、ワークWを載せてワークWを搬送する冶具としての部材をいう。パレットPはワーク搬送に資するばかりでなく、後述するように真空引きが行われるチャンバの一部をも構成する。
パレットPは例えば板状のものであってもよい。例えば、所与の厚さのアルミ板を用いることもできる。
パレットPは、ワークWの位置・姿勢がパレットPに対してずれないようにするため、適宜のワーク固定機構(図示を省略)を有していることが好ましい。パレットPは、外形寸法、後述する搬送力伝達部(コンベアベルト等)が接触するパレット下面の構造、後述するチャンバ形成時にラミネートユニットの下縁部が当接する部位(シールラインSL)付近の構造等が一定の条件を満たしてさえいれば、ワークWの仕様、ワークWの数等に変更に応じてワークWの保持構造等を変更することで、かかる仕様変更に対し柔軟に対応することができる。
(2) Pallet P
In the present specification, the “pallet P” refers to a member as a jig that carries the work W and conveys the work W. The pallet P not only contributes to the work transfer, but also constitutes a part of a chamber in which a vacuum is drawn as described later.
The pallet P may have a plate shape, for example. For example, an aluminum plate having a given thickness can be used.
The pallet P preferably has an appropriate work fixing mechanism (not shown) so that the position/posture of the work W does not shift with respect to the pallet P. The pallet P has outer dimensions, a structure of a pallet lower surface with which a conveying force transmitting unit (conveyor belt or the like) described later comes into contact, a structure near a portion (seal line SL) with which a lower edge of a laminating unit comes into contact when forming a chamber described below, and the like. As long as a certain condition is satisfied, it is possible to flexibly deal with the specification change by changing the specification of the work W, the holding structure of the work W, or the like according to the change in the number of the work W or the like. ..

パレットPにはワークWが載置される(図1参照)。図1の例のように、パレットPにワークWが2個載置できるように構成してもよい。パレットPに複数のワークWを載置した上で、後述するラミネートユニットでこれら複数のワークWを同時にラミネートすることで、1ワーク当たりの生産サイクルタイムを短縮することができる。
なお、1つのパレットPに載置されるワークWの数については、これに限定されず単数個でもよいし3個以上であってもよい。
ワークWは、パレットPに載置され、パレットPと一体になって上流工程から搬送され、ラミネート基板製造装置1に取り込まれラミネート処理され、その後、下流工程に向けて搬送される。
なお、本明細書において、パレットが搬送されることをパレットが「流動する」という場合がある。また、ラミネート基板製造装置1によるラミネート処理を終えたワークW’を、「製品」という場合がある。
A work W is placed on the pallet P (see FIG. 1). As in the example of FIG. 1, two workpieces W may be placed on the pallet P. By placing a plurality of works W on the pallet P and then simultaneously laminating the plurality of works W by a laminating unit described later, the production cycle time per work can be shortened.
The number of works W placed on one pallet P is not limited to this, and may be a single piece or three or more pieces.
The work W is placed on the pallet P, is transported together with the pallet P from an upstream process, is taken into the laminated substrate manufacturing apparatus 1, is subjected to a laminating process, and is then transported to a downstream process.
In this specification, the conveyance of the pallet may be referred to as “flowing”. Further, the work W′ that has undergone the laminating process by the laminated substrate manufacturing apparatus 1 may be referred to as a “product”.

2.実施形態1に係るラミネート基板製造装置1の構成
図2は、実施形態1に係るラミネート基板製造装置1の斜視図である。図3は、図2の矢印Aの方向からラミネート基板製造装置1を視たときの要部正面図である。図4は、実施形態1に係るラミネート基板製造装置1を説明するために示す図である。図4(a)はラミネート基板製造装置1を上方から視たときの平面図である(後述するラミネートユニット300の表示は省略している)。図4(e)は図4(a)に対応する図であり、ラミネート領域R1及びパレット搬送ユニットが配設された領域R2を示す。
なお、鉛直方向を+z方向とし、パレット搬送ユニット100(後述)によってパレットPが搬送される方向を+x方向とし、+z方向及び+x方向に垂直な方向を+y方向とする。また、+x方向と逆の方向を−x方向とし、+y方向と逆の方向を−y方向とし、+z方向と逆の方向を−z方向とする。さらに、+z方向を「下」といい、−z方向を「上」ということがある。
2. Configuration of Laminated Substrate Manufacturing Apparatus 1 According to First Embodiment FIG. 2 is a perspective view of the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 3 is a front view of relevant parts when the laminated substrate manufacturing apparatus 1 is viewed from the direction of arrow A in FIG. FIG. 4 is a diagram for explaining the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 4A is a plan view of the laminated substrate manufacturing apparatus 1 as viewed from above (the display of a laminating unit 300 described later is omitted). FIG. 4E is a diagram corresponding to FIG. 4A and shows a laminating region R1 and a region R2 in which the pallet transport unit is arranged.
The vertical direction is the +z direction, the direction in which the pallet P is transported by the pallet transport unit 100 (described later) is the +x direction, and the direction perpendicular to the +z direction and the +x direction is the +y direction. Further, a direction opposite to the +x direction is defined as a −x direction, a direction opposite to the +y direction is defined as a −y direction, and a direction opposite to the +z direction is defined as a −z direction. Further, the +z direction may be referred to as “down” and the −z direction may be referred to as “up”.

(1)概要
ラミネート基板製造装置1は、複数の個片が基板上に仮圧着された状態のワークを被ラミネート対象としてこれをラミネートする装置である。
図2及び図3に示すように、ラミネート基板製造装置1は、パレット搬送ユニット100と、パレット位置決めユニット200と、ラミネートユニット300と、を備える。
符号500は基台を示している。図には表れていないが、パレット搬送ユニット100、パレット位置決めユニット200及びラミネートユニット300の各本体(図示を省略)が基台500に固定されている。
(1) Outline The laminated substrate manufacturing apparatus 1 is an apparatus for laminating a work piece in a state in which a plurality of individual pieces are temporarily pressure-bonded onto the substrate, as an object to be laminated.
As shown in FIGS. 2 and 3, the laminated substrate manufacturing apparatus 1 includes a pallet transport unit 100, a pallet positioning unit 200, and a laminate unit 300.
Reference numeral 500 indicates a base. Although not shown in the drawing, each main body (not shown) of the pallet transport unit 100, the pallet positioning unit 200, and the laminating unit 300 is fixed to the base 500.

(2)パレット搬送ユニット100
パレット搬送ユニット100は、ワークWが載置されたパレットPを間欠的に搬送するものである。
図3に示すように、基台500にはパレット搬送ユニットフレーム105が固定されている。パレット搬送ユニットフレーム105には搬送動力源115が固定されている。搬送動力源115(モータ等)のシャフトは、プーリベルト等によってプーリに接続されており、さらにプーリを介して搬送力伝達部110に動力が伝達できるようになっている。
搬送力伝達部110は、パレットPに対して搬送力を伝達する。具体的には、搬送力伝達部110はパレットPの下面と接触して双方による摩擦力によりパレットPを+x方向に搬送することができるよう構成されている。搬送力伝達部110は、例えば、コンベアベルトと呼ばれる搬送用ベルトや搬送用チェーン等を適用することができる。また、パレット搬送ユニット100においてリニアモータを活用した非接触のパレット搬送を実現する場合、固定側(例えばパレット搬送ユニットフレーム105の側)に配置されたリニア駆動装置もこの搬送力伝達部110に含まれることとなる。
(2) Pallet transport unit 100
The pallet transfer unit 100 intermittently transfers the pallet P on which the work W is placed.
As shown in FIG. 3, the pallet transfer unit frame 105 is fixed to the base 500. A transportation power source 115 is fixed to the pallet transportation unit frame 105. The shaft of the transport power source 115 (motor or the like) is connected to a pulley by a pulley belt or the like, and power can be transmitted to the transport force transmission unit 110 via the pulley.
The conveyance force transmission unit 110 transmits the conveyance force to the pallet P. Specifically, the transport force transmission unit 110 is configured to contact the lower surface of the pallet P and transport the pallet P in the +x direction by the frictional force generated by both. As the carrying force transmitting unit 110, for example, a carrying belt called a conveyor belt, a carrying chain, or the like can be applied. Further, in the case of realizing non-contact pallet conveyance utilizing a linear motor in the pallet conveyance unit 100, a linear driving device arranged on the fixed side (for example, the pallet conveyance unit frame 105 side) is also included in the conveyance force transmission section 110. Will be done.

パレット搬送ユニット100は、上流工程の仮圧着が施されたワークWを載置したパレットPを、図2及び図3の紙面左側から取り込む。取り込まれたパレットPは、その下面が搬送力伝達部110と接触して+x方向に搬送されることとなる。
なお、パレット搬送ユニット100は、ラミネート基板製造装置1を平面視したときに、後述する加熱ヘッド320が配設された「ラミネート領域R1(図4(e)の斜線領域)」とパレット搬送ユニットが配設された領域R2(図4(e)の網掛け領域)とがオーバーラップするようにして、配置されている《図4(e)参照》。また、搬送力伝達部110が+x方向に沿って延びており、パレットPの流動経路がラミネート領域R1とオーバーラップしている。
パレットPは、この流動経路に沿って一旦ラミネート領域R1まで搬送される。そして所期のラミネート処理を終えると、パレット搬送ユニット100はパレットPを下流工程に向けて搬送する。なお、符号120は側壁レールを示す。
The pallet transport unit 100 takes in the pallet P on which the work W that has been subjected to the temporary pressure bonding in the upstream process is placed from the left side of the paper surface of FIGS. 2 and 3. The bottom surface of the taken-in pallet P comes into contact with the carrying force transmission unit 110 and is carried in the +x direction.
In the pallet transfer unit 100, when the laminated substrate manufacturing apparatus 1 is viewed in a plan view, the pallet transfer unit and the “laminating area R1 (hatched area in FIG. 4E)” in which the heating head 320 described later is arranged are arranged. The region R2 (the shaded region in FIG. 4(e)) is arranged so as to overlap the region R2 (see FIG. 4(e)). Further, the transport force transmission unit 110 extends along the +x direction, and the flow path of the pallet P overlaps the laminating region R1.
The pallet P is once transported to the laminating area R1 along this flow path. When the desired laminating process is completed, the pallet transfer unit 100 transfers the pallet P toward the downstream process. Reference numeral 120 indicates a side wall rail.

「パレットPを間欠的に搬送する」と定義したのは、実施形態1の搬送装置においては、テープ、フープ等のような連続的な搬送対象を搬送する装置ではなく、所定単位の搬送対象を「所定の単位で」「間欠的に」送る装置を想定しているとの意味である。具体的には、個々のパレットPを上流から下流に向けてパレットPの単位で順次流動させるフリーフロー型の搬送装置を想定している。 The definition of "transporting the pallet P intermittently" means that the transporting device of the first embodiment does not transport a continuous transporting target such as a tape or a hoop but a transporting target of a predetermined unit. It means that the device is supposed to send "in a predetermined unit" and "intermittently". Specifically, a free-flow type transport device is assumed in which individual pallets P are sequentially flowed from upstream to downstream in units of pallets P.

