JP2020092399A - 撮像モジュール及び携帯電子機器 - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 33
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 21
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 128
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 26
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 26
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 230000035515 penetration Effects 0.000 abstract 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/07—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
- H01L24/09—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of a plurality of bonding areas
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/33—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors
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- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/061—Disposition
- H01L2224/0612—Layout
- H01L2224/0615—Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry
- H01L2224/06154—Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry covering only portions of the surface to be connected
- H01L2224/06155—Covering only the peripheral area of the surface to be connected, i.e. peripheral arrangements
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/07—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
- H01L2224/09—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/091—Disposition
- H01L2224/0912—Layout
- H01L2224/0915—Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry
- H01L2224/09154—Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry covering only portions of the surface to be connected
- H01L2224/09155—Covering only the peripheral area of the surface to be connected, i.e. peripheral arrangements
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/16227—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bond pad of the item
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/17—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of a plurality of bump connectors
- H01L2224/171—Disposition
- H01L2224/1712—Layout
- H01L2224/1715—Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry
- H01L2224/17154—Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry covering only portions of the surface to be connected
- H01L2224/17155—Covering only the peripheral area of the surface to be connected, i.e. peripheral arrangements
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- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
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- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/3312—Layout
- H01L2224/3315—Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry
- H01L2224/33154—Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry covering only portions of the surface to be connected
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- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
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- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
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- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/09372—Pads and lands
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Abstract
