JP2020056597A - 半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法および評価装置並びに半導体関連部材の熱抵抗算出方法および算出装置 - Google Patents
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〔1〕半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法であって、波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱工程と、前記半導体関連部材の温度変化を測定する温度測定工程と、前記半導体関連部材の温度変化を、予め設定した基準値と比較して、半導体関連部材が良品か不良品かを判定する判定工程と、を含み、前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備える、半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法。
〔2〕前記半導体関連部材が、さらに半導体素子を備え、前記半導体素子が、前記異方性グラファイトを形成するグラファイト層に対して直交する面にて、前記熱拡散部材と接合しており、前記加熱工程において、前記半導体素子が接合している前記熱拡散部材の面において、前記半導体素子が接合していない部分に前記光線を照射する、〔1〕に記載の半導体関連部材の評価方法。
〔3〕前記熱拡散部材は、さらに無機材質層を備え、前記半導体関連部材において、前記異方性グラファイトと前記半導体素子との間に、前記無機材質層が設けられている、〔2〕に記載の半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法。
〔4〕さらに、加熱工程前の半導体関連部材の温度を測定する加熱前温度測定工程を含む、〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の半導体関連部材の評価方法。
〔5〕半導体関連部材の熱抵抗算出方法であって、半導体関連部材を冷却器により冷却する冷却工程と、波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱工程と、前記半導体関連部材の温度を測定する温度測定工程と、前記半導体関連部材の温度を維持するように光線を制御する制御工程と、制御工程における前記光線の光量、前記半導体関連部材の表面温度および前記冷却器の冷媒温度から熱抵抗を算出する算出工程と、を含み、前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備える、半導体関連部材の熱抵抗算出方法。
〔6〕前記半導体関連部材が、さらに半導体素子を備え、前記半導体素子が、前記異方性グラファイトを形成するグラファイト層に対して直交する面にて、前記熱拡散部材と接合しており、前記加熱工程において、前記半導体素子が接合している前記熱拡散部材の面において、前記半導体素子が接合していない部分に前記光線を照射する、〔5〕に記載の半導体関連部材の熱抵抗算出方法。
〔7〕半導体関連部材の熱拡散性能の評価装置であって、波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱手段と、前記半導体関連部材の温度変化を測定する温度測定手段と、前記半導体関連部材の温度変化を、予め設定した基準値と比較して、半導体関連部材が良品か不良品かを判定する判定手段と、を備え、前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備える、半導体関連部材の熱拡散性能の評価装置。
〔8〕前記半導体関連部材が、さらに半導体素子を備え、前記半導体素子が、前記異方性グラファイトを形成するグラファイト層に対して直交する面にて、熱拡散部材と接合しており、前記半導体素子が接合している前記熱拡散部材の面において、前記半導体素子が接合していない部分に前記光線を照射する、〔7〕に記載の半導体関連部材の熱拡散性能の評価装置。
〔9〕半導体関連部材の熱抵抗算出装置であって、半導体関連部材を冷却器により冷却する冷却手段と、波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱手段と、前記半導体関連部材の温度を測定する温度測定手段と、前記半導体関連部材の温度を維持するように光線を制御する制御手段と、制御工程における前記光線の光量、前記半導体関連部材の表面温度および前記冷却器の冷媒温度から熱抵抗を算出する算出手段と、を備え、前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備える、半導体関連部材の熱抵抗算出装置。
〔10〕前記半導体関連部材が、さらに半導体素子を備え、前記半導体素子が、前記異方性グラファイトを形成するグラファイト層に対して直交する面にて、前記熱拡散部材と接合しており、前記半導体素子が接合している前記熱拡散部材の面において、前記半導体素子が接合していない部分に前記光線を照射する、〔9〕に記載の半導体関連部材の熱抵抗算出装置。
本発明の一実施形態に係る半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法は、波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱工程と、前記半導体関連部材の温度変化を測定する温度測定工程と、前記半導体関連部材の温度変化を、予め設定した基準値と比較して、半導体関連部材が良品か不良品かを判定する判定工程と、を含み、前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備える。
