JP2020057630A - プラズマ照射システム、およびプラズマ照射方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1に、第1実施例のプラズマ照射システム10を示す。プラズマ照射システム10は、大気圧下で発生させたプラズマを被処理体に照射するシステムであり、さらに、照射したプラズマによるプラズマ処理の適否を自動で判断することが可能なシステムである。プラズマ照射システム10は、設置装置12と、プラズマ照射装置14と、測定装置16と、制御装置(図6参照)18とを備えている。設置装置12とプラズマ照射装置14と測定装置16とは、隣接した状態で1列に配設されており、設置装置12の下流側に、プラズマ照射装置14が配設され、プラズマ照射装置14の下流側に、測定装置16が配設されている。なお、設置装置12とプラズマ照射装置14と測定装置16との配列方向を、X方向と称し、そのX方向に直行する水平方向をY方向と称する。
プラズマ照射システム10では、上述した構成により、被処理体36にプラズマが照射され、被処理体36に対するプラズマ処理が実行される。プラズマ処理としては、例えば、被処理体36の表面改質が行われる。プラズマ処理による表面改質では、被処理体36の表面を化学的に改質し、被処理体36の表面に親水基を付与することで、濡れ性が向上する。また、例えば、被処理体36の表面を温度と強電圧によって物理的に改質することで、被処理体36の表面に凹凸が形成される。ただし、電極104に印加される電圧不足,反応室102に供給される処理ガスの流量不足等により、処理ガスが適切にプラズマ化されず、被処理体36に対するプラズマ処理を適切に行えない場合がある。このため、プラズマ照射システム10では、プラズマ照射によるプラズマ処理の適否が自動で行われる。以下に、プラズマ照射システム10によるプラズマ処理および、プラズマ処理の適否自動判断について詳しく説明する。
第1実施例のプラズマ照射システム10では、被処理体36に対して、シート状のインジケータ50が設置されているが、被処理体36に対して、プラズマの照射により色が変化する粘性流体を吐出してもよい。具体的には、第1実施例のプラズマ照射システム10において、設置装置12の代わりに、図7に示す吐出装置170を採用してもよい。
図1に、第1実施例のプラズマ照射システム10を示す。プラズマ照射システム10は、大気圧下で発生させたプラズマを被処理体に照射するシステムであり、さらに、照射したプラズマによるプラズマ処理の適否を自動で判断することが可能なシステムである。プラズマ照射システム10は、設置装置12と、プラズマ照射装置14と、測定装置16と、制御装置(図6参照)18とを備えている。設置装置12とプラズマ照射装置14と測定装置16とは、隣接した状態で1列に配設されており、設置装置12の下流側に、プラズマ照射装置14が配設され、プラズマ照射装置14の下流側に、測定装置16が配設されている。なお、設置装置12とプラズマ照射装置14と測定装置16との配列方向を、X方向と称し、そのX方向に直行する水平方向をY方向と称する。
プラズマ照射システム10では、上述した構成により、被処理体36にプラズマが照射され、被処理体36に対するプラズマ処理が実行される。プラズマ処理としては、例えば、被処理体36の表面改質が行われる。プラズマ処理による表面改質では、被処理体36の表面を化学的に改質し、被処理体36の表面に親水基を付与することで、濡れ性が向上する。また、例えば、被処理体36の表面を温度と強電圧によって物理的に改質することで、被処理体36の表面に凹凸が形成される。ただし、電極104に印加される電圧不足,反応室102に供給される処理ガスの流量不足等により、処理ガスが適切にプラズマ化されず、被処理体36に対するプラズマ処理を適切に行えない場合がある。このため、プラズマ照射システム10では、プラズマ照射によるプラズマ処理の適否が自動で行われる
。以下に、プラズマ照射システム10によるプラズマ処理および、プラズマ処理の適否自動判断について詳しく説明する。
bが演算される。この際、制御装置18では、被処理体36を識別するための識別IDと、検出されたインジケータ50の明度L*及び色度a*、b*及び、演算された色差ΔE*abとが、記憶装置156に関連付けて記憶される。
処理の適否において、プラズマ処理が適切に実行されていないと判断された場合,演算された色差ΔE*abが大きい場合等に、その判断結果若しくは、色差ΔE*abと関連付けられている処理条件に基づいて、新たな処理条件を設定することが可能となる。具体的には、例えば、プラズマ処理が適切に実行されていないとの判断結果と関連付けられた処理条件において、処理ガスの濃度が低い場合,プラズマの照射時間が短い場合等には、新たな処理条件として、記憶されている処理ガスの濃度より高くする,記憶されているプラズマの照射時間より長くする等の処理条件を設定することが可能となる。これにより、プラズマ処理の適否の判断結果を利用して、適切なプラズマ処理時の処理条件を設定することが可能となる。なお、この処理は、作業者が行ってもよく、コントローラ150において自動で行われてもよい。
第1実施例のプラズマ照射システム10では、被処理体36に対して、シート状のインジケータ50が設置されているが、被処理体36に対して、プラズマの照射により色が変化する粘性流体を吐出してもよい。具体的には、第1実施例のプラズマ照射システム10において、設置装置12の代わりに、図7に示す吐出装置170を採用してもよい。
Claims (9)
- 被処理体にプラズマを照射するプラズマ照射システムであって、
前記プラズマ照射システムが、
プラズマの照射により光学的特性が変化する物を、被処理体に対して付与する付与装置と、
前記付与装置により付与された物と、被処理体とにプラズマを照射するプラズマ照射装置と、
前記プラズマ照射装置によりプラズマ照射された物の光学的特性を測定する測定装置と
を備えることを特徴とするプラズマ照射システム。 - 前記付与装置が、
プラズマの照射により光学的特性が変化する粘性流体を、被処理体に対して吐出する装置であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ照射システム。 - 前記付与装置が、
プラズマの照射により光学的特性が変化する基材を、被処理体に対して設置する装置であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ照射システム。 - 前記プラズマ照射システムが、
前記測定装置により測定された物の光学的特性に基づいて、被処理体に対するプラズマ照射の適否を判定する判定装置を備えることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1つに記載のプラズマ照射システム。 - 前記判定装置が、
前記測定装置により測定された物の光学的特性を指標する指標値と、予め設定された設定値とに基づいて、被処理体に対するプラズマ照射の適否を判定することを特徴とする請求項4に記載のプラズマ照射システム。 - 前記プラズマ照射システムが、
前記判定装置により、被処理体に対するプラズマ照射が適切でないと判定された場合に、その旨を報知する報知装置を備えることを特徴とする請求項4または請求項5に記載のプラズマ照射システム。 - 前記プラズマ照射システムが、
前記判定装置による判定結果と、被処理体を識別するための識別情報とを関連付けて記憶する第1記憶装置を備えることを特徴とする請求項4ないし請求項6のいずれか1つに記載のプラズマ照射システム。 - 前記プラズマ照射システムが、
前記測定装置により測定された物の光学的特性と、被処理体を識別するための識別情報とを関連付けて記憶する第2記憶装置を備えることを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1つに記載のプラズマ照射システム。 - 前記プラズマ照射システムが、
前記測定装置により測定された物の光学的特性と、前記プラズマ照射装置によるプラズマの照射条件とを関連付けて記憶する第3記憶装置を備えることを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか1つに記載のプラズマ照射システム。
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