【課題】撮像モジュール及び携帯電子機器において、イメージセンサチップの水平方向の幅またはサイズを小さくする。【解決手段】撮像モジュールは、回路基板、イメージセンサチップ2、光フィルタ素子及びレンズ組立体を含む。回路基板は、上面、下面、及び貫通口を含む。イメージセンサチップは、回路基板の下面に配置されるとともに貫通口の下方に位置する。光フィルタ素子は、回路基板の上面に配置されるとともに、貫通口の上方に位置する。回路基板の下面は、第1の半田付け領域、第2の半田付け領域及び第1の半田付けなし領域を含む。イメージセンサチップの上面は、画像検知領域22、第1の導電性領域23、第2の導電性領域24及び第1の非導電性領域25を含む。第1の半田付け領域と第2の半田付け領域は、第1の導電性領域と第2の導電性領域にそれぞれ電気的に接続される。第1の半田付けなし領域は、第1の非導電性領域に対応する。【選択図】図1
Description
本発明は、撮像モジュール及び携帯電子機器に関し、特に画像センサーの幅を削減するための撮像モジュール及び携帯電子機器に関する。
従来の技術によれば、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)画像センサーの特別な利点は、「低消費電力」および「小型化」を特徴とし、それ故、CMOS画像センサーは、特別な機能を備えた携帯電子機器に容易に統合できる。例えば、スマートフォン、タブレットまたはノートブックなどのような小さな集積スペースを有する携帯電子機器に容易に適用することができる。
しかしながら、従来のCMOS画像センサーの幅は依然として効果的に短くされていないという問題がある。 したがって、構造設計を改善することによって従来のCMOSイメージセンサの幅をいかに効果的に短くするかが、業界にとって重要な問題となっている。
本発明が解決しようとする技術的な課題では、既存技術の不足に対して撮像モジュール及び携帯電子機器を提供して、それにより、既存の技術に存在する欠点を解決することにある。
上記の技術課題を解決するために、本発明が採用する技術手段の1つとして、回路基板、イメージセンサチップ、光フィルタ素子、及びレンズ組立体を含む撮像モジュールを提供する。回路基板は、上面、下面、及び前記上面と前記下面に連接する貫通口を含む。イメージセンサチップは、前記回路基板の前記下面に配置されるとともに前記貫通口の下方に位置する。光フィルタ素子は、前記回路基板の前記上面に配置されるとともに、前記貫通口の上方に位置する。レンズ組立体は、前記回路基板に配置される支持構造と、前記支持構造に配置されるレンズ構造とを含む。なかでも、前記回路基板の下面は、前記貫通口の第1の側辺に近接する第1の半田付け領域と、前記貫通口の第2の側辺に近接する第2の半田付け領域と、前記貫通口の第3の側辺に近接する第1の半田付けなし領域とを含む。なかでも、前記イメージセンサチップの上面は、画像検知領域、第1の導電性領域、第2の導電性領域、及び第1の非導電性領域を含み、前記第1の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第1の側辺と前記画像検知領域の第1の側辺との間に連接されている。前記第2の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第2の側辺と前記画像検知領域の第2の側辺との間に連接されている。前記第1の非導電性領域は、前記イメージセンサチップの第3の側辺と前記画像検知領域の第3の側辺との間に連接されている。なかでも、前記イメージセンサチップにおける前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域は、前記回路基板における前記第1の導電性領域と前記第2の導電性領域にそれぞれ電気的に接続されている。前記イメージセンサチップの前記第1の半田付けなし領域は、前記回路基板の前記第1の非導電性領域に対応する。
上記の技術的な課題を解決するために、本発明が採用する他の技術的な手段では、携帯電子モジュール、及び撮像モジュールを含む携帯電子機器を提供する。撮像モジュールは、前記携帯電子モジュールに配置され、前記撮像モジュールは、回路基板、イメージセンサチップ、光フィルタ素子、及びレンズ組立体を含む。回路基板は、上面、下面、及び前記上面と前記下面に連接される貫通口を含む。イメージセンサチップは、前記回路基板の前記下面に配置されるとともに、前記貫通口の下方に位置する。光フィルタ素子は、前記回路基板の前記上面に配置されるとともに、前記貫通口の上方に位置する。レンズ組立体は、前記回路基板に配置される支持構造と、前記支持構造に配置されるレンズ構造とを含む。なかでも、前記回路基板の下面は、前記貫通口の第1の側辺に近接する第1の半田付け領域と、前記貫通口の第2の側辺に近接する第2の半田付け領域と、前記貫通口の第3の側辺に近接する第1の半田付けなし領域とを含む。なかでも、前記イメージセンサチップの上面は、画像検知領域、第1の導電性領域、第2の導電性領域、及び第1の非導電性領域を含む。前記第1の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第1の側辺と前記画像検知領域の第1の側辺との間に連接されている。前記第2の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第2の側辺と前記画像検知領域の第2の側辺との間に連接されている。前記第1の非導電性領域は、前記イメージセンサチップの第3の側辺と前記画像検知領域の第3の側辺との間に連接されている。なかでも、前記イメージセンサチップにおける前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域は、前記回路基板における前記第1の導電性領域と前記第2の導電性領域にそれぞれ電気的に接続されている。前記イメージセンサチップの前記第1の半田付けなし領域は、前記回路基板の前記第1の非導電性領域に対応する。
上記の課題を解決するために、本発明が採用するさらに他の技術的な手段では、下記のような撮像モジュールを提供する。それは、回路基板、イメージセンサチップ、光フィルタ素子、及びレンズ組立体を含む。回路基板は、上面、下面、及び前記上面と前記下面に連接される貫通口を含む。イメージセンサチップは、前記回路基板の前記下面に配置されるとともに、前記貫通口の下方に位置する。光フィルタ素子は、前記回路基板の前記上面に配置されるとともに、前記貫通口の上方に位置する。レンズ組立体は、前記回路基板に配置される支持構造と、前記支持構造に配置されるレンズ構造とを含む。なかでも、前記回路基板の下面は、前記貫通口の第1の側辺に近接する第1の半田付け領域と、前記貫通口の第2の側辺に近接する第1の半田付けなし領域とを含む。なかでも、前記イメージセンサチップの上面は、画像検知領域、第1の導電性領域、及び第1の非導電性領域を含む。前記第1の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第1の側辺と前記画像検知領域の第1の側辺との間に連接されている。前記第1の非導電性領域は、前記イメージセンサチップの第2の側辺と前記画像検知領域の第2の側辺との間に連接されている。なかでも、前記イメージセンサチップの前記第1の半田付け領域は、第1の錫ボールを介して前記回路基板の前記第1の導電性領域に電気的に接続されている。前記イメージセンサチップの前記第1の半田付けなし領域は、第1の粘着体を介して、前記回路基板の前記第1の非導電性領域に連接されている。