(3)パレット位置決めユニット200
パレット位置決めユニット200は、搬送されてきたパレットPの動きを止め、当該パレットPをパレット搬送ユニット100の搬送力伝達部110から分離し、当該パレットPの位置を決めるものである。
(3) Pallet positioning unit 200
The pallet positioning unit 200 stops the movement of the pallet P that has been conveyed, separates the pallet P from the conveyance force transmission unit 110 of the pallet conveyance unit 100, and determines the position of the pallet P.

(3−1)パレットストッパ210
図4(c)は図4(a)の破線Eで囲まれた領域を拡大した要部拡大平面図である。図4(d)はラミネート基板製造装置1を図4(a)のb−bで示す一点鎖線に沿って切断し矢印F(図2では矢印B)の方向から視たときの要部右側断面図である。なお、図4(d)において各構成要素はデフォルメされて模式的に描かれている。
(3-1) Pallet stopper 210
FIG. 4C is an enlarged plan view of an essential part in which the region surrounded by the broken line E in FIG. FIG. 4D is a right side cross-sectional view of a main part when the laminated substrate manufacturing apparatus 1 is cut along the dashed-dotted line indicated by bb in FIG. 4A and seen from the direction of arrow F (arrow B in FIG. 2 ). It is a figure. In addition, in FIG.4(d), each component is deformed and is drawn typically.

パレット位置決めユニット200は、パレットPの動きを止めてパレットPの+x方向の位置を決めるパレットストッパ210を有する。
パレットストッパ210は、図2〜図4(a)に示すように、パレットPが通過する領域であるパレット通過領域R3《図4(d)参照の符号R3を参照》を挟むようにして、パレット通過領域R3の−y方向側及び+y方向側にそれぞれ配置されている。
パレットストッパ210にはパレット障害部212が設けられている。パレット障害部212は、パレットPの流動を妨げるものであり、例えばLアングル状の部材、バー状の部材など適宜のものを採用することができる。
パレット位置決めユニット200は、図示しないパレット通過センサによりパレットストッパ210近傍まで搬送されてきたパレットPを検知し、パレット障害部212を+x方向に垂直な方向(図の例では−y方向又は+y方向)からパレット通過領域R3に対しエアシリンダ等で突き出すよう構成されている。これにより、流動してくるパレットPとパレット障害部212とを干渉させて、それ以上パレットPが流動しないようにしてパレットPの動きを止める《図4(c)及び図4(d)参照》。
The pallet positioning unit 200 has a pallet stopper 210 that stops the movement of the pallet P and determines the position of the pallet P in the +x direction.
As shown in FIGS. 2 to 4(a), the pallet stopper 210 sandwiches a pallet passage region R3 (see reference numeral R3 in FIG. 4(d)), which is a region through which the pallet P passes, to sandwich the pallet passage region. They are arranged on the −y direction side and the +y direction side of R3, respectively.
The pallet stopper 210 is provided with a pallet obstacle portion 212. The pallet obstruction portion 212 prevents the flow of the pallet P, and may be an appropriate member such as an L-angle member or a bar member.
The pallet positioning unit 200 detects the pallet P transported to the vicinity of the pallet stopper 210 by a pallet passing sensor (not shown), and moves the pallet obstacle portion 212 in a direction perpendicular to the +x direction (-y direction or +y direction in the illustrated example). The pallet passage region R3 is configured to be projected by an air cylinder or the like. As a result, the flowing pallet P and the pallet obstacle portion 212 are interfered with each other so that the pallet P does not flow any more and the movement of the pallet P is stopped (see FIGS. 4(c) and 4(d)). ..

(3−2)パレットP及び搬送力伝達部110の分離
パレット位置決めユニット200は、パレット搬送ユニット100を上下に駆動するパレット搬送ユニット昇降駆動部130を有する(これから述べるように、パレット搬送ユニット昇降駆動部130は、パレット分離を行う機能及び+z方向の位置決めを行う機能を有するため、パレット位置決めユニット200の一部をも構成している)。
パレット搬送ユニット昇降駆動部130(図示を省略)は、パレット搬送ユニット100全体を+z方向/−z方向に上下できるように構成されている《後述する図4(d)の矢印130a、図7(d)の矢印l及び図8(d)の矢印q参照》。これに伴い搬送力伝達部110も上下に動くようになっている。
パレット搬送ユニット昇降駆動部130は、例えば、パレット搬送ユニット100全体に接続されたモータ及びボールねじ(図示を省略)で構成することもできるし、ソレノイド、エアシリンダ等で構成することもできる。
(3-2) Separation of Pallet P and Conveyance Force Transmission Unit 110 The pallet positioning unit 200 has a pallet conveyance unit elevation drive unit 130 that drives the pallet conveyance unit 100 up and down (as will be described below, pallet conveyance unit elevation drive). Since the section 130 has a function of separating the pallet and a function of positioning in the +z direction, it also constitutes a part of the pallet positioning unit 200).
The pallet transport unit lifting/lowering drive unit 130 (not shown) is configured so that the entire pallet transport unit 100 can be moved up and down in the +z direction/−z direction <<arrow 130a in FIG. See the arrow l in d) and the arrow q in FIG. Along with this, the conveyance force transmission unit 110 also moves up and down.
The pallet transport unit lifting/lowering drive unit 130 can be configured by, for example, a motor and a ball screw (not shown) connected to the entire pallet transport unit 100, or can be configured by a solenoid, an air cylinder, or the like.

一方、基台500にはパレット載置テーブル230が強固に固定されている《図2、図3及び図4(d)参照》。このパレット載置テーブル230は、パレットストッパ210によって動きが止められるパレットPに対し(当該パレットからみて)その直下となる位置に配置されている。
パレット載置テーブル230の上面のレベル及び搬送力伝達部110の上面のレベルは、通常の動作状態のときには、パレット通過領域R3の下端(換言するとパレットPの下面)とパレット載置テーブル230の上面との間に隙間SP1《図4(d)参照》ができるように(間隔SP1のクリアランスが確保されるように)、それらの関係が設定されている。このため、通常の動作状態のときにはパレットP及びパレット載置テーブル230は互いに干渉せず、パレットPが円滑に流動する。
On the other hand, the pallet mounting table 230 is firmly fixed to the base 500 (see FIGS. 2, 3 and 4D). The pallet mounting table 230 is arranged at a position immediately below (when viewed from the pallet) the pallet P whose movement is stopped by the pallet stopper 210.
The level of the upper surface of the pallet mounting table 230 and the level of the upper surface of the conveying force transmitting unit 110 are, in a normal operating state, the lower end of the pallet passing region R3 (in other words, the lower surface of the pallet P) and the upper surface of the pallet mounting table 230. The relationship between them is set so that a gap SP1 (see FIG. 4(d)) can be formed between the and (in order to secure the clearance of the interval SP1). Therefore, in the normal operation state, the pallet P and the pallet mounting table 230 do not interfere with each other, and the pallet P flows smoothly.

他方、パレット搬送ユニット昇降駆動部130によってパレット搬送ユニット100が下降したとき、搬送力伝達部110の上面のレベルがパレット載置テーブル230の上面のレベルよりも下となるように、パレット搬送ユニット昇降駆動部130における下降量が設定されている。
このため、パレットストッパ210によりパレットPの動きが止まった後に、パレット搬送ユニット昇降駆動部130によって、パレット搬送ユニット100が当該パレットPごと(パレットPが搬送力伝達部110に載せられた状態で)下降を始めると、やがて、搬送力伝達部110の上面に載せられたパレットPの下面は、パレット載置テーブル230の上面と当接し、パレットPの下面は搬送力伝達部110の上面から分離する(相対的にパレットPを搬送力伝達部110から浮くことになる)。つまり、パレットPの下面と搬送力伝達部110の上面との間の接触が解除される。そして、パレットPはパレット載置テーブル230のみに載置されることとなる
このように、パレット搬送ユニット昇降駆動部130によりパレット搬送ユニット100がパレットPと共に下降し、パレットPがパレット載置テーブル230の上に載置するよう構成されている、
On the other hand, when the pallet transport unit lifting/lowering drive unit 130 lowers the pallet transport unit 100, the pallet transport unit is lifted/lowered so that the level of the upper surface of the transport force transmission unit 110 is lower than that of the pallet mounting table 230. The amount of descent in the drive unit 130 is set.
Therefore, after the movement of the pallet P is stopped by the pallet stopper 210, the pallet transport unit lifting drive unit 130 causes the pallet transport unit 100 to move together with the pallet P (in a state where the pallet P is placed on the transport force transmission unit 110). When the descent is started, the lower surface of the pallet P placed on the upper surface of the conveying force transmitting unit 110 eventually contacts the upper surface of the pallet mounting table 230, and the lower surface of the pallet P is separated from the upper surface of the conveying force transmitting unit 110. (Relatively, the pallet P floats from the transfer force transmission unit 110). That is, the contact between the lower surface of the pallet P and the upper surface of the transport force transmission unit 110 is released. Then, the pallet P is placed only on the pallet loading table 230. In this way, the pallet transport unit lifting drive unit 130 lowers the pallet transport unit 100 together with the pallet P, and the pallet P is moved to the pallet load table 230. Configured to rest on,

(3−3)パレットPの位置決め
パレット位置決めユニット200は、パレットPと搬送力伝達部110とを分離した後に、当該パレットPの位置を決めるよう構成されている。
(3-3) Positioning of Pallet P The pallet positioning unit 200 is configured to determine the position of the pallet P after separating the pallet P and the transfer force transmission unit 110.

