JP2020089803A - 炭酸除去システム、純水製造装置及び炭酸除去方法 - Google Patents

炭酸除去システム、純水製造装置及び炭酸除去方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2020089803A
JP2020089803A JP2018226443A JP2018226443A JP2020089803A JP 2020089803 A JP2020089803 A JP 2020089803A JP 2018226443 A JP2018226443 A JP 2018226443A JP 2018226443 A JP2018226443 A JP 2018226443A JP 2020089803 A JP2020089803 A JP 2020089803A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
carbonic acid
carbon dioxide
upper space
stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP2018226443A
Other languages
English (en)
Inventor
鈴木 宏明
Hiroaki Suzuki
宏明 鈴木
拓哉 水島
Takuya Mizushima
拓哉 水島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Organo Corp
Original Assignee
Organo Corp
Japan Organo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Organo Corp, Japan Organo Co Ltd filed Critical Organo Corp
Priority to JP2018226443A priority Critical patent/JP2020089803A/ja
Publication of JP2020089803A publication Critical patent/JP2020089803A/ja
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Abstract

【課題】簡単な構成で水中の炭酸濃度を効果的に低減させる。【解決手段】炭酸含有水から炭酸を除去して炭酸除去水を生成する炭酸除去システム101は、炭酸除去水が貯留される貯留部103が下方に形成され、貯留部103の上方に上部空間104が形成されるタンク102と、上部空間104に設けられ、炭酸含有水を噴霧して炭酸を除去する第1のスプレイノズル105と、上部空間104に設けられた給気口108及び排気口109と、気体が給気口108から上部空間104に流入し排気口109から排気されるように、上部空間104の気体を強制流動させる気体流動手段(ファン)107と、を有する。【選択図】図1