本発明による有益な効果の1つとしては、本発明が提供する撮像モジュール及び携帯電子機器は、「前記回路基板の下面は、前記貫通口の第1の側辺に近接する第1の半田付け領域と、前記貫通口の第2の側辺に近接する第2の半田付け領域と、前記貫通口の第3の側辺に近接する第1の半田付けなし領域とを含む。」「前記イメージセンサチップの上面は、画像検知領域、第1の導電性領域、第2の導電性領域、及び第1の非導電性領域を含む。前記第1の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第1の側辺と前記画像検知領域の第1の側辺との間に連接されている。前記第2の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第2の側辺と前記画像検知領域の第2の側辺との間に連接されている。前記第1の非導電性領域は、前記イメージセンサチップの第3の側辺と前記画像検知領域の第3の側辺との間に連接されている。」、及び「前記イメージセンサチップにおける前記第1の導電性領域と前記第2の導電性領域は、前記回路基板における前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域にそれぞれ電気的に接続されている。前記イメージセンサチップの前記第1の非導電性領域は、前記回路基板的前記第1の半田付けなし領域に対応する」という技術的な手段により、イメージセンサチップの水平方向上の幅または寸法を小さくすることができる。
本発明による他の有益な効果としては、本発明が提供する撮像モジュールは、「前記回路基板の下面は、前記貫通口の第1の側辺に近接する第1の半田付け領域と、前記貫通口の第2の側辺に近接する第1の半田付けなし領域とを含む。」、「前記イメージセンサチップの上面は、画像検知領域、第1の導電性領域、及び第1の非導電性領域を含む。前記第1の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第1の側辺と前記画像検知領域の第1の側辺との間に連接されている。前記第1の非導電性領域は、前記イメージセンサチップの第2の側辺と前記画像検知領域の第2の側辺との間に連接されている。」、及び「前記イメージセンサチップの前記第1の導電性領域は、第1の錫ボールに介して、前記回路基板の前記第1の半田付け領域に電気的に接続されている。前記イメージセンサチップの前記第1の非導電性領域は、第1の粘着体を介して、前記回路基板の前記第1の半田付けなし領域に連接されている。」という技術的な手段により、イメージセンサチップの水平方向上の幅または寸法を小さくすることができる。
本発明の特徴及び技術内容がより一層分かるように、以下本発明に関する詳細な説明と添付図面を参照する。しかし、提供される添付図面は参考と説明のために提供するものに過ぎず、本発明の特許請求の範囲を制限するためのものではない。
下記より、具体的な実施例で本発明が開示する「撮像モジュール及び携帯電子機器」に係る実施形態を説明する。当業者は本明細書の公開内容により本発明のメリット及び効果を理解し得る。本発明は他の異なる実施形態により実行又は応用できる。本明細書における各細節も様々な観点又は応用に基づいて、本発明の精神逸脱しない限りに、均等の変形と変更を行うことができる。また、本発明の図面は簡単で模式的に説明するためのものであり、実際的な寸法を示すものではない。以下の実施形態において、さらに本発明に係る技術事項を説明するが、公開された内容は本発明を限定するものではない。
[第1の実施形態]
図1乃至図3に示すように、本発明の第1の実施形態は、回路基板1、イメージセンサチップ2、光フィルタ素子3、及びレンズ組立体4を含む、撮像モジュールMを提供する。
図1乃至図3に示すように、本発明の第1の実施形態は、回路基板1、イメージセンサチップ2、光フィルタ素子3、及びレンズ組立体4を含む、撮像モジュールMを提供する。
まず、回路基板1は、上面11、及び下面12を含み、かつ、回路基板1は、上面11と下面12を連接するための貫通口13を備える。さらに言えば、回路基板1の下面12は、貫通口13の第1の側辺131に近接する第1の半田付け領域14と、貫通口13の第2の側辺132に近接する第2の半田付け領域15と、貫通口13の第3の側辺133に近接する第1の半田付けなし領域16とを含む。例を挙げれば、回路基板1としては、PCBハードボード(例えば、BT、FR4、FR5の材料で構成したもの)、リジッドフレックス回路板、又はセラミック基板等であるが、本発明はそれに制限されない。
さらに、イメージセンサチップ2は、回路基板1に電気的に接続され、かつ、イメージセンサチップ2は、回路基板1の下面12に配置されるとともに、貫通口13の下方に位置する。さらに言えば、イメージセンサチップ2の上面21は、画像検知領域22、第1の導電性領域23、第2の導電性領域24、及び第1の非導電性領域25を含む。第1の導電性領域23は、イメージセンサチップ2の第1の側辺201と画像検知領域22の第1の側辺221との間に連接されている。第2の導電性領域24は、イメージセンサチップ2の第2の側辺202と画像検知領域22の第2の側辺222との間に連接されている。第1の非導電性領域25は、イメージセンサチップ2の第3の側辺203と画像検知領域22の第3の側辺223との間に連接されている。かつ、イメージセンサチップ2の画像検知領域22は、回路基板1の貫通口13に向かっている。例を挙げれば、イメージセンサチップ2は、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサー又は何れの撮像機能付きのセンサーであってもよいが、本発明はこの例に制限されない。
そのために、イメージセンサチップ2は、第1の導電性領域23と第2の導電性領域24を介して、回路基板1における第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15にそれぞれ電気的に接続されるとともに、イメージセンサチップ2の第1の非導電性領域25は、回路基板1の第1の半田付けなし領域16に対応する。
撮像モジュールMは、光フィルタ素子3をさらに含む。該光フィルタ素子3は、回路基板1の上面11に配置されるとともに、貫通口13の上方に位置する。例えば、光フィルタ素子3は、粘着体を介して図3に示すようにイメージセンサチップ2に直接配置されてもよいか、或いは光フィルタ素子3は、複数の柱状体(図示しない)により高く持ち上げられてイメージセンサチップ2の上方に配置されてもよい。また、光フィルタ素子3は、コーティングガラスであってもよいが、コーティングガラスでなくても構わない。本発明はこの例に制限されない。
また、撮像モジュールMは、さらにレンズ組立体4を含む。当該レンズ組立体4は、回路基板1に配置される支持構造41と、支持構造41に配置されるレンズ構造42とを含む。例を挙げれば、支持構造41としては、通用型のベースや何れの種類のボイスコイルモーター(Voice Coil Motor,VCM)であってもよい。かつ、レンズ構造42は、複数のレンズで構成されてもよい。レンズ構造42は、画像検知領域22に対応して、使用上の要求に応じて支持構造41に固定的に配置するか、或いは支持構造41に移動可能に配置してもよいが、本発明はこの例に制限されない。また、支持構造41は、粘着ジェル体(図示しない)により回路基板1の上面101に配置されてもよいが、本発明はこの例に制限されない。
上記を纏めて、回路基板1とイメージセンサチップ2とにおける一方の両側では、第1の半田付け領域14、第2の半田付け領域15及び第1の導電性領域24、第2の導電性領域25を配置することにより、回路基板1とイメージセンサチップ2とを電気的に接続させることができる。そのため、回路基板1とイメージセンサチップ2とにおける他方の両側では、水平方向上の幅又は寸法を小さくすることができる。即ち、回路基板1とイメージセンサチップ2とにおける他方の両側に、半田付け領域及び導電性領域の配置は省略できる。そのため、回路基板1とイメージセンサチップ2とは、水平方向(X方向)上の幅を小さくすることができる。それにより、イメージセンサチップ2の水平方向上の寸法を小さくすることができる。