パレット位置決めユニット200は、例えば、パレットストッパ210、パレット搬送ユニット昇降駆動部130、パレット載置テーブル230及びカムフォロア220によってパレットPの位置決めを実現する。
具体的には、次のようにパレット位置決めユニット200を構成することで、パレットPの各方向の位置を決める。
(a)パレット障害部212を+x方向に垂直な方向からパレット通過領域R3に対し突き出すよう構成する。これにより、搬送されてきたパレットPの動きは止まり、当該パレットPの+x方向の位置が一時的に固定する。こうしてパレットPの+x方向の位置を決めることができる。
(b)パレットPの+x方向の位置が固定された後、パレット搬送ユニット昇降駆動部130によりパレット搬送ユニット100を当該パレットPごと下降させ、パレットPがパレット載置テーブル230に載置するように構成する。これにより、パレットPの+z方向の位置を一時的に固定して、パレットPの+z方向の位置を決めることができる。
(c)搬送力伝達部110の上面の+y方向側及び−y方向側には、パレット通過領域R3を挟むようにしてカムフォロア220がそれぞれ配置されている(図2〜図4参照)。
このカムフォロア220は、パレットPが流動していない開放状態のとき、カムフォロア220のローラ面(符号省略)とパレット通過領域R3との関係が、双方の間のクリアランスがゼロ(0)、又は、製品が良品とされる公差の範囲内でプラス(若干隙間がある)となるように設定されている。
もし、パレットPが+y方向/−y方向に若干ずれた状態でラミネート領域R1にまで搬送されてきたときには、パレットPの端面(+y方向側/−y方向側の面)がカムフォロア220のローラ面に当接し、パレットPが本来あるべき+y方向/−y方向に押されて、狙いとしている+y方向/−y方向の位置に補正されるようになっている《図4(b)及び図4(d)を参照》。このようにして、パレットPがラミネート領域R1にまで搬送されてきたら、パレットPの+y方向/−y方向の位置を自動的に決めることができる。
なお、図4(b)は、カムフォロア220を説明するために示す図であり、図4(a)の矢印Dの方向から視た要部正面図である。
(d)パレットストッパ210は、パレット通過領域R3を挟むようにして、パレット通過領域R3の−y方向側及び+y方向側(両側)のそれぞれに配置されている。
このため、搬送されてきたパレットPの姿勢が仮に正しくなかったとしても(θ方向のずれがあったとしても)、パレット通過領域R3の−y方向側及び+y方向側の両側にパレットストッパ210が待ち受けており、結局のところ(−y方向側及び+y方向側の)2本の搬送力伝達部110によってパレットPが+x方向に押されて、パレットPの端面は両側のパレットストッパ210(特にパレット障害部212)に押し付けられる形となる。これにより、パレットPのθ方向の姿勢を固定してパレットPのθ方向の姿勢を決めることができる。
以上のように位置(及び姿勢)が決められたパレットPは、後述するラミネート処理の際に加熱ヘッド320と整合するように構成されている。
The pallet positioning unit 200 realizes the positioning of the pallet P by, for example, the pallet stopper 210, the pallet transport unit lifting drive unit 130, the pallet mounting table 230, and the cam follower 220.
Specifically, the position of the pallet P in each direction is determined by configuring the pallet positioning unit 200 as follows.
(A) The pallet obstacle portion 212 is configured to project from the direction perpendicular to the +x direction to the pallet passage area R3. As a result, the movement of the conveyed pallet P stops, and the position of the pallet P in the +x direction is temporarily fixed. In this way, the position of the pallet P in the +x direction can be determined.
(B) After the position of the pallet P in the +x direction is fixed, the pallet transport unit lifting drive unit 130 lowers the pallet transport unit 100 together with the pallet P so that the pallet P is placed on the pallet loading table 230. Constitute. Accordingly, the position of the pallet P in the +z direction can be temporarily fixed, and the position of the pallet P in the +z direction can be determined.
(C) The cam followers 220 are arranged on the +y direction side and the −y direction side of the upper surface of the conveying force transmission unit 110, respectively, so as to sandwich the pallet passing region R3 (see FIGS. 2 to 4).
In this cam follower 220, when the pallet P is in an open state in which the fluid does not flow, the relationship between the roller surface (reference numeral omitted) of the cam follower 220 and the pallet passage region R3 is such that the clearance between them is zero (0), or Is set to be positive (with a slight gap) within the range of tolerance that is considered good.
If the pallet P is conveyed to the laminating area R1 with a slight deviation in the +y direction/−y direction, the end surface of the pallet P (+y direction side/−y direction side surface) is the roller surface of the cam follower 220. The pallet P is pushed in the +y direction/−y direction, which should be the original position, and is corrected to the target position in the +y direction/−y direction (FIGS. 4B and 4). See (d)>>. In this way, when the pallet P is conveyed to the laminating area R1, the position of the pallet P in the +y direction/−y direction can be automatically determined.
Note that FIG. 4B is a diagram shown for explaining the cam follower 220, and is a front view of the main part as viewed from the direction of arrow D in FIG. 4A.
(D) The pallet stoppers 210 are arranged on the −y direction side and the +y direction side (both sides) of the pallet passage region R3 so as to sandwich the pallet passage region R3.
Therefore, even if the attitude of the conveyed pallet P is incorrect (even if there is a deviation in the θ direction), the pallet stoppers 210 are provided on both sides of the pallet passage region R3 on the −y direction side and the +y direction side. The pallet P is pushed in the +x direction by the two conveyance force transmission units 110 (on the −y direction side and the +y direction side), so that the end surface of the pallet P has pallet stoppers 210 on both sides (particularly on the pallet side). It will be pressed against the obstacle 212). Accordingly, the attitude of the pallet P in the θ direction can be fixed and the attitude of the pallet P in the θ direction can be determined.
The pallet P whose position (and posture) is determined as described above is configured to be aligned with the heating head 320 during the laminating process described later.

(4)ラミネートユニット300
ラミネートユニット300は、パレットP上に載置されたワークWを加熱・加圧してラミネートするものである。換言すると、ラミネートユニット300は基板BDに個片PCを本圧着する「ラミネート処理」を行うものである。
(4) Laminating unit 300
The laminating unit 300 heats and pressurizes the work W placed on the pallet P to laminate it. In other words, the laminating unit 300 performs the "laminating process" in which the individual pieces PC are permanently pressure-bonded to the substrate BD.

(4−1)ヘッド機構体380
図3に示すように、ラミネートユニット300は、ラミネートユニット本体305、下端に下縁部312を含む外周縁部307等を有している。ラミネートユニット300は、下縁部312から内側にかけてワークWを収容可能なワーク収容部310を有している。ワーク収容部310の内部には加熱ヘッド320(図3には表示なし)が配設されている。
ラミネートユニット本体305、外周縁部307、加熱ヘッド320等を纏めて「ヘッド機構体380」というものとする。
(4-1) Head mechanism body 380
As shown in FIG. 3, the laminating unit 300 has a laminating unit main body 305, an outer peripheral edge portion 307 including a lower edge portion 312 at the lower end, and the like. The laminating unit 300 has a work accommodating portion 310 capable of accommodating the work W from the lower edge portion 312 to the inside. A heating head 320 (not shown in FIG. 3) is arranged inside the work storage portion 310.
The laminating unit main body 305, the outer peripheral edge portion 307, the heating head 320 and the like are collectively referred to as a “head mechanism 380”.

(4−2)ヘッド機構体昇降駆動部350
また図2及び図3に示すように、ラミネートユニット300はヘッド機構体昇降駆動部350を有している。ヘッド機構体昇降駆動部350は、モータ352、ボールねじ354、ガイド356等で構成されており、ヘッド機構体380を上下に駆動する。
(4-2) Head mechanism lifting drive unit 350
As shown in FIGS. 2 and 3, the laminating unit 300 has a head mechanism elevating/lowering drive unit 350. The head mechanism lifting/lowering drive unit 350 is composed of a motor 352, a ball screw 354, a guide 356, etc., and drives the head mechanism 380 up and down.

(4−3)ヘッド機構体380の詳細
図5は、実施形態1のラミネートユニット300の要部(ヘッド機構体380)を説明するために示す図である。図5(a)〜図5(c)は図3の破線Cで囲まれた領域の断面を拡大した要部拡大断面図である。
(4-3) Details of Head Mechanism Body 380 FIG. 5 is a diagram shown for explaining a main part (head mechanism body 380) of the laminating unit 300 of the first embodiment. 5(a) to 5(c) are enlarged cross-sectional views of an essential part in which the cross section of the region surrounded by the broken line C in FIG. 3 is enlarged.

図5(a)を参照しながら、ヘッド機構体380の詳細について説明を続ける。
図5(a)はヘッド機構体380単体の状態(ヘッド機構体単体状態)を示している。
ラミネートユニット本体305は、ヘッド機構体昇降駆動部350と連結されており、ヘッド機構体昇降駆動部350からの駆動力を直接的に受ける(図3も併せて参照)。
The details of the head mechanism 380 will be described with reference to FIG.
FIG. 5A shows the state of the head mechanism 380 alone (the state of the head mechanism alone).
The laminating unit main body 305 is connected to the head mechanism lifting/lowering drive unit 350 and directly receives the driving force from the head mechanism lifting/lowering drive unit 350 (see also FIG. 3).

ラミネートユニット本体305の下側の周縁付近には、外周縁部307が設けられている。外周縁部307は、ラミネートユニット本体305に対して上下可能となっている。
外周縁部307は、復帰ばね322により、ラミネートユニット本体305に対し下方向に押されている。したがって、パレットPと当接していないときは図5(a)に示すように下側の位置(原点位置)となっている。
外周縁部307がラミネートユニット本体305に対し摺動する部分(外周縁部307及びラミネートユニット本体305の間)には第2シール部材324が介挿されており、摺動部がシールされて空気の行き来を遮断するようになっている。
An outer peripheral edge portion 307 is provided near the lower peripheral edge of the laminating unit body 305. The outer peripheral edge portion 307 is vertically movable with respect to the laminating unit main body 305.
The outer peripheral edge portion 307 is pressed downward by the return spring 322 with respect to the laminating unit main body 305. Therefore, when it is not in contact with the pallet P, it is at the lower position (origin position) as shown in FIG.
A second seal member 324 is inserted in a portion where the outer peripheral edge portion 307 slides with respect to the laminate unit main body 305 (between the outer peripheral edge portion 307 and the laminate unit main body 305), and the sliding portion is sealed to prevent air leakage. It is designed to block traffic to and from.

外周縁部307の下側である下縁部312は、位置決めされたパレットPの周縁部と当接するよう位置関係が設定されている。
下縁部312がパレットPと当接することにより、ワーク収容部310及びパレットPの上面により一時的なチャンバCHを形成できるようになる《図5(b)参照》。
また、下縁部312にはパレットPの上面と当接するシール部材(第1シール部材314)が付設されている。シール部材(第1シール部材314)を下縁部312に付設することで、下縁部312がパレットPと当接して一時的なチャンバCHが形成された際に、当該チャンバCHの気密性をより高めることができる。
シール部材はゴム等の部材を採用することができる。シール部材の硬さは、パレットPの当接面と馴染むよう硬すぎない方が良く、その一方で耐久性の観点で柔らかすぎない方が良い。また、パレットP側の下縁部312と当接する面は平滑であることが好ましい。
The lower edge portion 312, which is the lower side of the outer peripheral edge portion 307, is set in a positional relationship so as to come into contact with the peripheral edge portion of the positioned pallet P.
When the lower edge portion 312 contacts the pallet P, the work chamber 310 and the upper surfaces of the pallet P can form a temporary chamber CH (see FIG. 5B).
Further, a seal member (first seal member 314) that comes into contact with the upper surface of the pallet P is attached to the lower edge portion 312. By attaching the seal member (first seal member 314) to the lower edge portion 312, when the lower edge portion 312 contacts the pallet P and a temporary chamber CH is formed, the airtightness of the chamber CH is improved. It can be increased.
A member such as rubber can be adopted as the seal member. The hardness of the seal member is preferably not too hard so as to fit the contact surface of the pallet P, while it is not too soft from the viewpoint of durability. Further, it is preferable that the surface of the pallet P that contacts the lower edge portion 312 is smooth.

