JP2020050565A - シリカの洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明のシリカの洗浄方法は、以下のとおりである。まず、洗浄槽にゲル又は固形のシリカを収容し、シリカの集合およびその間隙によって形成されるシリカ層を洗浄液に浸漬する。洗浄槽は、どのような形状であってもよい。次に、洗浄液を低速で流すか、または、洗浄液を高速で流す。低速および高速は、いずれが先であってもよい。そして、低速で流す工程と高速で流す工程とをそれぞれ5回以上交互に繰り返し行う。
本発明において、洗浄対象となるシリカは通常、ケイ酸アルカリを酸処理することによってゲル化あるいは固形化したものであって、その構造内に酸性溶液を含有している。
(洗浄水流速の計算)
筒状容器の片側から片側へと通水する場合、容器内部のシリカに対する相対速度(流速)は下記方法によって求められる。ただし、本発明の洗浄方法は筒状容器での洗浄には限定されず、適用する系ごとにシリカと洗浄水の相対速度を計算する。
K=V/S … (1)
によって計算される。
「低速で流す工程と高速で流す工程とを交互に繰り返し行う」とは、シリカと洗浄液の相対速度が「低速」で定義される速度の範囲内にある状態を状態L、シリカと洗浄液の相対速度が「高速」で定義される速度の範囲内にある状態を状態Hとした場合、状態Lまたは状態Hである時間をそれぞれ所定の時間以上とした上で、状態Lと状態Hの間の遷移を所定回数以上繰り返すことをいう。初期状態も洗浄終了状態も、状態L、状態Hのどちらであってもよい。例えば、「低速で流す工程と高速で流す工程とをそれぞれ1回以上交互に繰り返し行う」とは、L→H、H→L、L→H→L、H→L→H等が含まれる。状態L、状態H間の遷移にかける時間は特に限定しないが、短くした方が洗浄の効率は良い。
任意形状の容器の片側から片側へと通水する場合を考える。容器のシリカ層の存在する範囲の体積をA(cm3)、体積流量をV(cm3/min)、時間をt(min)とする。容器のシリカ層の存在する範囲の体積とは、シリカと空隙を合わせた体積である。ここで、「流す洗浄液の合計量がシリカ層の存在する範囲の洗浄槽の体積より大きい」とは、
V×t≧A … (2)
であることをいう。
シリカの粒径はふるい分級により測定する。シリカがふるい目A(mm)のふるいを全通した場合、すなわち、ふるい上に残ったシリカが視認できない場合、シリカの粒径はAmm以下であるとする。
3号ケイ酸ソーダに水を加えて希釈し、20℃における粘度が120mPa・sとなるようにした。濃度40wt%に調整した20℃の希硫酸10.0Lに対し、硫酸を攪拌しながら、この希釈したケイ酸ソーダ1500gを、7.5g/sの速度で滴下した。
この装置を用いて、20mL/min(低速に相当:流速0.2cm/min)で10分間洗浄する工程、1600mL/min(高速に相当:流速16cm/min)で45秒間洗浄する工程を8回繰り返した。使用した洗浄液の総量は11.4Lであった。最後に排出された洗浄液の電気伝導度は3.4mS/mであった。
シリカを1mm以下の粒子に解砕し、5gを取る。これを白金製の皿に入れ、硝酸30wt%、フッ化水素酸20wt%となるよう調製した混酸を、汚染のない薬さじで内容物を混合しながらゆっくりとくわえる。皿の中のシリカが視認できなくなったら、200℃のホットプレート上で白金皿を加熱し、内容液を蒸発させる。液体が無くなったら、白金皿を冷ましてから、純水20mL、35%塩酸2mLを加えて120℃で1時間加熱して残渣を溶解させる。これを100mLメスフラスコに移してメスアップする。メスアップした溶液中の元素濃度を、ICP−AESで測定した。
シリカ中濃度(ppm)=溶液中濃度(ppm)×メスアップ時の溶液量(mL)/シリカ粉末量(g) … (3)
洗浄液の電気伝導度は、HORIBA社製ポータブル電気伝導率計ES−71を使用して測定した。
実施例1と同様の試料を、同様の洗浄装置を用いて、上記工程の繰り返し回数を1回とした上で乾燥・分析を行った。シリカの化学成分はFe濃度7.3ppm、Al濃度5.9ppm、Na濃度540.6ppmであった。
いずれも実施例1と同様の試料を、同様の洗浄装置を用いて、上記工程の条件を変更した上で乾燥・分析を行った。
実施例2:低速0.1cm/minを20分、高速16cm/minを45秒の洗浄を8回繰り返した。
実施例3:低速0.4cm/minを6分、高速16cm/minを45秒の洗浄を8回繰り返した。
実施例4:低速0.8cm/minを4分、高速16cm/minを45秒の洗浄を8回繰り返した。
実施例5:高速16cm/minを45秒、低速0.2cm/minを10分の洗浄を8回繰り返した。
実施例6:低速0.2cm/minを10分、高速12cm/minを1分の洗浄を8回繰り返した。
実施例7:低速0.2cm/minを10分、高速24cm/minを45秒の洗浄を8回繰り返した。
実施例8:低速0.2cm/minを5分、高速16cm/minを30秒の洗浄を12回繰り返した。
実施例9:低速0.2cm/minを20分、高速16cm/minを1分30秒の洗浄を5回繰り返した。
比較例2:流速を4cm/minで一定とし、4時間の洗浄を行った。
比較例3:流速を0.2cm/minで一定とし、10時間の洗浄を行った。
比較例4:流速を16cm/minで一定とし、10分間の洗浄を行った。
比較例5:低速1.6cm/minを4分、高速16cm/minを45秒の洗浄を8回繰り返した。
比較例6:低速0.2cm/minを10分、高速6cm/minを2分の洗浄を8回繰り返した。
比較例7:低速0.2cm/minを60分、高速16cm/minを4分の洗浄を2回繰り返した。
比較例8:高速16cm/minを4分、低速0.2cm/minを60分の洗浄を2回繰り返した。
比較例9:低速0.2cm/minを1分、高速16cm/minを1分の洗浄を8回繰り返した。
3 容器
5 ボールバルブ
7 ローラーポンプ
Claims (5)
- 洗浄槽にゲル又は固形のシリカを収容し、前記シリカの集合およびその間隙によって形成されるシリカ層を洗浄液に浸漬する工程と、
前記洗浄液を前記シリカ層に対する相対速度が0.0〜1.0cm/minの範囲の低速で流す工程と、
前記洗浄液を前記シリカ層に対する相対速度が10.0cm/min以上の範囲の高速で流す工程と、を含み、
前記低速で流す工程と前記高速で流す工程とをそれぞれ5回以上交互に繰り返し行うことを特徴とするシリカの洗浄方法。 - 前記低速で流す工程において、少なくとも1回目の工程の持続時間が3分以上であり、
前記低速で流す工程、前記高速で流す工程、および、その遷移時間の全ての時間の合計が6時間以下であることを特徴とする請求項1記載のシリカの洗浄方法。 - 前記高速で流す工程において、1回の工程で流す前記洗浄液の合計量が前記シリカ層の存在する範囲の前記洗浄槽の体積より大きいことを特徴とする請求項1または請求項2記載のシリカの洗浄方法。
- 前記洗浄液は、電気伝導度が1.0mS/m以下の純水であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のシリカの洗浄方法。
- 前記シリカは、最大粒径10mm以下であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載のシリカの洗浄方法。
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CN114477188A (zh) * | 2022-03-01 | 2022-05-13 | 何良雨 | 一种高纯石英砂的提纯方法及装置 |
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