さらに言えば、第1の半田付け領域14は、複数の第1の半田パッド141を含んでもよい。第2の半田付け領域15は、複数の第2の半田パッド151を含んでもよい。第1の導電性領域23は、複数の第1の導電部231を含んでもよい。第2の導電性領域24は、複数の第2の導電部241を含んでもよい。複数の第1の導電部231は、それぞれ複数の第1の錫ボール51を介して、複数の第1の半田パッド141に電気的に接続される。複数の第2の導電部241は、それぞれ複数の第2の錫ボール52を介して、複数の第2の半田パッド151に電気的に接続される。なかでも、第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15は相対的に配置される。第1の半田付けなし領域16は、第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15との間に配置される。例を挙げれば、回路基板1の第1の半田付け領域14には、複数の第1の半田パッド141が設けられてもよい。第2の半田付け領域15には、複数の第2の半田パッド151が設けられてもよい。それに対し、イメージセンサチップ2の第1の導電性領域23には、複数の第1の導電部231が設けられてもよい。第2の導電性領域24には、複数の第2の導電部241が設けられてもよい。そのため、イメージセンサチップ2における複数の第1の導電部231は、それぞれ複数の第1の錫ボール51を介して、複数の第1の半田パッド141に電気的に接続される。複数の第2の導電部241は、複数の第2の錫ボール52を介して、複数の第2の半田パッド151に電気的に接続される。
ちなみに、回路基板1の下面12は、貫通口13の第4の側辺134に近接する第2の半田付けなし領域17を含む。イメージセンサチップ2の上面21は、イメージセンサチップ2の第4の側辺204と画像検知領域22の第4の側辺224との間に連接される第2の非導電性領域26を含む。イメージセンサチップ2の第2の非導電性領域26は、回路基板1の第2の半田付けなし領域17に対応する。第1の粘着体は、第1の半田付けなし領域16と第1の非導電性領域25との間に配置される。第2の粘着体は、第2の半田付けなし領域17と第2の非導電性領域26との間に配置される。第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15とは相対的に配置される。第1の半田付けなし領域16と第2の半田付けなし領域17とは相対的に配置される。第1の半田付けなし領域16と第2の半田付けなし領域17とはいずれも第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15との間に配置される。
例を挙げれば、回路基板1の第2の半田付けなし領域17は、第1の半田付けなし領域16の相対する。イメージセンサチップ2の第2の非導電性領域26は、第1の非導電性領域25に相対する。かつ、イメージセンサチップ2の第2の非導電性領域26は、回路基板1の第2の半田付けなし領域17に対応する。そのために、イメージセンサチップ2の第1の非導電性領域25は、第1の粘着体(図示しない)に介して、回路基板1の第1の半田付けなし領域16に連接し、イメージセンサチップ2の第2の非導電性領域26は、第2の粘着体(図示しない)に介して、第2の半田付けなし領域17に連接できる。なかでも、第1の粘着体と第2の粘着体としては、エポキシ樹脂やシリコーンで製造された粘着体であってもよいか、或いはUV接着剤、熱硬化性接着剤またはAB接着剤であってもよい。
なお、上述のように挙げられた例では、1つの実行可能な実施形態に過ぎず、本発明を制限するものではない。
[第2の実施形態]
図4及び図5に示すように、本発明の第2の実施形態は、回路基板1、イメージセンサチップ2、光フィルタ素子3、及びレンズ組立体4を含む、撮像モジュールMを提供する。図4、5と図1、2の比較からわかるように、本発明の第2の実施形態と第1の実施形態との最大の差異は、回路基板1の下面12は、貫通口13の第4の側辺134に近接する第3の半田付け領域18を含むことにある。イメージセンサチップ2の上面21は、イメージセンサチップ2の第4の側辺204と画像検知領域22の第4の側辺224との間に連接される第3の導電性領域27を含む。イメージセンサチップ2の第3の導電性領域27は、回路基板1の第3の半田付け領域18に電気的に接続される。第3の半田付け領域18は、複数の第3の半田パッド181を含み、第3の導電性領域27は、複数の第3の導電部271を含む。複数の第3の導電部271は、それぞれ複数の第3の錫ボールを介して、複数の第3の半田パッド181に電気的に接続される。第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15とは相対的に配置される。第3の半田付け領域18と第1の半田付けなし領域16とは相対的に配置される。第3の半田付け領域18と第1の半田付けなし領域16は、いずれも第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15との間に配置される。
図4及び図5に示すように、本発明の第2の実施形態は、回路基板1、イメージセンサチップ2、光フィルタ素子3、及びレンズ組立体4を含む、撮像モジュールMを提供する。図4、5と図1、2の比較からわかるように、本発明の第2の実施形態と第1の実施形態との最大の差異は、回路基板1の下面12は、貫通口13の第4の側辺134に近接する第3の半田付け領域18を含むことにある。イメージセンサチップ2の上面21は、イメージセンサチップ2の第4の側辺204と画像検知領域22の第4の側辺224との間に連接される第3の導電性領域27を含む。イメージセンサチップ2の第3の導電性領域27は、回路基板1の第3の半田付け領域18に電気的に接続される。第3の半田付け領域18は、複数の第3の半田パッド181を含み、第3の導電性領域27は、複数の第3の導電部271を含む。複数の第3の導電部271は、それぞれ複数の第3の錫ボールを介して、複数の第3の半田パッド181に電気的に接続される。第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15とは相対的に配置される。第3の半田付け領域18と第1の半田付けなし領域16とは相対的に配置される。第3の半田付け領域18と第1の半田付けなし領域16は、いずれも第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15との間に配置される。
例を挙げれば、本発明は、異なるデザインの要求に応じて、貫通口13の第4の側辺134に近接する第3の半田付け領域18を配置してもよい。かつ、イメージセンサチップ2の第4の側辺204と画像検知領域22の第4の側辺224との間に第3の導電性領域27が配置される。さらに言えば、本実施形態にかかる撮像モジュールMにおける回路基板1の下面12は、第3の半田付け領域18を含む。第3の半田付け領域18には、複数の第3の半田パッド181が設けられてもよい。第3の半田付け領域18と第1の半田付けなし領域16とは相対的に配置されるとともに、第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15との間に配置される。イメージセンサチップ2の上面21は、第3の導電性領域27を含む。第3の導電性領域27には、複数の第3の導電部271が設けられてもよい。かつ、第3の導電性領域27と第1の非導電性領域25とは相対的に配置されるとともに、第1の導電性領域23と第2の導電性領域24との間に配置される。イメージセンサチップ2の複数の第3の導電部271は、複数の第3の錫ボール(図示しないが、図3に示した第1の錫ボール51と第2の錫ボール52の配置方式と似ている)を介して、複数の第3の半田パッド181に電気的に接続される。