(4−4)加熱ヘッド320
図5(a)に示すように、ラミネートユニット本体305の内側には、ワークWを加熱・加圧する加熱ヘッド320が配設されている。加熱ヘッド320は、ワーク収容部310の内部に収容されたワークWを加熱・加圧するものである。
加熱ヘッド320は、ワークWが当接する方向の側に、ワークWの上面WSF側の形状に即した形状の加熱面326を有している。換言すると、加熱面326はワークWの断面形状に整合するように凹凸形状をなしている。
加熱ヘッド320は熱を供給するためのヒータ330を内蔵している。
(4-4) Heating head 320
As shown in FIG. 5A, a heating head 320 for heating/pressurizing the work W is disposed inside the laminating unit main body 305. The heating head 320 heats/pressurizes the work W housed inside the work housing unit 310.
The heating head 320 has a heating surface 326 having a shape corresponding to the shape of the upper surface WSF side of the work W on the side in the direction in which the work W abuts. In other words, the heating surface 326 has an uneven shape so as to match the cross-sectional shape of the work W.
The heating head 320 has a built-in heater 330 for supplying heat.

(4−5)ヘッド機構体380の状態遷移
図5(b)は下縁部312がパレットPと当接してチャンバCHを形成しているとき(チャンバ形成状態)の様子を示し、図5(c)はワークWが加熱ヘッド320の加熱面326に押し付けられて加熱・加圧されるとき(ラミネート実施状態)の様子を示している。
(a)ヘッド機構体380は、単体のみの状態のときには、外周縁部307が復帰ばね322により下側の位置(原点位置)となっている(ヘッド機構体単体状態)《図5(a)参照》。
(b)ヘッド機構体380がヘッド機構体昇降駆動部350により下降すると、下縁部312(より具体的には第1シール部材314)がパレットの周縁部と当接する。このとき、外周縁部307は復帰ばね322により下方に押され、下縁部312とパレットPの上面とはシールされて、ワーク収容部310及びパレットPで一時的なチャンバCHが形成される(チャンバ形成状態)《図5(b)参照》。
この状態で、いずれも図5では図示しない排気装置400を用いて排気口340からチャンバCH内の気体を排気する(真空引きする)ことができる《図7(e)参照。》。
(c)ヘッド機構体380が更に下降すると、加熱ヘッド320の加熱面326がワークWと接触する。この状態で、更に加熱ヘッド320が下方向に移動しようとすると、ワークWに対し加熱ヘッド320(加熱面326)から圧力が掛かり、ワークWを加熱・加圧することができる(ラミネート実施状態)《図5(c)参照》
また、このとき、パレットPは強固に固定されたパレット載置テーブル230に載置されているため、ワークWに対する加熱ヘッド320の押し付けに対し安定的に抗することができるようになっている。
また、この状態においてもチャンバCHの形成は維持されており、チャンバCH内の気体を引き続き排気する(真空引き)することができる。
(d)以降、ヘッド機構体昇降駆動部350によりヘッド機構体380を上昇させることにより、図5(c)の状態、図5(b)の状態及び図5(a)の状態へと、順次逆方向に状態を遷移させることができる。
(4-5) State Transition of Head Mechanism Body 380 FIG. 5B shows a state when the lower edge portion 312 is in contact with the pallet P to form the chamber CH (chamber forming state), and FIG. FIG. 3C shows a state in which the work W is pressed against the heating surface 326 of the heating head 320 and heated/pressurized (a laminating execution state).
(A) When the head mechanism 380 is in the state of only a single body, the outer peripheral edge portion 307 is in the lower position (origin position) by the return spring 322 (head mechanism single body state) <<Fig. 5(a) reference".
(B) When the head mechanism 380 is lowered by the head mechanism raising/lowering drive unit 350, the lower edge portion 312 (more specifically, the first seal member 314) contacts the peripheral portion of the pallet. At this time, the outer peripheral edge portion 307 is pushed downward by the return spring 322, the lower edge portion 312 and the upper surface of the pallet P are sealed, and the work chamber 310 and the pallet P form a temporary chamber CH ( Chamber formation state) <<See Fig. 5(b)>>.
In this state, the gas in the chamber CH can be exhausted (evacuated) from the exhaust port 340 by using the exhaust device 400 not shown in FIG. 5 (see FIG. 7E). >>.
(C) When the head mechanism 380 further descends, the heating surface 326 of the heating head 320 contacts the work W. When the heating head 320 further attempts to move downward in this state, pressure is applied to the work W from the heating head 320 (heating surface 326), and the work W can be heated and pressed (lamination execution state) << See FIG. 5(c)>>
Further, at this time, since the pallet P is mounted on the pallet mounting table 230 which is firmly fixed, it is possible to stably resist the pressing of the heating head 320 against the work W.
Further, even in this state, the formation of the chamber CH is maintained, and the gas in the chamber CH can be continuously exhausted (evacuated).
After (d), by raising the head mechanism 380 by the head mechanism raising/lowering drive unit 350, the state of FIG. 5C, the state of FIG. 5B, and the state of FIG. The state can be changed in the opposite direction.

以上のように、ラミネート基板製造装置1は、ワークWがパレットPに載置された状態でチャンバCH内を排気しながら加熱面326をワークWに向けて押し付けてワークWをラミネートできるよう構成されている。 As described above, the laminated substrate manufacturing apparatus 1 is configured to laminate the work W by pressing the heating surface 326 toward the work W while exhausting the inside of the chamber CH with the work W placed on the pallet P. ing.

3.実施形態1に係るラミネート基板の製造方法(ラミネート基板製造装置1の動作)
続いて、図6〜図8を参照しながらラミネート基板の製造方法(ラミネート基板製造装置1の動作)について説明する。
図6は、実施形態1に係るラミネート基板の製造方法を説明するために示すフロー図である。図7及び図8は、実施形態1に係るラミネート基板製造装置1の動作を説明するために示す模式図である。図7(a)〜図7(e)は給材工程S10及びラミネート工程S20の一部のステップ(チャンバ形成ステップS22)の様子を示し、図8(a)〜図8(e)は、ラミネート工程S20の残余のステップ、ヘッド機構体退避工程S30及び除材工程S40の様子を示している。図7(c)のみ平面図であり、残余の図は正面図である。
3. Method for Manufacturing Laminated Substrate According to Embodiment 1 (Operation of Laminated Substrate Manufacturing Apparatus 1)
Next, a method of manufacturing a laminated board (operation of the laminated board manufacturing apparatus 1) will be described with reference to FIGS. 6 to 8.
FIG. 6 is a flow chart shown for explaining the method for manufacturing the laminated substrate according to the first embodiment. 7 and 8 are schematic diagrams shown for explaining the operation of the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment. 7A to 7E show a state of a part of the steps of the material supplying step S10 and the laminating step S20 (chamber forming step S22), and FIGS. 8A to 8E show laminating. The remaining steps of the step S20, the head mechanism retracting step S30, and the material removing step S40 are shown. Only FIG. 7C is a plan view, and the remaining figures are front views.

実施形態1に係るラミネート基板の製造方法は、複数の個片PCが基板BD上に仮圧着された状態のワークWを被ラミネート対象としてこれをラミネートするラミネート基板の製造方法であって、図6に示すように、パレット停止ステップS12及びパレット位置決めステップS14を有する給材工程S10、並びに、チャンバ形成ステップS22、真空引きステップS24及び加熱・加圧ステップS26を有するラミネート工程S20を少なくとも含む。
さらにラミネート工程S20に続いて、真空引き解除ステップS32、加熱ヘッド分離ステップS34及びチャンバ解消ステップS36を有するヘッド機構体退避工程S30、並びに、パレット位置決め解消ステップS42を有する除材工程S40を含んでもよい。
The method for manufacturing a laminated substrate according to the first embodiment is a method for manufacturing a laminated substrate in which a plurality of individual pieces PC are temporarily bonded to a substrate BD and a work W is laminated as an object to be laminated. As shown in FIG. 5, at least the material supplying step S10 including the pallet stopping step S12 and the pallet positioning step S14, and the laminating step S20 including the chamber forming step S22, the evacuation step S24, and the heating/pressurizing step S26 are included.
Further, following the laminating step S20, a vacuum mechanism releasing step S32, a head mechanism retracting step S30 having a heating head separating step S34 and a chamber eliminating step S36, and a material removing step S40 having a pallet positioning eliminating step S42 may be included. ..

(1)パレット停止ステップS12
まず、上流工程の仮圧着が施されたワークWを載置したパレットPを取り込む。このとき、パレットPを搬送力伝達部110と接触させながらワークWが載置された状態で+x方向に沿って矢印jの方向に搬送する《図7(a)参照》。
次いで、パレットストッパ210近傍まで搬送されてきたパレットPをパレット通過センサ(図示なし)により検知したなら、パレット障害部212を+x方向に垂直な方向からパレット通過領域R3(図7では表示しない)に対し矢印kの方向に突き出し、搬送されてくるパレットPの動きを停止させる《図7(b)及び図7(c)参照》。
(1) Palette stop step S12
First, the pallet P on which the work W that has been subjected to temporary pressure bonding in the upstream process is placed is taken in. At this time, the pallet P is conveyed in the direction of the arrow j along the +x direction while the work W is placed while making contact with the conveyance force transmission unit 110 (see FIG. 7A).
Next, when the pallet P conveyed to the vicinity of the pallet stopper 210 is detected by a pallet passage sensor (not shown), the pallet obstacle portion 212 is moved from the direction perpendicular to the +x direction to the pallet passage region R3 (not shown in FIG. 7). The pallet P projected in the direction of the arrow k is stopped to stop the movement of the conveyed pallet P (see FIGS. 7B and 7C).