Description

本発明は炭酸除去システム、純水製造装置及び炭酸除去方法に関し、特に純水製造装置が備える炭酸除去システムの構成に関する。
純水製造装置ではイオンや塩類を除去する目的で逆浸透膜装置が設けられることがある。逆浸透膜装置への供給水に炭酸が含まれていると、炭酸が逆浸透膜装置を透過し処理水の水質が悪化する。そのため、逆浸透膜装置の前段に脱炭酸塔や脱炭酸膜装置を設けて、逆浸透膜装置への供給水に含まれる炭酸を除去することがある。しかし、設置スペースの関係などの理由により、脱炭酸塔や脱炭酸膜装置の設置が難しい場合がある。
特許文献1には、原水(被処理水)を貯留する原水タンクと、原水タンクの後段に設けられた逆浸透膜装置と、逆浸透膜装置で発生する濃縮水を原水タンクに戻す戻し管と、を有する脱炭酸水製造装置が開示されている。戻し管には、空気を吸引し濃縮水と空気との混合物を生成するエゼクタが設けられている。戻し管の端部には原水タンクの上部空間に位置するスプレイノズルが設けられ、スプレイノズルから濃縮水と空気の混合物が噴霧される。これによって濃縮水中の遊離二酸化炭素が炭酸ガスとして分離され、分離された炭酸ガスが原水タンクの上部の排気管から排気される。
特開平7−265854号公報
特許文献1に記載の脱炭酸水製造装置は、脱炭酸塔や脱炭酸膜装置を設けなくても、濃縮水中の炭酸を低減させることができる。しかし、特許文献1に記載の脱炭酸水製造装置は、分離された炭酸ガスを原水タンクから積極的に排気していない。したがって、分離された炭酸ガスが時間の経過とともに再び原水タンク内の貯留水に溶解するため、その効果は限定的である。
本発明は、簡単な構成で水中の炭酸濃度を効果的に低減させることのできる炭酸除去システムを提供することを目的とする。
本発明の炭酸除去システムは、炭酸含有水から炭酸を除去して炭酸除去水を生成する。炭酸除去システムは、炭酸除去水が貯留される貯留部が下方に形成され、貯留部の上方に上部空間が形成されるタンクと、上部空間に設けられ、炭酸含有水を噴霧して炭酸を除去する第1のスプレイノズルと、上部空間に設けられた給気口及び排気口と、気体が給気口から上部空間に流入し排気口から排気されるように、上部空間の気体を強制流動させる気体流動手段と、を有する。
本発明によれば、噴霧によって炭酸含有水から分離した炭酸ガスが、気体流動手段によって上部空間を強制流動させられる気体によって効率的に排気される。このため、分離した炭酸ガスが貯留部の炭酸含有水に再溶解することが抑制され、簡単な構成で水中の炭酸濃度を効果的に低減させることができる。
本発明の一実施形態に係る純水製造装置の概略構成図である。 第1のスプレイノズルの概念図である。 本発明の効果を示す図である。
図面を参照して、本発明の一実施形態に係る純水製造装置と炭酸除去システムについて説明する。図1は純水製造装置1の概略構成図を示している。純水製造装置1は1次系によって製造されたろ過水から純水を製造する。1次系は活性炭及び除濁膜を備える、原水を処理する水処理系統を意味し、ろ過水は原水を活性炭に通水し残留塩素を吸着・除去した後、除濁膜に通水し不純物を除去して得られた水である。純水製造装置1は、被処理水であるろ過水を貯留するろ過水タンク2(被処理水貯蔵槽)と、第1段逆浸透膜装置(以下、第1段RO装置3という)と、第2段逆浸透膜装置(以下、第2段RO装置4という)と、脱炭酸膜装置5と、電気式脱イオン水製造装置(以下、EDI6という)と、を有し、これらが被処理水の流通する方向に沿って直列に配置されている。なお、EDI6の代わりにイオン交換樹脂塔などの脱イオン装置を用いることも可能である。
ろ過水タンク2に貯留されたろ過水は、第1段RO装置3に送られ、塩などが除去される。ろ過水はさらに第2段RO装置4に送られ、純度がさらに高められる。第1段RO装置3と第2段RO装置4はそれぞれ、逆浸透膜11によって入口側空間12と出口側空間13とに仕切られている。入口側空間12には塩の濃度が上昇した濃縮水が生成され、出口側空間13には塩の濃度が低下した透過水が生成される。以下の説明で、第1段RO装置3と第2段RO装置4の入口側空間12を濃縮側空間12、出口側空間13を透過側空間13という場合がある。第1段RO装置3の濃縮側空間12で形成される濃縮水を第1段濃縮水といい、第2段RO装置4の濃縮側空間12で形成される濃縮水を第2段濃縮水という。第1段濃縮水は、後述する炭酸除去システム101に送られ、第2段濃縮水は、第2段RO装置4の入口側空間12とろ過水タンク2とを接続する第2の戻し管L6によってろ過水タンク2に戻される。第1段RO装置3と第2段RO装置4で浄化されたろ過水は、後段の脱炭酸膜装置5に送られ、炭酸が除去される。炭酸が除去された脱炭酸水は、後段のEDI6に送られ、イオン成分がさらに除去された純水が生成され、ユースポイント(POU)に送られる。脱炭酸膜装置5がEDI6の上流に設けられているのは、EDI6に充填されるイオン交換樹脂が炭酸による劣化を受けやすいためである。
炭酸除去システム101は、第1段濃縮水に含有される炭酸を除去するためのシステムである。本実施形態の純水製造装置1は、第1段濃縮水をブライン逆浸透膜装置7でろ過処理し、ブライン逆浸透膜装置7で生成された透過水をろ過水タンク2に戻すように構成されている。ここで、第1段濃縮水に炭酸が含有されている場合、第1段濃縮水に含有される炭酸がブライン逆浸透膜RO7を透過してタンク2に戻ってしまう。したがって、本実施形態では、ブライン逆浸透膜装置7の前段に炭酸除去システム101を設けて、第1段濃縮水に含有される炭酸を除去している。