なお、上述のように挙げられた例は、1つの実行可能な実施形態に過ぎず、本発明を制限するものではない。
[第3の実施形態]
図6ないし図9に示すように、本発明の第3の実施形態は、回路基板1、イメージセンサチップ2、光フィルタ素子3、及びレンズ組立体4を含む、撮像モジュールMを提供する。図6、7と図1、2との比較、または図8、9と図1、2からわかるように、本発明の第3の実施形態と第1の実施形態との最大な差異では、回路基板1の下面12は、貫通口13の第1の側辺131に近接する第1の半田付け領域14と、貫通口13の第2の側辺132に近接する第1の半田付けなし領域16とを含むことにある。イメージセンサチップ2の上面21は、画像検知領域22、第1の導電性領域23、及び第1の非導電性領域25を含む。第1の導電性領域23は、イメージセンサチップ2の第1の側辺201と画像検知領域22の第1の側辺221との間に連接される。第1の非導電性領域25は、イメージセンサチップ2の第2の側辺202と画像検知領域22の第2の側辺222との間に連接される。イメージセンサチップ2の第1の導電性領域23は、第1の錫ボール51を介して、回路基板1の第1の半田付け領域14に電気的に接続される。イメージセンサチップ2の第1の非導電性領域25は、第1の粘着体を介して、回路基板1の第1の半田付けなし領域16に連接される。
図6ないし図9に示すように、本発明の第3の実施形態は、回路基板1、イメージセンサチップ2、光フィルタ素子3、及びレンズ組立体4を含む、撮像モジュールMを提供する。図6、7と図1、2との比較、または図8、9と図1、2からわかるように、本発明の第3の実施形態と第1の実施形態との最大な差異では、回路基板1の下面12は、貫通口13の第1の側辺131に近接する第1の半田付け領域14と、貫通口13の第2の側辺132に近接する第1の半田付けなし領域16とを含むことにある。イメージセンサチップ2の上面21は、画像検知領域22、第1の導電性領域23、及び第1の非導電性領域25を含む。第1の導電性領域23は、イメージセンサチップ2の第1の側辺201と画像検知領域22の第1の側辺221との間に連接される。第1の非導電性領域25は、イメージセンサチップ2の第2の側辺202と画像検知領域22の第2の側辺222との間に連接される。イメージセンサチップ2の第1の導電性領域23は、第1の錫ボール51を介して、回路基板1の第1の半田付け領域14に電気的に接続される。イメージセンサチップ2の第1の非導電性領域25は、第1の粘着体を介して、回路基板1の第1の半田付けなし領域16に連接される。
例を挙げれば、本発明では、異なるデザインの要求に応じて、貫通口13の第2の側辺132に近接する第1の半田付けなし領域16を配置してもよい。かつ、イメージセンサチップ2の第2の側辺202と画像検知領域22の第2の側辺222との間に、第1の非導電性領域25を配置してもよい。さらに言えば、イメージセンサチップ2の第1の導電性領域23は、第1の錫ボール51(図3を合わせて参照する)を介して、回路基板1の第1の半田付け領域14に電気的に接続する。イメージセンサチップ2の第1の非導電性領域25は、第1の粘着体を介して、回路基板1の第1の半田付けなし領域16に連接する。
さらに言えば、図6及び図7に示したのは、本発明の第3の実施形態の撮像モジュールMの他の変形例である。さらに言えば、本発明の第5の実施形態にかかる撮像モジュールMのイメージセンサチップ2が、偏心として設計することができる。例を挙げれば、撮像モジュールMにおける回路基板1の下面12は、貫通口13の第3の側辺133に近接する第2の半田付け領域15を含む。かつ、第2の半田付け領域15は、第1の半田付け領域14と第1の半田付けなし領域16との間に位置する。イメージセンサチップ2の上面21は、イメージセンサチップ2の第3の側辺203と画像検知領域22の第3の側辺223と間に連接される第2の導電性領域24を含む。イメージセンサチップ2の第2の導電性領域24は、第2の錫ボール52(図3を合わせて参照する)を介して、回路基板1の第2の半田付け領域15に電気的に接続される。
また、図8及びさらに他の変形例である。さらに言えば、回路基板1の下面12は、貫通口13の第3の側辺133に近接する第2の半田付けなし領域17と、貫通口13の第4の側辺134に近接する第3の半田付けなし領域19とをさらに含んでもよい。イメージセンサチップ2の上面21は、第2の非導電性領域26、及び第3の非導電性領域28を含む。第2の非導電性領域26は、イメージセンサチップ2の第3の側辺203と画像検知領域22の第3の側辺223との間に連接される。第3の非導電性領域28は、イメージセンサチップ2の第4の側辺204と画像検知領域22の第4の側辺224との間に連接される。イメージセンサチップ2の第2の非導電性領域26は、第2の粘着体を介して、回路基板1の第2の半田付けなし領域17に連接される。イメージセンサチップ2の第3の非導電性領域28は、第3の粘着体を介して、回路基板1の第3の半田付けなし領域19に連接される。
なお、上述のように挙げられた例は、1つの実行可能な実施形態に過ぎず、本発明を制限するものではない。
[第4の実施形態]
図10を参照して、図1乃至図9と共に示すように、本発明の第4の実施形態は携帯電子モジュールP、及び撮像モジュールMを含む携帯電子機器Zを提供する。撮像モジュールMは、携帯電子モジュールに配置される。撮像モジュールMは、回路基板1、イメージセンサチップ2、光フィルタ素子3、及びレンズ組立体4を含む。例を挙げれば、携帯電子モジュールPは、携帯電話、ラップトップ又はタブレットのいずれであってもよいが、本発明はこの例に制限されない。かつ、第1の実施形態乃至第4の実施形態におけるいずれか1つの撮像モジュールMは、携帯電子モジュールPに取り付けることができるため、電子モジュールPは、撮像モジュールMを介して画像を撮像することができる。なお、上述のように挙げられた例は、1つの実行可能な実施形態に過ぎず、本発明を制限するものではない。
図10を参照して、図1乃至図9と共に示すように、本発明の第4の実施形態は携帯電子モジュールP、及び撮像モジュールMを含む携帯電子機器Zを提供する。撮像モジュールMは、携帯電子モジュールに配置される。撮像モジュールMは、回路基板1、イメージセンサチップ2、光フィルタ素子3、及びレンズ組立体4を含む。例を挙げれば、携帯電子モジュールPは、携帯電話、ラップトップ又はタブレットのいずれであってもよいが、本発明はこの例に制限されない。かつ、第1の実施形態乃至第4の実施形態におけるいずれか1つの撮像モジュールMは、携帯電子モジュールPに取り付けることができるため、電子モジュールPは、撮像モジュールMを介して画像を撮像することができる。なお、上述のように挙げられた例は、1つの実行可能な実施形態に過ぎず、本発明を制限するものではない。
[実施形態による有益な効果]