(2)パレット位置決めステップS14
上記パレット停止ステップS12を実施することにより、同時にパレットPの+x方向の位置決めがされる。またこれと同時に、もしパレットPの+y方向/−y方向の位置がずれていたとしても、カムフォロア220がパレットPの端面に対し本来あるべき+y方向/−y方向に押すよう構成されているため、パレットPの+y方向/−y方向の位置決めが自動的になされる。また、パレットPのθ方向の姿勢についてもこれらによって決められる。
図7(b)及び図7(c)の状態に引き続き、パレット搬送ユニット昇降駆動部130により、矢印lの方向にパレット搬送ユニット100をパレットPごと下降させる。これにより、パレットPがパレット載置テーブル230に載置するため、パレットPの+z方向の位置が一時的に固定されて、パレットPの+z方向の位置決めがされる《図7(d)参照》。
このようにして、停止したパレットPを搬送力伝達部110から分離し、パレットPの位置を決める。
(2) Pallet positioning step S14
By carrying out the pallet stopping step S12, the pallet P is simultaneously positioned in the +x direction. At the same time, even if the position of the pallet P in the +y direction/-y direction is displaced, the cam follower 220 is configured to push the end face of the pallet P in the originally +y direction/-y direction. , The pallet P is automatically positioned in the +y direction/−y direction. Further, the attitude of the pallet P in the θ direction is also determined by these.
7(b) and 7(c), the pallet transfer unit raising/lowering drive unit 130 lowers the pallet transfer unit 100 together with the pallet P in the direction of arrow l. As a result, the pallet P is placed on the pallet placement table 230, so that the position of the pallet P in the +z direction is temporarily fixed, and the pallet P is positioned in the +z direction (see FIG. 7D). ..
In this way, the stopped pallet P is separated from the transfer force transmission unit 110, and the position of the pallet P is determined.

以上を行うことで給材工程S10を実施することができ、後続するラミネート工程S20にワークW及びパレットPを付すことができる。 By performing the above, the material supplying step S10 can be performed, and the work W and the pallet P can be attached to the subsequent laminating step S20.

(3)チャンバ形成ステップS22
次いで、ヘッド機構体昇降駆動部350(図7においては表示なし。以下同様。)を動作させてヘッド機構体380を矢印mの方向に下降させ、これによって、ラミネートユニット300(ヘッド機構体380)の下縁部312をパレットPに向けて下降させる。そして、下縁部312(より具体的には第1シール部材314)をパレットPと当接させ、下縁部312とパレットPの上面とをシールし、ワーク収容部310及びパレットPで一時的なチャンバCHを形成する《図7(e)参照》。
なおこのとき、ラミネートユニット300(より具体的にはヘッド機構体380)は下縁部312から内側にかけてワークWを収容可能なワーク収容部310を有し、ワーク収容部310の内部にはワークWを加熱・加圧する加熱ヘッド320が配設されているものとする。
(3) Chamber forming step S22
Next, the head mechanism lifting/lowering drive unit 350 (not shown in FIG. 7, the same applies hereinafter) is operated to lower the head mechanism 380 in the direction of the arrow m, whereby the laminating unit 300 (head mechanism 380). The lower edge portion 312 is lowered toward the pallet P. Then, the lower edge portion 312 (more specifically, the first seal member 314) is brought into contact with the pallet P, the lower edge portion 312 and the upper surface of the pallet P are sealed, and the work storage portion 310 and the pallet P temporarily. Forming a different chamber CH (see FIG. 7E).
At this time, the laminating unit 300 (more specifically, the head mechanism body 380) has a work accommodating portion 310 capable of accommodating the work W from the lower edge portion 312 to the inner side, and the work W is provided inside the work accommodating portion 310. It is assumed that a heating head 320 for heating/pressurizing is installed.

(4)真空引きステップS24
次いで、真空ポンプ等の排気装置400を用いて排気口340からチャンバCH内の気体を排気する(真空引きする)《図7(e)参照》。
このときチャンバCH内は、−40kPa〜−120kPa程度とすることが好ましい。さらに、−70kPa〜−80kPa程度とすることがより好ましい。
(4) Vacuuming step S24
Next, the gas in the chamber CH is exhausted (evacuated) from the exhaust port 340 by using the exhaust device 400 such as a vacuum pump (see FIG. 7E).
At this time, the inside of the chamber CH is preferably set to about −40 kPa to −120 kPa. Furthermore, it is more preferable to set the pressure to about −70 kPa to −80 kPa.

(5)加熱・加圧ステップS26
次いで、ヘッド機構体昇降駆動部350を動作させてヘッド機構体380を矢印nの方向に更に下降させ、ラミネートユニット300(より具体的には加熱ヘッド320)の加熱面326をワークWに向けて押し付けてワークWを加熱・加圧する《図8(a)参照》。このとき、チャンバCH内の気体は引き続き排気する。
加熱・加圧ステップS26を実施する条件は、ワークWの仕様等に依って異なるが、例えば、ヒータ330の温度を150〜200℃の範囲内の所定の温度に設定しつつ、加熱・加圧の時間を1〜2分間の範囲内の所定の時間に設定してもよい。
(5) Heating/pressurizing step S26
Next, the head mechanism lifting/lowering drive unit 350 is operated to further lower the head mechanism 380 in the direction of arrow n, and the heating surface 326 of the laminating unit 300 (more specifically, the heating head 320) is directed toward the work W. The work W is pressed and heated/pressurized (see FIG. 8A). At this time, the gas in the chamber CH is continuously exhausted.
The conditions for performing the heating/pressurizing step S26 differ depending on the specifications of the workpiece W, but for example, while heating/pressurizing while setting the temperature of the heater 330 to a predetermined temperature within the range of 150 to 200° C. The time may be set to a predetermined time within the range of 1 to 2 minutes.

以上を行うことでラミネート工程S20を実施することができ、ラミネート基板を得ることができる。 By performing the above, the laminating step S20 can be performed, and the laminated substrate can be obtained.

(6)真空引き解除ステップS32
次いで、排気装置400と排気口340との間の経路を遮断し、排気口340を介してチャンバCH内を大気と同等に開放することにより真空引きを解除する《図8(b)参照》。
(6) Vacuum release step S32
Next, the path between the exhaust device 400 and the exhaust port 340 is cut off, and the inside of the chamber CH is opened to the same level as the atmosphere through the exhaust port 340 to release the vacuum (see FIG. 8B).

(7)加熱ヘッド分離ステップS34
次いで、ヘッド機構体昇降駆動部350を動作させてヘッド機構体380を矢印oの方向に上昇させ、加熱ヘッド320(加熱面326)をワークWから分離する《図8(b)参照。図は分離する直前の様子を示している。》。
(7) Heating head separation step S34
Next, the head mechanism lifting/lowering drive unit 350 is operated to raise the head mechanism 380 in the direction of the arrow o, and the heating head 320 (heating surface 326) is separated from the work W (see FIG. 8B). The figure shows the state just before separation. >>.

(8)チャンバ解消ステップS36
次いで、ヘッド機構体昇降駆動部350を動作させてヘッド機構体380を矢印pの方向に更に上昇させ、互いに接触していた下縁部312とパレットPとを分離し、一時的に形成していたチャンバCHを解消して、ワーク収容部310、パレットP及びワークWを大気に開放する《図8(c)参照》。
(8) Chamber elimination step S36
Next, the head mechanism lifting/lowering drive unit 350 is operated to further raise the head mechanism 380 in the direction of the arrow p, and the lower edge portion 312 and the pallet P which are in contact with each other are separated and temporarily formed. Then, the chamber CH is removed, and the work storage portion 310, the pallet P, and the work W are opened to the atmosphere (see FIG. 8C).

(9)パレット位置決め解消ステップS42
次いで、パレット搬送ユニット昇降駆動部130により矢印qの方向にパレット搬送ユニット100上昇させ、パレット載置テーブル230に載置されていたパレットPをパレット載置テーブル230から分離させ、搬送力伝達部110の上面に再び載置する《図8(d)参照》。
その後、パレットストッパ210のパレット障害部212をパレット通過領域R3から退避することにより、パレットPを自由流動させて下流の矢印rの方向に放流させる《図8(e)参照》。
(9) Pallet positioning cancellation step S42
Next, the pallet transport unit lifting/lowering drive unit 130 raises the pallet transport unit 100 in the direction of arrow q to separate the pallet P mounted on the pallet mounting table 230 from the pallet mounting table 230, and the transport force transmitting unit 110. Place it again on the upper surface of the plate (see FIG. 8D).
After that, by retracting the pallet obstacle portion 212 of the pallet stopper 210 from the pallet passage region R3, the pallet P is allowed to freely flow and discharged in the direction of the arrow r downstream (see FIG. 8(e)).

以上を行うことでラミネート処理を終えたラミネート基板(製品W’)を除材して、次工程に渡すことができる。 By performing the above, the laminated substrate (product W') that has undergone the laminating process can be removed and passed to the next step.

4.実施形態1に係るラミネート基板製造装置1及びラミネート基板の製造方法の効果
(1)実施形態1に係るラミネート基板製造装置1は、加熱ヘッド320が配設されたラミネート領域R1とパレット搬送ユニット100が配設された領域R2とがオーバーラップするようにしてパレット搬送ユニット100が配置されており、ワークWがパレットPに載置された状態でチャンバCH内を排気した状態で加熱面326をワークWに向けて押し付けてワークWをラミネートするよう構成されている。
つまり、ワークWをパレットPごとラミネート領域R1内に取り込み(給材)、ワークWがパレットPに載せられた状態でワークWに対しラミネート処理を行い、ラミネート処理を終えた製品W’がパレットPに乗せられた状態でパレットPごと下流工程に搬送させる(流動させる)(除材)ことができる。
したがって、従来のように仮圧着済みのワークを個々に取り出してチャンバ内に積み替えたり、ワークを1個ずつ準備してチャンバ内に組み入れ(給材)、ラミネート処理を終えたらチャンバ内から処理済み製品を取り出す(除材)といった作業を行うこともなく、パレットの搬送経路上で、ワークがパレットに載置されたままの状態で(搬送時と同じ状態で)、ラミネート領域への給除材及びラミネート処理を行うことができる。
したがって、ラミネート基板製造装置1によれば、従来よりも効率的にワークの給除材を行うことができる。
4. Effects of Laminated Substrate Manufacturing Apparatus 1 and Laminated Substrate Manufacturing Method According to First Embodiment (1) In the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment, the laminating area R1 in which the heating head 320 is disposed and the pallet transport unit 100 are provided. The pallet transport unit 100 is arranged so as to overlap the provided region R2, and the heating surface 326 is placed on the heating surface 326 while the inside of the chamber CH is exhausted while the work W is placed on the pallet P. The work W is laminated by pressing the work W toward.
That is, the work W together with the pallet P is taken into the laminating area R1 (material supply), the work W is laminated on the pallet P, and the work W is laminated. The pallet P can be conveyed (fluidized) (removed) to the downstream process while being placed on the pallet.
Therefore, as in the past, the workpieces that have been temporarily pressure-bonded are individually taken out and loaded into the chamber, or the workpieces are prepared one by one and incorporated into the chamber (feeding). Without performing work such as taking out (removing material), while the work is still placed on the pallet (in the same state as when being transported) on the pallet transport path, A laminating process can be performed.
Therefore, according to the laminated substrate manufacturing apparatus 1, it is possible to perform the work feeding/removing material more efficiently than in the past.