炭酸除去システム101は、炭酸の少なくとも一部、好ましくは実質的に全ての炭酸が除去された第1段濃縮水(炭酸除去水)を貯留する第1段濃縮水タンク102と、第1段濃縮水タンク102の上部空間に存在する気体を強制流動させる気体流動手段(ファン)107と、を有している。また、炭酸除去システム101に関連する設備として、純水製造装置1は、第1段RO装置3の濃縮側空間12に接続され、第1段濃縮水を第1段濃縮水タンク102に供給する第1段濃縮水供給配管L1と、ブライン逆浸透膜装置7と、第1段濃縮水タンク102をブライン逆浸透膜装置7に接続する接続配管L2と、ブライン逆浸透膜装置7の透過側空間13をろ過水タンク2に接続する第1の戻し配管L5と、を有している。
第1段濃縮水タンク102は、炭酸が除去された第1段濃縮水を貯留する貯留部103と、貯留部103の上方に形成された上部空間104と、に区分されている。上部空間104には、第1のスプレイノズル105が設けられている。具体的には、第1のスプレイノズル105は、第1段濃縮水供給配管L1の第1段濃縮水タンク102側の端部に、上部空間104に位置するように取り付けられている。第1のスプレイノズル105は、第1段濃縮水供給配管L1を介して第1段RO装置3の濃縮側空間12に接続され、第1段RO装置3の濃縮側空間12から供給された第1段濃縮水を上部空間104に噴霧する。第1段濃縮水タンク102は、オーバーフローライン112を有しており、オーバーフローライン112を超えて貯留水の水位が上昇することはない。このため、第1段濃縮水タンク102の貯留部103の上方には、常に上部空間104が確保され、スプレイノズル105による第1段濃縮水の噴霧が可能となっている。
図2には、第1のスプレイノズル105の概念的な側方図を示す。第1のスプレイノズル105は、第1段濃縮水供給配管L1に接続される接続部105aと、接続部105aの下方に位置する螺旋部105bとを有している。接続部105aは第1段濃縮水供給配管L1と同じ内径の流路105cを有し、その下端が開放されている。螺旋部105bは螺旋状に下方に巻回する線状体からなっている。線状体は矩形断面を有し、一つの面が上方を向いている。螺旋部105bは概ね円錐形状の包絡面をなしており、下側ほど径が小さくなっている。接続部105aの内部の流路105cを出た第1段濃縮水は螺旋部105bの互いに対向する面の間で衝突を繰り返しながら大きな噴射角で噴霧される。第1のスプレイノズル105の噴射角θは160度以上、180度以下であることが望ましい。第1のスプレイノズル105として、例えば(株)いけうち製広角充円錐ノズルUZUJPシリーズ(噴射角θ=170度)を用いることができる。
図1に示すように、第1段濃縮水供給配管L1と、第1のスプレイノズル105と、第1段濃縮水タンク102と、接続配管L2と、ブライン逆浸透膜装置7と、第1の戻し配管L5は循環ループを構成している。以下に示すように、第1段濃縮水タンク102に貯留された、炭酸が除去された(つまり、炭酸濃度が低減された)第1段濃縮水は、ブライン逆浸透膜装置7で塩などを除去され、第1の戻し配管L5によってろ過水タンク2に戻され、第1段RO装置3の濃縮側空間12から再び第1段濃縮水タンク102に戻される。このような循環ループによって、炭酸濃度が低減された第1段濃縮水をろ過水タンク2に戻すことで、脱炭酸膜装置5の入口における被処理水の炭酸濃度が十分なレベルにまで低減される。
第1段濃縮水タンク102の上部空間104には、給気口108と排気口109が設けられている。具体的には、給気口108及び排気口109は、上部空間104に開口するように、第1段濃縮水タンク102に設けられている。給気口108には、接続配管110を介してファン107が接続されている。ファン107は、防水仕様のものが望ましく、例えばオリエンタルモーター(株)製防水プロペラファンMDPシリーズを用いることができる。第1段濃縮水タンク102内の噴霧水がファン107に直接吹き付けられないように、接続配管110は上に凸となる形状に曲げられている。ファン107は外部から気体を吸引し、吸引した気体を給気口108から上部空間104に給気する。これによって、気体が上部空間104に流入し、排気口109から排気される。ファン107はこのように上部空間104内の気体を給気口108から排気口109に向かって強制流動させる気体流動手段の一例である。気体の種類は特に限定されず、窒素ガスなどでもよいが、通常は空気である。気体流動手段としては、例えば排気口109に接続された真空ポンプ、排気ファンなどを用いることも可能で、給気口108と排気口109にそれぞれ給気ファンと排気ファンを接続してもよい。
排気口109は、気体排出配管111に接続されている。気体排出配管111も接続配管110と同様上に凸となる形状に曲げられており、これによって第1段濃縮水タンク102内の噴霧水が第1段濃縮水タンク102から流出することが防止される。オーバーフローライン112は通常空気が充填されているため、オーバーフローライン112の入口も他の排気口として機能する。つまり、本実施形態の第1段濃縮水タンク102には2つの排気口が設けられているが、排気口は少なくとも一つあればよく、いずれか一つを省略することもできる。気体排出配管111を設け、オーバーフローライン112を省略する場合、第1段濃縮水タンク102の上部空間104を確保する手段を別途設けることが望ましい。例えば、第1段濃縮水タンク102に水位計を設け、水位が一定レベルを超えないように、水位計で測定した水位に応じて第1段濃縮水の流量を調整することができる。
第1のスプレイノズル105から噴霧された第1段濃縮水は、上部空間104の空気と気液接触し、それによって第1段濃縮水に溶存していた炭酸(遊離二酸化炭素)が炭酸ガスとして分離する。炭酸ガスは、上部空間104内の給気口108から排気口109に向かう空気の流れに乗って、気体排出配管111及びオーバーフローライン112から空気とともに積極的に排気される。これによって、第1段濃縮水に含まれる炭酸が分離して除去されると共に、分離した炭酸が上部空間104内から系外に積極的に排出される。