1つの有益な効果としては、本発明の撮像モジュールM及び携帯電子機器Zは、「回路基板1の下面12は、貫通口13の第1の側辺131に近接する第1の半田付け領域14と、貫通口13の第2の側辺132に近接する第2の半田付け領域15と、貫通口13の第3の側辺133に近接する第1の半田付けなし領域16とを含んでもよい」、「イメージセンサチップ2の上面21は、画像検知領域22、第1の導電性領域23、第2の導電性領域24、及び第1の非導電性領域25を含む。第1の導電性領域23は、イメージセンサチップ2の第1の側辺201と画像検知領域22の第1の側辺221との間に連接され、第2の導電性領域24は、イメージセンサチップ2の第2の側辺202と画像検知領域22の第2の側辺222との間に連接され、第1の非導電性領域25は、イメージセンサチップ2の第3の側辺203と画像検知領域22の第3の側辺223との間に連接される」、及び「第1の導電性領域23と第2の導電性領域24は、それぞれ回路基板1における第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15に電気的に接続される。イメージセンサチップ2の第1の非導電性領域25は、回路基板1の第1の半田付けなし領域16に対応する」という技術的な手段により、イメージセンサチップの水平方向の幅または寸法を小さくすることにある。
1つの有益な効果としては、本発明の撮像モジュールM及び携帯電子機器Zは、「回路基板1の下面12は、貫通口13の第1の側辺131に近接する第1の半田付け領域14と、貫通口13の第2の側辺132に近接する第2の半田付け領域15と、貫通口13の第3の側辺133に近接する第1の半田付けなし領域16とを含んでもよい」、「イメージセンサチップ2の上面21は、画像検知領域22、第1の導電性領域23、第2の導電性領域24、及び第1の非導電性領域25を含む。第1の導電性領域23は、イメージセンサチップ2の第1の側辺201と画像検知領域22の第1の側辺221との間に連接され、第2の導電性領域24は、イメージセンサチップ2の第2の側辺202と画像検知領域22の第2の側辺222との間に連接され、第1の非導電性領域25は、イメージセンサチップ2の第3の側辺203と画像検知領域22の第3の側辺223との間に連接される」、及び「第1の導電性領域23と第2の導電性領域24は、それぞれ回路基板1における第1の半田付け領域14と第2の半田付け領域15に電気的に接続される。イメージセンサチップ2の第1の非導電性領域25は、回路基板1の第1の半田付けなし領域16に対応する」という技術的な手段により、イメージセンサチップの水平方向の幅または寸法を小さくすることにある。
本発明による他の有益な効果としては、本発明が提供する撮像モジュールMは、「回路基板1の下面12は、貫通口13の第1の側辺131に近接する第1の半田付け領域14と、貫通口13の第2の側辺132に近接する第1の半田付けなし領域16とを含む。」、「イメージセンサチップ2の上面21は、画像検知領域22、第1の導電性領域23、及び第1の非導電性領域25を含む。第1の導電性領域23は、イメージセンサチップ2の第1の側辺201と画像検知領域22の第1の側辺221との間に連接される。第1の非導電性領域25は、イメージセンサチップ2の第2の側辺202と画像検知領域22の第2の側辺222との間に連接される。」、及び「イメージセンサチップ2の第1の導電性領域23は、第1の錫ボール51を介して回路基板1の第1の半田付け領域14に電気的に接続され、イメージセンサチップ2の第1の非導電性領域25は、第1の粘着体を介して回路基板1の第1の半田付けなし領域16に連接される」という技術的な手段により、イメージセンサチップの水平方向の幅または寸法を小さくすることにある。
さらに言えば、本発明の撮像モジュールM及び携帯電子機器Zは、従来の技術に対して、回路基板1とイメージセンサチップ2との少なくとも一方側は、第1の半田付け領域14及び第1の導電性領域23を配置することにより、回路基板1とイメージセンサチップ2とを電気的に接続させる。そのため、回路基板1とイメージセンサチップ2との少なくとも両側の水平方向上の幅又は寸法を小さくすることができる。つまり、回路基板1とイメージセンサチップ2と少なくとも一方側に半田付け領域と導電性領域の配置が省略されても構わないため、回路基板1とイメージセンサチップ2との水平方向(X方向)上の幅又は寸法を小さくすることができる。それにより、イメージセンサチップ2の水平方向上の寸法を小さくすることができる。
以上に開示される内容は本発明の好ましい実施可能な実施例に過ぎず、これにより本発明の特許請求の範囲を制限するものではないので、本発明の明細書及び添付図面の内容に基づき為された等価の技術変形は、全て本発明の特許請求の範囲に含まれるものとする。
携帯電子機器 Z
携帯電子モジュール P
撮像モジュール M
回路基板 1
上面 11
下面 12
貫通口 13
第1の側辺 131
第2の側辺 132
第3の側辺 133
第4の側辺 134
第1の半田付け領域 14
第1の半田パッド 141
第2の半田付け領域 15
第2の半田パッド 151
第1の半田付けなし領域 16
第2の半田付けなし領域 17
第3の半田付け領域 18
第3の半田パッド 181
第3の半田付けなし領域 19
イメージセンサチップ 2 第1の側辺 201
第2の側辺 202
第3の側辺 203
第4の側辺 204
上面 21
画像検知領域 22
第1の側辺 221
第2の側辺 222
第3の側辺 223
第4の側辺 224
第1の導電性領域 23
第1の導電部 231
第2の導電性領域 24
第2の導電部 241
第1の非導電性領域 25
第2の非導電性領域 26
第3の導電性領域 27
第3の非導電性領域 28
光フィルタ素子 3
レンズ組立体 4 支持構造 41
レンズ構造 42
第1の錫ボール 51
第2の錫ボール 52
携帯電子モジュール P
撮像モジュール M
回路基板 1
上面 11
下面 12
貫通口 13
第1の側辺 131
第2の側辺 132
第3の側辺 133
第4の側辺 134
第1の半田付け領域 14
第1の半田パッド 141
第2の半田付け領域 15
第2の半田パッド 151
第1の半田付けなし領域 16
第2の半田付けなし領域 17
第3の半田付け領域 18
第3の半田パッド 181
第3の半田付けなし領域 19
イメージセンサチップ 2 第1の側辺 201
第2の側辺 202
第3の側辺 203
第4の側辺 204
上面 21
画像検知領域 22
第1の側辺 221
第2の側辺 222
第3の側辺 223
第4の側辺 224
第1の導電性領域 23
第1の導電部 231
第2の導電性領域 24
第2の導電部 241
第1の非導電性領域 25
第2の非導電性領域 26
第3の導電性領域 27
第3の非導電性領域 28
光フィルタ素子 3
レンズ組立体 4 支持構造 41
レンズ構造 42
第1の錫ボール 51
第2の錫ボール 52
Claims (10)
- 上面、下面、及び前記上面と前記下面に連接する貫通口を含む、回路基板と、
前記回路基板の前記下面に配置されると共に前記貫通口の下方に位置するイメージセンサチップと、
前記回路基板の前記上面に配置されると共に前記貫通口の上方に位置する光フィルタ素子と、
前記回路基板に配置される支持構造と、前記支持構造に配置されるレンズ構造とを含むレンズ組立体と、
を含む撮像モジュールであって、
前記回路基板の下面は、前記貫通口の第1の側辺に近接する第1の半田付け領域と、前記貫通口の第2の側辺に近接する第2の半田付け領域と、前記貫通口の第3の側辺に近接する第1の半田付けなし領域とを含み、