また、実施形態1に係るラミネート基板製造装置1は、ワークWが載置されたパレットPを間欠的に搬送するパレット搬送ユニット100を備え、ワークWがパレットPに載置された状態で、チャンバCH内を排気しながら加熱面326をワークWに向けて押し付けてワークWをラミネートするよう構成されている。つまり、上流工程で仮圧着されたワークWはそのままパレット搬送ユニット100によって当該ラミネート基板製造装置1に取り込まれ、そのままパレット単位で一時的なチャンバCHを形成してラミネートを行うよう構成されている。
よって、当該ラミネート基板製造装置1の外のパレット搬送装置(図示なし)による搬送が概ね同じスループットで行われている限りにおいては、仮圧着されてからラミネート処理が行われるまでの待機時間は概ね一定となる。したがって、従来のようにラミネート処理が行われるまでの待機時間が大きくバラつくことはない。
また、ラミネート基板製造装置1によれば、ワーク1個ずつに対して加熱面326が当接されてラミネートされるため、それぞれのワークWに与える熱の量・加圧する力の大きさ等を同じ条件に揃えることができる。したがって、従来のように積層された層の位置に依ってワークが受け取ることができる熱の量・加圧される力の大きさがバラつくことはない。
また、従来のようにラミネートを行うためにワークを積み換える必要もないため、積み替えによる個片の位置ずれを生ずることがない。
さらに、ラミネート基板製造装置1は、ワークWの上面WSF側の形状に即した形状の加熱面326を有する加熱ヘッド320でラミネートを行うため、基板BDに載置される個片PCの高低によってワークWの上面WSF側が凹凸形状になっている場合であっても、個片PCの位置ずれ・姿勢ずれ等を起こすことなく所期のラミネートを行うことができる。
以上のように、実施形態1に係るラミネート基板製造装置1によれば、待機時間、熱の量、加圧される力の大きさ、位置ずれ等の様々な要素のバラつきを抑えることができ、その結果、圧着状態のバラつきを抑えることができるため、従来よりも品質上のバラつきを抑えながらワークWをラミネートすることができる。
In addition, the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment includes the pallet transport unit 100 that intermittently transports the pallet P on which the work W is placed, and the work W is placed on the pallet P in the chamber. While evacuating the inside of CH, the heating surface 326 is pressed against the work W to laminate the work W. That is, the work W that has been temporarily press-bonded in the upstream process is taken into the laminated substrate manufacturing apparatus 1 by the pallet transport unit 100 as it is, and the temporary chamber CH is formed in the pallet unit and laminated.
Therefore, as long as the transfer by the pallet transfer device (not shown) outside the laminated substrate manufacturing apparatus 1 is performed at substantially the same throughput, the waiting time from the temporary pressure bonding to the laminating process is substantially constant. Becomes Therefore, unlike the conventional case, the waiting time until the laminating process is not largely varied.
Further, according to the laminated substrate manufacturing apparatus 1, since the heating surface 326 is brought into contact with each of the works and laminated, the amount of heat applied to each work W, the magnitude of the pressing force, and the like are the same. You can meet the conditions. Therefore, the amount of heat that can be received by the work and the magnitude of the force to be applied do not vary depending on the positions of the stacked layers as in the conventional case.
In addition, since it is not necessary to reload the works for performing the lamination as in the conventional case, the position shift of the individual pieces due to the reloading does not occur.
Further, since the laminated substrate manufacturing apparatus 1 performs the lamination with the heating head 320 having the heating surface 326 having a shape conforming to the shape of the upper surface WSF of the work W, the work may be changed depending on the height of the individual PC placed on the board BD. Even when the upper surface WSF side of W has an uneven shape, desired lamination can be performed without causing the positional deviation and the attitude deviation of the individual PC.
As described above, according to the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment, it is possible to suppress variations in various elements such as the standby time, the amount of heat, the magnitude of the pressure to be applied, and the positional deviation. As a result, it is possible to suppress variations in the pressure-bonded state, so that it is possible to laminate the works W while suppressing variations in quality as compared with the conventional case.

(2)ラミネートユニット300の下縁部312には、パレットPの上面と当接するシール部材(第1シール部材314)が付設されている。
このため、下縁部312がパレットPと当接して一時的なチャンバCHが形成された際に、当該チャンバCHの気密性を高めることができる。ひいてはチャンバCH内の排気効率が高められサイクルタイムを短縮することができる。また、パレットPの表面の状態が多少バラついていたとしても、パレットPと下縁部312との間にシール部材(第1シール部材314)を挟み込むことにより封止を確実なものとすることができる。またシール部材(第1シール部材314)の摩擦により、パレットが加熱ヘッドに対してずれが生じづらくなり、当該ずれによるラミネート基板の品質のバラつきを一層抑えることができる。
(2) At the lower edge portion 312 of the laminating unit 300, a seal member (first seal member 314) that comes into contact with the upper surface of the pallet P is attached.
Therefore, when the lower edge portion 312 contacts the pallet P to form the temporary chamber CH, the airtightness of the chamber CH can be enhanced. As a result, the exhaust efficiency in the chamber CH can be improved and the cycle time can be shortened. Further, even if the surface state of the pallet P is somewhat uneven, it is possible to ensure the sealing by sandwiching the seal member (first seal member 314) between the pallet P and the lower edge portion 312. it can. Further, due to the friction of the seal member (first seal member 314), the pallet is less likely to be displaced with respect to the heating head, and the variation in the quality of the laminated substrate due to the displacement can be further suppressed.

(3)実施形態1に係るラミネート基板の製造方法の基本的な構成要素が、実施形態1に係るラミネート基板製造装置1の構成要素と同様の構成を有していることから、実施形態1に係るラミネート基板の製造方法によれば、ラミネート基板製造装置1によって得られる効果と同様の効果が得られる。 (3) Since the basic constituent elements of the method for manufacturing a laminated board according to the first embodiment have the same configurations as the constituent elements of the laminated board manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment, According to such a laminated substrate manufacturing method, the same effects as the effects obtained by the laminated substrate manufacturing apparatus 1 can be obtained.

[実施形態2]
次に、図9を参照しながら実施形態2係るラミネート基板製造ライン10の構成を説明する。図9は、実施形態2に係るラミネート基板製造ライン10を説明するために示す模式図である。
[Embodiment 2]
Next, the configuration of the laminated substrate manufacturing line 10 according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a schematic diagram shown for explaining the laminated substrate manufacturing line 10 according to the second embodiment.

実施形態2に係るラミネート基板製造ライン10は、複数の個片PCを基板BD上に仮圧着し更に本圧着してラミネート基板を製造するラミネート基板製造ラインである。
実施形態2に係るラミネート基板製造ライン10は、複数の個片PCを基板BD上に仮圧着する仮圧着装置7と、仮圧着装置7から除材されたパレットPを複数のパレット搬送装置9のいずれか1つに分配するパレット分配装置8と、それぞれの一端がパレット分配装置8に接続され、パレット分配装置8から分配されたパレットPを搬送する複数のパレット搬送装置9と、それぞれが、複数のパレット搬送装置9のそれぞれの他端に接続された複数のラミネート基板製造装置1と、を備える(図9参照)。
なお、符号5はパレット合流装置を示し、符号6は次工程を行う次工程装置を示す。また、ここでのラミネート基板製造装置1は、実施形態1に係るラミネート基板製造装置1と同様のものである。
The laminated board manufacturing line 10 according to the second embodiment is a laminated board manufacturing line for manufacturing a laminated board by temporarily press-bonding a plurality of individual PCs onto the board BD and further by final press-bonding.
The laminated substrate manufacturing line 10 according to the second embodiment includes a temporary pressure bonding device 7 for temporarily pressure bonding a plurality of individual PCs onto the substrate BD, and a plurality of pallet transport devices 9 for the pallets P removed from the temporary pressure bonding device 7. A plurality of pallet distributors 8 for distributing to any one, and a plurality of pallet carrier devices 9 each having one end connected to the pallet distributor 8 for carrying the pallets P distributed from the pallet distributor 8 are provided. And a plurality of laminated substrate manufacturing apparatuses 1 connected to the other ends of the pallet transfer apparatuses 9 (see FIG. 9).
Note that reference numeral 5 indicates a pallet merging device, and reference numeral 6 indicates a next process device for performing the next process. The laminated substrate manufacturing apparatus 1 here is the same as the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment.

実施形態2に係るラミネート基板製造ライン10は、実施形態1に係るラミネート基板製造装置1を備えることから、実施形態1に係るラミネート基板製造装置1が有する効果を同様に有する。 Since the laminated substrate manufacturing line 10 according to the second embodiment includes the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment, the laminated substrate manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment also has the same effects.

また、仮圧着装置7による仮圧着工程のサイクルタイム(例えば30〜40秒程度とする)に対して、ラミネート基板製造装置1による本圧着工程のサイクルタイム(例えば1〜2分程度とする)が比較的長い場合には、1台の仮圧着装置7に対してラミネート基板製造装置1を並列に配置することで、ライン全体のタクトタイムを合わせることができる。
また、ラミネート基板製造装置1を並列に配置することで、上流の仮圧着工程で仮圧着されたワークWを、即座に手隙のラミネート基板製造装置1に投入することができる。このため、仮圧着されてからラミネート処理が行われるまでの待機時間を概ね一定とすることができる。したがって、従来のようにラミネート処理が行われるまでの待機時間が大きくバラつくことを抑制することができる。
Further, the cycle time (for example, about 1 to 2 minutes) of the main pressure bonding step by the laminated substrate manufacturing apparatus 1 is different from the cycle time of the temporary pressure bonding step by the temporary pressure bonding apparatus 7 (for example, about 30 to 40 seconds). In the case of a relatively long length, by arranging the laminated substrate manufacturing apparatus 1 in parallel with one temporary pressure bonding apparatus 7, the takt time of the entire line can be matched.
Further, by arranging the laminated substrate manufacturing apparatuses 1 in parallel, the work W temporarily pressure-bonded in the upstream temporary pressure bonding step can be immediately put into the laminated substrate manufacturing apparatus 1 in a space. Therefore, the waiting time from the temporary pressure bonding to the laminating process can be made substantially constant. Therefore, it is possible to suppress a large variation in the waiting time until the laminating process is performed as in the conventional case.

[変形例]
以上、本発明を上記の実施形態に基づいて説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。その趣旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば、次のような変形も可能である。
[Modification]
Although the present invention has been described based on the above embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment. The present invention can be implemented in various modes without departing from the spirit thereof, and the following modifications are possible, for example.