ブライン逆浸透膜装置7は、第1段濃縮水タンク102から供給される、炭酸が除去された第1段濃縮水をろ過処理し、塩などを除去する。ブライン逆浸透膜装置7も第1段RO装置3及び第2段RO装置4と同様の構成を有し、逆浸透膜11によって入口側空間(濃縮側空間)12と出口側空間(透過側空間)13とに仕切られている。ブライン逆浸透膜装置7の透過水は第1の戻し配管L5によってろ過水タンク2に戻され、ブライン逆浸透膜装置7の濃縮水は接続配管L3によって第1段濃縮水タンク102に戻される。第1段濃縮水タンク102の上部空間104には第2のスプレイノズル106が設けられ、接続配管L3が第2のスプレイノズル106に接続されている。濃縮水は第2のスプレイノズル106によって第1段濃縮水タンク102の上部空間104に噴霧される。濃縮水に含まれる炭酸は第1段濃縮水に含まれる炭酸と同様にして濃縮水から分離され、ファン107によって排気される。第2のスプレイノズル106は第1のスプレイノズル105と同様の構成を有しているが、流量が小さいため、第1のスプレイノズル105より小型のものでよい。
第1段濃縮水供給配管L1には、塩酸注入手段8が接続されている。塩酸注入手段8は、塩酸を貯留する塩酸貯槽8aと、塩酸貯槽8aを第1段濃縮水供給配管L1に接続する塩酸注入配管8bと、塩酸注入配管8b上に設けられた塩酸注入ポンプ8cと、を有している。塩酸を第1段濃縮水に注入することによって、第1段濃縮水のpHが5.4〜4.0程度、好ましくは4.8程度に調整される。これによって、遊離二酸化炭素の第1段濃縮水からの分離がさらに促進され、炭酸除去システム101の脱炭酸性能が高められる。
以上説明したように、本実施形態の炭酸除去システム101は、第1段濃縮水タンク102の上部空間104に位置する第1のスプレイノズル105と、上部空間104の気体を強制流動させる気体流動手段(ファン107)と、を設けるだけの簡易な構成で第1段濃縮水ないし被処理水の炭酸濃度を低減させることができる。このため、従来逆浸透膜装置の上流に設けていた脱炭酸塔や脱炭酸膜装置を省略することができる。また、配置スペースの関係から脱炭酸塔や脱炭酸膜装置を設置できない場合も、本実施形態の炭酸除去システム101を適用することで、被処理水の炭酸濃度を効果的に低減させることができる。
また、本実施形態の炭酸除去システム101では、ファン107で上部空間104内の気体を強制流動させているので、上部空間104内の炭酸は、上部空間104内の給気口108から排気口109に向かう空気の流れに乗って、気体排出配管111及びオーバーフローライン112から空気とともに積極的に系外に排気される。このように、本実施形態の炭酸除去システム101では、第1段濃縮水タンク102内で分離された炭酸を積極的に排気することができるので、上部空間104内に炭酸が充満することがなく、貯留部103の貯留水に溶解することを抑制することができる。
(実施例)
ファン107の効果を検討するため、図1に示す設備を用いて試験を行った。具体的には、ファン107を運転しながら純水製造装置1を稼動した場合(実施例)とファン107の運転をしないで純水製造装置1を稼動した場合(比較例)とを対象に、第1段濃縮水タンク102の上流(但し、塩酸注入点より下流)のA点と第1段濃縮水タンク102の下流(ブライン逆浸透膜装置7の入口)のB点での第1段濃縮水の炭酸濃度を測定した。比較例では、ファン107は停止しているが、第1段濃縮水タンク102は完全な密閉状態ではなく、自然対流による若干の空気の流動は可能な状態となっている。炭酸濃度の指標としては無機炭素濃度を用いた。測定はオフラインで行い、純水製造装置1の稼動後0分、60分、90分、120分の時点でA点、B点での第1段濃縮水をサンプリングして、炭酸濃度の時間的変化を取得した。測定は4回行い、1回目の測定結果は測定誤差が大きい可能性があることから棄却し、2回目から4回目の測定結果を採用した。2回目から4回目の測定結果はほとんど同じであったため、ここでは2回目のデータだけを示す。
図3は、横軸に時間を、縦軸に第1段濃縮水の無機炭素濃度を示している。比較例ではA点の無機炭素濃度は20〜23.5ppm程度の範囲にあり、B点の無機炭素濃度は60分までは低いレベルにあるが、その後急激に増加している。これは、純水製造装置1の稼動後しばらくはスプレイノズル105,106からの噴霧の効果で炭酸濃度が減少するものの、その後第1段濃縮水タンク102の上部空間104の炭酸ガスの濃度が上昇し、それとともに第1段濃縮水への炭酸ガスの再溶解が発生し、B点の無機炭素濃度が上昇したためと考えられる。120分経過後にはB点の無機炭素濃度はほぼA点の無機炭素濃度と同程度となった。これは、スプレイノズル105,106からの噴霧によって単位時間当たりに除去される炭酸の量と、再溶解によって単位時間当たりに増加する炭酸の量がバランスしたこと、換言すればスプレイノズル105,106からの噴霧によって第1段濃縮水から炭酸が除去される効果が完全になくなったことを意味する。これに対して、実施例では、B点の無機炭素濃度はほぼ一定値を維持しており、経過時間によらずB点の無機炭素濃度はA点の無機炭素濃度の20〜30%程度となっている。このことは、第1段濃縮水タンク102の上部空間104の炭酸ガスがファン107によって効率的に系外に排出され、炭酸ガスの第1段濃縮水への再溶解が抑制されたことを示している。
1純水製造装置
2 ろ過水タンク(被処理水貯蔵槽)
3 第1段逆浸透膜装置(第1段RO装置)
4 第2段逆浸透膜装置(第2段RO装置)
6 電気式脱イオン水製造装置(EDI)
7 ブライン逆浸透膜装置
8 塩酸注入手段
101 炭酸除去システム
102 第1段濃縮水タンク
104 上部空間
105 第1のスプレイノズル
106 第2のスプレイノズル
107 気体流動手段(ファン)
108 給気口
109 排気口
111 気体排出配管
112 オーバーフローライン
L1 第1段濃縮水供給配管
L5 第1の戻し配管