本発明の一実施形態において、半導体関連部材は、熱拡散部材そのものであってもよく、半導体素子および熱拡散部材等を備える半導体パッケージ等であってもよい。
加熱工程では、波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を半導体関連部材に照射することにより、半導体関連部材を加熱する。波長のピークが当該範囲内であることにより、金属表面のような光線を反射しやすい材料でも効率的に加熱が可能である。熱拡散部材の表面または半導体素子の表面は、例えば、熱伝導性が良好な純銅または銅を主成分とする合金を含み、必要に応じて金メッキが施されている金属表面である。また、波長のピークが当該範囲内であることにより、安価で取り扱い易い半導体を使った光源を用いて、取り扱い性が良い石英ガラスを使った光ファイバで当該光源から出射ヘッドまでを接続できる。
温度測定工程では、加熱工程において加熱された半導体関連部材の表面温度変化を測定する。
判定工程では、温度測定工程において測定された半導体関連部材の温度変化を、予め設定した基準値と比較して、半導体関連部材が良品か不良品かを判定する。
本発明の一実施形態に係る半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法は、さらに、加熱工程前の半導体関連部材の表面温度を測定する加熱前温度測定工程を含んでいてもよい。本構成により、室温から数百℃まで精度良く表面温度を測定できるため、半導体関連部材の熱拡散性能につき、より正確に評価することができる。また、連続して複数箇所の温度測定をする場合(例えば、一つの熱拡散部材に複数の半導体素子が搭載されている場合)、先に加熱する箇所の表面温度は室温近傍であるが、後に加熱する箇所の表面温度は先の加熱の冷却途中であるため室温より高い。そのため、本構成により、予め設定した評価開始温度により、良品不良品判別データの補正が可能となり、半導体関連部材の熱拡散性能につき、より正確に評価することができる。
本発明の一実施形態に係る半導体関連部材の熱拡散性能の評価装置は、波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱手段と、前記半導体関連部材の温度変化を測定する温度測定手段と、前記半導体関連部材の温度変化を、予め設定した基準値と比較して、半導体関連部材が良品か不良品かを判定する判定手段と、を備え、前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備えるものであればよく、その他の具体的な構成、大きさ、形状等の条件は特に限定されるものではない。換言すれば、本発明の一実施形態に係る半導体関連部材の熱拡散性能の評価装置は、上述の「半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法」を実行するための装置であると換言できる。
本発明の一実施形態に係る半導体関連部材の熱抵抗算出方法は、半導体関連部材を冷却器により冷却する冷却工程と、波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱工程と、前記半導体関連部材の温度を測定する温度測定工程と、前記半導体関連部材の温度を維持するように光線を制御する制御工程と、制御工程における前記光線の光量、前記半導体関連部材の表面温度および前記冷却器の冷媒温度から熱抵抗を算出する算出工程と、を含み、前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備える。
冷却工程では、半導体関連部材を冷却器により冷却する。冷却器は、半導体関連部材を均一に冷却できる従来公知の冷却器等を好適に利用することができる。冷却器は特に限定されるものではないが、例えば、冷媒を流すことにより一定温度を保つ一般的な冷却器を用いることができる。すなわち、冷却器の冷媒温度は所定温度に設定されている。
加熱工程では、波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する。
温度測定工程では、加熱工程において加熱された半導体関連部材の表面温度を測定する。
制御工程では、加熱工程において加熱された半導体関連部材の表面温度を維持するように光線を制御する。温度測定工程において測定される半導体関連部材の表面温度を所定温度に保つため、加熱工程において照射される光線の光量を制御すればよい。光線を制御する方法として、使用される装置および手段は特に限定されない。
算出工程では、上記式(1)に基づき、制御工程における光線の光量、半導体関連部材の表面温度および冷却器の冷媒温度から熱抵抗を算出する。算出工程において、使用される装置および手段は特に限定されない。
本発明の一実施形態に係る半導体関連部材の熱抵抗算出装置は、半導体関連部材を冷却器により冷却する冷却手段と、波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱手段と、前記半導体関連部材の温度を測定する温度測定手段と、前記半導体関連部材の温度を維持するように光線を制御する制御手段と、制御工程における前記光線の光量、前記半導体関連部材の表面温度および前記冷却器の冷媒温度から熱抵抗を算出する算出手段と、を備え、前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備えるものであればよく、その他の具体的な構成、大きさ、形状等の条件は特に限定されるものではない。換言すれば、本発明の一実施形態に係る半導体関連部材の熱抵抗算出装置は、上述の「半導体関連部材の熱抵抗算出方法」を実行するための装置であると換言できる。