(1)上記実施形態において記載した構成要素の数、材質、形状、位置、大きさ等は例示であり、本発明の効果を損なわない範囲において変更することが可能である。
例えば、実施形態1において、ラミネート基板製造装置1のワークWとしては各基板BDに個片PCが複数個仮実装されたものを想定して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。各基板BDに単数個の個片が仮実装されたものをラミネートしてもよい(変形例1)。
複数個の個片をラミネートできるものであれば当然に単数個の個片をラミネートすることができ、同様の作用効果を奏するため、このようなラミネート基板製造装置も本発明のラミネート基板製造装置1と均等である。
(1) The numbers, materials, shapes, positions, sizes, etc. of the constituent elements described in the above embodiments are mere examples, and can be changed within a range that does not impair the effects of the present invention.
For example, in the first embodiment, the work W of the laminated substrate manufacturing apparatus 1 has been described on the assumption that a plurality of individual pieces PC are provisionally mounted on each substrate BD, but the present invention is not limited to this. Absent. A tentatively mounted piece may be laminated on each board BD (Modification 1).
As long as a plurality of pieces can be laminated, it is naturally possible to laminate a single piece, and the same effect can be obtained. Therefore, such a laminated board manufacturing apparatus is also the laminated board manufacturing apparatus 1 of the present invention. Is equal to

(2)また図10(a)に示すように、パレット載置テーブル230の上面に、樹脂等によるシール部材(第3シール部材234)を付設してもよい。
パレット載置テーブル230の上面にパレットPを載置する際、第3シール部材234が衝撃を和らげることができ、また、パレットPをパレット載置テーブル230に馴染ませるように載せられるのでパレットPの位置決めをより確実にすることができる。なお、樹脂等によるシール部材(第3シール部材234)はパレットPの下面に付設してもよい。
さらに、パレット載置テーブル230にテーブル排気口235を設けてもよい《図2、図4(a)及び図4(d)も併せて参照》。
パレット載置テーブル230にパレットPが載置された際には、テーブル排気口235に接続された排気装置(図示なし)によって、パレット載置テーブル230の上面とパレットPの下面との間に存在する空気を排気してもよい。これによって、パレットPはより密接にパレット載置テーブル230に引き寄せられるため、パレットPの位置決めを一層確実にすることができる(変形例2のラミネート基板製造装置2)。
なお、図10は、変形例2に係るラミネート基板製造装置2及び変形例3に係るラミネート基板製造装置3を説明するために示す図である。
(2) As shown in FIG. 10A, a seal member (third seal member 234) made of resin or the like may be attached to the upper surface of the pallet mounting table 230.
When the pallet P is placed on the upper surface of the pallet placing table 230, the third seal member 234 can absorb the impact, and the pallet P can be placed so as to fit the pallet placing table 230. The positioning can be made more reliable. The seal member (third seal member 234) made of resin or the like may be attached to the lower surface of the pallet P.
Further, the pallet mounting table 230 may be provided with a table exhaust port 235 <<refer also to FIG. 2, FIG. 4(a) and FIG. 4(d)>>.
When the pallet P is placed on the pallet mounting table 230, it is present between the upper surface of the pallet mounting table 230 and the lower surface of the pallet P by an exhaust device (not shown) connected to the table exhaust port 235. The air used may be exhausted. As a result, the pallet P is drawn closer to the pallet mounting table 230 more closely, so that the positioning of the pallet P can be further ensured (laminated substrate manufacturing apparatus 2 of Modification 2).
10 is a diagram shown for explaining the laminated substrate manufacturing apparatus 2 according to the modified example 2 and the laminated substrate manufacturing apparatus 3 according to the modified example 3.

(3)また図10(b)に示すように、パレット自体に上面と下面との間を貫通する貫通穴Phを設けてもよい。なお、パレットP’の貫通穴Phは、パレットP’が位置決めされたときにテーブル排気口235に対応した位置となるように配置するものとする。
すなわち、パレット載置テーブル230側にテーブル排気口235、吸引経路(符号なし)等を設け、パレットP’の厚み方向の貫通穴Phを通じてチャンバCH内を排気するよう構成してもよい(変形例3のラミネート基板製造装置3)。
このように構成することで、例えば比較的重量の大きい真空ポンプ等の排気装置400を基台500の下に設置するとした場合、排気装置400とチャンバCHとの間の吸引経路がパレット載置テーブル230側に設けられることとなり、吸引経路をラミネートユニット300側に設ける場合よりも、吸引経路の総延長が短くなるため排気ロスを少なくすることができる。また、吸引経路をヘッド機構体380という可動部にではなくパレット載置テーブル230という固定部に設けることとなるため、シンプルな構造のラミネート基板製造装置となる。
(3) Further, as shown in FIG. 10B, the pallet itself may be provided with a through hole Ph penetrating between the upper surface and the lower surface. The through hole Ph of the pallet P′ is arranged so as to be at a position corresponding to the table exhaust port 235 when the pallet P′ is positioned.
That is, a table exhaust port 235, a suction path (no reference numeral), etc. may be provided on the pallet mounting table 230 side to exhaust the inside of the chamber CH through the through hole Ph in the thickness direction of the pallet P′ (modified example). 3. Laminated board manufacturing equipment 3).
With such a configuration, when the exhaust device 400 such as a relatively heavy vacuum pump is installed under the base 500, the suction path between the exhaust device 400 and the chamber CH has a pallet mounting table. Since the suction path is provided on the 230 side, the total length of the suction path is shorter than when the suction path is provided on the laminating unit 300 side, so that exhaust loss can be reduced. Further, since the suction path is provided not at the movable part of the head mechanism 380 but at the fixed part of the pallet mounting table 230, the laminated substrate manufacturing apparatus has a simple structure.

(4)実施形態1においては、パレット搬送ユニット100として、コンベアベルト等を活用して個々のパレットPを上流から下流に向けてパレットPの単位で順次流動させるフリーフロー型のものを例示して説明した。しかしながら本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、コンベアベルト等に代わり、図11に示すような、回転軸AX1を中心にR方向にインテックス回転しながらパレットPを搬送するテーブル搬送型のものとしてもよい(変形例4のラミネート基板製造装置4)。
図11は、変形例4に係るラミネート基板製造装置4を説明するために示す図である。図11(a)は平面図を示し、図11(b)は図11(a)のu−u矢視断面図である。図において、符号TBa,TBb,TBcはインデックステーブルを示し、符号ST1はパレットPを給除材する給除材ステーションを示し、符号ST2はパレットPに載置されたワークW(基板及び個片)を仮圧着する仮圧着ステーションを示し、符号ST3はパレットPに載置されたワークWを本圧着(ラミネート)する本圧着ステーションを示している。
変形例4において、本圧着ステーションST3の箇所に実施形態1のラミネートユニット300を配し、矢印V及びWの方向にラミネートユニット300(ヘッド機構体380)を下降させることで、ST3の位置においてワークWをパレットPに載置した状態のままラミネート処理を行うことができる《図11(b)参照》。
(4) In the first embodiment, as the pallet transport unit 100, a free-flow type in which individual pallets P are sequentially flowed from upstream to downstream by utilizing a conveyor belt or the like is exemplified. explained. However, the present invention is not limited to this.
For example, instead of the conveyor belt or the like, as shown in FIG. 11, it may be a table-conveying type that conveys the pallet P while rotating intex in the R direction about the rotation axis AX1 (a laminated substrate manufacturing apparatus of Modification 4). 4).
11: is a figure shown in order to demonstrate the laminated substrate manufacturing apparatus 4 which concerns on the modification 4. FIG. FIG. 11A shows a plan view, and FIG. 11B is a cross-sectional view taken along line u-u of FIG. 11A. In the figure, reference numerals TBa, TBb, TBc indicate index tables, reference numeral ST1 indicates a feeding/removing material station for feeding/removing the pallet P, and reference numeral ST2 indicates a work W (substrate and individual pieces) placed on the pallet P. Indicates a temporary pressure bonding station for temporarily pressure bonding, and reference numeral ST3 indicates a main pressure bonding station for performing a main pressure bonding (laminating) of the work W placed on the pallet P.
In the modified example 4, the laminating unit 300 of the first embodiment is arranged at the position of the main pressure bonding station ST3, and the laminating unit 300 (head mechanism 380) is lowered in the directions of arrows V and W, so that the work at the position of ST3. The laminating process can be performed with W placed on the pallet P (see FIG. 11B).

(5)実施形態1においてパレットPの位置決めに際しては、パレット搬送ユニット昇降駆動部130によりパレット搬送ユニット100の側を動かして、パレットPと搬送力伝達部110との分離及びパレットPの位置決めを行った。しかしながら本発明はこれに限定されるものではない。例えば、パレットPとパレット載置テーブル230との間に、図示しないガイド孔及びガイドピンを設けた上で、パレット載置テーブル230の側を動かし、ガイド孔及びガイドピンを篏合して位置決めを行ってもよい(変形例5)。 (5) In positioning the pallet P in the first embodiment, the pallet transfer unit lifting drive unit 130 moves the pallet transfer unit 100 side to separate the pallet P from the transfer force transmission unit 110 and position the pallet P. It was However, the present invention is not limited to this. For example, a guide hole and a guide pin (not shown) are provided between the pallet P and the pallet mounting table 230, and the pallet mounting table 230 is moved to position the guide hole and the guide pin together. You may go (Modification 5).

(6)実施形態1において、加熱ヘッド320の加熱面326として予め凹凸を形成したもの適用した。しかしながら本発明はこれに限定されるものではない。例えば、加熱ヘッド320として図示しないチューブを膨らませてワークの凹凸形状に加熱ヘッドの形状を馴染ませるようにして構成してもよい(変形例6)。 (6) In the first embodiment, as the heating surface 326 of the heating head 320, one having irregularities formed in advance is applied. However, the present invention is not limited to this. For example, as the heating head 320, a tube (not shown) may be inflated to conform the shape of the heating head to the uneven shape of the work (Modification 6).