Claims (7)

  1. 炭酸含有水から炭酸を除去して炭酸除去水を生成する炭酸除去システムであって、
    前記炭酸除去水が貯留される貯留部が下方に形成され、前記貯留部の上方に上部空間が形成されるタンクと、
    前記上部空間に設けられ、前記炭酸含有水を噴霧して炭酸を除去する第1のスプレイノズルと、
    前記上部空間に設けられた給気口及び排気口と、
    気体が前記給気口から前記上部空間に流入し前記排気口から排気されるように、前記上部空間の気体を強制流動させる気体流動手段と、を有する炭酸除去システム。
  2. 前記気体流動手段は前記給気口に接続されたファンである、請求項1に記載の炭酸除去システム。
  3. 前記第1のスプレイノズルは、螺旋状に下方に巻回する線状体を有し、
    前記線状体は、矩形断面を有し、一つの面が上方を向いている、請求項1または2に記載の炭酸除去システム。
  4. 前記排気口に接続された気体排出配管またはオーバーフローラインを有する、請求項1から3のいずれか1項に記載の炭酸除去システム。
  5. 請求項1から4のいずれか1項に記載の炭酸除去システムと、
    炭酸を含む被処理水を貯留する被処理水貯蔵槽と、
    前記被処理水貯蔵槽の後段に設けられ、被処理水をろ過する逆浸透膜装置と、
    前記逆浸透膜装置の濃縮側空間を前記炭酸除去システムの前記第1のスプレイノズルに接続し、前記濃縮側空間で発生した濃縮水を前記炭酸含有水として前記第1のスプレイノズルに供給する濃縮水供給配管と、
    前記タンクに接続され、前記タンクに貯留された前記炭酸除去水をろ過するブライン逆浸透膜装置と、
    前記ブライン逆浸透膜装置の透過側空間を前記被処理水貯蔵槽に接続する戻し配管と、を有する純水製造装置。
  6. 前記濃縮水供給配管に接続された酸注入手段を有する、請求項5に記載の純水製造装置。
  7. 炭酸含有水から炭酸を除去して炭酸除去水を生成する炭酸除去方法であって、
    前記炭酸除去水が貯留される貯留部が下方に形成され、前記貯留部の上方に上部空間が形成され、前記上部空間に給気口と排気口が設けられたタンクの前記上部空間に前記炭酸含有水を噴霧することと、
    気体が前記給気口から前記上部空間に流入し前記排気口から排気されるように、前記上部空間の気体を気体流動手段によって強制流動させることと、を有する炭酸除去方法。
JP2018226443A 2018-12-03 2018-12-03 炭酸除去システム、純水製造装置及び炭酸除去方法 Ceased JP2020089803A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018226443A JP2020089803A (ja) 2018-12-03 2018-12-03 炭酸除去システム、純水製造装置及び炭酸除去方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018226443A JP2020089803A (ja) 2018-12-03 2018-12-03 炭酸除去システム、純水製造装置及び炭酸除去方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2020089803A true JP2020089803A (ja) 2020-06-11