前記イメージセンサチップの上面は、画像検知領域、第1の導電性領域、第2の導電性領域、及び第1の非導電性領域を含み、前記第1の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第1の側辺と前記画像検知領域の第1の側辺との間に連接され、前記第2の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第2の側辺と前記画像検知領域の第2の側辺との間に連接され、前記第1の非導電性領域は、前記イメージセンサチップの第3の側辺と前記画像検知領域の第3の側辺との間に連接され、
前記イメージセンサチップにおける前記第1の導電性領域と前記第2の導電性領域は、それぞれ前記回路基板における前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域に電気的に接続され、前記イメージセンサチップの前記第1の非導電性領域は、前記回路基板の前記第1の半田付けなし領域に対応する、ことを特徴とする撮像モジュール。 - 前記第1の半田付け領域は、複数の第1の半田パッドを含み、前記第2の半田付け領域は、複数の第2の半田パッドを含み、前記第1の導電性領域は、複数の第1の導電部を含み、前記第2の導電性領域は、複数の第2の導電部を含み、前記複数の第1の導電部は、それぞれ複数の第1の錫ボールを介して前記複数の第1の半田パッドに電気的に接続され、前記複数の第2の導電部は、それぞれ複数の第2の錫ボールを介して前記複数の第2の半田パッドに電気的に接続され、
前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域とは相対的に配置され、前記第1の半田付けなし領域は、前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域との間に連接される、ことを特徴とする請求項1に記載する撮像モジュール。 - 前記回路基板の下面は、前記貫通口の第4の側辺に近接する第2の半田付けなし領域を含み、前記イメージセンサチップの上面は、前記イメージセンサチップの第4の側辺と前記画像検知領域の第4の側辺との間に連接される第2の非導電性領域を含み、前記イメージセンサチップの前記第2の非導電性領域は、前記回路基板的前記第2の半田付けなし領域に対応し、
第1の粘着体は、前記第1の半田付けなし領域と前記第1の非導電性領域との間に連接され、第2の粘着体は、前記第2の半田付けなし領域と前記第2の非導電性領域との間に連接され、
前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域とは相対的に配置され、前記第1の半田付けなし領域と前記第2の半田付けなし領域とは相対的に配置され、前記第1の半田付けなし領域と前記第2の半田付けなし領域とは、いずれも前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域との間に配置される、ことを特徴とする請求項1に記載する撮像モジュール。 - 前記回路基板の下面は、前記貫通口の第4の側辺に近接する第3の半田付け領域を含み、前記イメージセンサチップの上面は、前記イメージセンサチップの第4の側辺と前記画像検知領域の第4の側辺との間に連接される第3の導電性領域を含み、前記イメージセンサチップの前記第3の導電性領域は、前記回路基板の前記第3の半田付け領域に電気的に接続され、
前記第3の半田付け領域は、複数の第3の半田パッドを含み、前記第3の導電性領域は、複数の第3の導電部を含み、前記複数の第3の導電部は、それぞれ複数の第3の錫ボールを介して前記複数の第3の半田パッドに電気的に接続され、前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域とは相対的に配置され、前記第3の半田付け領域と前記第1の半田付けなし領域とは相対的に配置され、前記第3の半田付け領域と前記第1の半田付けなし領域といずれも前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域との間に配置される、ことを特徴とする請求項1に記載する撮像モジュール。 - 携帯電子モジュールと、
前記携帯電子モジュールに配置される撮像モジュールとを含む携帯電子機器であって、
前記撮像モジュールは、
上面、下面、及び前記上面と前記下面に連接する貫通口を含む、回路基板と、
前記回路基板の前記下面に配置されると共に前記貫通口の下方に位置するイメージセンサチップと、
前記回路基板の前記上面に配置されると共に前記貫通口の上方に位置する光フィルタ素子と、
前記回路基板に配置される支持構造と、前記支持構造に配置されるレンズ構造とを含むレンズ組立体と、
を含む撮像モジュールであって、
前記回路基板の下面は、前記貫通口の第1の側辺に近接する第1の半田付け領域と、前記貫通口の第2の側辺に近接する第2の半田付け領域と、前記貫通口の第3の側辺に近接する第1の半田付けなし領域とを含み、
前記イメージセンサチップの上面は、画像検知領域、第1の導電性領域、第2の導電性領域、及び第1の非導電性領域を含み、前記第1の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第1の側辺と前記画像検知領域の第1の側辺との間に連接され、前記第2の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第2の側辺と前記画像検知領域の第2の側辺との間に連接され、前記第1の非導電性領域は、前記イメージセンサチップの第3の側辺と前記画像検知領域の第3の側辺との間に連接され、
前記イメージセンサチップにおける前記第1の導電性領域と前記第2の導電性領域は、それぞれ前記回路基板における前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域に電気的に接続され、前記イメージセンサチップの前記第1の非導電性領域は、前記回路基板の前記第1の半田付けなし領域に対応する、ことを特徴とする携帯電子機器。 - 前記第1の半田付け領域は、複数の第1の半田パッドを含み、前記第2の半田付け領域は、複数の第2の半田パッド,前記第1の導電性領域は、複数の第1の導電部を含み、前記第2の導電性領域は、複数の第2の導電部を含み、前記複数の第1の導電部は、それぞれ複数の第1の錫ボールを介して前記複数の第1の半田パッドに電気的に接続され、前記複数の第2の導電部は、それぞれ複数の第2の錫ボールに介して、前記複数の第2の半田パッドに電気的に接続され、
前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域とは相対的に配置され、前記第1の半田付けなし領域は、前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域との間に配置される、ことを特徴とする請求項5に記載する携帯電子機器。 - 前記回路基板の下面は、前記貫通口の第4の側辺に近接する第2の半田付けなし領域を含み、前記イメージセンサチップの上面は、前記イメージセンサチップの第4の側辺と前記画像検知領域の第4の側辺との間に連接される第2の非導電性領域を含み、前記イメージセンサチップの前記第2の非導電性領域は、前記回路基板的前記第2の半田付けなし領域に対応し、
第1の粘着体は、前記第1の半田付けなし領域と前記第1の非導電性領域との間に連接され、第2の粘着体は、前記第2の半田付けなし領域と前記第2の非導電性領域との間に連接され、