1,2,3,4…ラミネート基板製造装置、5…パレット合流装置、6…次工程装置、7…仮圧着装置、8…パレット分配装置、9…パレット搬送装置、10…ラミネート基板製造ライン、100…パレット搬送ユニット、105…パレット搬送ユニットフレーム、110…搬送力伝達部、115…搬送動力源、130…パレット搬送ユニット昇降駆動部、200…パレット位置決めユニット、210…パレットストッパ、212…パレット障害部、220…カムフォロア、230…パレット載置テーブル、234…第3シール部材、235…テーブル排気口、300…ラミネートユニット、305…ラミネートユニット本体、307…外周縁部、310…ワーク収容部、312…下縁部、314…第1シール部材、320…加熱ヘッド、322…復帰ばね、324…第2シール部材、326…加熱面、330…ヒータ、340…排気口、350…ヘッド機構体昇降駆動部、352…モータ、354…ボールねじ、356…ガイド、380…ヘッド機構体、400…排気装置、500…基台、700…特許文献1に記載された装置、711…トレイ板、713…多層プリント配線用積層部材、715…弾性パッキン、716a,716b…熱板、718…排気口、900…基板接合装置、902…基板載置機構、903…接合機構、904…搬送機構、941…アーム 1, 2, 3, 4... Laminated substrate manufacturing device, 5... Pallet joining device, 6... Next process device, 7... Temporary pressure bonding device, 8... Pallet distribution device, 9... Pallet transfer device, 10... Laminated substrate manufacturing line, 100... Pallet transport unit, 105... Pallet transport unit frame, 110... Transport power transmission unit, 115... Transport power source, 130... Pallet transport unit lifting drive unit, 200... Pallet positioning unit, 210... Pallet stopper, 212... Pallet obstacle 220, cam follower, 230, pallet mounting table, 234... third seal member, 235... table exhaust port, 300... laminating unit, 305... laminating unit body, 307... outer peripheral edge part, 310... work accommodating section, 312 ... Lower edge part, 314... First seal member, 320... Heating head, 322... Return spring, 324... Second seal member, 326... Heating surface, 330... Heater, 340... Exhaust port, 350... Head mechanism lifting drive 352... Motor, 354... Ball screw, 356... Guide, 380... Head mechanism, 400... Exhaust device, 500... Base, 700... Device described in Patent Document 1, 711... Tray plate, 713... Multilayer Laminated member for printed wiring, 715... Elastic packing, 716a, 716b... Heat plate, 718... Exhaust port, 900... Substrate joining device, 902... Substrate placing mechanism, 903... Joining mechanism, 904... Transfer mechanism, 941... Arm

Claims (8)

複数の個片が基板上に仮圧着された状態のワークを被ラミネート対象としてこれをラミネートするラミネート基板製造装置であって、
前記ワークが載置されたパレットを間欠的に搬送するパレット搬送ユニットと、
搬送されてきた前記パレットの動きを止め、当該パレットを前記パレット搬送ユニットの搬送力伝達部から分離し、当該パレットの位置を決めるパレット位置決めユニットと、
下縁部から内側にかけて前記ワークを収容可能なワーク収容部を有し、前記ワーク収容部の内部に収容された前記ワークを加熱・加圧する加熱ヘッドが配設されたラミネートユニットと、
を備え、
前記ラミネート基板製造装置を平面視したときに、前記加熱ヘッドが配設されたラミネート領域と前記パレット搬送ユニットが配設された領域とがオーバーラップするようにして前記パレット搬送ユニットが配置されており、
前記加熱ヘッドは、前記ワークの上面側の形状に即した形状の加熱面を有しており、
前記ラミネートユニットは、位置決めされた前記パレットに向かって前記下縁部が下降し、前記下縁部が前記パレットと当接することにより前記ワーク収容部及び前記パレットで一時的なチャンバが形成されるよう構成され、
前記ラミネート基板製造装置は、前記ワークが前記パレットに載置された状態で前記チャンバ内を排気した状態で前記加熱面を前記ワークに向けて押し付けて前記ワークをラミネートするよう構成されている、
ことを特徴とするラミネート基板製造装置。
A laminate substrate manufacturing apparatus for laminating a work piece in a state in which a plurality of pieces are temporarily pressure-bonded on a substrate,
A pallet transfer unit for intermittently transferring the pallet on which the work is placed,
A pallet positioning unit that stops the movement of the pallet that has been transported, separates the pallet from the transport force transmission unit of the pallet transport unit, and determines the position of the pallet;
A laminating unit having a work accommodating portion capable of accommodating the work from the lower edge portion to the inner side, and a heating head for heating/pressurizing the work accommodated inside the work accommodating portion,
Equipped with
In a plan view of the laminated substrate manufacturing apparatus, the pallet transfer unit is arranged so that the laminating area where the heating head is arranged and the area where the pallet transfer unit is arranged overlap each other. ,
The heating head has a heating surface having a shape conforming to the shape of the upper surface side of the work,
In the laminating unit, the lower edge portion descends toward the positioned pallet, and the lower edge portion abuts the pallet, so that a temporary chamber is formed by the work accommodating portion and the pallet. Composed,
The laminated substrate manufacturing apparatus is configured to laminate the work by pressing the heating surface toward the work in a state where the chamber is evacuated with the work placed on the pallet.
A laminated substrate manufacturing device characterized by the above.
請求項1に記載のラミネート基板製造装置において、
前記ラミネートユニットの前記下縁部には、前記パレットの上面と当接するシール部材が付設されている、
ことを特徴とするラミネート基板製造装置。
The laminated substrate manufacturing apparatus according to claim 1,
At the lower edge of the laminating unit, a sealing member that comes into contact with the upper surface of the pallet is attached.
A laminated substrate manufacturing device characterized by the above.
請求項1又は2に記載のラミネート基板製造装置において、
鉛直方向を+z方向とし、前記パレットが搬送される方向を+x方向とし、+z方向及び+x方向に垂直な方向を+y方向としたときに、
前記パレット位置決めユニットは、
パレット障害部が設けられ、該パレット障害部を+x方向に垂直な方向からパレット通過領域に対し突き出すことにより搬送されてくる前記パレットの動きを止めて前記パレットの+x方向の位置を決めるパレットストッパと、
前記パレット搬送ユニットを上下に駆動するパレット搬送ユニット昇降駆動部と、を有し、
前記ラミネート基板製造装置は、
前記パレットストッパによって動きが止められる前記パレットに対しその直下となる位置に配置されたパレット載置テーブルを更に備え、
前記パレット搬送ユニット昇降駆動部により前記パレット搬送ユニットが前記パレットと共に下降し、前記パレットが前記パレット載置テーブルの上に載置されるよう構成されている、
ことを特徴とするラミネート基板製造装置。
The laminated substrate manufacturing apparatus according to claim 1 or 2,
When the vertical direction is +z direction, the direction in which the pallet is conveyed is +x direction, and the direction perpendicular to +z direction and +x direction is +y direction,
The pallet positioning unit is
A pallet stopper provided with a pallet obstruction portion and stopping the movement of the pallet conveyed by protruding the pallet obstruction portion from a direction perpendicular to the +x direction to a pallet passage area to determine the position of the pallet in the +x direction. ,
A pallet transport unit lifting drive unit for driving the pallet transport unit up and down,
The laminated substrate manufacturing apparatus,
The pallet stopper further comprises a pallet mounting table arranged at a position immediately below the pallet, the movement of which is stopped by the pallet stopper.
The pallet transport unit elevating and lowering drive unit lowers the pallet transport unit together with the pallet, and the pallet is placed on the pallet placing table.
A laminated substrate manufacturing device characterized by the above.
請求項1〜3のいずれかに記載のラミネート基板製造装置において、
前記パレット載置テーブルにテーブル排気口が設けられている、
ことを特徴とするラミネート基板製造装置。
The laminated substrate manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The pallet mounting table is provided with a table exhaust port,
A laminated substrate manufacturing device characterized by the above.
請求項1〜4のいずれかに記載のラミネート基板製造装置において、
前記パレットに載置された前記ワークを前記パレットの主面に垂直な方向から平面視したときに、前記ワークは前記個片の面積が前記基板の面積に対して小さい、
ことを特徴とするラミネート基板製造装置。
The laminated substrate manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 4,
When the work placed on the pallet is viewed in a plan view from a direction perpendicular to the main surface of the pallet, the work has an area of the individual piece smaller than the area of the substrate,
A laminated substrate manufacturing device characterized by the above.
請求項1〜5のいずれかに記載のラミネート基板製造装置において、
前記基板はフレキシブル基板である、
ことを特徴とするラミネート基板製造装置。
The laminated substrate manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 5,
The substrate is a flexible substrate,
A laminated substrate manufacturing device characterized by the above.
複数の前記個片を前記基板上に仮圧着する仮圧着装置と、
前記仮圧着装置から除材された前記パレットを複数のパレット搬送装置のいずれか1つに分配するパレット分配装置と、
それぞれの一端が前記パレット分配装置に接続され、前記パレット分配装置から分配された前記パレットを搬送する複数の前記パレット搬送装置と、
それぞれが、前記複数の前記パレット搬送装置のそれぞれの他端に接続された複数の前記ラミネート基板製造装置と、を備え、
前記ラミネート基板製造装置は、請求項1〜6のいずれかに記載のラミネート基板製造装置であること、
を特徴とするラミネート基板製造ライン。
A temporary pressure bonding device for temporarily pressure bonding the plurality of pieces onto the substrate;
A pallet distributor that distributes the pallet removed from the temporary pressure bonding device to any one of a plurality of pallet conveyors;
One end of each is connected to the pallet distributor, and a plurality of pallet conveyors for conveying the pallets distributed from the pallet distributor,
Each of the plurality of laminated substrate manufacturing apparatus is connected to the other end of each of the plurality of pallet conveyors,
The laminated substrate manufacturing apparatus is the laminated substrate manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 6,
Laminated substrate manufacturing line.
複数の個片が基板上に仮圧着された状態のワークを被ラミネート対象としてこれをラミネートするラミネート基板の製造方法であって、
搬送力伝達部と接触しながら前記ワークが載置された状態で搬送されてくるパレットの動きを停止させるパレット停止ステップ、及び、停止した前記パレットを前記搬送力伝達部から分離し前記パレットの位置を決めるパレット位置決めステップを有する給材工程と、
下縁部から内側にかけて前記ワークを収容可能なワーク収容部を有し、前記ワーク収容部の内部に収容された前記ワークを加熱・加圧する加熱ヘッドが配設されたラミネートユニットの前記下縁部を、前記パレットに向けて下降させ、前記下縁部が前記パレットと当接することにより前記ワーク収容部及び前記パレットで一時的なチャンバを形成するチャンバ形成ステップ、前記チャンバ内を排気する真空引きステップ、及び、前記ラミネートユニットの前記加熱面を前記ワークに向けて押し付けて前記ワークを加熱・加圧する加熱・加圧ステップを有するラミネート工程と、を含む、
ことを特徴とするラミネート基板の製造方法。
A method for manufacturing a laminated substrate, in which a plurality of individual pieces are laminated on a work piece in a state of being temporarily pressure-bonded onto the board,
A pallet stopping step of stopping the movement of the pallet conveyed while the work is placed while being in contact with the conveying force transmitting unit, and separating the stopped pallet from the conveying force transmitting unit and positioning the pallet. A material supply process having a pallet positioning step for determining
The lower edge portion of the laminating unit having a work accommodating portion capable of accommodating the work from the lower edge portion to the inner side and having a heating head for heating/pressurizing the work accommodated inside the workpiece accommodating portion. A chamber forming step of forming a temporary chamber in the work accommodating portion and the pallet by lowering the pallet toward the pallet, and the lower edge portion of the pallet contacting the pallet, and a vacuuming step of evacuating the chamber. And a laminating step having a heating/pressurizing step of pressing the heating surface of the laminating unit toward the work to heat/press the work.
A method of manufacturing a laminated substrate, comprising:
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