JP2020074053A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2020074053A5
JP2020074053A5 JP2020026343A JP2020026343A JP2020074053A5 JP 2020074053 A5 JP2020074053 A5 JP 2020074053A5 JP 2020026343 A JP2020026343 A JP 2020026343A JP 2020026343 A JP2020026343 A JP 2020026343A JP 2020074053 A5 JP2020074053 A5 JP 2020074053A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shielding film
light
smoothing
photomask
film pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020026343A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6806274B2 (ja
JP2020074053A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2020074053A publication Critical patent/JP2020074053A/ja
Publication of JP2020074053A5 publication Critical patent/JP2020074053A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6806274B2 publication Critical patent/JP6806274B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2020026343A 2015-02-16 2020-02-19 フォトマスク、フォトマスクブランクス、およびフォトマスクの製造方法 Active JP6806274B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015027498 2015-02-16
JP2015027498 2015-02-16

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016027347A Division JP6665571B2 (ja) 2015-02-16 2016-02-16 フォトマスク、フォトマスクブランクス、およびフォトマスクの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2020074053A JP2020074053A (ja) 2020-05-14
JP2020074053A5 true JP2020074053A5 (https=) 2020-06-25
JP6806274B2 JP6806274B2 (ja) 2021-01-06

Family

ID=56761178

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016027347A Active JP6665571B2 (ja) 2015-02-16 2016-02-16 フォトマスク、フォトマスクブランクス、およびフォトマスクの製造方法
JP2020026343A Active JP6806274B2 (ja) 2015-02-16 2020-02-19 フォトマスク、フォトマスクブランクス、およびフォトマスクの製造方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016027347A Active JP6665571B2 (ja) 2015-02-16 2016-02-16 フォトマスク、フォトマスクブランクス、およびフォトマスクの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (2) JP6665571B2 (https=)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201823855A (zh) * 2016-09-21 2018-07-01 日商Ｈｏｙａ股份有限公司 光罩之製造方法、光罩、及顯示裝置之製造方法
JP7009746B2 (ja) * 2017-02-15 2022-01-26 大日本印刷株式会社 Ｈａｚｅの除去方法、及びフォトマスクの製造方法
JP7151774B2 (ja) * 2018-09-14 2022-10-12 株式会社ニコン 位相シフトマスクブランクス、位相シフトマスク、露光方法、デバイスの製造方法、位相シフトマスクブランクスの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、露光方法、及び、デバイスの製造方法
JP2022114448A (ja) * 2021-01-26 2022-08-05 Hoya株式会社 マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法
KR102444967B1 (ko) * 2021-04-29 2022-09-16 에스케이씨솔믹스 주식회사 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토마스크
KR102402742B1 (ko) * 2021-04-30 2022-05-26 에스케이씨솔믹스 주식회사 포토마스크 블랭크 및 이를 이용한 포토마스크
KR102435818B1 (ko) 2021-09-03 2022-08-23 에스케이씨솔믹스 주식회사 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토마스크
KR102475672B1 (ko) 2021-11-03 2022-12-07 에스케이씨솔믹스 주식회사 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토마스크
KR102535171B1 (ko) * 2021-11-04 2023-05-26 에스케이엔펄스 주식회사 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토마스크
KR20230090601A (ko) * 2021-12-15 2023-06-22 에스케이엔펄스 주식회사 블랭크 마스크, 블랭크 마스크 성막장치 및 블랭크 마스크의 제조방법
KR102660636B1 (ko) 2021-12-31 2024-04-25 에스케이엔펄스 주식회사 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토마스크

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1126355A (ja) * 1997-07-07 1999-01-29 Toshiba Corp 露光用マスク及びその製造方法
JP2006018190A (ja) * 2004-07-05 2006-01-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd フォトマスクとレジストパターン形成方法及びマスター情報担体の製造方法
JP2007279214A (ja) * 2006-04-04 2007-10-25 Shin Etsu Chem Co Ltd フォトマスクブランク及びその製造方法、並びにフォトマスク及びその製造方法
US9091934B2 (en) * 2010-12-24 2015-07-28 Hoya Corporation Mask blank, method of manufacturing the same, transfer mask, and method of manufacturing the same
JP2013178371A (ja) * 2012-02-28 2013-09-09 Hoya Corp 薄膜付き基板の薄膜の除去方法、転写用マスクの製造方法、基板の再生方法、及びマスクブランクの製造方法
JP5712336B2 (ja) * 2012-12-28 2015-05-07 Hoya株式会社 マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、マスクブランク用基板の製造方法及び多層反射膜付き基板の製造方法並びに半導体装置の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020074053A5 (https=)
CN102910579B (zh) 一种可提高图形深宽比的纳米压印方法及其产品
JP5299139B2 (ja) ナノインプリント用モールドの製造方法
JP2008282046A5 (https=)
JP2013134435A5 (https=)
JP6084391B2 (ja) マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法
JP2007233179A (ja) フォトマスクブランクおよびフォトマスク
JP2011102968A5 (https=)
JP2016167052A (ja) フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及びマスクパターン形成方法
JP2017034284A (ja) ナノインプリント用テンプレートの製造方法
JP4787866B2 (ja) パターン化されたフォトレジスト層の形成方法
JP2016114820A (ja) 反射型マスク用ペリクルおよび反射型マスク用ペリクルの製造方法
CN102881567B (zh) 一种双重图形化方法
JP5742300B2 (ja) 反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスク
JP2008203398A (ja) フォトマスクのパターン補正方法及びフォトマスク
TWI476818B (zh) 微影罩幕的製作方法
JP2009229893A (ja) 多階調フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法
JP5347360B2 (ja) 両面にパターンを有するフォトマスクの作製方法
JP6028319B2 (ja) フォトマスクブランク及びその製造方法並びにフォトマスクの製造方法
JP2011150202A (ja) 多階調露光マスク
JP5428401B2 (ja) 凸状パターン形成体の製造方法
TW201915597A (zh) 相移光罩的形成方法
JP2014149351A5 (https=)
JP6019967B2 (ja) パターン形成方法
KR100854464B1 (ko) 패턴 크기가 보정된 위상반전 마스크의 제조방법