3 熱拡散部材
6 異方性グラファイト
6A グラファイト層
7 半導体関連部材
10 評価装置
11 加熱部
11B 光線
12 温度測定部
13 判定部
15 加熱前温度測定部
80 熱抵抗算出装置
81 冷却部
82 制御部
83 算出部
Claims (10)
- 半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法であって、
波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱工程と、
前記半導体関連部材の温度変化を測定する温度測定工程と、
前記半導体関連部材の温度変化を、予め設定した基準値と比較して、半導体関連部材が良品か不良品かを判定する判定工程と、を含み、
前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備える、半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法。 - 前記半導体関連部材が、さらに半導体素子を備え、
前記半導体素子が、前記異方性グラファイトを形成するグラファイト層に対して直交する面にて、前記熱拡散部材と接合しており、
前記加熱工程において、前記半導体素子が接合している熱拡散部材の面において、前記半導体素子が接合していない部分に前記光線を照射する、請求項1に記載の半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法。 - 前記熱拡散部材は、さらに無機材質層を備え、
前記半導体関連部材において、前記異方性グラファイトと前記半導体素子との間に、前記無機材質層が設けられている、請求項2に記載の半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法。 - さらに、加熱工程前の半導体関連部材の温度を測定する加熱前温度測定工程を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体関連部材の熱拡散性能の評価方法。
- 半導体関連部材の熱抵抗算出方法であって、
半導体関連部材を冷却器により冷却する冷却工程と、
波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱工程と、
前記半導体関連部材の温度を測定する温度測定工程と、
前記半導体関連部材の温度を維持するように光線を制御する制御工程と、
制御工程における前記光線の光量、前記半導体関連部材の表面温度および前記冷却器の冷媒温度から熱抵抗を算出する算出工程と、を含み、
前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備える、半導体関連部材の熱抵抗算出方法。 - 前記半導体関連部材が、さらに半導体素子を備え、
前記半導体素子が、前記異方性グラファイトを形成するグラファイト層に対して直交する面にて、前記熱拡散部材と接合しており、
前記加熱工程において、前記半導体素子が接合している前記熱拡散部材の面において、前記半導体素子が接合していない部分に前記光線を照射する、請求項5に記載の半導体関連部材の熱抵抗算出方法。 - 半導体関連部材の熱拡散性能の評価装置であって、
波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱手段と、
前記半導体関連部材の温度変化を測定する温度測定手段と、
前記半導体関連部材の温度変化を、予め設定した基準値と比較して、半導体関連部材が良品か不良品かを判定する判定手段と、を備え、
前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備える、半導体関連部材の熱拡散性能の評価装置。 - 前記半導体関連部材が、さらに半導体素子を備え、
前記半導体素子が、前記異方性グラファイトを形成するグラファイト層に対して直交する面にて、前記熱拡散部材と接合しており、
前記半導体素子が接合している前記熱拡散部材の面において、前記半導体素子が接合していない部分に前記光線を照射する、請求項7に記載の半導体関連部材の熱拡散性能の評価装置。 - 半導体関連部材の熱抵抗算出装置であって、
半導体関連部材を冷却器により冷却する冷却手段と、
波長のピークが300nm以上550nm未満の範囲にある光線を前記半導体関連部材に照射し、半導体関連部材を加熱する加熱手段と、
前記半導体関連部材の温度を測定する温度測定手段と、
前記半導体関連部材の温度を維持するように光線を制御する制御手段と、
制御工程における前記光線の光量、前記半導体関連部材の表面温度および前記冷却器の冷媒温度から熱抵抗を算出する算出手段と、を備え、
前記半導体関連部材が、異方性グラファイトを含む熱拡散部材を備える、半導体関連部材の熱抵抗算出装置。 - 前記半導体関連部材が、さらに半導体素子を備え、
前記半導体素子が、前記異方性グラファイトを形成するグラファイト層に対して直交する面にて、前記熱拡散部材と接合しており、
前記半導体素子が接合している前記熱拡散部材の面において、前記半導体素子が接合していない部分に前記光線を照射する、請求項9に記載の半導体関連部材の熱抵抗算出装置。
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