Family

ID=71012023

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018226443A Ceased JP2020089803A (ja) 2018-12-03 2018-12-03 炭酸除去システム、純水製造装置及び炭酸除去方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2020089803A (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07265854A (ja) * 1994-03-29 1995-10-17 Japan Organo Co Ltd 脱塩水製造装置
JP2004167423A (ja) * 2002-11-21 2004-06-17 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置及び純水製造方法
JP2005002674A (ja) * 2003-06-12 2005-01-06 Aiken Kogyo Kk 水処理装置
JP3124066U (ja) * 2006-05-25 2006-08-03 株式会社カズキ化成 スプレーノズルとそれを備えたノズル装置
JP2016013529A (ja) * 2014-07-03 2016-01-28 栗田工業株式会社 純水製造装置及び純水製造方法
JP2018130661A (ja) * 2017-02-14 2018-08-23 三浦工業株式会社 水処理装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07265854A (ja) * 1994-03-29 1995-10-17 Japan Organo Co Ltd 脱塩水製造装置
JP2004167423A (ja) * 2002-11-21 2004-06-17 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置及び純水製造方法
JP2005002674A (ja) * 2003-06-12 2005-01-06 Aiken Kogyo Kk 水処理装置
JP3124066U (ja) * 2006-05-25 2006-08-03 株式会社カズキ化成 スプレーノズルとそれを備えたノズル装置
JP2016013529A (ja) * 2014-07-03 2016-01-28 栗田工業株式会社 純水製造装置及び純水製造方法
JP2018130661A (ja) * 2017-02-14 2018-08-23 三浦工業株式会社 水処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5910675B2 (ja) 純水製造装置及び純水製造方法
TWI727046B (zh) 水處理方法、水處理裝置及離子交換樹脂之再生方法
CN106315935B (zh) 水质淡化装置及利用该装置淡化水质的方法
KR20170051543A (ko) 산기 장치, 산기 방법, 및 수처리 장치
JP5609174B2 (ja) 水処理システム
JP2001219164A (ja) 純水製造器および純水製造装置
JPS62294484A (ja) 高濃度のシリカを含む水の逆浸透処理法
JP2009195804A (ja) 逆浸透膜モジュールの洗浄方法及び装置
JP2009192193A (ja) ボイラシステム
JP2020089803A (ja) 炭酸除去システム、純水製造装置及び炭酸除去方法
JP5865714B2 (ja) 海水淡水化装置
JP6807250B2 (ja) 水処理装置
JP2008080255A (ja) 純水製造装置
EP3421055B1 (en) Treatment of water to extend half-life of ozone
JP5569784B2 (ja) 純水製造システム
JP2009160500A (ja) 超純水製造方法及び装置
JP2020000983A (ja) 純水製造装置、純水の製造方法
JP7118823B2 (ja) 水処理システム及び水処理方法
JP2002001069A (ja) 純水製造方法
JPH0790215B2 (ja) 純水製造装置における溶存炭酸ガスの除去方法
JP2019107592A (ja) 透過水の製造方法、水処理装置及び該水処理装置の運転方法
JP5190909B2 (ja) 膜分離方法および膜分離装置
JP7261711B2 (ja) 超純水製造システム及び超純水製造方法
JPH11169852A (ja) 純水製造装置
WO2020226039A1 (ja) 水処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210819

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220421

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220524

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220715

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221018

A045 Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045

Effective date: 20230228