前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域とは相対的に配置され、前記第1の半田付けなし領域と前記第2の半田付けなし領域とは相対的に配置され、前記第1の半田付けなし領域と前記第2の半田付けなし領域とは、いずれも前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域との間に配置される、ことを特徴とする請求項5に記載する携帯電子機器。 - 前記回路基板の下面は、前記貫通口の第4の側辺に近接する第3の半田付け領域を含み、前記イメージセンサチップの上面は、前記イメージセンサチップの第4の側辺と前記画像検知領域の第4の側辺との間に連接される第3の導電性領域を含み、前記イメージセンサチップの前記第3の導電性領域は、前記回路基板の前記第3の半田付け領域に電気的に接続され、
前記第3の半田付け領域は、複数の第3の半田パッドを含み、前記第3の導電性領域は、複数の第3の導電部を含み、前記複数の第3の導電部は、それぞれ複数の第3の錫ボールを介して前記複数の第3の半田パッドに電気的に接続され、前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域とは相対的に配置され、前記第3の半田付け領域と前記第1の半田付けなし領域とは相対的に配置され、前記第3の半田付け領域と前記第1の半田付けなし領域といずれも前記第1の半田付け領域と前記第2の半田付け領域との間に配置される、ことを特徴とする請求項5に記載する携帯電子機器。 - 上面、下面、及び前記上面と前記下面に連接する貫通口を含む、回路基板と、
前記回路基板の前記下面に配置されると共に、前記貫通口の下方に位置する、イメージセンサチップと、
前記回路基板の前記上面に配置されると共に前記貫通口の上方に位置する、光フィルタ素子と、
前記回路基板に配置される支持構造と、前記支持構造に配置されるレンズ構造とを含むレンズ組立体と、
を含む撮像モジュールであって、
前記回路基板の下面は、前記貫通口の第1の側辺に近接する第1の半田付け領域と、前記貫通口の第2の側辺に近接する第1の半田付けなし領域とを含み、
前記イメージセンサチップの上面は、画像検知領域、第1の導電性領域、及び第1の非導電性領域を含み、前記第1の導電性領域は、前記イメージセンサチップの第1の側辺と前記画像検知領域の第1の側辺との間に連接され、前記第1の非導電性領域は、前記イメージセンサチップの第2の側辺と前記画像検知領域の第2の側辺との間に連接され、
前記イメージセンサチップの前記第1の導電性領域は、第1の錫ボールを介して前記回路基板の前記第1の半田付け領域に電気的に接続され、前記イメージセンサチップの前記第1の非導電性領域は、第1の粘着体を介して前記回路基板の前記第1の半田付けなし領域に連接する、ことを特徴とする撮像モジュール。 - 前記回路基板の下面は、前記貫通口の第3の側辺に近接する第2の半田付けなし領域と、前記貫通口の第4の側辺に近接する第3の半田付けなし領域とを含み、前記イメージセンサチップの上面は、第2の非導電性領域、及び第3の非導電性領域を含み、前記第2の非導電性領域は、前記イメージセンサチップの第3の側辺と前記画像検知領域の第3の側辺との間に連接され前記第3の非導電性領域は、前記イメージセンサチップの第4の側辺と前記画像検知領域の第4の側辺との間に連接され、
前記イメージセンサチップの前記第2の非導電性領域は、第2の粘着体を介して前記回路基板の前記第2の半田付けなし領域に連接し、前記イメージセンサチップの前記第3の非導電性領域は、第3の粘着体を介して、前記回路基板の前記第3の半田付けなし領域に連接する、ことを特徴とする請求項9に記載する撮像モジュール。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW107143675A TWI677745B (zh) | 2018-12-05 | 2018-12-05 | 影像擷取模組及可攜式電子裝置 |
TW107143675 | 2018-12-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020092399A true JP2020092399A (ja) | 2020-06-11 |
Family
ID=65812051
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019045115A Pending JP2020092399A (ja) | 2018-12-05 | 2019-03-12 | 撮像モジュール及び携帯電子機器 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200185350A1 (ja) |
EP (1) | EP3664140A1 (ja) |
JP (1) | JP2020092399A (ja) |
KR (1) | KR20200069197A (ja) |
TW (1) | TWI677745B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20220181369A1 (en) * | 2019-03-08 | 2022-06-09 | Dexerials Corporation | Method of manufacturing connection structure, connection structure, film structure, and method of manufacturing film structure |
TWI746082B (zh) * | 2020-07-24 | 2021-11-11 | 海華科技股份有限公司 | 可攜式電子裝置及其影像擷取模組 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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TWM532588U (zh) * | 2016-07-13 | 2016-11-21 | zhi-xing Xu | 可攜式電子裝置及其影像擷取模組 |
-
2018
- 2018-12-05 TW TW107143675A patent/TWI677745B/zh active
-
2019
- 2019-01-31 KR KR1020190012599A patent/KR20200069197A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-02-26 US US16/285,812 patent/US20200185350A1/en not_active Abandoned
- 2019-03-12 JP JP2019045115A patent/JP2020092399A/ja active Pending
- 2019-03-13 EP EP19162552.4A patent/EP3664140A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200069197A (ko) | 2020-06-16 |
TWI677745B (zh) | 2019-11-21 |
TW202022476A (zh) | 2020-06-16 |
US20200185350A1 (en) | 2020-06-11 |
EP3664140A1 (en) | 2020-06-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190312 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200929 |